JPH02134389A - ホスホン系化合物、その製造方法およびその使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ないし３０　ｐｐｒｌの量で添 ５記載の方法。

ないし４０の整数である、 で表わされるコテロマー 本発明は新規なホスホン系コテ口？−、ソノ製造方法お
よび水処理へのその使用に関するものである。

従来の技術および発明が解決しようとする昧題天然水の
多くおよび一般に水性系はカルシウム、マグネシウム、
バリウムおよびストロンチウムのような金属の溶解塩を
含む。水又は水性系が加熱された場合、溶解塩は不溶性
塩に変換しセして該水又は水性系と接触している伝熱体
表面上にスケールとして沈着し得る。水又は水性系を加
熱しなくとも濃縮すると、不溶性塩はまた沈殿し得る。

塩沈殿およびスケール沈着は面倒であり、そして水性系
を良好な操業状態に維持するのにコストの増加を引き起
こす。スケール沈着により引き起こされる問題には、流
体の流れの妨害、伝熱の妨害、金属部品の摩耗、設備寿
命の短縮、局所的な腐食攻撃、低い腐食防止剤性能、お
よび予定外の設備閉塞がある。これらの問題は水、油田
、水道管、蒸気動力プラント、海水脱塩プラント、水溶
液を用いる逆浸透設備、熱交換設備、および水性媒体中
の生成物および副生物（例えば電気発生での石炭の燃焼
中に形成されるフライアッシェ）の輸送に関連する設備
で起こり得る。これらの工程の操業する温度範囲は広く
、例えば冷却水では周囲温度が用いられ、そして蒸気動
力プラントでは高温が使用される。

スケール形成に関連した欠点を克服するのに用いられる
一つの方法は、設備を解体して蓄積した沈着物を払い落
とせるようにすることを含む、この操作はコストがかか
りそしてスケールの再沈着を防止しない。

別の方法は、特に硫酸塩スケールの除去に強アルカリ溶
液を使用することを含む。適当な温度および時間の条件
下でアルカリ処理はスケールを初期に分解し、次にスケ
ールは機械的手段で除去できると言われていた。かかる
方法はかなりの時間金要し、そして処理の後のスケール
除去はしばしば困難である。

従って、この分野において、水又は水性系に非常に少量
で添加できそして不溶性塩の沈殿する速度を広範囲の温
度で下げそして沈殿した不溶性塩を分散することもでき
る組成物が要求されている。吏に、スケールが形成され
た場合、簡単な機械的手段で表面から容易に除去できる
のが望ましい。

これらの目的で、水又は水性系に添加するための多くの
添加剤がある橿のポリホスフェートおよびポリカルボン
酸の中から提案された。

ポリホスフェートは最終的には軟らかい砕けやすいスケ
ールを生じ、それは表面から容易に除去されるという利
点があり、一方ある橋のポリカルボン酸、例えばポリア
クリル酸は硬い接着性の卵の殻様のスケールを生じると
いう点で不利である。

しかしながら、熱を含む水処理工程を使用する場合、温
度は上昇し、そしてポリホスフェート添加剤は高温で容
易に加水分解するので、その結果不溶性のオルトリン酸
カルシウムおよびその他のリン識カルシウムの沈殿を引
き起こし、その有用性はかなり制限される。

更に、多くの商業的プラント、例えば工業用ボイラー、
冷却水系、ガス洗浄プラント、スラリー器具（例えば陶
土スラリー器具）では、該プランｌ−Ｋ使用される水の
中に見られる穐々の固体物質を懸濁又は分散状態に維持
するのが重要である。かかる固体が液体中に懸濁するの
が止まると、設備の汚染が例えばいわゆる”−回通過大
（ｏｎｃｅ−ｔｈｒｏｕｇｈ　）”冷却系において生じ
得る。工業プラントのすぐ近くに豊富な水の供給がある
場合は、冷却はしげしげ水を伝熱設備を通過させそして
水をその源にもどすように排出することより行われる。

しかしながら、経済的観点から、水を従来のように濾過
するのは、この系に多量の水が使用されるため、可能で
ない。このため、沈着物の形成がプラント内に容易に起
き、清掃のために操業を定期的に停止することが通常必
要である。更に、プラントの腐食は鉄酸化物および／ま
たは鉄塩の析出を生じさせ、それらは注意深く制御しな
いと、プラントの妨害および機械的故障を引き起す。

他の問題の領域は、貯水槽および船の底部タンクの底部
に集まる沈泥２よび泥の蓄Ｊであり、それにより船の維
持および操作の経済性が損われる。

水性系から該第と接触する金属表面上への望ましくない
沈着に関連する艷に他の問題は、アルミニウム上に陽極
酸化で製造された酸化物層をシールする際に起こる。熱
、水又は沸騰水を使用してかかるシールを行う際、酸化
物層の孔がシールされるだけでなく、厚い柔らかな被膜
（シール汚れ）もまた表面全体に形成される。

このシール汚れの形成を防止する改良された手段が要望
されている。

水性系と接触する金属表面の腐食を防止する問題に関し
て、公知の腐食防止剤は伝統的ＫＦｉクロム又は亜鉛の
ような金属：ホスフェート。

ポリホスフェート又はホスホネートとしてリン二又は亜
硝酸ナトリウムを含む。公知の防止剤型の殆んどは、処
理された水性系が最終的には天然水中に廃棄される場せ
、それらに固有の毒性２よび／またはそれらが生物学的
生長を促進する傾向があるために、環境に患影響を及は
すと現在考えられている。

欧州特許明細４０１５０７０６号には、次式を有するコ
テロマーおよびその塩が記載されている：（上記式中、
ＡＶｉ次式： で表わされる単位を少なくとも一つ、および上記単位と
は異なる次式： で表わされる単位を少なくとも一つ含むランダムポリマ
ー残基であり；そしてＢ＆′ｉ水素原子父は残基Ａを表
わし： 上記二つの式中、ｍおよびｎは、合計のｍ　＋　ｎが３
ないし１００の整数となり、ｎ：ｍ比が９９〜１：１〜
９９であるような整数であるが、得られるテロマーが水
溶性でありセして残基Ａ中のｍおよび／またはｎは同一
でも残基Ｂ中のｍおよび／またはｎと異なってもよ＜；
Ｒ１ｄ水素原子、メチル基又はエチル基であり：Ｒａは
残基−０ｘ（ここでＸは水素原子、アルカリ−又はアル
カリ土類金属、アンモニウム又はアミン残基である）で
あり：Ｒｂは水素原子、メチル基又は残基−ＣＯ２Ｒｅ
　（ここでＲｅは水素原子、任意にヒドロキシ基で置換
されていてもよい炭素原子数１ないし８の直鎖父は枝分
れ鎖のアルキル残基である）であり：ＲｃＦｉ水素原子
、炭素原子数１ないし４の直鎖又は枝分れ鎖のアルキル
残基、ヒドロキシメチル基又は残基−ＣＯ２Ｒ４（ここ
でＲ（は水素原子、式： で表わされる残基；式：［ＣＨｚ　ＣＨ（Ｒｇ　）　Ｏ
）ｚ　Ｈ（ここでＲｇＶｉ水素原子、メチル基又はフェ
ニル基であり、そしてＺは１ないし２０の整数である）
で表わされる残基；又は炭素原子数１ないし８でありそ
して任意にヒドロキシ基又は基Ｓｏ３Ｍ（ここでＭは水
素原子又はアルカリ−又はアルカリ土類金ｍ原子である
）で置換されていてもよい直鎖又は枝分れ鎖のアルキル
残基である〕であり：Ｒｄは残基−Ｃｏ、Ｒｅ（ここで
Ｒｅは前記の意味を有する）、炭素原子数１ないし８で
ありそして任意に１個又は２個のカルボン酸基で置換さ
れていてもよい直鎖又は枝分れ鎖のアルキル残基、フヱ
ニル残基、アセチル残基、ヒドロキシメチル基、アセト
メチル残基、−５０３Ｍ。

