JPH02137A - サイクロスポリン類の全合成および中間体 - Google Patents

サイクロスポリン類の全合成および中間体

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はサイクロスポリン類、就中サイクロスポリン人
とその誘導体の全合成に関する。本発明はま次か\る全
合成法によって製造されたサイクロスポリン類並びに該
法において得られる新規中間体特に新規アミノ酸類に関
する。 サイクロスポリン類は、免疫抑制作用や抗炎症作用の如
き貴重な薬理作用を有する、−群の環状ポリ−N−メチ
ル化ウンデカペプチド類を包括的に指称し、たとえばサ
イクロスポリンA、B、C1D、Gなど、それらに対応
するジヒドロサイクロスポリン類などが知られている(
米国特許第4,117、118号、第4,210,51
8号オ!ヒ第4,108.985号、西ドイツ国公開第
2819094号および2941080号参照)。これ
らの中でも、特にサイクロスポリンAはその優れた免疫
抑制活性の故に多大の注目を浴びており、現に各種器官
の移植手術において拒否反応を抑制するのに有用である
ことが広く報告されている。サイクロスポリンAがいか
に興味深い物質であるかを示すものとして、たとえば次
の如き文献を挙げることが出来るニドランスプラント・
プロシーデインゲス(Transplant ProC
eedings ) 12巻2号(1980年)288
〜298頁「器官移植における薬理的免疫抑制に関する
シンポジウム」 ;アール・ワイeカルネ(几、 Y、
Ca1ne )、ネフoy(Ne−phron ) 2
6巻(1980年)57〜6E頁[サイクロスポリy 
(Cyclosporin ) J ;アール・ライ。 カルネ(几、 Y、 Ca1ne )、トレンド・イン
・ファーマコロジカル・サイエンシス:インミュノサブ
レション・イン・クリニカル・オーガン・グラフティン
グ(Trends in Pharmacologic
al 5cl−ences : Immunosupp
ression in C11nical Organ
Graftlng )  1巻(1979年)21〜2
2頁;ジエイーエフーボレル(J、 P、 Borel
 )、同誌1巻(1980年)146〜149頁など。 サイクロスポリン類の化学構造は公知である。 その構造分析に関する研究は、ルガー(Riiegge
r)らが基質としてサイクロスポリンA、ジヒドロサイ
クロスポリン人、イソサイクロスポリンλなどを使用し
、これに物理的かつ分解的分析技術を適用して行ったも
のであって、その詳細はヘルペチカ・ヒミカ・アクタ(
He1vetica Chlm、 Acta )59巻
4号(1976年)112.1076〜1092頁に報
告されている。しかして、その含有炭素数に鑑み、「C
0−アミノ酸」と呼ばれる従来未知のアミノ酸残基が存
在することは早くから指摘されたところであった。この
C9−アミノ酸を遊離の形で得ようとする試みは成功し
なかったが、サイクロスポリン人やジヒドロサイクロス
ポリン人の加水分解、たとえばダブシーイスラム(Da
bre −Islam )法によるジヒドロサイクロス
ポリン人の加水分解とそれに続くエステル化やアシル化
によって得られた誘導体や成績体からその基本構造を推
定することは可能であった。この方法や結果についても
前記ヘルペチヵ・キミヵ・アクタ誌に報告が行われてい
る。 サイクロスポリン人環を開環する企ては失敗に帰した。 無水トリフルオロ酢酸を使用する加水分解は緩和な条件
でも沢山のペプチド・フラグメントの混合物を与え、こ
の混合物から個々のペプチドを充分あるいは効果的に単
離することが出来なかったからである。 サイクロスポリンAの基本的な配列の解析は、C0−ア
ミノ酸に不安定な非ペプチド結合を有するイソーサイク
ロスポリン人に関するエドマン(Raman )分解変
法を適用して行われた。この分解はジヒドロメチルチオ
ヒダントイン誘導体の状態で09−アミノ酸を脱離せし
めることによって始まるが、同時に前記の不安定な結合
が開裂し、ペプチド・サイクルが開環する。 C9−アミノ酸の絶対配置は、結局、カンビー(Cam
ble )  らの方法によりIt とタリウム(I)
アセテートを反応させて得られた他のサイクロスポリン
人誘導体をX線分析に付して決定された。 このC0−アミノ酸は、今日、サイクロスポリンAにつ
いて(2S、8几、4 R,6E :] −]8−ヒド
ロキシー4−メチル−2メチルアミノ−6−オクテン酸
、ジヒドロサイクロスポリン人につい
【〔2S、3 R
,4B〕−8−ヒドロキシ−4−メチル−2−メチルア
ミノ−6−オクタン酸であることが確認されている。 上記のことから、Co−アミノ酸やそのジヒドロ誘導体
の構造は知られているものの、それら自体は現実のもの
としては知られていないことが理解されよう。すなわち
、それらは現実に単離されたことも々ければ、単離し得
る形で製造されたこともなかったのである。更に、これ
まで、これらの合成法も知られておらず、立体化学的に
あるいは実質的に純粋な形でこれらを収得する方法も知
られていなかったのである。 これまでサイクロスポリン類は主として微生物的方法、
たとえばトリボフラジラム・インフラタム・ガムス(T
olypocladIum inflatum gam
e ) (旧名トリコデルマ・ボリスボラム(Trlc
hodermapolysplorum ))の如きカ
ビを使用してその醗酵生産物として得られて来た。か\
る方法の詳細については文献に報告がある。 天然に生成するサイクロスポリン類、たとえばサイクロ
スポリンA、B、C,D、Gなどの限られた化学的修飾
は可能であって、対応するジヒドロ−およびイソ−誘導
体が提供されている。しかしながら、サイクロスポリン
類の製造にせよ、新規サイクロスポリン誘導体の製造に
せよ、微生物学的方法や半合成法に頼らねばならなかっ
たのであり、このためその−層の発展には厳しい制限が
存在した。 サイクロスポリン類の全合成がこれまで行われなかつ九
理由としては次の8つが考えられる。第1はC0−アミ
ノ酸自身に由来する問題であるが、これKは8つの光学
活性中心があるため、立体化学的に純粋な成績体が得ら
れるような合成法を見出す必要がある。i2はサイクロ
スポリン分子の複雑なポリ−N−メチル化構造に由来す
る問題である。よく知られているように、ペプチド合成
には多数の方法があるが通常の手段でN−メチル化アミ
ノ酸の結合を企てたのでは収率が悪く、関与するN−メ
チル化反応物のエピマー化が起って光学活性ペプチド異
性体の混合物が形成される。合成過aK数個のN−メチ
ル化アミノ酸部分の結合が含まれれば、当然のことなが
ら得られるジアステレオアイソマーの数は飛跳的に増大
する。カラムクロマトグラフィーや薄層クロマトグラフ
ィーのような通常の分離操作によって個々の異性体を単
離することは多大の労力を必要とし、現実に不可能と云
っても過言ではない。仮にこれを行い得たとしても製品
中に高い割合の不純物の混在を免れない。本質的に純粋
な状態で、しかもあらゆる点で天然品に相当するサイク
ロスポリン類を得るためには、基本的なサイクロスポリ
ン構造の開環形が光学的に純粋に得られるような厳格な
実験計画を必要としたのである。第8は最後の閉環工程
の問題である。仮に満足すべき開環形のサイクロスポリ
ン構造が得られていたとしても、閉環によってその本質
的な特性、就中立体化学的特性が損われることなく保持
されるか否かは不明であった。 本発明においては、閉環を実施する位置をしかるべく選
択することによってこの点の問題を克服したのであって
、上記選択は本発明の目的達成のうえで、極めて重要で
ある。更に、最終収率を維持しようと思えば、もちろん
、反応条件の選択にも注意を払う必要がある。 本発明は、(28JR,4R,6g)−8−ヒ)”。 キシ−4−メチル−2−メチルアミノ−6−オクテン酸
と(2R,88,4B〕−3−ヒドロキシ−4−メチル
−2−メチルアミノ−オクタン酸並びに対応する( 2
 R,8S、4 B )−エナンチオマーの遊離形およ
び保護形ないし活性形を含む一定範囲の誘導体の合成法
を提供する。得られる異性体は立体外性的に実質上純粋
である。本発明は、また、上記新規アミノ酸を出発原料
として使用するサイクロスポリン類、特にサイクロスポ
リン人の全合成法を提供する。これらの方法は以下に記
載されるが、特にサイクロスポリン人を例に挙げて具体
的に説明する。なお、本発明方法で得られたサイクロス
ポリンAが単離された天然品に一致する点は特に注目さ
れてよい。 上記の記述から明らかなように、本発明は、サイクロス
ポリン類製造のための公知の微生物的および半合成的技
術に代る方法を提供するものであるが、それに加え、新
しい種類のサイクロスポリン類、サイクロスポリン誘導
体、サイクロスポリン様活性化合物など開発の道を開く
ものでもある。 か\る誘導体は、公知の天然サイクロスポリン類に存在
するC9−アミノ酸類を本発明Kか\る新規C9−アミ
ノ酸で置換することによって提供されてもよく、公知の
天然ペプチド類に関する展開の場合と同様、サイクロス
ポリン鎖を巡る基本的ペプチド鎖を修飾することによっ
て提供されてもよい。その他基本的サイクロスポリン分
子を適宜に変換する他の方法については当業者にとって
明白であろう。サイクロスポリン類の薬理学的活性に対
する関心に鑑み、本発明は重要な意義を有するものであ
る。 サイクロスポリン全合成 一般に、ペプチド類は適当な合成経路によって合成的に
構成されてよく、経路の選定は単純さと経済性を考慮し
て、例えば必要な反応工程の数によって通常窓められる
。最も通常のアプローチは、適当な部分配列を有するよ
り小さなペプチド単位を連結することである。サイクロ
スポリン類(例、サイクロスポリンA)では、合成経路
の選定は制限されるようである。勿論、第一の制限は環
化を行う位置の選定1こある。しかし、開放鏡影のサイ
クロスポリンを得るための合成配列の選定においても制
限があるようである。本発明は必要な開放鏡影の合成用
特定方策を提供し、それは各合成工程用の高度な特定反
応条件の選定に関連して使用される。 ペン型鎖形態の製造用に開発された合成方策を、フロー
チャート■においてサイクロスポリン入用に示す。(こ
のフローチャートにおいて、C9−アミノ酸基は生成サ
イクロスポリンの1位置を占めるように示されており、
分子の残りの基は右回シで番号を付され配列されている
。標準法によれば、ここに示すすべての基の圀列はN−
末端基で始まる。)この方策は、次の工程から成るもの
として認識できる。 1、配列4〜7を有し、7で始まシ、他の6.5および
4のN−末端への連続連結によって進行するテトラペプ
チドの製造、 2、配列2〜7を有するヘキサペプチドを得るための、
配列2〜8を有するジペプチドの製造、および工程1を
経て得られるテトラペプチドのN−末端への該ジペプチ
ドの連結、 3、配列1〜7を有するヘプタペプチドを得るための、
工程2を経て得られるヘキサペプチドのN−末端への%
−アミノ酸の連結、および4、配列8〜7を有する線状
ウンデカペプチドを得るための、配列8〜11を有する
テトラペプチドの製造、および工程8を経て得られるヘ
プタペプチドのN−末端への該テトラペプチドの連結。 C9−アミノ酸のギヲリチイ(Chirality )
 (即ち、鏡像体が存在すること)工程8で維持するこ
とを確実にするために、該アミノ酸は式■に関して後述
の如く(特に実施例1にで述べる如く)、2−N官能基
と8−0官能基間を架橋し、6員環またはよυ好ましく
は5員環を完成する保護基を有する形態で導入すること
が好ましい。 この方法は、選定したC−末端基7から出発するペプチ
ド鎖の段階的延長を経て本質的に進行することがわかる
。 合成における各工程の反応条件の選定、特に温度と塩基
の選定は重要である。合成の各工程のために実施例1a
−$に述べる特定条件を使用すると、前述のエビ化問題
は大きく解消され、そして反応は所望異性体を実質的純
粋体(即ちエビ化生成物を実質的に含まない)で生成し
て進行することが判明した。所望異性体は、単一クロマ
トグラフィー工程を使用して良収率で反応媒体から単1
’FEされる。 この後者の点について、ここに述べる混合無水物カルボ
キシ活性基   を使用する合成では、トリエチルアミ
ンおよびエチルジイソプロピルアミンの如き比較的強塩
基を使用し、且つN−メチルモルホリンおよびピリジン
の如き弱塩基を回避することによって、エビ化が最小と
なることが特に注目すれる。これは、文献の教示と逆で
ある。 最終の環化け、所望の配列を有する  線状ウンデカペ
プチドを遊離N−および力〃ホキシー活性体(即ち、C
−末端として活性基およびN−末端で遊離−アミノ基ヲ
有するもの)で反応させることによって実施できる。 
好適には、反応は塩基の存在下で行う。 勿論、反応温度の選定は選定された特定のカルボキシ−
活性基に依存するが、該温度は一20〜80℃の範囲が
一般的である。適当な塩基としては、たとえばエチルジ
イソプロピルアミンが挙げられる。適当なカルボキシ−
活性体としては、例えば1−ヒドロキシーペンゾトリア
ゾーνエステl、好ましくはカルボニルアジドが挙げら
れる。 力μボニルアジド類は、遊離−Nおよび遊離−力ルポキ
シ体の  線状ウンデカペプチドから、例、t ハシメ
チルホルムアミドおよび塩基(例、トリエチルアミン)
の存在下にジフエニlレホスホン酸アジドとの反応によ
って直接製造できる。 反応は、−10〜30℃の温度
で実施するのが有利であり、同時に環化を伴って直接進
行する。 カルボニルアジド類はまた、N−保護(例、N7゛14
シカルホ゛ニル保護)およびカルボキシーエヌテルー保
護(例、力μホキシーC1−4アルキル−またはカルボ
キシ−ベンジル−エステル−保護)体(7)線状ウンデ
カペプチドから、以下の方法によって創造してもよい。 1)N−保護、カルボキシ−エステル−保護のウンデカ
ペプチドとヒドラジン水和物の、要すればジメチル1ト
ルムアミドに溶解し、例えば0〜30℃の温度での反応
、 II)例えば、トリフルオロ酢酸の存在下、例えば約0
℃の温度での、酸処理によるN−保護基(例、N−)゛
トキンカルボニル保護基)の除法、および111)例エ
バ、11 Clの如き酸(今や非保護となっ)こアミノ
塙の酸化防止用)の存在下例えば−20〜0℃の温度で
の亜硝酸【−ブチルによる処理によって、ヒドラジドの