−ＣＨ，ＳＯ，Ｍ又は−ＰＯ１Ｍ２（ここでＭは水素又
はアルカリ金属又はアルカリ土類金属の原子である）、
残基−ＣＯＮＲｈＲｌ（ここでＲｈおよびＲｉは同−文
は異なりそして夫々水素原子、直鎖又は枝分れ鯖の炭素
原子数１ないし８のアルキル残基、ヒドロキシメチル基
又は残基−ＣＨ（０）１）Ｃｏ、Ｍ、−Ｃ（ＣＨｓ　ｈ
　ＣＨ２Ｓ　ＯｓＭ又は−Ｃ（ＣＨ，）、ＣＨ２ＰＯ，
Ｍ、　（Ｍは前記の意味を有する）である〕、又は−Ｎ
（Ｒ・）ＣＯＣＨｓ　（Ｒｊは水素原子又は炭素原子数
１ないし４の＠釦父は枝分れ鎖のアルキル基である）で
ある）。

これらの公知のコテロマー化合物は水性系中で腐食およ
び／またはスケール防止剤、水性系中で粒状物の分散を
容易にする薬剤およびアルミニウム表面上に陽極酸化に
より生成した酸化物層をシールする工程でシール汚れ防
止剤として有用である。

本発明者等は、水性系中で優れた腐食防止性およびスケ
ール防止性を有し、特に欧州特許０１５０７０６号のコ
テロマーについて炭酸カルシウムスケールの沈着の防止
についての性能を改良した、ある種の新規なコテロマー
化合物を見出した。

従って、本発明は下記式１を有するコテロマー化合物お
よびその塩を提供する： （上記式中、ＡＩは次式■： で表わされる単位を少なくとも一つおよび式■の単位と
は異なりそして次式■： で表わされる単位を少なくとも一つ含むランダムポリマ
ー残基全表わし： ｘｌは水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、
フェニル基、アルカリ金属−又はアルカリ土類金属原子
、アンモニウムイオン又はアミン残基全表わし；ｍおよ
びｎは、ｍとｎとの合計が２ないし１００の整数となり
、ｎ二ｍ比が９９〜１：　１〜９９であって、得られる
コテロマーが水溶性となるような整数であり； Ｒ１は残基−ＯＸ、　（ここでｘ２はｘｌと同じか或い
は異なっていてもよく、そして水素原子、炭素原子数１
ないし４のアルキル基、フェニル基、アルカリ金属−又
は当ｉｔ　（ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔｓ　）　　のアルカ
リ土類金Ｊ４原子、又はアンモニウム又はアミン残基で
あるか、或いはｘｌとｘ２とは一緒になってコテロマー
分子のアニオン部分と共に中性錯体を形成する多価金属
原子であってもよく、或いＦｉＸｌとＸ意とは−ＣＢ、
−ＣＨ，−残基により連結されて環構造を形成してもよ
い）を表わし；Ｒ１は水素原子、炭素原子数１ないし４
のアルキル基又は１個又は２個のカルボキシル基で置換
された炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし： Ｘ３はｘｌおよびＸ、と同じか或いは異なり、そして水
素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基。

アルカリ金属−又は当量のアルカリ土類金属原子、又は
アンモニウム又はアミン残基を表わし：Ｒ３は水素原子
、メチル基又は残基−Ｃｏ、Ｒ６（ここでＲ６は水素原
子、直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし８のアルキ
ル残基、又はヒドロキシ基で置換された直鎖又は枝分れ
鎖の炭素原子数１ないし８のアルキル残基金表わし： Ｒ４は水素原子、＠鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ない
し４のアルキル残基、とドロキシメチル基又は残基−Ｃ
Ｏ，Ｒ，（ここでＲ７は水素原子、次式：％式％ で表わされる残基、式−Ｌ　Ｃ）ｉｔ−ＣＨ（Ｒｓ）Ｏ
）ｚ　（ここでＲ８は水素原子、メチル又は）電ニル基
であり、そして２は１ないし２０の整数である）で表わ
される残基、直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし８
のアルキル残基、又はヒドロキシ又はＳＯ３Ｘ４（ここ
でｘ４は水素原子、又はアルカリ金属−又は当量のアル
カリ土類金属原子である）で置換された直鎖又は枝分れ
鎖の炭素原子数１ないし８のアルキル残基である」を表
わし：Ｒ６は残基−ｃｏｚＲｙ（ここでＲ７は前記の意
味を有する）、＠頌又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし
８のアルキル残Ｍ、１（１５又は２１固のカルボン醒基
で置換された直鎖又は枝分れ卸の炭素原子数１ないし８
のアルキル残基、フェニル残基、ビトロキシ又はＳ　Ｏ
３Ｘ４で置換されたフェニル残基、アセチル残基、ヒド
ロキシメチル基、ヒドロキシ基、アセトメチル基、−ｓ
　０３Ｘ４、−ＣＨ２ＳＯ３Ｘ４又は−ＰＯ３（Ｘｉ）
ｚ　（ここでｘ４は前記の意味を有する）、残基−ＣＯ
ＮＲ９Ｒ１Ｇ　（ここでＲ１およびＲ１０は同一である
か又は異なり、そして夫々水素原子、直鎖又は枝分れ鎖
の炭素原子数１ないし８のアルキル基、ヒドロキシメチ
ル基、又は残基−ＣＨ（ＯＨ）Ｃ０２Ｘ４、−Ｃ（ＣＨ
ｓ）ｚｃＨｔｓＯｓＸ４、−Ｃ（ＣＨｓ　）ｚ　ＣＨｚ
　Ｃ０ｔＸ４又は−Ｃ（ＣＨｌ）、ＣＨ２Ｆ（ｈ（Ｘ４
：ｈ（ここでｘ４は前記の意味を有する）、又は−Ｎ（
Ｒ，１）ＣＯＣＨ，（ここでＲ１１は水素原子、又は直
鎮又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし４のアルキル基で
ある）であるか、或いはＲｓ＃′ｉＲｓと共に無水カル
ボン酸部分−ｃｏ、　ｏ、　ｃｏ−を形成してもよい）
。

好ましい弐ｌで表わされるコテロマー化合物は、ｍとｎ
の合計が２ないし４０の化合物である。

式１のコテロマー化合物の塩は、式１の酸性化合物中の
酸の水素原子のいくつか又は全部がアルカリ金属イオン
、アンモニウムイオン、有機塩基又は第四アミン基で置
き換えられた化合物である。これらの塩もまた水溶液か
らの不溶性塩の沈殿防止に良好な活性を示す。

炭素原子数１ないし４の（Ｃ＋〜Ｃ４）アルキル残Ｍ　
Ｘｔ、ｘ２、Ｘ８、Ｘ４オニびＲｏ　Ｆｉ例えばメチル
、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル２よびｎ−ブチ
ル残基である。

カルボキシ−Ｃ１〜Ｃ４アルキル残基Ｒ２は例えばカル
ボキシメチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル
およびカルボキシブチルである。

ＣＩ％Ｃ，アルキル残基Ｒ６、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９および
Ｒ１（１は例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシルお
よびｎ−オクチル残基である。

ヒドロキシ置換Ｃ１−Ｃ・アルキル残基Ｒ６又はＲ７は
例えはヒドロキシメチル、２−ヒドロキシメチル、２−
又ｆｉ　３−ヒドロキシプロピル、２−又は４−ヒドロ
キシブチル、２−又は６−ヒドロキシヘキシル、および
２−又は８−ヒドロキシオクチルであり；カルボキシル
置換Ｃ，Ｃ，アルキル残基Ｒｓにはカルボキシメチル、
カルボキシエチル、カルボキシプロピル又は１．１−ジ
カルボキシメチルが含まれる。

アルカリ金属原子Ｘ、、　Ｘ、、ｘ３、ｘ４、Ｒ＋ｚ　
＆　Ｌ　ＵＲＩ３は特にナトリウム又はカリウム原子で
あり；そしてアルカリ土類金属原子ｘ１、ｘ２、ｘ３、
ｘ４、Ｒ□およびＲ１，は特に当量のカルシウム、バリ
ウムおよびバリウム原子である。アミン残基Ｘ！、ｘ、
、ＸＳ、Ｒｓｘお工びＲＩ３は例えばアンモニウム、−
ＮＨ（ＣＨｓ’）ｓ、−ＮＨ（Ｃ＊Ｈｓｈ、又は−ＮＨ
（ＣＨＩＣＨ１０Ｈ）ｓである。

Ｘ、とｘ２父はＲｔｚとＲ１３で形成される多価金属原
子にはカルシウム　バリウム■、亜鉛田、銅■■ 鉄および鉄■が含まれる。

好ましくは、Ｒ２は水素原子又はメチル基である。

好ましく　ｌ’ｔ　Ｒｓは残基−０ｘ２であり、ここで
ｘ２は前記の意味を有するが、好ましくはアルカリ金属
原子１％にナトリウムである。

式ｌの好ましいコテロマーは、 Ｒ２が水素原子又はメチル基であり； Ｒ３が水素原子又は残基−ＣＯ２Ｒ，（ここでＲ６は水
素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基であり； Ｒ４が水素原子又は−ｃｏｚＲｓ　（ここでＲ６は水素
原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基である）で
あり：そして Ｒ５が−ＣＯ２Ｒ６（ここでＲ７は水素原子、炭素原子
数１ないし８のアルキル基、又はヒドロキシ基で＃を換
された炭素原子数１ないし８のアルキル基である）、又
は炭素原子数１ないし８のアルキル基、又ｒｉ１　ｉ１
ｉ！又は２個のカルボキシル基で置換された炭素原子数
１ないし８のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシル又
は５０３ｘ４で置換すれたフェニル基、ヒドロキシル基
、アセトメチル基、−ＳＯ３Ｘ４、又は−ＰＯｘ（Ｘ４
）ｚ　（ココＴ　Ｘ４は前に定義した）、通りである）
　、−ＣＯＮＲ，Ｒ，。

（ここでＲ９２よびＲ１０は前に定義した通りである）
、又は−Ｎ（Ｒｌｔ）ＣＯＣＨ３（ここでＲ１１は前に
定義した通りである）であるか、或いはＲ５はＲ３と共
に無水カルボン酸部分−ｃｏ、　ｏ、　ｃｏ−’を形成
する化合物である。

Ｒ１は前記の意味を有し：そしてｍとｎとの合計は２な
いし３２である。

式１のコテロマーの加水分解安定性を改良するためには
、 Ｒ３およびＲ４が夫々水素原子又はカルボキシル基であ
り、そしてＲ，がカルボキシル基、炭素原子数１ないし
８のアルキル基、１個又は２個のカルボキシル基で置換
された炭素原子数１ないし８のアルキル基、フェニル基
、ヒドロキシ又はｓ　ｏ、Ｒ４で置換されたフェニル基
、ヒドロキシ基、７セトメチル基、−ＳＯｓＸ４又は−
ＰＯｓ　（Ｒ４）ｚ　（ＣＣでＲ４は前記の意味を有す
る）、−ＣＯＮＲ，Ｒ，。（ここでＲ−お工びＲＩＧは
前記の意味を有する）、又は−Ｎ（Ｒ１１）ＣＯＣＨ，
（ここでＲ１１は前記の意味を有する）であるのが特に
好ましい。即ち、容易に加水分解されるエステル基を含
まない式Ｉのコテロマーが好ましい。

好ましいｍ：ｎの比は９２：８ないし８：９２である。

式Ｉのコテロマーと反応して部分的又は完全な塩を形成
し得る塩基の例は、ナトリウム、カリウムおよびアンモ
ニアの水酸化物および炭酸塩である。同様に、有機塩基
も使用し得、例えば第１、第２および第３アルキルアミ
ンおよび置換アルキルアミンであって、全炭素原子数が
１２を越えないもの、例えばトリエタノールアミンが使
用し得る。同様に第四アミン基も使用し得、例えば次式
二 ■Ｎ　（Ｒ，／　Ｒ，／　Ｒ，／Ｒ，／　）、　Ａｎｅ
（上記式中、Ｒ，ＩないしＲ４′は同−又は相異なり、
そして夫々炭素原子数１ないし６のアルキル基、特にメ
チル基又はエチル基、又は２−ヒドロキシエチル基であ
るか、或いはＲ１′ないしＲ４／の一つがベンジル基で
ありそしてＲ１′ないしＲ４′の他の三つが炭素原子数
１ないし６のアルキル基、特にメチル基又はエチル基で
あり；そしてＡｎｅが）・ロゲン、特に塩素又は臭素、
ヒドロキシル基又は硫酸イオンである）で表わされる基
が使用し得る。