酸化。 その後、力!レボニルアジドの最終の環化け、トリエチ
ルアミンまたはエチルジイソプロピルアミンの如き塩基
の添加によって、例えば−20〜O℃の温度で行う。 1−ヒドロキシ−ベンゾトリアシーIレエステル類は、
遊離−Nおよび遊離−力ルボキシ体の線状ウンデカペプ
チドから、トリエチルアミンの如き塩基の存在下、例え
ば−20−80℃の温度でクロロホルムの如き不活性溶
媒中でベンゾトリアゾリル−N−オキシ−トリス(ジメ
チルアミノ)−ホスホニウムヘキ廿フlレオ口ホスフエ
ートトの反応によって壇造できる。 反応は同時に環化
を伴って進行する。 力μポキシ活性基の選定はクリチイカVでないけれども
、適当な反応条件の選定は重要であると考えられる。実
施例IVK記述の反応条件を使用すると、副生成物の形
成が避けられず、最終の環化でのサイクロスポリンAの
収率は低い。しかし、指示される反応パラメーターは(
既して適当であり、ザイクロヌボリンAは取得反応媒体
から実質的純粋体で回収され1ひろ 、1勺イクロスポ
リンAの収率ハ、反応条件の適尚且つ常時の調整によっ
て、例えば間係反応体の比率と溶好選定の調整および反
応温度とpHの精密制御によって増大され得る環化反応
には、ペプチドは要すれば〇−保護体であってよい。即
ち、後述の如く、C9−アミノ酸部分でおよび/または
サイクロスポリンCまたはその誘導体の場合には2−ス
レオニン部分でO−保護基を有していてよい。かかるO
−保護基は、例えば(1)0〜80℃の温度でメタノー
ル/水の如き溶媒中でトリフルオロ酢酸またはl−1G
/の如き酸との処理によって【−ブチルの如きアルキル
基ヲ除去するための、または(+1)0〜30℃の温度
でアルコール性アルカリ金民−またはアルカリ土類金属
−アルコーラートの存在下加水分解によってアセチルの
如きエステ)V基を除去するだめの、または(1010
〜30℃のυ)度でエタノールの如き不活性溶媒中でバ
→ジウム/木伏の如き金属触媒の存在下水素化すること
によって、または例えば約35℃の温度で液体アンモニ
ア中ナトリウムで処理することによってベンジ/L/基
を除去するための、当該分野で公知の方法によシ除去さ
れ、次いで閉環される。 上記水素化方法@)を使用し、ラン1カベプチドのC3
−アミノ酸部分が二重結合を有するときは、該二重結合
は同時に還元されて、対応するジヒドロ−サイクロスポ
リンを最終生成物として得る。 不飽和C9−アミノ酸を含む当初取得サイクロスポリン
類は、いずれの場合にあっても、例えば天然生成サイク
ロスポリン3(例、 サイクロスポリンCおよびD)を例えば接触還元によっ
て還元するのに当該分野で述べられノ;公知方法に従っ
て、または例えば英国特許明?FA書第1567201
号に述べられている一般法に従って、還元により対応す
るジヒドロサイクロスポリン誘導体に変換され得る 。 還元は、20〜30℃の温度で大気圧または若干加圧下
で白金、好咬しくはパラジウム(例、パラジウム/木炭
)の如き触媒の存在下酢酸エチルの如き不活性溶媒また
は希釈剤の存在下中性声条件下で行うのが適当である。 フローチャート■は、サイクロヌポリンAi造用全合成
経路を示す。しかし、同じ基本方策が、例エバ、サイク
ロスポリンC,DおよびGを得るために2位でα−アミ
ノ酪酸に代えスレオニン、バリンまたはノルバリンを用
いることによって、または1位で(25,8机4R,B
E)−8−ヒドロキシ−4〜メチル−2−メチルアミノ
−オクト−6−エン酸をここに述べるその誘導体と交換
することによって、他のサイクロスポリン類およびサイ
クロスポリン誘導体を得るのに適用され得る、立体化学
的純粋体のC9−アミノ酸を合成するための本発明方法
は、フローチャート■1こ図式表示されている。合成の
各工程は次のよう醤こ実施し得る。 a)0−保護Cl−4アルキルまたはC7−11アラル
キル基x′詔よびX“を導入するためのエステル化(式
X■)。好ましくは、x′およびX#は同一である。エ
ステル化は式X■の化合物とアルキル−またはアラルキ
ル−ハライド(例、ハロゲン化ベンジル、特1こ臭化ベ
ンジル)との反応fこよって、好適1こは縮合剤の存在
下、例えばアルカリ金属水酸化物(特1こ水酸化カリウ
ム)の存在下で行い得る 。反応は無水条件下例えば2
0〜ILIO℃の温度で行うのが好ましい。弐XVI1
1の出発物質は公知であり(例えばJ 、 (>em 
、 Soc 、 、(hem 、 Commun 。 1975 、(20)pp、833〜835参照)、ま
た公知方法Sこよって製造され得る。 b)例えば−1O〜30℃の温度でのN−クロロ−(H
al=C1]  またはN−ブo−1−−(tlBl=
nr)−スクシンイミドとの反応。反応は溶媒として四
塩化炭素を使用して暗所で行うのが好ましい。 式X■の化合物は公知である( J 、 Chem、S
oc 、 。 5upra 、 )。 C)例えば、水性アルカリ(特に水性アルカリ金偶水酸
化物、殊1こ水酸化カリウム)の存在下、加水分解およ
びエポキシ化。反応は20〜60’Cの温度で行うのが
好ましい。 d)エポキシ環の開環を行うためのメチル化。 この工程は第一銅塩(特iこハロゲン化第−銅(例、ヨ
ウ化第−銅))の存在下低温で式xvの化合物とメチル
リチウムの反応督こよって実施し得る。 有利1こは、メチルリチウムと第一銅塩は一20〜0℃
の温度で加え、次いで反応混合物は更1こ−60〜−2
0℃に冷却する。 e)保護基X′およびXI/を除去するためのエーテル
分解。X′およびX″がアラルキルであるとき、分解は
例えば、触媒として例えば10%パラジウム/木炭を使
用し0〜30’Cの温度で常圧または若干加圧で接触水
素化1こより、還元的1こ行い得る。 X′およびX“がS−またはt−アルキルであるとき、
分解は例えば、トリフルオロ酢酸または塩酸の存在下例
えば0〜30℃の温度で加水分解的1こ行う。 f)保護基(R3)2Cく〔式中、Ra =メチルまた
はエチル〕の導入、例えば、弐1111の化合物とアセ
トンまたは2,2−ジメトキシプロパン(R3= CH
3の式■の化合物の製造)、またはジ−エチルケトン(
R3=C2H5の式■の化合物の製造)との反応による
。反応は酸性媒体(例、p−トルエンスルホン酸)の存
在下、例えば40℃の加熱温度で還流下行う。 g)弐■(式中、R4=トシル、特にp−トシル)の化
合物製造のための、例えばトシル(特1こハロゲン化p
−トシル−スルホニル(例、塩化p−トルエン−スルホ
ニル))との反応(こよる、トシル化。反応はピリジン
の如き有機塩基の存在下例えば−20〜20℃の温度で
実施する。 h)無水条件下シアン化アルカリ金属(特1こシアン化
カリウム)との反応。反応は溶媒としてジメチル−スル
ホキシドを使用して実施するのが好ましく、また不活性
雰囲気下で行うのが適当である。反応は例えば20〜7
0℃の加熱または若干加熱温度で最良Iこ進行する。 1)例えば、水素化ジイソブチルアルミニウムを使用し
、テトラヒドロフラン、ヘキサンまたはトルエンの如き
中性溶媒の存在下、還元$よび加水分解。反応は不活性
雰囲気下−80〜−20’Cの温度で実施するのが好ま
しい。 j)例えば、臭化エチルトリフェニルホスホニウムまた
はその類似物であってアルキル部分に炭素数3〜5を有
するものの存在下、または5chlosser[Ann
、Chem、  708. 1.   (1967) 
 ]  lこよって述べられている方法に従う臭化エチ
ルトリフェニルホスホニウムの存在下、n−ブチルリチ
ウム1こよる縮合。反応はテトラヒドロフランおよび/
またはエーテルの如き中性溶媒または希釈剤中で実施す
ることが適当である。t−ブタノールの存在下約−90
〜−30°Cの温度で行うとき、反応はトランス形の式
■の生成物を辱く。反応をt−ブタノールの不存在下に
周囲温度、例えば0〜30℃で実施すると、対応するシ
ス形が得られる。 k)例えば塩酸の如き希鉱酸水溶液の存在下例えば加水
分解によって、保護基(R3)2Cくの除去。反応は0
〜30℃の温度で行うのが適当である。 1)  0−保護基x3(例、l−メトキシエチル、1
−エトキシエチルまたは2−メトキシイソプロピル基)
の導入。反応は次の3つの工程操作1こよって実施する
のが有利である。即ち、中例えば、弱有識塩基(特覧こ
ピリジン)の存在下ハロゲン化ベンゾイル(特に塩化ベ
ンゾイル)との反応1こよって、第一0・級アルコール
官能基のエステル化(待1こベンゾイル化)、(11)
例えば、触媒諺の酸、特1こトリフルオロ酢酸の如き有
機酸の存在下(CI−4アルコキシ)−ビニルエーテル
(例、エトキシ−ビニルエーテル)との反応1こよつ゛
C%第2級アルコール官能基のケタール化、そして(1
)Flえば、水酸化すl−IJウムの如き塩基水溶液の
存在下、第1級アルコール官能基での保護ベンゾイル基
の除去と共1こ加水分解。反応順序(11−(ill 
−(iii)は0〜30℃の温度で実施するのが有利で
ある。 mとm′)例えば、ジメチルスルホキシドおよヒシシク
ロへキシルカルボジイミドの存在下ピリジンおよびトリ
フルオロ酢酸の添加によるMoffat(J、A、C0
S、もヱ、5661(1965)および88.1762
(1966)11こ述べられている方法による、酸化。 この反応は0〜30℃の温度で行うのが適当である。 nとn′)反応は、5trecker  合成の第1工
程1こ相当し、HCN  または好ましくはアルカリ金
属シアン化物、特にKCNおよびアンモニアまたは塩化
アンモニウム(Rl = Hの式Vaまたはvbの化合
物の製造)またはメチルアミン(R=CHaの式Vaま
たはvbの化合物の製造)との反応1こよって行い得る
 。反応は0〜30℃の温度で行うのが適当である。 1′と1″)  例えば、トリフルオロ酢酸の如き酸お
よびジシクロへキシルカルボジイミドの存在下0〜30
℃の温度での脱ケタール化1こよる、0−保護基x3の
除去。保護基x3の導入(式vub〜yb)なくして、
工程mおよびnを経て式■aの化合物から式vaの化合
物fこ直接進行さぜることは可能であるが、工程1 s
 m’ 、nIおよびl〃を経る合成が好ましい。 0)例えば、式Yaの化合物とアセトンまたは2.2−
ジメトキシ−プロパン(、(X2+X3)=(CH3)
2Cくの式■の化合物の製造〕 またはカルボニル−も
しくはチオカルボニル−ジイミダゾールまたはホスゲン
〔(X2+X3)=−CO−または−C5−の式■の化
合物の製造〕との反応1こよる、保護基(X2+X3)
の導入と6員環または好ましくは5員環の完成。反応は
溶媒として塩化メチレンまたはトルエンの存在下例えば
0〜30℃の温度で実施するのが好ましい。 pとpI)例えば、水酸化ナトリウム水溶液の如き水性
アルカリ媒体中で(式■bLの遊離酸の生成−工程p)
または引き続きアルコール性アルカリ金4−またはアル
カリ土類金14−アルコーレートまたはカーボネート@
濁液および酸C例、)ICI)の存在下(式■a1のエ
ステルの生成−工程p′)、選択的加水分解および異性
化。アルコール性成分の変化fこよって、R5” Cl
−4アルキルの式flla1の化合物を得てよい。好ま
しくは、反応はエタノール性ナトリウム−またはカリウ
ム−カーボネート懸濁液を使用して実施して、艮5”C
2H5の式■a1の化合物を優る。反応は熱力学的1こ
進行して、カルボニル基が隣接するアルキル置換基Z−
CH(CH3)−+こ関してトランス位置を取る。有利
iこは、反応は0〜20℃の温度で実施する。 qとq′)例えば、パラジウム/木炭触媒を使用し例え
ば−5〜40℃の温度で常圧または若干加圧下、水素化
(例、接触水素化)。工程qまたはq′を含むことlこ
よって、−4−y−=−CH2−CH2−の式■のアミ
ノ酸が生成される。フローチャート■1こ示す如く工程
pまたはpj  +こ続いて水素化を実施することが有
利であるが、工程3〜0のいずれか(こ続いて水素化を
行うことも等しく可能である。明らかな如く反応過程の
早期段階で水素化を使用して、基CH3−CH= CH
−C1(2−(=Z)が基CH3−CH2−CH2−C
H2−+こよって置換される式■II〜■の対応する化
合物を製造し得る。 r)例えば水性アルカリ金+g4−またはアルカリ土類
金属−水酸化物、待lこNaOHまたはKOHの存在下
、選択的加水分解。反応は0〜20℃の温度で行うのが
適当である。最初に取イ尋の塩は、か1えば希鉱酸(列
、1(CI)の添加1ζよって、式1■b1または■b
2 の遊離酸1こ変換し得る。  pH5〜7で遊離塩
は沈殿し、純粋体で反応媒体から容易1こ回収できる。 3)保護基(X2+X3)の除去。(X2+X3)カ(
例えばカルボニルまたはチオカルボニルであるとき、例
えば水性アルカリ金IAまたはアルカリ土類金属の水酸
化物の存在下工程rと同様1こ例えば40〜70℃の温
度でアルカリ性加水分解すること(こよって除去を行う
のが有利である。(X2+X3)が例えば式(CH3)
2Cく の基であるとき、例えば精鉱fi(例、HCI
)の存在下10〜40℃の温度で酸性加水分解すること
1こよって除去を行う。 最初に取得の塩(例、酸性加水分解の場合1こは最初f
こ取得の酸付加塩)は、pH約6〜71こ調整すること
によって、適当逍のアルカリの添加によってまたは工程
rと同様1こ酸の添加1こよって、遊離アミノ酸1こ変
換し得る。 等電点で遊離アミノ酸は沈殿し、実質的純
粋体で反応媒体から回収できる。 上記反応工程a−Sの各々は、不活性溶媒または希釈剤
の存在下実強するのが適当である。特に明示しない限り
、それは選定反応条件F反応成分子こ不活性である適当
な溶媒または希釈剤のいずれであってもよい。適当な溶
媒および希釈剤は実施例iこ例示されている。 両不斉炭素原子がS配位を有する弐XVIIの化合物か
ら出発すると、2−03−および4−位がそれぞれS、
Rおよびλ配位を督する式■のアミノ酸が得られる。2
−03−および4−位がそれぞれR、SおよびS配位を
有する鏡鐵体は、両不斉炭素原子がλ配位を有する式x
vnの化合物から出発して得られる。 合成用途では、式Hのアミノ酸は例えば後述の如く保護
体および/または活性体の形態で一般に使用される。か
かる形態は当該分野で公知の方法1こよって得てよい。 式■の遊離酸およびその塩類ならび1こその保護体また
は活性体の合成のための特定方法は、実施i412〜1
0に述べられている。 以上の記述コこよれば、本発明は、第1の観点≦こ〔式
中、人は式1a O− (式中、艮□は水素またはメチルであり、−x−γ−は
−CH2−CH2−または−〇H=CH−であり、2−
.3−および4−位はそれぞれS、RJよびkまたはR
,SおよびS配置をとる。) で表わされる基、Bはエチル、1−ヒドロキシエチル、
イソプロピルまたはn−プロピルである。〕で表わされ
るサイクロスポリンの製造方法を提供し、該方法は、 a)対応する〇−保護形誘導体から該〇−保護基の少く
とも1つを離脱せしめ、 b)対応する配列をもった保護形または非保護形の直鎖
ウンデカペプチドでN末端のH−(D)−A/a−で始
まってC末端の−Na−OHで終る乙のを閉環し、要す
れば前記り工程を実施し、所望に応じてC)こ\に得ら
れた成績体であって−x−y−が−C)1=CH−であ
るものを水素化して対応する一x−y−が−C1(2−
CH2−であるものに変換することを特徴とする。 また、本発明は、上記定義の方法によって製造される式
■のサイクロスポリン類、および一般には式Iの「合成
」サイクロスポリン類を提供する。 〔本発明化合物に関してCgAJ、上記式Iのサイクロ
スポリン類に関して)使用する語句「合成」は、合成化
学の分野で使用される技術によって本質的に得られる化
合物を意味する。天然生成物および生物学的技術によっ
て得られる生成物、ならびに生物学的に得られるサイク
ロスポリン類から例えば化学変性または分解で得られる
合成誘導体類は除外される。〕 更に他の観点では、本発明は、後述の遊離体または保護
体および/または活性体の式■の化合物から得られる、
例えば鎖式■の化合物から化学反応を経て製造される、
式Iのサイクロスポリンをも提供する。 八が前記定義の式1aの基であって、但しR1がメチル
、−x−y−が−CH2−CH2−またはトラン:x、
 −C)I・ell−である場合2−13−および4−
位がそれぞれR,SおよびS配位をとる上記式1のサイ
クロスポリン類は、新規化合物であり、それ自体特許請
求されている。 前述の如く、フローチャート■の式■の化合物の2つの
基本構造および絶対配置、即ち、(2s。 3艮、4艮〕−3−ヒドロキシ−4−メチル−2−メチ
ルアミノ−オクタン改および−〔6E〕−オクテン酸の
J古本部分と絶対配置は、以前に決定、記述されている
が・ これらは化合物としては他の式■の化合物と同様
に新規である。これらは従来単離体または)i1離可能
体で知られて諸らず、また従来合成されておらず、更に
それらの立体化学的純粋体での合成方法も従来開示され
ていない。 サイクロスポリン類(特にサイクロスポリンA)および
その誘導体類の全合成における中間体としての、新規ア
ミノ酸としてのそれらの価値とは別1こ、式Hの化合物
およびその活性形と保護形(例、フローチャート■に示
す式mb1と1IIb2の化合物)は、一般には新規な
環状および非環状の化学物質、および新規ペプチド類(
即ち、特にジーおよびポリ−ペプチド類)の合成におい
て、広範に有用で重要なものである。従って、式■の化
合物およびその新規誘導体類(例、それらの保護体およ
び活性体)ならびにここに述べる非環状ベグチド中間体
類は、本発明の一部を成す。 従って、更に他の観点では、本発明は、A)合成(1s
、2R,3R)−または(1i、2s、3s)−1−ニ
トリロ−1−カルボニル−3−メチル−2−オキシ−ヘ
プタンまたは−ヘプト−5−エン。 (上記語句「合成」は先に述べたのと同色義を有する。 本明細書を通じて使用する語句「ニトリロ」は3価窒素
原子(即ち、式〉N−の 括  )を意味する。語句「
イミノ」および「メチルイミノ」はそれぞれ式−NH−
および−N(CH3)−の基を含む 2価窒素を意味す
る。「カルボニル」は式>C=Oの基、  および「オ
キシ」は式−〇−の基   を意味する。上記定義の各
基の1価は指示位置で上記へブタンまたはヘプト−5−
エン部分に結合していることが理解される。〕上記入に
定義の化合物中、遊離形、保護形または活性形の1−カ
ルボキシラジカルまたは遊離形または保護形の1−アミ
ノもしくは1−メチルアミン基   を有するものは、
式■の遊離アミノ酸として、それら自体新規物質であり
、従来記述されておらず、合成されておらず、また単離
体または単離可能体で得られていない。従って、B)遊
離形またはカルボキシ−保護形または一活性形の〔IS
、2R23R〕−または(: IR,25,35)−1
−二トリロ−1−カルボキシ−3−メチル−2−オキシ
−ヘプタンまたは−ヘプトー5−エン、詔よび C)遊離形またはN−保護形の(l5t2Rj3R)−
または(IR,2S、35 ) −1−アミノ−または
−1−メチルアミノ−1−カルボニル−3−メチル−2
−オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−5−エン を提供する。 A、BおよびCで定義される化合物の2−オキシ基  
 は、例えば2−ヒドロキシであってよい。AおよびB
で定義される化合物中、1−ニトリロ基   は例えば
1−イミノまたは1−メチルイミノ基   でろってよ
い。かかる化合物は、例えばここに述べる方法または当
該分野で公知の方法に従って合成的に117られ 、そ
して要すれば純粋体または実質的純粋体で回収し得る。  定義化合物に存在し得ろ カルボキシ−およびN−保
護基としては、例えば後に特に述べるものが挙げられる
。他方、該化合物は遊離体であってよい。 より一ノー特別な観点においては、本発明は式■〔式中
、艮□は水素またはメチル、””−Y−は−〇(2−田
2−または−CI(=部−であり、2−.3−および4
−位はそれぞれS、Rおよびl(または艮、SおよびS
配位をとる。〕 の化合物をも遊離形または保護および/または活性形で
提供する。 遊離形の上記式Hの化合物は、フローチャート■の式■
の化合物である。本発明によれば、これら化合物は保護
形の式■の化合物から保護基を除去することによって合
成的に得ることができる。 保護基の除去は公知技術に従って行うことができる。遊
離形の式■の化合物は、特にフローチャート■の工程3
または(r 十m )の方法1こ従って製造できる。生
成化合物は純粋体または実質的純粋体で単離することが
できる。 一般に、合成化学(例、ペプチド合成)用には、例えば
ここに述べるサイクロスポリンAの全合成用には、式H
の化合物は保護および/または活性形形悪、特に保護形
または保護活性形で使用することが好ましい。かかる形
態は、公知タイプで、公知アミノ酸、特にセリンおよび
スレオニンの如き公知ヒドロキシ−アミノ酸に関して通
常使用されるものに相当する。かかる化合物は、遊離−
または活性−力ルボキシ形とN−保護形、またはカルボ
キシ−保護形と遊離−N形で、各々の場合のヒドロキシ
基は要すれば〇−保護形であることが好ましい。かかる
保護形および活性形としては、式■のものが包含される
。 〔式中、−x−y−は−CH2−CH2−または−CH
=CH−、R,は水素またはメチル、xlはヒドロキシ
またはカルボキシ−保護基もしくは活性基、x2は水素
またはN−保護基、x3は水素または〇−保護基、tり
(t (x2+X3 ) ハ2−N官能基と3−〇官能
基間の架橋保護基、または(x2+x1)は2価N−保
護基であって、少なくとも1つの保護基が存在し、2−
.3−および4−位はそれぞれS、RおよびRまたはR
,SおよびS配置をとる。〕 梯準合成法によれば、式■の化合物は、Xlがヒドロキ
シまたはカルボキシ−活性基で2−N官能基がN−保護
体であるか、またはXIがカルボキシ−保護基で2−N
官能基が遊離体であるものが通常使用される。従−りで
、式■の好ましい化合物は、 la)  R1は水素またはメチル、xlはヒドロキシ
またはカルボキシ−活性基、X2はN−保護基、X3は
水素または〇−保護基、または(X2+x3)は2−N
官能基と3−〇官能基間の架橋保護基、または(X2+
x1)は2価N−保護基であり、特に 1b)R1は水素またはメチル、xlはヒドロキシまた
はカルボキシ−活性基、(X2+x3)は2−N官能基
と3−0官能基間の架橋保護基であり、または 2)R1は水素またはメチル、xlはカルボキシ−保護
基、x2は水素、x3は水素または〇−保護基である、 ものである。 2−N官能基とカルボキシ官能基の両者が保護形である
式■の化合物を使用することはやはり、例えば、式■の
化合物を反応媒体中へ非反応性先駆物質形で導入し、カ
ルボキシ−保護基またはN−保護基をその場所で例えば
反応操作中の特定段階で除去することが望まれる状況に
おいても適当である。 70−チヤート■の式lIa  、l[[a2、l[b
lおよびl1lb2  の中間体は、それ自体式■化合
物の保護および■b2 の化合物は、式■の遊離アミノ
酸自体を製造採取せず して、合成(例、ペプチド誘特
に式■の化合物の保護および/活性形は、遊離△ 形の式■の化合物から出発し、1つまたはそれ以上の保
護および/または活性基(例、1つまたはそれ以上の保
護基)および要すればカルボキシ−活性基を導入するこ
と1こよって製造され得るこのようにして式■の化合物
は、遊離形の式■の化合物から、カルボキシ−保護基ま
たは一活性基x1および/または(1)N−保護基x2
または(x2+R1)および/または〇−保護基x3、
または(11)2−N官能基と3−0官能基間の架橋保
護基(X2+x3)を導入することによって得られる。 上記定義の好ましい式■の化合物は、遊離形の式■の化
合物から、 (11N−ffl護基x2または(x2千R1)および
要すれば〇−保護基x3を導入することによって、また
は2−N官能基と3−〇官能基間の架橋保護基(X2+
x3)を導入することによって、および要すればカルボ
キシ−活性基x1を導入することによって、または (II)カルボキシ−保護基x1および要すればO−保
護基x3を導入することによって、 製造し得る 上述の保護力よび/または活性基の導入は、公知で、ア
ミノ酸分野、特にペプチド化学で通常使用される技術の
いずれ1こよっても実施し得るまた、式■、特に式■の
化合物の保護形および活性形は、保護形および要すれば
活性形の、少なくとも2つの保護基を有する式■の化合
物から、少なくとも1つの保護基を残すように少なくと
も1つの保¥g!基を選択的に除去することによって製
造し得る。ここでも、保護基の除去C例、分解)(ま、
蟲該分野で公知の技術(例、フローチャート■の工程r
)に従って行われ得る。 また、R1が水素またはメチル、−X−γ−が−CH2
−CH2−または−CH−CH−1x1がヒドロキシま
たはC1−4アルコキシであり、(X2+x3)が2−
N官能基と3−〇官能基間を架橋し且つ6貝環または好
ましくは5員環を作り上げる保護基、特にカルボニル基
、チオカルボニル基またはイソプロピリデン基を表わし
、2−.3−および4−位がそれぞれλ、SおよびSま
たはS、Rおよびに配位をとるところの上記式■の化合
物は、フローチャート■の工程かまたはPに従って製造
され得る。即ち、式■ 〔式中、R1および−x−y−は上記と同意義、(X2
 +Xa ) ハ1− N官能基ト2−0官能基間ヲ架
橋する上記定義の保護基を表わし、2−および3−位は
それぞれKおよび艮またはSおよびS配置をとる。〕 の化合物をアルカリ性水性媒体中でまたはアルコール性
アルカリ金属−またはアルカリ土類金属−アルコール性
トの存在下で選択的加水分解および異性化することによ
って製造されてよい。生成化合物は、例えばMCIによ
る酸性化によって塩形態または遊離形態で反応媒体から
直接単離され得る。 適当な保護基および活性基は当該分野で公知のものであ
り、ここで語句「保護基」は保護されろ前の遊離形の括
をもたらすと共に保護される前の化合物の本質的同一性
1こ影響を与えることなく有利に除去し得る 基を意味
するものと理解される。 上記方法の生成物は実質的に純粋な形態で単離され得る
。 適当なカルボキシ−保護および一活性基(xl)として
は、例えばt−ブトキシ(t−ブチルエステル)、ジフ
ェニルメトキシ(ベンズヒドリルエステル)、ベンジル
オキシ(ベンジルエステル)、P−メトキシベンジルエ
ステル、O−ニトロフェニルエステル、エトキシ〔エチ
ルエステル)、1−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾールエ
ステル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−
ジカルボキシイミド、3−ヒドロキシ−4−オキソ−3
゜4−ジヒドロ−1,2,3−ベンゾトリアニックエス
テル、8−ヒドロキシ・キノリンエステル、イソブチル
エステル、メトキシ(メチルエステル)、P−二トロベ
ンジルエステル、p−ニトロフェノキシ(P−ニトロフ
ェルニルエステル)、フェニルアゾフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニ
ルエステル、フェニルエステル、P−クロロフェニルエ
ステル、2−ベンジルオキシフェニルエステル、0−メ
トキシフェニルエステル、4−ピコリルエステル、ペン
タメチルベンジルエステル、1−フェニル−3−メチル
−4−ニトロソ−5−(N−ベンジルオキシカルボニル
グリシル)−アミノ−ピラゾールエステル、4−メチル
チオフェニルエステル、n−スクシンイミドエステル、
2,4.5−)リクロロフェニル、2,4.6−1リメ
チルベンジルエステル、ポリエチレングリコールエステ
ル、P−ニトロフェニルチオエステル、フェニルチオー
ルエステル、トリメチルシリル、トリメチルシリルエチ
ルオキシ、トリメチルシリルオキシの基が挙げられる。 適当なカルボキシ−活性基(xl)の他の例としては、
例えばメトキシ−、エトキシ−および【−ブチルオキシ
−カルボニルオキシの如きアルコキシカルボニルオキシ
(混合無水物)基、ピパロイル無水物(トリメチルアセ
チル無水物)およヒシメチルアセチル無水物の如きアル
キルカルボニル基、n−プロピルホスホン酸無水物を包
含する〔Angew、Chem、 92  (1980
) 129+ご記述の如き〕アルキルホスホン酸無水物
基、およびアジド基が挙げられる。 適当なN−保護基(x2)としては、アダマンチルオキ
シカルボニル、【−アミルオキシカルボニル、2−(p
−フェニルアゾフェニル)−イソプロピルオキシカルボ
ニル、5−ベンゾイソオキサゾリルメチレンオキシカル
ボニルアミノ、t−ブチルオキシカルボニル、2,2.