本発明によると、ｎモルの次式■： ＣＨｚ＝Ｃ（Ｒｔ）　Ｃｏ２Ｒｎ　　　　ｆＶ（上記式
中、Ｒ１およびＲ１１は前記の意味を有する）で表わさ
れる酸二ｍモルの次式Ｖ： Ｃ１（Ｒｓ）＝Ｃ（Ｒａ）（Ｒｓ）　　　Ｖ（上記式中
、Ｒ１、Ｒ４およびＲ，は前記の意味を有する）で表わ
される化合物；および１モルの次式■： Ｈ−Ｐ　　　　　　　　　　　　　　　■＼ ０Ｒ凰３ （上記式中、Ｒ１２およびＲ１１は独立して水素原子、
炭素原子数１ないし４のアルキル基、フェニル基、アル
カリ金属−又は当量のアルカリ土類金属原子、アンモニ
ウムイオン又はアミン残基であるか、或いＶｉＲ１２と
Ｒ１３とは一緒になって多価金属原子となっても工く、
或いＶｉＲ，、とＲ１３とは−Ｃ１２ＣＨ２−残基を介
して連結して、環式構造を形成する）で表わされる化付
物を反応させることからなる弐１で表わされるコテロマ
ー化合物の製造方法もまた提供される。

代表的な金属イオンＲｔｚお工びＲ１３、並びにアミン
残基およびアンモニウムイオンは、前にｘｌおよびＲ２
に関して指示したものである。

弐■の反応体中のＲ１２およびＲ１３の定義は、式ｌの
生成物中のＸ！およびｘｚの定義を決定する。

式ｌの代表的な共反応体にはジメチルホスファイト、ジ
エチルホスファイト、ジフェニルホスファイト、オルト
亜リン酸又はその塩、特にアルカリ金属塩１％にナトリ
ウム塩、が含まれる。

弐■又は■のコモノマーの例には次のものが含まれるニ アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−
メチルアセトアミド、Ｎ−アリルアセトアミド、Ｎ−ア
クリルアミドグリコール酸、メタクリル酸、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、マレイン酸、無水マレイン酸、
２−カルボキシエチルアクリレート、３−ブテン−１，
２，３−トリーカルボン酸、マレイン酸ジメチル、マレ
イン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸、イタ
コン酸ジメチル、とニルスルホン酸、アリルスルホン酸
、４−スチレンスルホン酸、３−スルホプロピルアクリ
ル酸のナトリウム−又はカリウム酸、２−アクリルアミ
ド−２−メチルーグロバンスルホン酸、ビニルホスホン
醒、アリルスルホン酸、スチレンホスホン酸、アリルア
ルコール、酢酸アリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メ
チルスチレン、ヘキセン、オクテン、Ｎ−アクリルアミ
ドプロパンスルホン酸、クリシジルメタクリレート、ク
ロトン酸、クロトン酸エチル、（メタ）アクリル酸のポ
リエチレングリコールエステルおよびポリプロピレンク
リコールエステル。

或いは式Ｖの塩の化合物を使用し得、ここで酸水素は前
述した塩形成性塩基から誘導されたカチオンにより一部
分又は完全に置き換えられている。

反応は、反応条件下で不活性の溶媒の存在又は不在下に
てそして米国特許２９５７９５１号に記載された反応開
始剤の存在下にて行われる。適した反応開始剤には、反
応条件下で分解して遊離基を生成する物質が含まれる。

かかる＋ｌＩＪ質の例はビスアゾイソブチロニトリル、
過酸化ベンゾイル、過酸化メチルエチルケトン、過酸化
ジ第３ブチルおよびモノブチルヒドロペルオキシドのよ
うな有機過酸化物：および過酸化水素、過ホウ酸ナトリ
ウムおよび過硫酸ナトリウムである。

この方法の生成物は溶液として得られる。それらを減圧
下で部分的又は完全な蒸発工程に付してもよい。未ｎＩ
夷の反応生成物を本発明の方法でコテロマー生成物とし
て使用し得る。反応生成物はまた精製してもよい。精製
工程は次のようであることができる二 １）反応浴ｉを蒸発させ、残留物を水に溶解し、水と非
混和性の有機溶媒、例えばエーテル、で洗浄し、そして
水溶液を蒸発させる、 １１）反応溶媒を蒸発させ、残留物を適当な溶媒、例え
ばメタノール、に溶解し、そして非溶媒、例えばエーテ
ル、の添加により再沈殿させる。

式！のコテロマー化合物の製造方法は、重合工程の後に
カルボン酸および／またはホスホン酸のエステル基を全
部又は部分的に対応する遊ａｒＲ基に変換するために、
慣用の加水分解工程を含み得る。

所望により、得られた酸基を慣用の方法により対応する
塩基に変換しても工い。

式！の化合物中の酸水素のいくつか又は全部が前に定義
した塩形成性塩基から誘導されたカチオンで置き換えら
れている式１の化合物の塩は１式１の化合物の水＃液又
はアルコール溶液を、必要な塩基を化学量論的必要量よ
りも過剰量、等しい量又は少ない量で含む水溶液又はア
ルコール溶液と混合することにより製造し得る。

次に溶媒を蒸発により除去し得る。本発明の防止剤が有
用となる多くの水含有系において、水は中和するのに十
分にアルカリ性であり、そして本発明の生成物を添加す
るだけでよい。

本発明はまた、系に弐Ｉのコテロマー化合物又はその塩
を添加することからなる水性系の処理方法を提供する。

実際には、水性系を処理するのに使用される式ｌの化合
物又はその塩の１は、該化合物に要求される保護機能に
従って変化し得る。

例えは、腐食防止保護処理および場合によっては同時に
スケール防止処理については、水性系に添加される式１
の化合物又はその塩の量は、水性系の重１を基準にして
ｃＬｌないし５００００ｐｐｍ（α００００１ないし５
重量％）、好ましくは１ないし５００　ｐｐｍ（α００
１ないしｌ１０５重鎗％重量範囲であり得る。

単にスケール防止処理では、添加される式１の化合物又
はその塩のｔは水性系を基準にして１ないし２００　ｐ
ｐｍが好都合であり、１ないし５０　ｐｐｍが好ましい
。

殆んどの相対的に希薄な水性分散体の処理については、
分散剤／汚れ防止剤として添加される式ｌの化合物又は
その塩の量は重量基準で１ないし２００ｐｐｍが便利で
あり、２ないし２０　ｐｐｍが好ましい。しかしながら
、処理されるのが水性スラリーの場合は、すっと多量の
式１の化合物又はその塩を必要とし、例えば全固形分を
基準にして［ｌＬｌないし５重量憾であり、それは水性
系全体を基準にして７０重ｆ％であり得る。