2−1−リフルオロ−1−ブチルオキシカルボニルアミ
ノエチル、2−(P−ジフェニル)−イソプロピルオキ
シカルボニル、3.5−ジメトキシ(α、α−ジメチル
)ベンジルオキシカルボニル、P−ジヒドロキシボリル
ベンジルオキシカルボニルアミノ、9−フルオレニルメ
トキシカルボニル、インボルニルオキシカルボニル、l
−メチルシクロプチルオキシカルボニル、メチルスルホ
ニルエチルオキシカルボニル、2−メチルスルホニルエ
トキシカルボニル、n′−4−ピコリルオキシカルボニ
ル、ピペリジノオキシカルボニル、シクロペンチルオキ
シカルボニル、2−フェニルイソプロピルオキシカルボ
ニル、P−フェニルアゾベンジルオキシカルボニル、p
−)シルアミノカルボニル、β、β、β−トリクロロエ
チルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、り
一フロモベンジルオキシカルボニル、P−クロロベンジ
ルオキシカルボニル、P−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、P−メトキシベンジルオキシカルボニル、および
2,2.2−1リフルオロ−1−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノエチルの如き公知のウレタン型保護基、なら
びにトリメチルシラン、トリエチルシラン、トリーn−
ブチルシランおよびt−ブチル−ジメチルシランの如き
トリアルキルシラン型保護基が挙げられる。 史に他の適当なN−保護基(x2)および〇−保護基と
しては、例えばアセチル、2,2.2−トリフルオロ−
1−【−ブチルオキシカルボニルアミノエチル、ベンソ
イル、ベンジル、α−メチル−α−(5,4−ジメチル
−2−フェニルアゾフェノキシ)プロピオニル、2.4
−ジメトキシベンジル、ジニトロフェニル、1−ジメチ
ルアミノナフタリン−5−スルホニル(ダンシル)、ジ
フェニルホスフィンアミド、ホルミル、α−メチル−α
−(4−メチル−2−フェニルアゾフェノキシ)プロピ
オニル、4.4’−ジメトキシベンゾヒドリル、0ニト
ロフエニルスルフエニル、2−(4−トIJルスルホニ
ル)エトキシ、ペンタフルオロフェニル、フタリル、α
−ピコリニル、2−ピペコリン酸、トリクロロアセチル
、トリフルオロアセチル、テトラフルオロプロピオニル
、テトラヒドロピラニル、トシルおよびトリチルの基が
挙げられる。 2−N官能基と3−o官能基間を架橋する)’i’f当
な保護基〔〔X2+X3)〕としては、カルボニル、チ
オカルボニルおよびインプロピリデンの基が挙げられる
。適当な2価N−保護基〔(x2+R1)〕としては、
フタリル基が挙げられる。 上述の如く式■の化合物、特にその保護形および/また
は活性形は、更に新規な化学物質を合成することにおい
て一般に重要で有用性を有するものである。特に、これ
らはペプチド合成において、特に例えば上述の如くサイ
クロスポリン誘導体およびその製造用中間体の合成にお
いて用途を有する。この目的のためには、弐■の化合物
またはその保護形および/または活性形は、要すれば更
に反応に(dす前に純粋体または実質的純粋体にまず復
活させてよく、または適当な場合にはこれらを製造する
反応媒体中でそのまま直接使用してもよい。反応はアミ
ノ酸化学、特にペプチド合成の分野で通常使用される技
術のいずれに従っても、またはサイクロスポリンAおよ
びその中間体と誘導体の合成のために上述した特定の技
術に従って行われてよい。 従って、更に他の観点では、本発明は、D)上記定義の
遊離形または保護形および/または活性形の式■の化合
物から得られる、例えば式■の化合物の誘導体化、即も
遊離形または保護形および/または活性形の式■の化合
物の化学反応を経て製造される、〔LS、2R,3R]
−またはrlR,2s、35)−1−二トリロ−1−カ
ルボニル−3−メチル−2−オキシ−ヘプタンまたは−
ヘプト−5−エン、および、特に、E)(Is、2R,
3R)−または[IR,2s、3s)−1−ニトリロ−
1−カルボニル−3−メチル−2−オキシ−ヘプタンま
たは−ヘプト−5−エンを含み、少なくとも1つの合成
的に形成されたペプチド結合、    例えば上記基の
1ニトリロ官能基の自由原子価および/または】−カル
ボニル官能基の自由原子価を満たす゛結合を有する、遊
離形または保護形のペプチド、をも提供する。 なお更に他の観点では、本発明は、 F)ELS、2R,3R)−または(IR,2s、3s
)−1−ニトリロ−1−カルボニル−3−メチル−2−
オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−5−エンを含み、遊
離形または保護形であり実質的純粋体である線状ペプチ
ド、 G)  1−ニトリロ官能基の自由原子価がペプチド結
合によって満たされている遊離形またはN−保護形の(
15,2R,3R)−または〔lR125,35)−1
−ニトリロ−1−カルボキシ−3−メチル−2−オキシ
−ヘプタンまたは−ヘプト−5−エン、および H)  1−カルボニル官能基の自由原子価がペプチド
結合によって満たされている遊離形またはN−保護形の
CI S 、2R,3R)−または(IR22S、35
)−1−アミノ−または1−メチルアミノ−1−カルボ
ニル−3−メチル−2−オキシ−ヘプタンまたは−ヘプ
ト−5−エン をも提供する。 上記定義GおよびHは、ヘプタンまたはヘプト−5−エ
ン部分がそれぞれペプチド配列C−およびN−末端であ
る、ペプチド、例えば定義Fによるペプチドに特に関係
することが理解される。上記り、Hで定義される化合物
において、2−オキシ基   は例えば2−ヒドロキシ
であってよい。 上記D〜Gで定義される化合物において、1−ニトリロ
基   は1−イミノまたは】−メチルイミノ括  で
あってよい。D、E、GおよびHで定義される化合物は
線状であってよい。これらは要すれば、純粋体または実
質的純粋体で、例えば他のペプチド汚染物質を実質的に
含まない形態で単離され得る。 〔ここで使用する語句「線状ペプチド」は、N−および
C−末端を有し、これらが結合していない、即らこれら
が環状系を完成していないペプチドを意味する。従って
、この語句は基本アミノ酸配列が環状であるペプチドを
除外する。アミノ酸配列内でより少さな内部環状系を含
み、非ペプチド結合によって完成されているペプチドは
包含される。好ましくは、かかる「線状ペプチド」は非
環状である。勿論、線状ペプチドおよび非環状ペプチド
の両者は、基本ペプチド鎖の長さに沿って1つまたはそ
れ以上の球状置換基を有していてよい。〕 上述の化合物の多くは塩形態で存在し得る。 例えば式■の遊離アミノ酸は、卵塊形態のみならず酸塩
(例、アルカリ金属塩)および酸付加塩(例、塩酸塩)
で存在する。同様に、本発明ペプチドは、塩形態または
重金属錯体で存在してよい。 かかる形態は当該分野でよく知られており、通常の方法
で、例えば適当な塩基(例、アルカリ金属水酸化物)ま
たは酸(例、塩酸)との反応によ・つて卵塊形態から(
即ち、式■の遊離アミノ酸の場合において、等電点の上
下にpHを調整することによって)得られる。一般に、
かかる形態は、対応する非塩体または非錯体に均等であ
る。従って、本発明にあっては、1111記定義化合物
は非塩体と非錯体の両者のみならず、適当な場合には塩
体および/または錯体を包含するものとして解釈される
べきである。 フローチャート■の式X■〜■ の中間体も新規であり
、同様に本発明の一部である。これらの化合物において
、式■1および■b〜■のものは特に興味あるものであ
る。 次の実施例は本発明方法の具体例である。 実施例1:サイクロスボリンAの合成 次の例の合成経路はフローチャート■に示されているも
のである。次の略語を使用する。 BOC=t−ブチルオキシ−カルボニルBzl=ベンジ
ルオキシ H−d−Abu−OH=α−アミノ酪酸H−5ar−O
H=サルコシン H−C9A−OH: (2S 、3技、4に、aE)−
3−ヒドロキシ−4−メチル−2−メチルアミノ−オク
ト−6−エン酸(実施例2.1参照)Ox a z C
9A−Q)l== (4K 、5 S )  4−(ヘ
キサ−2E−エン−51(−イル)−1,2−トリメチ
ル−オキサゾリン−5−カルボン酸(実施例7参照〕 標準命名法によれば、すべてのアミノ酸残基(例: −
Abu+、 −Leu−、−Ala、−Val等)は、
特に示さない限りL型である。Me  によって先導さ
れる残基(例ニーMcleu−の如き)は対応するN−
メチル−残基を表わす。 a)Boc −ct−Abu−5ar−Bz 1 :塩
化ピバロイル10.3Tnl(10,189=84.8
mモル)とN−メチル−モルホリン16.4F(162
mモル)をnoc−α−Abu −OH15,669(
17,177Lモル)ノクロロホルム5o omzsi
lc加え、混合物を3時間室温で窒素雰囲気下撹拌する
。 次いでl−1−5at−nzx  16.59 (92
,5mモル)れる溶液をINのl−1c13QQ−で洗
い、水相を塩化メチレン200 mlで抽出し、有機相
を合し、これを飽和炭酸カリウム溶液200.nlで2
回洗う。 水相を塩化メチレン200−で抽出し、有機相を合し、
これを炭酸カリウムで乾燥し、濾過し、濃縮する。溶離
剤としてメタノール1チを含む塩化メチレンを使用し、
シリカゲル60(0,063〜0、24 vex ) 
I K?でもって残渣をクロマトグラフィ−に付して、
標記化合物を得る。   〔σ〕9 =−42°(C=
1.0、クロロホルム中)。 b)BOC−cl −A b u −S a r −O
H:10チパラジウム/木炭2vを含むエタノール50
0−中(7)Boc−α−Abu−5ar−Bz l 
 10.7PC29,4yrLモル)を2時間室温で水
素化することにより脱ベンジル化する。生成物をタルク
を通じて濾過し、蒸発させ、乾燥して、標記化合物を得
る。  〔α:1D=−5,3°(C=1.0、クロロ
ホルム中〕。 c)BOG−MeLeu−Al a−Bz 1 :塩化
ピバロイル23.3−j(18,99= 157mモル
)とトリエチルアミン48.J(28,9)=286m
モル〕をBOC−にイeLeu −OH35y(143
1モル)のクロロホルム50〇−溶液に加え、混合物を
2時間室温で窒素雰囲気下撹拌する。次いでクロロホル
ム300rnlに溶解したH−Ala−Bzl 30.
7P(171mモル)を加え、反応混合物を更に2時間
室温で再度窒素雰囲気下撹拌する。生成物を実施例1a
の技術に従って精製して、標記化合物を得る。   〔
α) D=’−59,4°(c = l。 O,クロロホルム中)。 d%−MeLeu−Al a−Bz l :BOC−M
eLeu−Al a−Bz 145.8p(115Tr
L%ル)を00Cに予冷したトリフルオロ酢酸100.
zに溶触し、0°Cで1時間そして室温で015時間放
置する。得られる溶液を減圧濃縮し、塩化メチレン50
0rnIで希釈し、氷に注ぎ、飽和炭酸カリウlJ液a
o□−で洗う。水相を塩化メチレン20〇−で抽出し、
有機相を合し、これを炭酸カリウムで乾燥し、濾過し、
濃縮する。溶離剤としてメタノニル5チを含む塩化メチ
レンを使用し、シリカゲル60’(0,063〜0.2
40)2に2でもって残渣をクロマトグラフィーに付し
て、標記化合物を得る。  〔α)D=−44,5°(
c=1.Q、クロロホルム中)。 e)BOC−Va 1−λle Leu−Al a −
B z l :塩化ピバロイル12.9i(12,79
=106mモル)とN−エチル−ジイソプロピルアミン
23グ(212mモル)をBOC−L−Va 1−OH
23,2p(106mモル)のクロロホルム400−溶
[に加え、混合物を2時間室温で窒素雰囲気下撹拌する
。次いでクロロホルム100rnlに溶解したH−Me
Leu−Ala−、Bzl  27.379(89mモ
ル)を加え、反応混合物を更に18時間606Cで再度
窒素雰囲気下撹拌する。得られる溶液をINのHCl3
00−で洗い、水相を塩化メチレン200−で抽出し、
有機相を合し、これを飽和炭酸カリウム溶液200.n
lで2回洗う。水相を塩化メチレン200−で抽出し、
有機相を合し、これを炭酸カリウムで乾燥し、濾過し、
濃縮する。残渣を溶離剤としてのメタノール1%を含む
塩化メチレンでもってシリカゲル60 (0,065〜
0.2m ) 2に9でクロマトグラフィーに付して、
標記化合物を無色オイルとして得る。   〔α)D=
−97,2°(c = 1゜0、クロロホルム中)。 f)H−Val−MeLeu−Ala−Bzlニトリフ
ルオロ酢酸100−に溶解したBOC−vll−MeL
eu−Al a−Bzl 30.7 S’ (60,8
mモル〕を2時間室温で撹拌する。得られる溶液を減圧
濃縮し、残渣を塩化メチレン500−で希釈する。 該溶液を飽和炭酸カリウム溶液200rnlで3回洗し
・、氷を加え、水相を塩化メチレン200−で抽出し、
有機相を合し、これを炭酸カリウムで乾燥する。史に濾
過、濃范して、標記化合物を淡黄色オイルとして得る。    〔α)D=−87,1°(C=1.O、クロロホ
ルム中)。 g)IBOc−MeLeu−Va l −Me Le 
u−Al a −B z l :塩化ピバロイル8.5
+n/(8,39=69.5?ルモル)とN−メチルモ
ルホリン12.7rnl(115,8?7Lモル〕をB
OC−JaeLcu −OH15,6!i’(63,7
mモル)のクロロホルム500++JJ液に加え、混合
物を2時間室温で窒素雰囲気下撹拌する。次いでクロロ
ホルム100rnlに溶[したH−Va 1−Me L
 e u −Ala−Bzl 23.45S7(57,
9mモル)を力0え、反応混合物を更に2時間室温で再
度窒素雰囲気下撹拌する。実施例1aの方法に従って精
製して、標記化合物を淡黄色オイルとして得る。   
〔α)0=−126,7°(C=1.0、クロロホルム
中)。 h)I−1−MeLeu−Va ]−MeLeu−Al
 a−Bz I ニトリフルオロ酢酸100rntに溶
解したBOC−McLeu−Val−McLeu−Al
a−BzI  31.27!2(49,5mモル)を2
.5時間室温で撹拌し、生底溶液を減圧濃縮する。残渣
を炭酸メチレン溶液500dで希釈し、氷を加え、水相
を塩化メチレン200m1で抽出する。有機相を合し、
これを炭酸カリウムで乾燥し、濾過し、濃縮して、標記
化合物を得る。   〔α)D=−114,4°(C=
1.0、クロロホルム中)、エーテル/ 石浦  エー
テルから再結晶してm、p、66〜676C0 i)BOC−ct−Abu−5ar−MeLeu−Va
I−MeLeu−Ala−Bzl: 塩化ピバロイル3.5.7 (3,37= 27.7 
rnモル)とN−メチルモルホリン5.4F(52,9
yrLモル)をBOC−a−Abu−5ar −OH(
実施例1b)6.9SJ(25,27rLモル〕のクロ
ロホルム250rn!溶液に加え、混合物を1時間室温
で窒素雰囲気下撹拌する。次いでクロロホルム100−
に溶解したH−MeLeu−Val−MeLeu−Al
a−Bzl  12.0P(22,7yrLモル〕を加
え、反応混合物を更に15時間室温で再度窒素雰囲気下
撹拌する。得られる生成物を実施例1aの方法に従って
精製して、標記化合物を無色泡状物として得る。  〔
σ〕2D5=−137.9°(C=1.0、クロロホル
ム中)。 j)H−rt −AI> u−5a r−Me Le 
u−Va 1−Me Le u−Al a−Bz l 
ニトリフルオロ酢酸50−に溶解したBOC−α−Ab
u−5ar−AIeLeu−Val−MeLeu−Al
a−Bzl  15.75F(19゜9mモル〕を4時
間室温で撹拌する。溶媒を減圧蒸発させ、残渣を塩化メ
チレン300−に溶解し、得られる溶液を飽邪炭酸す)
 IJウム溶液20〇−で3回洗い、氷を加える。水相
を塩化メチレン200m/で抽出し、有機相を合し、こ
れを炭酸カリウムで乾燥し、P退し、濃縮して、標記化
合物を得る。   〔α〕D =−127,3°(c=
1.Q、クロロホルム中)。 k)Oxa z−C9A−rt−Abu−5a r−M
eLeu−Va 1−MeLeu−Ala−Bzl: 分〒Le’J4 ノOxa z−cgA−OH1,5S
’ (6,21mモル〕をテトラヒドロフラン5 Q 
triにE 解し、N−メチル−モルホリン0.7 ’
:l (6,93乳モル)FnXチ1’l−加える。1
−ヒドロキシベンゾトリアゾール1.68fI(12,
4yrLモル)をトルエン50.rLtで2回振とう6
縮して脱水し、次いでH−a−Ab u −S a r
 −htLeu−Val −MeLeu−Ala−Bz
l  4.289 (6,22mモノリと一緒に上記溶
液に加える。全体を00Cに冷却し、ジシクロへキシル
カルボジイミド1.349 (6,5mモル)を加える
。得られる反応混合物を室温に加温し、次いで15時間
室温で撹拌する。得られる溶液を塩化メチレン300−
で希訳し、INの重炭酸ナトリウム溶液200−で振と
うする。水相を塩化メチレン200−で再度抽出し、有
機相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、
蒸発させる。溶離剤としてメタノール3%を含む塩化メ
チレンを使用し、シリカゲル(0,063〜0.24r
x)5009で残渣をクロマトグラフィーに付して、標
記化合物を得る。  〔α〕D  =−117°(C=
1.0、クロロホルム中)。 1)H−C9A−α−Abu−5ar−MeLeu−V
al −MeLeu−Ala−Bzl: メタ/−ル16mZIC溶解したQ x a z−C9
A−a−Abu−5ar−MeLeu−Val−MeL
eu−Ala−Bzl 1.5y(1,6mモル)を1
5時間室温でINのHCl1.6−の存在下撹拌する。 次いでインプロピリデン保護基の解離はN層りロマトグ
ラフィーによって追跡し得る。反応媒体中の酸を重炭酸
ナトリウム1り(121TLモル)の添加によって中和
し、メタノールを注意深く充分に蒸発除去し、温度を最
高306Cに保つ。 残渣ヲメタノール5%含有塩化メチレン10−に取り、
溶離剤としてメタノール5%を含む塩化メチレンを使用
し、シリカゲル(0,06〜0.24 m)100ノで
クロマトグラフィーに付す。旋光度−138°(C=1
.0、クロロホルム中〕を有する標記化合物を得る。 m)BOC−(D)−Al a−McLeu−Bz 1
 :Boc−(D)−Ala−OH18,9PC100
mモル)をクロロホルム250ff+7に溶解し、撹拌
しながら一20°Cに冷却する。次いでN−メチルモル
ホリン23.1i(21,2F=210mモル)と塩化
ピバロイル12.2m1(12,09=100mモル)
を加え、全体をなお一20°Cで2時間撹拌する。無水
物形成をIRシコンロールによって追跡する。 無水物形成が完了すると、クロロホルム50rdに溶解
したI−I−MeLeu−Bzl  23.5 P (
100mモル)を得られる反応混合物に一200Gで5
分間にわたつて滴下する。ジペプチド形成を薄層クロマ
トグラフィーとIRスペクトロメトリイを使用して追跡
する。19時間後無水物は検出できない。得られる反応
溶液を水300−に注ぎ、クロロホルム300rntで
希釈する。有機相を分別し、水10〇−で洗い、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濾過し、溶媒を最大406Cで注意
深く蒸発除去する。得られる残渣をヘキサンから再結晶
して、標記化合物を得る。  〔α〕1)  =−35
,3°(c=1.05、りoロホルム中)、m、P、 
816C0n)BOCニー(D) −Al a−MeL
eu−OH:10%パラジウム/木炭1.6yを含むエ
タ/−ル8001nlに溶解したBOC: −(D)−
Al a−MeLeu−Bzl 32.45 ’! (
79,92mモル)を2時間室温で水素化することによ
って脱ベンジル化する。 計算量の水素を吸収し た後懸濁液をタルクを通じて濾
過し、溶媒を蒸発除去し、残渣をヘキサンから結晶化し
て、〔α:1D=−36,7°(C=0.8、クロロホ
ルム中)の旋光度を有する標記化合物を得る。 o)BOC−(D)−Al a−MeLeu−MeLe
u−Bz l :N−メチルモルホリン17.9d(1
6,47=162.477Lモル〕をBOC−(D)−
Al a−MeLeu−OH24,59(77,3mモ
ル)のクロロホルム20〇−溶液に加え、全体を一20
°Cに冷却する。次いで塩化ピバロイル9.5rnl(
9,279=77.3mモル)を5分間で加え、反応混
合物を90分間なお一200Cで撹拌する。無水物形成
をIRシコンロールによって続いて行い、完了するとH
−M e L e u −Bzll 8.2 f! (
77,3mモル)のクロロホルム50tnl溶液を一2
0°Cで5分間以内で滴下する。もはや無水物が存在し
なくなるまで一20°Cで18時間の反応時間が必要で
ある。得られる溶液を水30〇−に注ぎ、更にクロロホ
ルム300−でまず希釈した後に分別漏斗中で抽出する
。水相をクロロホルム300tnlで抽出し、有機相を
合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、蒸発す
る。残渣を溶離剤として2%メタノール含有塩化メチレ
ンを使用してシリカゲル(0,063〜0.24ツ)1
即でクロマトグラフィーに付して、標記化合物を得る。    C”)D  =−101,3°(C=0.9、ク
ロロホルム中〕。 p)BOC−(D)−Al a−MeLcu−MeLe
u−OH:10係パラジウム/木炭1.5g!を含むエ
タノール80〇−中のBOC−(L))−Al a−M
eLeu−MeLeu−Bz129.39C54,97
mモル)を2時間室温で水素化することによって脱ベン
ジル化する。計算量の水素を吸収し た後得られる懸濁
液をタルクを通じて濾過し、蒸発し、残渣をヘキサンか
ら結晶化して、標記化合物を得る。   〔α)p==
−112,6°(c=0゜85、クロロホルム中)。 q)BOC−(D)−Al a−MeLeu−λIcL
eu−MeVal−Bz 1 :N−メチルモルホリン
3.48rnl(3,18y=31.5771モル〕と
塩化ピバロイル1.86mZ(1,El=15.0mモ
ル)を−20°Cに予冷したBOC−(1))−Al 
a−MeLeu−MeLeu−OH6,659(15,
Omモル)のクロロホルム6〇−溶液に加える。2時間
−20°Cで撹拌(IRシコンロール)後無水物への転
化を完了する。次いでクロロホルム5ornl中(7)
H−MeVal−Bzl 3,359 (15,0mモ
ル)を反発温合物に一206Cで滴下する。続いて薄層
クロマトグラフィーとIRスペクトロメトリイによって
反応を追跡し 、4.5日間後に完了する。得られる溶
液を振とう機のINの重炭酸す) IJつ1% 200
rrJに注ぎ、クロロホルム300dで希釈する。 有機相を分別後水相を更にクロロホルム100.nlで
抽出し、クロロホルム相を合し、これを硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、蒸発する。残滓を溶離剤として2チ
メタノール含有塩化メチレンを使用してシリカゲル(0
,063〜0.2m) 600 !でクロマトグラフィ
ーに付して、標記化合物を得る。  〔α’:]D=−
143.7°(C=0.9、クロロホルム中)。 r)BOC−(D)−Al a−MeLcu−MeLe
u−MeVal−OH:10%パラジウム/木炭o、s
Pを含むエタノール500rntに溶解したBOC−(
D)−A12L−MeLeu−MeLeu−MeVal
−Bzl 5.539 (10,0mモル)を1時間室
温で水素化することによって脱ベンジル化する。得られ
る懸濁・液をタルクを通じて濾過し、蒸発し、残渣を硫
酸ナトリウムで乾燥して、〔αヤ=−187°(C=o
、ss、クロロホルム中)の旋光度を有する標記化合物
を得る。 5)BOC−(D)−Al a−MeLe u−MeL