水性系からスケール沈着および壇の沈殿を防止するため
に使用する場会は、弐Ｉの化合物又はその塩は、カルシ
ウム、マグネシウム、バリウム又はストロンチウムカチ
オン、および硫酸、炭酸、水酸、リン酸およびケイ酸イ
オンのようなアニオンから誘導されたスケール形成性塩
の沈着を防止するのに特に有効である。

本発明に従って処理し得る水性系に関して、腐食防止お
よびスケール防止の組合せの処理に有オリなのは、冷却
水系、スチーム発生系、海水蒸発器、逆浸透装置、製紙
装置、砂糖蒸発装置、土壌潅概系、静水圧調理器、カス
洗浄系、閉回路加熱系、水基材冷凍系および下流井戸（
ｄｏｗｎ−ｗｅｌｌ）系；腐食防止処理単独に特に有利
な水系は、水性機械加工用流体配置物（例えば穴あけ、
微粉砕、リーマ−仕上、ブローチ、絞り成形、へら絞り
加工、旋削、切断、のこ引き、磨砕、およびねじ切り操
作又は絞り又は圧延操作での非切断成形に使用するため
）、水性精練系、水性グリコール凍結防止系を含むエン
ジン冷却剤、水／グリコール水圧流体：および水性ポリ
マー表面被積系／又は溶剤系ポリマー系、例えばテトラ
ヒドロフラン、ケトン又はアルコキシアルカノールを含
むものがある。

本発明に従って使用される式！の化合物の防止用化置物
は単独でも、或いは水系の処理に有用であることが仰ら
れている他の化合物と組み合わせて使用してもよい。

冷却水系、空調系、スチーム発生系、海水蒸発系、静水
圧調理器、および閉回路加熱又は冷凍系のような完全に
水性の系の処理において、例えば次のような他の腐食防
止剤を使用し得る：水溶性亜鉛塩ニリン酸塩：ボＩＪ　
１７ン酸塩：ホスホン酸およびそれらの塩、例えばヒド
ロキシエチルジホスホン酸（ＨＥＤＰ　）、ニトリロト
リス。

メチレンホスホン酸およびメチルアミノジメチレンホス
ホノカルボン酸およびそれらの［（例えげ西独公開明細
＄　２６３２７７４号に記載されたもの）、ヒドロキシ
ホスホノ酢酸、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリ
カルボン酸および英国特許１５７２４０６号に開示され
たもの：硝酸塩、例えば硝酸ナトリウム：亜硝酸塩、例
えば亜硝酸ナトリウム；モリブデン酸塩、例えばモリブ
デン酸ナトリウム、タングステン酸塩：ケイ酸塩、例え
ばケイ酸ナトリウム；ベンゾトリアゾール、ビスーベン
ゾトリアゾール父Ｆｉ銅失活化ベンゾトリアゾール又は
トルトリアゾール誘導体又はそれらのマンニッヒ塩基誘
導体；メルカプトベンゾトリアゾール；Ｎ−アシルサル
コシ７：Ｎ−アシルイミノジ酢酸；エタノールアミン：
脂肪アミン：およびポリカルボン酸、例えばポリマレイ
ン酸およびポリアクリル酸、並ひにそれらの夫々のアル
カリ金桐塩、無水マレイン酸のコポリマー、例えば無水
マレイン酸とスルホン化スチレンのコポリマー　アクリ
ル酸のコポリマー、例えばアクリル酸とヒドロキシアル
キル化アクリル酸のコポリマー、およびポリマレイン酸
およびポリアクリル酸の置換誘導体およびそれらのコポ
リマー。更に、かかる完全に水性の系においては、本発
明に従って使用される防止剤は、例えば次の分散および
／または限界剤（ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　ａｇｅｎｔ　）
と組み合せて使用してもよい二重合したアクリル鈑（又
はその塩）、ホスフィノ−ポリカルボンｆｉｔ　（英国
％許１ａｓａ２３５号に記載されそして特許請求された
もの）、欧州特許出ＩＡ第Ｑ１５Ｑ７Ｑ６号に記載され
たコテロマー化合物、加水分解されたポリアクリロニト
リル、重合したメタクリル酸およびその塩、ポリアクリ
ルアミドおよびアクリル酸とメタクリル酸からのコポリ
マー　リグニンスルホン酸およヒソの塩、タンニン、ナ
フタレンスルホン＃Ｒ／ホルムアルデヒド縮合生成物、
殿粉およびその誘導体、セルロース、アクリル酸／低級
アルキルヒドロキシ−アクリレートコポリマー例えば米
国特許明細書第４０２９５７７号に記載されたもの、ス
チレン／無水マレイン酸コポリマーおよびスルホン化ス
チレンホモポリマー、例えは米国特許明細書第４５７４
７５５号に記載されたもの、およびそれらの組み合せ。

特定の限界剤、例えば２−ホスホノブタン−１，２，４
−トリカルボン酸（ＰＢＳＡＭ　）　、ヒドロキシエチ
ルジホスホン酸（ＨＥＤＰ　）、加水分解された無水ポ
リマレイン酸おヨヒソの塩、アルキルホスホン酸、ヒド
ロキシホスホノ酢酸、１−アミノアルキル−１，１−ジ
ホスホン酸およびそれらの塩、およびアルカリ金属のポ
リリン酸塩、もまた便用してもよい。

特に興味ある添加剤の組仕せは、式Ｉの化せ物と、ポリ
マレインば又はポリアクリル酸又はそれらのコポリマー
　又は置換コポリマー　ヒドロキシホスホノ酸ｒ：１１
．　ＨＥＤＰ、　ＰＢＳＡＭ、　　トルトリアゾールの
ようなトリアゾール、モリブデン酸塩および亜硝酸塩の
１種又はそれ以上とを含むものである。

アルカリ金属オルトリン酸塩、炭酸塩のような沈殿剤：
アルカリ金属亜硫酸塩およびとドラジンのような酸素捕
渠剤；ニトリロ三酢酸およびその塩のような金属封鎖剤
：シリコーン、例えばポリジメチルシロキサン、ジステ
アリルアジパミド、ジステアリルアジパミドおよびカプ
リルアルコールのような脂肪アルコールおよびそれらの
エチレンオキシド縮合物に加えて、エチレンオキシドお
よび／またはプロピレンオキシド縮合物から誘導された
関連生成物のような消泡剤；殺生物剤、例えばアミン、
第四級アンモニウム化合物、クロロフェノール、スルホ
ン、メチレンビスチオシアネートおよびカルバメートの
ようなイオウ官有化合物、インチアゾロン、臭素化プロ
ピオンアミド、トリアジン、ホスホニウム化合物、塩素
および塩素放出剤、およびトリブチル酸化錫のような有
機金属化せ物を便用し得る。

本発明により処理される系が例えは水性機械加工流体配
合物のように完全な水性て゛ない場合は、その系は例え
ば水希釈性切断又は磨砕流体であり得る。

本発明の水性機械加工流体配合物＃′ｉ例えば金属加工
用配合物であり得る。′金属加工１とは、リーマ−仕上
、ブローチ、絞り成形、へら絞り加工、切断、磨砕、穴
あけ、微粉砕、旋削、のこ引き、非切断、成形又は圧ａ
全意味する。腐食防止用組成物を冷加することができる
水希釈性切断又は磨砕用流体の例には下記のものが含ま
れる。

ａ）通常磨砕流体として使用される、１：５０ないし１
：　１００の希釈率で用いられる１橿又は２橿以上の腐
食防止剤および任意に１種又は２種以上の耐摩耗添加剤
の水性崖厚液： ｂ）切断操作には１：２０ないし１：４０の希釈率でセ
して磨砕には１：６０ないし１：８０の希釈率で使用さ
れる、殺生物剤、腐食防止剤および耐摩耗添加剤を宮む
ポリグリコール：ｃ）　　ｂ）と類似するが更に１０な
いし２５％の油と水で希釈した製品を半透明にするに十
分な乳化剤を含む半合成切断用流体； ｄ）例えば乳化剤、腐食防止剤、極限圧／耐摩耗添加剤
、殺生物剤、消泡剤、カップリング剤等を含む、乳化性
の鉱油濃厚液：それらは一般に水で１：１０ないし１：
５０に希釈されて白色不透明の乳液となる： ｅ）　　ｄ）と類似の製品であるがより少量の油とより
多量の乳化剤を含み、１：５０ないし１：１００の範囲
の希釈により、切断又は磨砕操作用の半透明乳液となる
。

水性系成分が水性機械加工用流体配合物である部分的に
水性の系については、本発明に従って使用される式Ｉの
防止剤は単独で便用しても、或いは他の添加剤、例えは
公知の他の腐食防止剤および／または極限圧添加剤、と
混合して使用してもよい。

本発明に従って使用される腐食防止剤に加えてこれらの
水性系に使用し得る他の腐食防止剤の例には下記の群が
含まれる： ａ）有機酸、それらのエステル又はアンモニウム、アミ
ン、アルカノールアミンおよび金属塩、例えば安息香酸
、ｐ−第３ブチル安息香酸、セパシン酸二ナトリウム、
ラウリン酸トリエタノ−ルアミン、インノナンｍ、＜ｐ
−トルエンスルホンアミドカプロン酸）のトリエタノー
ルアミン塩、ベンゼンスルホンアミドカプロン酸のトリ
エタノールアミン塩、欧州特許第４１９２７号に記載さ
れたよりな５−ケトカルボン＃Ｒ銹導体のトリエタノー
ルアミン塩、Ｎラウロイルサルコシン酸ナトリウム又は
ノニルフェノキシ酢＃Ｉ：ｂ）下記のタイプのようなチ
ッ素含有物質二脂肪酸アルカノールアミド；イミダシリ
ン、例えば１−ヒドロキシエチル−２−オレイル−イミ
ダシリン、オキサゾリン：トリア、ゾール、例えばベン
ゾトリアゾール；父はそれらのマンニッヒ塩基誘導体、
トリエタノールアミン：脂肪アミン；無機塩、例えば硝
酸ナトリウム；および欧州特許出願第４６１５９号に記
載されたカルボキシ−トリアジン化合物： Ｃ）下記のタイプのようなリン含有物質ニリン酸アミン
、ホスホン酸又は無機塩、例えばリン酸二水素ナトリウ
ム又はリン酸亜鉛： ｄ）下記のタイプのようなイオウ含有化合物：石油スル
ホン酸ナトリウム、カルシウム又はバリウム、父は複素
環、例えばナトリウムメルカプトベンゾチアゾール。

チッ素含有物質、特にトリエタノールアミン、が好まし
い。

本発明に従って処理される系に存在し得る極限圧添加剤
の例にはイオウおよび／またはリン２よひ／またはハロ
ゲン含有物質、例えば硫化マツコラ鯨油、硫化脂肪、ト
リトリルホスフェート、塩素化パラフィン又はエトキシ
ル化リン酸エステル。

本発明に従って処理される水性系中にトリエタノールア
ミンが存在する場合、防止剤組成物とトリエタノールア
ミンとの比が２：１ないし１：２０となる量で存在する
のが好ましい。

本発明の方法により処理される部分的に水性の系は水性
表面被覆用組成物、例えばエマルジ１ンペイントおよび
金属基材用の水性粉末被覆剤であってもよい。

水性表ｒｆＪＭ覆用組成物は、例えば金属基材を被覆す
るためのスチレン−アクリル系コボリマーエマルジ曹ン
ペイン）　、樹Ｂ’ｆｔ、　５　ｆクラス、又はその他
の水基材ポリマー表面被憬系であり得る。本発明に従っ
て使用される防止剤組成物は、金属基材に表［ｉＹ被棟
を施す間、該基材のフラッシュ錆を防止しセして被俊し
た金属の使用中にその後腐食するのを防止するために使
用し得る。

本発明の方法により処理される水性表面被覆用組成物に
おいて、防止剤組成物は単独で使用しても、或いは他の
添加剤、例えば公知の腐食防止剤、殺生物剤、乳化剤ｐ
よひ／または顔料と混合して使用してもよい。

使用し得る他の公知の腐食防止剤は、例えば前に定義し
たクラスａ）、ｂ）、Ｃ）およびｄ）のものである。

式ｌの化付物に加えてこれらの水性系に使用し得る殺生
物剤の例には下記が含まれる二フェノール、およびアル
キル−およびハロゲン化フェノール、例えばペンタクロ
ロフェノール、０−フェ；ルフェノール、０〜フエノキ
シフエノールおよび塩素化０−フェノキシフェノール、
サリチルアニリド、ジアミン、トリアジン、および有機
水銀化合物および有機錫化付物のような有機金属化合物
。

式ｌの化合物に加えてこれらの水性系に使用し得る顔料
の例には二酸化チタン、クロム酸亜鉛、酸化鉄、および
フタロシアニンのような有機顔料が含まれる。

既に指示したように、式ｌのトリーコテロマーは、普通
の沈着物、例えば酸化鉄お工ひ／または鉄塩、およびマ
グネシウム沈着物、例えばマグネシウムの炭素塩、硫酸
塩、蓚酸塩およびリン酸塩、およびかかる水中に見られ
る砂泥、アルミナ、ケイ酸塩および粘土に対して分散剤
お工ひ／または防汚剤としても機能する。

特に本発明の方法は、カルシウムイオン５ないし１５０
０　ｐｐｍ　（重量基準）および懸濁された固形物を含
む水性系中の沈着物の分散に適用し得る。本発明のこの
観点は、粘土ビットから使用者に輸送する間かなり分喘
しないスラリーを得るのが重要な白土工業に特に用途を
見出す。