、eu−Mega 1−C9A−a−Abu−5ar−
MeLeu−Val−MeLeu−Ala−Bzl :
BOC−(D)−Al a−MeLeu−MeLeu−
MeVa l−0H278i(0,5mモル〕続いてI
(−C9A−α−Abu−5ar−MeLeu−Val
−MeLeu−Ala−Bzl  (実施例11参照)
を塩化メチレン10−に室温で溶解する。 次いで塩化メチレン1−で希釈したN−メチルモルホリ
ン0.55−7(50,5111y=0.5mモル)と
ベンゾトリアゾリル−N−オキシ−トリス(ジメチルア
ミノ〕ホルホニウムへキサフルオロホスフェ−) 22
.11R9(0,5mモル)を該溶液に加え、全体を2
2時間室温で撹拌し、反応が完結するまで薄層クロマト
グラフィーによって追跡する。生成溶液を塩化メチレン
200−で希釈し、水100rrLtで洗い、水相を塩
化メチレン100−で抽出する。 有機相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し
、蒸発する。残渣を溶離剤として5%メタノール含有塩
化メチレンを使用してシリカゲル(0,063〜0.2
4m)200Pでクロマトグラフィーに付して、標記化
合物を得る。   〔α〕七=−175.6°(c=0
.86、クロロホルム中)。 t)BOC−(D)−AS a−rs4eLeu−Me
Leu−Pl[eVa 1−C9A−α−Abu−5a
 r−MeLeu−Va l−λ1cLeu−Al a
−h’)INH2:110C−(D)−Al a−Me
Leu−MeLeu−hfeVa l −C9A−a 
−Abu−5ar−MeLeu−Val−MeLeu−
Ala−Bzl  Q、849(0,5977Lモル)
を4時間室温でジメチルホルムアミド3d中のヒドラジ
ン水和物3 mlと共に撹拌し、その後ジメチルホルム
アミドと過剰のヒドラジン水和物を室温で高減圧下蒸発
除去する。残渣ヲ酢酸エチル250−に溶解し、飽和N
aC1溶液50rdで2回振とうする。有機相を硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濾過し、蒸発し、残渣を溶離剤とし
て5%メタノール含有塩化メチレンを使用してシリカゲ
ル(0,663〜0.24藤)100Pでクロマトグラ
フィーに付して、標記化合物を得る。 〔α’)D =−170,2°(c=1.Q、クロロホ
ルム中〕。 u)I−1−(D)−Al a−McLeu−λfcL
eu−MeVa l −C9A−a−Abu−5a r
−MeLeu−Va 1−MeLeu−Al a−N漕
釘2 :BOC−(D)−Al a−λ1eLeu−M
eLeu−MeVa 1−C9A−a−Abu−5ar
−MeLeu−Val−MeLeu−Ala −f’s
%INI(20,739(0,55mモル)を1時間室
温でトリフルオロ酢酸3rnl中で無水条件下撹拌し、
次いでトリフルオロ酢酸を室温で水idE減圧下充分蒸
発除去する。 残渣を塩化メチレン200−に溶消し、直ちに飽和重炭
酸ナトリウム溶液100rnlで振とつする。 有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、蒸発し、得
られる残渣を溶離剤として10チメタノール含有塩化メ
チレンを使用してシリカゲル1002でクロマトグラフ
ィーに付して、ね配化合物を得る。   〔α)D  
=−189,2°(C=0.87、クロロホルム中)。 ■)サイクロスポリンA: 2MのH(1:l/ジオキサン0.2−と亜?ii!4
酸1−ブチル22.8”y(0,22mモル)をジメチ
ルホルムアミド5rnlに溶解した)l−(D)−Al
 a−McLcu−MeLcu−MeVa 1−C9A
1−C9A−a−Abu−5ar−−Va 1−MeL
eu−Al a−MN(2136”l (0,11mモ
ル)に−200Cで加え、全体を45分間−20°Cで
撹拌する。 次いで更に亜硝にり(−ブチル22.8 nl)(0,
221モル)を加え、反応混合物を更に2時間−20°
Cで撹拌し、次いでジメチルホルムアミド20−で希釈
する。次いでエチルジイソプロピルアミン0゜051り
(0,477!モル)を加え、混合物を更に2時間−2
09Cで撹拌する。生成溶液をl−lCl  の100
艷にpH3で注ぎ、ジエチルエーテル200dで振とう
する。エーテル相を水50−で洗い、硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、蒸発し、残渣を溶離剤として2嘱メタ
ノール含有塩化メチレンを使用してシリカゲル(0,0
63〜0.24票)50ノでクロマトグラフィーに付す
。薄層クロマトグラフィーによって伊イクロスボリンA
として認められるフラクションを収集し、アセトンから
再結晶する。得られる生成物はm、P、  150’C
と〔α〕1) =−245° (C=0.8、クロロホ
ルム中)を有する。天然生成化合物サイクロスポリンA
との同一性は、NP11R分光によって確認される。 実施例2.l : (28,3R,41(,6E)−3
−ヒドロキシ−4−メチル−2−メチルアミノ−オクト
−6−エン改の甘酸、フローチャート■、式IICKよ
−C)I3、−X−Y、−= ) 57 ス−C:H=
C)1−)、方法工程、S (4に、5S)−4−(ヘキサ−2E−エン−5に一イ
ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
ルボン酸(実施例2rの生成物)172”! (0,7
6mモル)を2NのKOI−12,0iに溶解する。 溶液を3時間80℃で加温し、冷却し、INのHCIの
添加によってp)l 5に調整し、ロータリーエバポレ
ータで濃縮する。残はをメタノールに取り、5epha
dex LH20(7) 50 f’ f通じテ濾過し
、蒸発する。桟面をエタノールから再結晶して、標記化
合物を純粋体で得る。ru、p、 240〜241℃、
〔α)22−+ 13.06(C−0,46、水中)。 実施例2.2 : <25,3に、4k)−3−ヒドロ
キシ−4−メチル−2−メチルアミノ−オクタン酸の舌
成、フローチャート■、式l[[R1にCHa、−X−
Y−、、、−CH2−C)12−)、方法工程S(1,
55)−4−(2に一ヘキシル)−1−メチル−2−オ
キソ−オキサゾリン−5−カルボン酸(実施例2r′の
生fc@)110’i(0,48mモル)を2 N (
7) KOH1,4rnl lc溶解する。溶液を2時
間80℃で加温し、冷却し、INのRCIの添加によっ
てpH4に調整し、溶媒としてメタノールを使用して5
ephadex LH20の50yを通じて濾過する。 p液を蒸発し、桟面を水25−に取り、アニオン交換樹
脂(Biorad AG 3−x4 (100〜200
メツシユン〕3ノを通過させて汚染RC■を除去し、蒸
発し、エタノールから再結晶して、標記化合物を純粋体
で得る。m、p、248〜249℃、  (a) D−
+1711 ’(C”0.44%水中)。 上記実施例2.1および2.2で使用する出発物質は、
次の如く製造する。 実施例2a : (45,5S)−4,5−ジベンジル
オキシメチル−2−フェニル−1,3−ジオキソラン、
フローチャート■、式xVn(x’およびX“−φH2
−J C45,5S)−4,5−ジヒドロキシメチル−2−フ
ェニル−1,3−ジオキソラン15ノ(71,4mモル
)をトルエン300dで2回蒸発させることにより先金
に無水物にし、反応容器に残る油状物をトルエン150
−に溶解する。粉末KO)l 30 y(535mモル
)と臭化ベンジル71.59 (418mモル)を加え
、反応混合物を15時間80℃で楕拌する。混合物を冷
却し、残留トルエン相をデカントし、トルエン200m
/で2回t(J拌しデカントすることによって残留相か
ら無機成分を除去する。トルエン相を付し、これをタル
クを通じて濾過し、詠兄し、残留油状物を溶媒として塩
化メチレンを使用してシリカゲル60の2に9を通じて
分別濾過する。臭化ベンジルを含むフラクションを処分
する。標記化合物を〔α)、=+10.1(±1)0(
(e= 1.4 、クロロホルム中)の旋光度を有する
険黄色液悴として得る。 実施例2F):(2S、3に)・−2−ベンゾイルオキ
シ−1,4−ジベンジルオキシ−3−ブロモブタン、フ
ローチャート■、式XVI(XおよびX″;φ−CH2
−〕 ヘーブロモスクシンイミドl O,9P C61,27
71モル)をテトラクロロメタン150iに!egし、
懸濁液を4 ’Cに冷却し、テトラクロロメタン250
4に溶解した(45.5S)−4,5−ジベンジルオキ
シメチル−2−フェニル−1,3−ジオキソラン23.
99 (61,2771モル)を同温反で50分間にわ
たって滴下する。冷却浴を除き、反応フラスコをアルミ
ニウム箔で包み、反応混合物を3日間呈温で1h拌する
。得られるオレンジ看色懸濁液を塩化メチレン1ノで希
釈し、飽和血炭設ナトリウム(8に1.200m1で振
とうする。水相を塩化メチレン300.、Jで抽出し、
有機相を付し、これを硫取ナトリウムで乾燥し、タルク
層を通じて濾過し、減圧蒸発する。残はをシリカゲル6
0の1今と溶離剤としての塩化メチレンを使用してクロ
マトグラフィーに付す。標記化合物を無色オイルとして
得る。  〔α)、−+18.7°(C−=1.3、ク
ロロホルム中)。 実施例2C:(2S、3S)−ジベンジルオキシメチル
−オキシラン、フローチャート■、式XV〔XおよびX
−φ−CH2−〕 ION水服化カリウム水gm16.5mzを(2S。 3K)−2−ベンゾイルオキシ−1,4−ジベンジルオ
キシ−3−プロモーブタン25.7154.8mモル)
のエタノール330+nli?液に加:L、実’R的に
同時に住する沈殿物KBrを得る。反応混合物を30分
間室温で橙拌し、次いでIONの)ICIの添加によっ
てPH5に謔整する。水−エタノール性混合物を識圧蒸
党し、残はを塩化メチレン50〇艷に取り、水200d
で洗い、水相を塩化メチレン200mtで2回抽出する
。n機相を甘し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、タル
ク層を通じて濾過し、蒸発し、残漬を減圧蒸留して、標
記化合物を得る。b、p、164〜168℃(0,2)
ル)、〔α)) De−8,7’  (C”’11、ク
ロロホルム中)。生成物をエーテル/ベトロエーテルで
結晶化する。m。 P、24℃。 実施例2d : (21L、3J−1,4−ジベンジル
オキシ−2−ヒドロキシ−3−メチル−ブタン、フロー
チャート■、弐又■〔x′およびX“=φ−CH2−〕
真空乾燥ヨウ化第−銅4.64PC24,38鶏モル)
を無水ジエチルエーテル100−に乾燥窒素\ ガスを通じながら懸濁する。メチルリチウムの4゜4%
エーテル溶欣23.6m7(47,52mモル)を0℃
で速かに加え、得られる透明なオレンジ色−褐色溶成を
ドライアイス冷却浴を使用して直ちに一60℃に冷却す
る。次いで無水エーテル25イfこ溶解した(2s、3
s)−ジベンジルオキシメチル−オキシラン3.0ノ(
No、56mモル)を加え、反応混合物を1時間更に一
60℃で撹拌する。 次いで過剰のメチルリチウムを分解するためにメタノー
ル5−を加える。次いで冷却浴を除き、反応混合物をM
温に加温し、水5−を加える。反応混合物を塩化メチレ
ン300−で希釈し、水200dで3回洗い、水性鋼着
色沈殿吻を塩化メチレン200−で更に3回抽出する。 有機相を甘し、これを硫敗ナトリウムで乾燥し、タルク
j(至)を通じて濾過し、減圧蒸発し、残漬を溶離剤と
して塩化メチレンを使用するシリカゲル60の90ノに
よるクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物
を淡ベージュ色オイルとして得る。   〔α〕W=−
4,4°(CWl、5、りoaホルム中)。 実施例2e:(2良、3に) −1,2,4−トリヒド
ロキシ−3−メチル−ブタン、フローチャート■、大正 (2LL、31L) −1,4−ジベンジルオキシ−2
−ヒドロキシ−3−メチル−ブタン4.5S’(15m
モル)を10チパラジウム/木炭0.59を含むエタノ
ール120rnl中で2時間室温で水素化すること1ζ
より脱ベンジル化する。生成物をタルク層を通じて濾過
し、g発し、溶順剤としての塩化メチレン/メタノール
(8:2)でもってシリカゲル60の120yでクロマ
トグラフィーに付す。 標記化合物を無色粘稠油状物として得る。 実施例2t:(4ft)−4−(1−ヒドロキシ−2に
一プロピル)−2−ジメチル−1,3−ジオキンラン、
フローチャート■、弐亘 ベンゼン180m/に溶解した(2R,3K)−1,2
,4−)ジヒドロキシ−3−メチル−ブタン30.5ノ
(0,254モル)を2#f間2.2−ジメトキシプロ
パン39.87(0,381モル)とp−トルエンスル
ホン殴・−水和f71180■で還流する。 溶媒をロータリーエバポレータで除去し、残留油状物ヲ
アセトン600dに取り、P−トルエンスルホンm−−
水和物0.62を加え゛、得られる溶液を16時間還流
沸騰する。得られる黄色溶液をロータリーエバポレータ
で100−に濃縮し、溶離剤として2%メタノール性塩
化メチレンを使用し、中性Alox(活性&I[)IK
Fでクロマトグラフィーに付す。標記化合物を油状物と
して得る。 〔α)、 a=−19,8’(C−1,0、クロロホル
ム中ン、b、p、56℃ (0,1)ル)。 実施例2g: (4R)−4−(1−p−1−シルオキ
シ−2に一プロピル)−2−ジメチル−1,3−ジオキ
ソラン、フローチャート■、式MP−トルエンスルホニ