これらのスラリー中で＠濁固体の濃度が高いと、式Ｉの
コテロマーは白土を分散しセして“プロセス中の”分散
剤としておよび磨砕助剤として価値があることが見出さ
れ念。

下記の実施例は本発明全史に例示するものである。全て
の部およびパーセントは特に記載がない限り重量基準で
ある。

実施例１ニ ジエチルホスファイト２７．６重量部を攪拌しながらチ
ッ素ガス雰囲気中で１２０℃に加熱する。

これに、ジー＠３ブチルペルオキシド７．３重量部およ
びアクリル酸エチル６０重量部と酢酸ビニル１７．２重
量部との混合物を同時に４時間にわたって添加する。添
加が終った後、加熱を更に２時間維持する。

得られた液体を水１００重量部で洗浄し、そして有機部
分を減圧下で蒸留して揮発物を２００℃／１６００Ｐａ
にて除去する。残留した液体を次に１８係塩酸２００重
量部に溶かしそして１６時間加熱還流する。次いで水性
部分を１００℃および１２００Ｐａにて蒸留で除去する
と、淡黄色固体ポリマー４５重量ｓ１に得る。ホスホン
酸の添加で、”　Ｐ　ｎｍｒスペクトルで５０　ｐｐｍ
付近にて幅広い吸収が示される。

試験 試験条件 試験温度　　７０℃ 試験時間　　３０分 曝気速度　　５００ω／分（１００１当り）カルシウム
　　　Ｃａ”＋として１５．ＯｐｐｍマクネシウムＭｇ
２＋として４５ｐｐｍ炭酸塩　　　ＣＯ１′−とじて５
１ｐｐｍ重炭酸塩　　−ＨＣｏ、として２６９ｐｐｍ試
験用添加物　　’　ｐｐｍ 試験Ｖｉ添加物がｃ　ａ　ｃｏ、の沈殿を防止する能力
を計画するためになされたものである。水組成物は冷却
水１ｋまねたもので、高温は熱又換器に近゛ハ条件を表
わす。気泡を使用して試験条件の厳しさを増大さぜる。

炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウムを含むある容量
の溶液を、塩化カルシウムおよび塩化マグネシウムを含
み、試験用箔加物を既に含む同じ容量の溶液と混せする
。一定の割合で空気を泡立てた、得られた試験溶液を７
０℃で３０分間保存する。この時間の後、Ｍ溶液全濾過
し、そしてＩＦＮ中に残存するカルシウムをＥＤＴＡ　
＠ｉ定により決定する。

各試験を２回実施するが、１回目の試験は試験中の実際
のＣａ２＋濃度を決定する標準試験である。

標準滴定量およびブランク滴定量は通常それぞれ１５〜
１６ｄおよび５〜６ｄである。

実施例１の生成物は１１）ｐｍの添加量でチｃａｃｏ。

防止率５２であった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）下記式 I で表わされるコテロマー化合物および
   その塩： ▲数式、化学式、表等があります▼、 （上記式中、Ａ＿１は次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼II で表わされる単位を少なくとも一つおよび式IIの単位と
   は異なりそして次式III： ▲数式、化学式、表等があります▼III で表わされる単位を少なくとも一つ含むランダムポリマ
   ー残基を表わし； Ｘ＿１は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基
   、フェニル基、アルカリ金属−又は当量のアルカリ土類
   金属原子、アンモニウムイオン又はアミン残基を表わし
   ； ｍおよびｎは、ｍとｎとの合計が２ないし １００の整数となり、ｎ：ｍ比が９９〜１：１〜９９で
   あって、得られるコテロマーが水溶性となるような整数
   であり； Ｒ＿１は残基−ＯＸ＿２（ここでＸ＿２はＸ＿１と同じ
   か或いは異なっていてもよく、そして水素原子、炭素原
   子数１ないし４のアルキル基、フェニル基、アルカリ金
   属−又は当量のアルカリ土類金属原子、又はアンモニウ
   ム又はアミン残基であるか、或いはＸ＿１とＸ＿２とは
   一緒になってコテロマー分子のアニオン部分と共に中性
   錯体を形成する多価金属原子であってもよく、或いはＸ
   ＿１とＸ＿２とは−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−残基により連
   結されて環構造を形成してもよい）を表わし； Ｒ＿２は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基
   又は１個又は２個のカルボキシル基で置換された炭素原
   子数１ないし４のアルキル基を表わし； Ｘ＿３はＸ＿１およびＸ＿２と同じか或いは異なり、そ
   して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ア
   ルカリ金属−又は当量のアルカリ土類金属原子、又はア
   ンモニウム又はアミン残基を表わし； Ｒ＿３は水素原子、メチル基又は残基−ＣＯ＿２Ｒ＿５
   （ここでＲ＿６は水素原子、直鎖又は枝分れ鎖の炭素原
   子数１ないし８のアルキル残基、又はヒドロキシ基で置
   換された直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし８のア
   ルキル残基を表わし；Ｒ＿４は水素原子、直鎖又は枝分
   れ鎖の炭素原子数１ないし４のアルキル残基、ヒドロキ
   シメチル基又は残基−ＣＯ＿２Ｒ＿７〔ここでＲ＿７は
   水素原子、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる残基、式−〔ＣＨ＿２−ＣＨ（Ｒ＿６）Ｏ
   〕＿ｚ（ここでＲ＿６は水素原子、メチル基又はフェニ
   ル基であり、そしてＺは１ないし２０の整数である）で
   表わされる残基、直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ない
   し８のアルキル残基、又はヒドロキシ又はＳＯ＿３Ｘ＿
   ４（ここでＸ＿４は水素原子、又はアルカリ金属−又は
   当量のアルカリ土類金属原子である）で置換された直鎖
   又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし８のアルキル残基で
   ある〕を表わし； Ｒ＿５は残基−ＣＯ＿２Ｒ＿７（ここでＲ＿７は前記の
   意味を有する）、直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ない
   し８のアルキル残基、１個又は２個のカルボン酸基で置
   換された直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし８のア
   ルキル残基、フェニル残基、ヒドロキシ又はＳＯ＿３Ｘ
   ＿４で置換されたフェニル残基、アセチル残基、ヒドロ
   キシメチル基、ヒドロキシ基、アセトメチル基、 −ＳＯ＿３Ｘ＿４、−ＣＨ＿２ＳＯ＿３Ｘ＿４又は−Ｐ
   Ｏ＿３（Ｘ＿４）＿２（ここでＸ＿４は前記の意味を有
   する）、残基−ＣＯＮＲ＿９Ｒ＿１＿０（ここでＲ＿９
   およびＲ＿１＿０は同一であるか又は異なり、そして夫
   々水素原子、直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１ないし８
   のアルキル基、ヒドロキシメチル基、又は残基−ＣＨ（
   ＯＨ）ＣＯ＿２Ｘ＿４、−Ｃ（ＣＨ＿３）＿２ＣＨ＿２
   ＳＯ＿３Ｘ＿４、−Ｃ（ＣＨ＿３）＿２ＣＨ＿２ＣＯ＿
   ２Ｘ＿４又は−Ｃ（ＣＨ＿３）＿２ＣＨ＿２ＰＯ＿３（
   Ｘ＿４）＿２（ここでＸ＿４は前記の意味を有する）、
   又は−Ｎ（Ｒ＿１＿１）ＣＯＣＨ＿３（ここでＲ＿１＿
   １は水素原子、又は直鎖又は枝分れ鎖の炭素原子数１な
   いし４のアルキル基である）であるか、或いはＲ＿５は
   Ｒ＿３と共に無水カルボン酸部分−ＣＯ．Ｏ．ＣＯ−を
   形成してもよい）。 （２）Ｒ＿２が水素原子又はメチル基である、請求項１
   記載の式 I で表わされるコテロマー化合物。 （３）Ｒ＿１が残基−ＯＸ＿２（ここでＸ＿２は請求項
   １に定義した通りである）である、請求項１記載の式１
   で表わされるコテロマー化合物。 （４）Ｘ＿２がアルカリ金属原子である、請求項３記載
   の式 I で表わされるコテロマー化合物。 （５）アルカリ金属原子がナトリウムである、請求項４
   記載の式 I で表わされるコテロマー化合物。 （６）Ｒ＿が水素原子又は残基−ＣＯ＿２Ｒ＿６（ここ
   でＲ＿６は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキ
   ル基である）であり；Ｒ＿４が水素原子又は−ＣＯ＿２
   Ｒ＿６（ここでＲ＿６は水素原子又は炭素原子数１ない
   し８のアルキル基である）であり；そしてＲ＿５が−Ｃ
   Ｏ＿２Ｒ＿７（ここでＲ＿７は本素原子、炭素原子数１
   ないし８のアルキル基、又はヒドロキシ基で置換された
   炭素原子数１ないし８のアルキル基である）、又は炭素
   原子数１ないし８のアルキル基、又は１個又は２個のカ
   ルボキシル基で置換された炭素原子数１ないし８のアル
   キル基、又はフェニル基、ヒドロキシル又はＳＯ＿３Ｘ
   ＿４で置換されたフェニル基、ヒドロキシル基、アセト
   メチル基、−ＳＯ＿３Ｘ＿４又は−ＰＯ＿３（Ｘ＿４）
   ＿２（ここでＸ＿４は請求項１で定義した通りである）
   、−ＣＯＮＲ＿９Ｒ＿１＿０（ここでＲ＿９およびＲ＿
   １＿０は請求項１で定義した通りである）、又は−Ｎ（
   Ｒ＿１＿１）ＣＯＣＨ＿３（ここでＲ＿１＿１は請求項
   １で定義した通りである）であるか、或いはＲ＿５はＲ
   ＿３と共に無水カルボン酸部分−ＣＯ．Ｏ．ＣＯ−を形
   成し：Ｒ＿１は請求項１に定義した通りであり；そして
   ｍとｎの合計が２ないし３２である、請求項２記載の式
   I で表わされるコテロマー化合物。 （７）Ｒ＿３およびＲ＿４が夫々水素原子又はカルボキ
   シル基であり、そしてＲ＿５がカルボキシル基、炭素原
   子数１ないし８のアルキル基、４個又は２個のカルボキ
   シル基で置換された炭素原子数１ないし８のアルキル基
   、フェニル基、ヒドロキシ又はＳＯ＿３Ｘ＿４で置換さ
   れたフェニル基、ヒドロキシ基、アセトメチル基、−Ｓ
   Ｏ＿３Ｘ＿４又は−ＰＯ＿３（Ｘ＿４）＿２（ここでＸ
   ＿４は前記の意味を有する）、−ＣＯＮＲ＿９Ｒ＿１＿
   ０（ここでＲ＿９およびＲ＿１＿０は請求項１で定義し
   た通りである）、又は−Ｎ（Ｒ＿１＿１）ＣＯＣＨ＿３
   （ここでＲ＿１＿１は請求項１に定義した通りである）
   である、請求項１記載の式 I で表わされるコテロマー
   化合物。 （８）容易に加水分解されるエステル基を含まない、請
   求項１記載の式 I で表わされるコテロマー化合物。 （９）ｎモルの次式IV： ＣＨ＿２＝Ｃ（Ｒ＿２）ＣＯ＿２Ｒ＿１＿１IV（上記式
   中、Ｒ＿２は請求項１に定義した通りであり、そしてＲ
   ＿１＿１は請求項１に定義した通りである）で表わされ
   る酸；ｍモルの次式Ｖ： ＣＨ（Ｒ＿）＝Ｃ（Ｒ＿４）（Ｒ＿５）Ｖ （上記式中、Ｒ＿３、Ｒ＿４およびＲ＿５は請求項１に
   定義した通りである）で表わされる化合物；および１モ
   ルの次式VI： ▲数式、化学式、表等があります▼ （上記式中、Ｒ＿１＿２およびＲ＿１＿３は独立して水
   素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、フェニル
   基、アルカリ金属−又は当量のアルカリ土類金属原子、
   アンモニウムイオン又はアミン残基であるか、或いはＲ
   ＿１＿２とＲ＿１＿３とは一緒になって多価金属原子と
   なってもよく、或いはＲ＿１＿２とＲ＿１＿３とは−Ｃ
   Ｈ＿２ＣＨ＿２残基を介して連結して、環構造を形成す
   る）で表わされる化合物を反応させることからなる、請
   求項１記載の式 I で表わされるコテロマー化合物の製
   造方法。 ＸＲ＿１が残基−ＯＸ＿２（ここでＸ＿２はアルカリ金
   属である）である、請求項９記載の方法。 （１１）Ｘ＿２がナトリウムである、請求項１０記載の
   方法。 （１２）水性系に請求項１記載の式 I で表わされるコ
   テロマー化合物又はその塩を添加することからなる、水
   性系の処理法。 （１３）水性系が該系と接触する金属の腐食を防止する
   ように処理され、そして式 I で表わされるコテロマー
   化合物又はその塩が０．１ないし５０，０００ｐｐｍの
   量で添加される、請求項１２記載の方法。 （１４）式 I で表わされるコテロマー又はその塩が１
   ないし２００ｐｐｍの量で添加される、請求項１３記載
   の方法。 （１５）水性系がスケールの沈着を防止するように処理
   され、そして式 I で表わされる化合物又はその塩が１
   ないし２００ｐｐｍの量で添加される、請求項１２記載
   の方法。 （１６）式 I の化合物が、ないし３０ｐｐｍの量で添
   加される、請求項１５記載の方法。 （１７）ｍとｎの合計が２ないし４０の整数である、請
   求項１記載の式 I で表わされるコテロマー化合物。