ルクロ!JI’14.3F(75mモル)を葺温で(4
R)−4−(1−ヒドロキシ−2R−プロピル)−2−
ジメチル−1,3−ジオキソラン10.0グ(62,5
mモル)のクロロホルム65m718?[に加える。無
水ピリジン10.1−を加える。その結果温度は31℃
に上昇する。 温度が低下を開始する以前に発熱反応を更に45分曲続
行する。それに続いて反応混合物を更に3時間35℃で
攪拌して、反応を完結させる。得られる溶液を塩化メチ
レン300y+7で希釈し、飽和炭酸ナトリウム溶液1
50−で1回、砲和硫散第−銅溶液150rn!で2回
洗う。水相を塩化メチレン200−で抽出し、有機相を
合し、これを値数ナトリウムで乾燥し、タルクを通じて
濾過し、蒸発する。溶離剤として塩化メチレンを使用し
、中性Aloz (活性度II)40(lで桟面をクロ
マトグラフィーに付す。ベトロールエーテルから結晶化
後、  〔α〕智吐14.2°(C=1.0、クロロホ
ルム中)を有する標記化合物を得る。m、p、39〜4
0℃。 実施例2h: (4R)−4−(1−シアノ−2に−7
”ロピル)−2−ジメチル−1,3−ジオキソラン、フ
ローチャート■、式X 実施例2ylこ従って得られる(4K)−4−(1−p
−)シルオキシ−2艮−プロピル)−2−ジメチル−1
,3−ジオキソラン(17,(lζ54゜lrI′Lモ
ル)結晶は吸湿性であるので、これを直ちにジメチルス
ルホキシド90tnllC溶解し、KCN4.38 Y
 (70,4mモル)を加え、得られる反応混合物を3
日間室温で窒素雰囲気下撹拌する。得られる溶液をトル
エン250−で希釈し、水1251n!で振とうし、水
相を塩化メチレン300.ntで2回抽出し、蒸発し、
残iを水100m/ic取る。 トルエン200−で2口振とう後−flr機相を最初の
トルエン相と合し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、
蟲縮し、高減圧下蒸留して、標記化合物を無色泪1状物
として得る。b、p、60〜63℃(0,03トル)、
  〔α〕D==+11.2°(C==1.0%クロロ
ホルム中)。 実施例2 i : (3K)−3−(tR−2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソランル)−ブチルアルデヒド、フ
ローチャート■、式■ (41L ) −4−(1−シアノ−2に一プロピル)
−2−ジメチル−1,3−ジオキソラン41ノ(243
mモル)をヘキサン1ノに溶解し、l6液を一78℃に
冷却する。水素化ジイソブチルアルミニウム205.7
(20%へ牛サン1容液)を窒素雰囲気下30分間で温
度が−7,0’Cを越えないように滴下する。その後反
応混合物を更に1.51F:f間−78℃で撹拌する。 次いで水15rrLlを含むテトラヒドロフラン60,
7を一70℃で望索雰囲気下添加して、過剰の還元剤を
分解する。得られる反応混合物を水1ノに注ぎ、振とう
する。リチウムアルミニウム沈殿物を吸引濾過器で除去
する。p液を分別漏斗で水相から分け、塩化メチレン3
00dで2口振とうする。有機相を甘し、これを値数ナ
トリウムで乾燥し、濾過し、減圧下口−タリーエバポレ
ータで濃縮し、溶離剤として2チメタノール性塩化メチ
レンを使用し、シリカゲル60の3鞭でクロマトグラフ
ィーに付す。窒素雰囲気工高減圧蒸留によって、標記化
合物を無色油状物として得る。b、p、45〜50℃(
0,03)ル〕。 実施例2j:(4艮)−4−(ヘキサ−2E−エン−5
a−イル)−2−ジメチル−1,3−ジオキソラン、フ
ローチャート■、式■ 臭化エチルトリフェニルホスホニウム19.C1(51
,1mモル)を高減圧下110°Cで一夜乾燥し、窒素
雰囲気下テトラヒドロフラン250Mtとエーテル25
0m?の溶液にする。次いでn−ブチル−リチウム1.
1モル当量(15%へキサン溶液31.2m1)を窒素
ガスを通じながら20分間以内で温度が30゛Cを越え
ないように加える。反応混合物は濃赤仏者色を呈し、こ
れを更に30分間室温で攪拌し、次いで一78゛Cに冷
却する。次いで無水ジエチルエーテル50g?に溶解し
た(3R)−3−(4R−2−ジメチル−1,3−ジオ
キソランル)−ブチルアルデヒド8.0y(46,5m
モル)を温度が−73”Cを越えないように滴下する。 次いで反応混合物を更に30分間攪拌する。該混合物は
淡黄色に着色する。次いでヘキサンに溶解したn−ブチ
ルリチウム31.2m1(51,1mモル)を−78”
Cで更に加え、反応混合物を30分間再度攪拌する。反
応混合物を一30°Cに加温し、【−ブタノール6.5
m1(69,7mモル)を10分間以内で滴下する。反
応混合物を更に10分間−30゛Cで攪拌し、次いでt
−醋酸カリウム7.8ノ(69,7E1モル)を−気に
加える。今や黄色である反応溶液を室温に加温し、1.
5時間攪拌し、水1gに注ぐ。水相を分別漏斗で除去し
、エーテル20C)+Jで4回振とうする。有機相を合
し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、戸別し、減圧下口
−タリーエバポレータで濃縮して、標記化合物を得る。 これは中間精製することなく次の反応に直接使用する。 実m例2に: (2R,3r(,5E)−2−ヒt’ロ
キシー3−メチル−5−へブテン−1−オール、フロー
チャート■、式■a(Z=)ランスCH3−CH=CH
−CH2−) 水4(JtlとINのHCl40ytを(4艮)−4−
(ヘキサ−2E−エン−5R−イル)−2−ジメチル−
1,3−ジオキソラン6.59(35mモル)のテトラ
ヒドロフラン300+7溶液に加え、反応混合物を2日
間室温で放置する。次いで反応混合物を飽和重炭酸ナト
リウム溶液の添加によってpH6〜7に調整し、ロータ
リーエバポレータでテトラヒドロフランを蒸発除去し、
ジオール類存在試験を行ったときに陰性反応するまで水
相を塩化メチレンで抽出する。有機相を合し、これを硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレー
タで濃縮し、溶離剤として10%メタノール性塩化メチ
レンを使用し、シリカゲル60の500gを通じて濾過
して、標記化合物を熱色油状物として得る。   〔α
)22 = s、7°(C=1.0、クロロホルム中)
、トランス二重結合の特徴である97QC1f″で強い
IR吸収を示す。 実施例21:(2R,3R,5E)−2−C(1−エト
キシエチル)−1)オキシ−3−メチル−5−へブテン
−1−オール、フローチャート■、式1式% 塩化ベンゾイル6.81ml (5S,62mモル)を
0’Cに予冷した( 2R,3rt、5E)−2−ヒド
ロキシ−3−メチル−5−へブテン−1−オール9.0
g(55,8mモル)のピリジン90yttB液ニ10
分曲にわたって加える。反応混合物を40分間室温で攪
拌し、塩化メチレン600dで希釈し、硫酸第一銅20
0 mlで3回洗う。水相を塩化メチレン200M1で
抽出し、有機相を合し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
し、蒸発し、溶離剤として1%メタノール性塩化メチレ
ンを使用し、シリカゲル60の5002でクロマトグラ
フィーに付す。 得られる(2R,3R,5E)−1−ベンジルオキシ−
2−ヒドロキシ−3−メチル−5−ヘプテンを塩化メチ
レン200 mlに溶解する。エチルビニルエーテル1
4.4yと触媒量のトリフルオロ酢酸を加え、反応混合
物を3日間室温で攪拌する。得られる溶液を溶離剤とし
て1%メタノール性塩化メチレンを使用して塩基性Al
ox (活性度■)800yでクロマトグラフィーに付
し、得られる(2R,3R,5E)−2−((1−エト
キシエチル)−1〕オキシ−1−ベンゾイルオキシ−3
−メチル−5−ヘプテンをエタノール150+lに溶解
スル。次いでIONの水酸化カリウム溶液30ytlを
加え、反応混合物を90分間室温で撹拌する。得られる
溶液を塩化メチレン1gで希釈し、水400肩lで洗い
、水相を塩化メチレン400m1で抽出する。有機相を
合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、蒸発し
て、標記化合物を無色曲状物として得る。これは精製す
ることなく次の反応に使用する。 実施例2nl’: (2R,3R,5E)−2−((1
−エトキシエチル)−1〕オキシ−3−メチル−5−へ
ブテン−1−アルデヒド、フローチャート■、式■bC
Z=トランスCH3−CH=CH−CH2−X3=C2
H50−C[1(CI]3)−〕ジメチルスルホキシド
/ベンゼン(1:1)120dに溶解した(2R,Bi
t、5E)−2−((1−エトキシエチル)−1)オキ
シ−3−メチル−5−ヘプテン−1−オール6.39 
(21,3mモル)を2時間室温でトリフルオロ酢酸0
.8肩/(10゜65x1モル)とジシクロへキシルカ
ルボジイミド18.5y(89,67mモル)と共に撹
拌する。得られる懸濁液を吸引濾過器で濾過し、F液を
エーテル500m1に取り、水250 wtで洗う。水
相をエーテル30ONlで抽出し、有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濾過し、蒸発する。残渣を溶離剤として
0.5%メタノール性塩化メチレンを使用してシリカゲ
ル60でクロマトグラフィーに付して、標記化合物を無
色油状物として得る。 実施例21’: (2R,3R,5E)−2−ヒドロキ
シ−3−メチル−5−へブテン−1−アルデヒド、フロ
ーチャート■、式Vla(Z=)ランス0ち−ci−t
=cH−cH2+ ) INの)IC11,Q 11tを(2に、3R,5E)
−2−((1−エトキシエチル)−1〕オキシ−3−メ
チル−5−ヘプテン−1−アルデヒド1.7F(7,9
mモル)のテトラヒドロフラン20x1m液に加え、反
応混合物を1.5時間室温で放置する。得られる溶液を
水100 yxlと塩化メチレン200 mlで振とう
し、有機相を分別し、再度水100m?で洗う。水相を
塩化メチレン200 WEで抽出し、有機相を合し、こ
れを硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、蒸発して、標記
化合物を無色曲状物として得る。生成物は次の反応に直
ちに使用する。 実施例2n: (IR5,2R,3R,5E)−1−シ
アノ−2−ヒドロキシ−3−メチル−1−メチルアミノ
−5−ヘプテン、フローチャート■、式va〔Z=トラ
ンスCH,CH=CH−CH,、R1=CH3)KCN
o、52 9 (7,9m−Eニル)とメチルアミン塩
酸塩0.549 (7,9m−v−ル)をメタノ−/L
750 mlに溶解した( 2 R,3R,5E ) 
−2−ヒドロキシ−3−メチル−5−ヘプテン−1−ア
ルデヒド1.1y(7,7mモル)に4に拌しながら2
0℃で加える。水7.5 ttt添加後反応混合物を更
に2時間室温で攪拌し、次いで最大40゛Cの水浴温度
でロータリーエバポレータで0.5容に濃縮する。得ら
れる溶液を塩化メチレン300 mlと水200ntで
振とうし、分別有機相を更に水100m1で振とうする
。 水相を塩化メチレン2X100mlを使用して交互に抽
出し、塩化メチレンフラクションを最初の有機抽出液と
合し、全体を硫酸ナトリウムで乾燥し、G3フリットを
通じて濾過し、蒸発して、標記化合物をジアステレオマ
ー混合物として得る。これは更に精製することなく直接
使用する。 実施例2n’: (1)LS、21L、31(,5E)
−2−((1−エトキシエチル)−1)オキシ−1−シ
アノ−3−メチル−1−メチルアミノ−5−ヘプテン、
フローチャート■、式Vb(Z=トランスCH3+ C
H=CH−CH2+、X3=C2H50−CH(CH3
)−1R1=CH3) KCN33.1111& (4,81mモル)とメチル
アミン塩酸塩322 f (4,76mモル)を(2R
,3R,5E)−2−((1−エトキシエチル)−1〕
オキシ−3−メチル−5−へブテン−1−アルデヒド1
、Of (4,67mモル)のメタノール40m1溶液
に加える。水6yl添加後反応混合物を2時間室温で攪
拌し、2C)tlに蒸発し、残渣を塩化メチレン200
xlと水500+tで振とうする。水相を塩化メチレン
50ylで抽出し、有機相を合し、これを硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過し、蒸発して、標記化合物をジアステ
レオマー混合物として得る。 これは更に精製することなく直接使用する。 実施例21”: (rR5,2R,31支、5E)−1
−シアノ−2−ヒドロキシ−3−メチル−1−メチルア
ミノ−5−ヘプテン、フローチャート■、式■a〔lζ
□−CH3〕 ジオキサン20tnlに溶解した(IR5・2 R・3
1(。 5E)−2−(:(1−エトキシエチル)−1〕オキシ
−1,−シアノ−3−メチル−1−メチルアミノ−5−
ヘプテン1.79 (6,7mモル)を20時間室温で
窒素雰囲気下2NのH2SO43rtと共に攪拌する。 次いで反応混合物を水100ゴに注ぎ、塩化メチレン2
00Mtで抽出する。水相をINのNaOH6Mlの添
加によってアルカリ性にし、塩化メチレン20011t
で2回振とうし、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、蒸
発して、標記化合物を得る。これは更に精製することな
く次の反応に使用する。 実施例20 : (4R,5R5) −5−シアノ−4
−(ヘキサ−2E−エン−5R−イル)−1−メチル−
2−オキソ−オキサゾリン、フローチャート■、式■〔
zニドランスCH3−CH=C1l−CH2−(X2+
X3)=’)C=O1l(1=CH3〕力ルボニルジイ
ミダゾール840My(5,2mモル)を(11ts、
21t、3 FL、5 E ) −1−シアノ−3−メ
チル−1−メチルアミノ−2−ヒドロキシ−5−ヘプテ
ン(実施例2nと21“参照)630#(3,46mモ
ル)の塩化メチレン30x1m液に加え、反応混合物を
一夜室温で攪拌する。得られる溶液を塩化メチレン10
0srlで希釈し、水50m1で振とうする。水相を塩
化メチレン100 xiで抽出し、有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濾過し、蒸発する。残渣を溶離剤として
1%メタノール性塩化メチレンを使用してシリカゲル6
0の110fでクロマトグラフィーに付して、標記化合
物をジアステレオマー混合物として得る。 実施例2pl: (4R,5S)−4−(ヘキサ−2E
−エン−5に一イル)−1−メチル−2−オキソ−オキ
サゾリン−5−カルボン酸エチルエステル、7o−チャ
ート■、式■a〔(X2+X3)=〉C工O,R1工C
H3、R2=C2H5−〕KOI−1800fl!y(
2モル当ff1)を(4R,5R5)−5−シアノ−4
−(ヘキサ−2E−エン−5R−イル)−1−メチル−
2−オキソ−オキサゾリン600!Im2.88mモル
)の95%エタノール溶液に加え、混合物を6時間室温
で攪拌する。得られる懸濁液を塩化メチレン300m1
と水100yptlで振とうし、水相を塩化メチレン1
00.w?で抽出する。有機相を合し、これを硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過し、蒸発する。残渣を95%エタ
ノール5S1tに溶解し、INのHCI 2.9 ml
と共に1゜5時間型温で攪拌する。得られる溶液のpH
をIN重炭酸ナトリウムの添加によって7にλIAI整
し、塩化メチレンで抽出する。賽機相を合し、これを硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、蒸発して、標記化合物
を得る。   〔α’)、−十29.5°(C=1.0
、クロロホルム中)。 実施例29: (4R,55)−4−(21ζ−ヘキシ
ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
ルボン酸エチルエステル、フローチャート■、式■2 
〔(X2+X3)=〉C=0、R1=CH3,1(2=
C2H5〕 10%パラジウム/木炭23 Wを窒素雰囲気下(41
ζ、5S)−4−(ヘキサ−2−エン−51(−イル)
−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カルボ
ン酸エチルエステル210g!/(0,82mモル)の
無水エタノール1(Jrtra液に加える。水素雰囲気
上反応時間3時間で水素化を行う。 得られる溶液をタルクを通じて濾過し、蒸発し、溶離剤
として2%メタノール性塩化メチレンを使用してシリカ
ゲル60の609でクロマトグラフィーに付して、標記
化合物を無色油状物として得る。  〔α)D=+32
.5°(C=0.93、クロロホルム中〕。 実施例2r、1 : (4R,55)−4−(ヘキサ−
2E−エン−5に一イル)−1−メチル−2−オキソ−
オキサゾリン−5−カルボン酸、フローチャート■、式
Ill bC(x2 +X3 ) = > C=0、k
0=CH3’) 実施例2p’に従って得られる(4に、55)−4−(
ヘキサ−2E−エン−5に一イル)−1−メチル−2−
オキソ−オキサゾリン−5−カルボン酸エチルエステル
をジオキサン18m1に溶解し、1 時間mtl テ0
. l N (1) Nap)450 mlと共に4に
拌する。得られる浴液をINのllClの添加によって
pH2に調整し、塩化メチレン300 ytで2回抽出
する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、蒸つ
とし、得られる残渣をエーテルから再結晶して、標記化
合物を純粋なエナンチオマ一体で得る。 m、p、81〜82”C,Cα)D=+33.5“ (
C=1.0、クロロホルム中)。 実施例2r、2 : (4R,55)−4−(2R−ヘ
キシル)−1−メチル−2−オキソ−オキサシリシー5
−カルボン酸、フローチャート■、式■b〔(X2+X
3)=〉C−0、k□=Cl−13)0、 I NノN
aOH17mlを(4tt、5s)−4−(2に一ヘキ
シル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−
カルボン酸エチルエステル130仄9(0,5On1モ
ル)のジオキサン7rxl溶液に加え、反応混合物を1
時間室温で攪拌する。得られる溶液を塩化メチレン15
0肩lで希釈し、INのI−i Cl添加によってPH
2に調整し、水相を塩化メチレン100m?で抽出する
。有機相を合し、これを硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
し、蒸発する。エーテルから再結晶して標記化合物を得
る。m、p、109”C0 実施@3 実施例2と同様にし、相当する( 4 S、5 S )
 +異性体(実施例2a参魚)に代えて(4R,5R)
−4,5−ジヒドロキシメチル−2−フェニル−1゜3
−ジオキソランから出発し、次のものを得る。 al)工程P′で、(45,5R)−4−(ヘキサ−2
E−エン−5S−イル)−1−メチル−2−オキソ−オ
キサゾリン−5−カルボン酸エチルエステル、  〔α
)D=−29,5°(C=1.0、クロロホルム中)。 bl)工程9′で、(45,5l−4−(25−ヘキシ
ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサシリシー5−カ
ルボン酸エチルエステル、(α〕D=−32,5°(C
冨0.93、クロロホルム中)。 a2)工程rで、(45,51L)−4−(ヘキサ−2
E−エン−5S−イル)−1−メチル−2−オキソ−オ
キサゾリン−5−カルボン酸、〔α〕ゎ=−33,5°
(C=1.O1水中)。 b2)工程r′で、(45,51t)−4−(25−ヘ
キシル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5
−カルボン酸、at、p、110“C0従って、 a3)(2R,3S、4S、6E)−3−ヒドロキシ−
4−メチル−2−メチルアミノ−オクト−6−エン酸、
m、p、240〜241”C,(α)、=−13,0°
(c=Q、46、水中)。 b3)(2R,35,45)−3−ヒドロキシ−4−メ
チル−2−メチルアミノ−オクタン酸、m、2.249
’C,Cα)、=−17°(C=0.44、水中)。 実施例4 工程nまたはn′でメチルアミン塩酸塩の代わりに塩化
アンモニウムを用いる以外は実施例2および実施例3と
同様にして、次のものを得る。 工程p/で、 al)(4R,55)−4−(ヘキサ−2E −x 7
−51(−イル)−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
ルボン酸エチルエステル。 bl)(4s、5R)−4−(ヘキサ−2I!、−エン
−55−イル)−2−オキソ−オキサゾリン−5−カル
ボン酸エチルエステル。 工程rで、 a2)(4R,5S ) −4−(ヘキサ−2E−xン
−5R−イル)−2−オキソ−オキサゾリン−5−カル
ボン酸。 b2) (4S、5 R) −4−(ヘキサ−2E−エ
ン−5S−イル)−2−オキソ−オキサゾリン−5−刀
ルボン酸。 従って、 a3)(25,3R,4R,6E)−3−1=Fo+シ
ー4−メチル−2−アミノ−オクト−6−エン酸、m、
p、l 88〜192’C,(α)o=+22.6°(
c=0.265.0.INのPicl中)。 b3) (2R,3S、4 S、6 E ) −3−ヒ
ドロキシ−4−メチル−2−アミノ−オクト−6−エン
酸、m、p、l 89〜191 ’C1(”)D−22
,6°(c=0.265.0.INのllCl中)。 実施例5 : (2S、31に、41(,6Z)−3−
ヒドロキシ−4−メチル−2−メチルアミノーオクトー
6−エン酸の合成 上記と同一化合物を実施例2と同様にし、下記工程sj
、srおよび5を実施例2j、2rおよび2.1とそれ
ぞれ置換して製造する。 5j:(4R)−4−(ヘキf−22−工7−5に一イ
ル)−2−ジメチル−1,3−ジオキンランフェニル−
リチウム40m1を室温で攪拌しながら12分間で臭化
トリフェニルホスホニウム30゜Ofの無水テトラヒド
ロフラン270m1とジエチルエーテル70 wt@濁
液に加える。このとき温度は27゛Cに上昇Tる。得ら
れる赤色青色懸濁液を1.5時間室温で攪拌し、次いで
(3R)−3−C4rc + (2−ジメチル)−1,
3−ジオキソラニル〕−ブチルアルデヒド6.92F(
40,2mモル)のジメチルエーテル130m1溶液を
室温で加える。そうすると反応媒体の色は赤色からオレ
ンジ色に変化する。更に5時間室温で授拌後、反応混合
物を水1000g/に注ぎ、塩化メチレン750g/で
2回抽出する。有機相を合し、これをvL酸ナトリウム
で乾燥し、ガラスフリットを通じて濾過し、低減圧下蒸
発する。得られる沈殿物をp過除去し、濃縮溶液を溶離
剤として1%メタノール性塩化メチレンを使用してシリ
カゲル60の250fでクロマトグラフィーに付して、
標記化合物を得る。これはシスニ重結合の特徴である9
7QcI11−1で低IR吸収を示す。 5r:(4R,5S)−4−(ヘキサ−2Z−エン−5
1(−イル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン
−5−カルボン酸: (4R,5S ) −4−(ヘキサ−2Z−エン−51
(−イル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−
5−カルボン酸エチルエステル185fI(0,81m
モル)をジオキサ:/ 9 xzl中の0.INのNa
OH25Mtに加え、反応混合物を2時間室温で攪拌す
る。反応生成物を水100Mtに注ぎ、INのHCIの
添加によってpH2に調整する。酸性水相を塩化メチレ
ン150xtで2回抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、蒸発して、標記化合物を得る。 5 : (25,3R,4R,6Z)−3−ヒドロキシ
−4−メチル−2−メチルアミノ−オクト−6−エン酸
: (4R,5S)−4−(ヘキサ−2Z−エン−5に一イ
ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
ルボン酸67〜(Q、 3111モル)を70゛Cで8
時間2NのKOH2,0gl中で加熱する。得られる反
応混合物を冷却し、INのHCIの添加によってPH6
に調整し、ジクロロメタン50m1で2回抽出し−C1
非反応出発物質を回収する。水溶液をロータリーエバポ
レータで蒸発乾固し、結晶残渣をメタノール50rxl
に取る。非溶解部分を濾過して除去し、メタノール性7
8液を10肩tに濃縮し、溶廃剤としてメタノールを使
用して5ephadexLH20の40yでクロマトグ
ラフィーに付す。 溶離液を8mlフラクションで収集し、INのHCl3
滴の添加によってフラクション9から15を通じて結晶
化して(pH5)、標記化合物を回収する。nl、p、
228〜233’C,(α)D=+8°(C= 0.3
8、水中)。 実施例6: 実m@5と同様にし、実施例2aの対応する(4 s、
5 s )−異性体に代えて(4R,5R)−4,5−
ジヒドロキシメチル−2−フェニル−1,3−ジオキソ
ランから出発し、次のものを得る。 al)(4S、5R)−4−(ヘキサ−2Z−エン−5
s−イル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−
5−カルボン酸エチルエステル。 a2)(45,5R)−4−(ヘキサ−2Z−エン−5
s−イル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−
5−カルボン酸。 a3)(2R,35,4S、6Z)−3−ヒドロキシー
ー4− メチル−2−メチルアミノ−オクト−6−エン
酸、   〔α〕、=−8°(c=0.42、水中)。 実施例7: (4R,5S)−4−(ヘキサ−2E−エ
ン−5R−イル)−1,2−トリメチル−オキサゾリン
−5−カルボン酸の製造〔式■、x1=OH1(”2 
+X3 ) = > C(CH3)2、R1= CFl
s、−x−y−=)う7 ス−CH=CH−)ブ1!支
水アセトン80 m1lcQ、’/176した( 2 
S、3 R,4K。 6E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−2−メチルアミ
ノ−オクト−6−エン酸201ffg(1mモル)を透
明浴液が得られるまで48時間加熱遠流する。アセトン
を減圧上完全に蒸発し、残留オイルを塩化メチレン10
0m1に取り、水30m1で洗い、硫酸ナトリウムで乾
燥し、室温で蒸発する。 得られる標記化合物は更に精製することなく合成目的、
例えはペプチド合成に直接便用することができる。 実施@8 : (25,31t、4R,6E )−2−
(N−【−ブチルオキシ−カルボニル)−メチルアミノ
−3−ヒドロキシ−4−メチル−オクト−6−エン酸の
製造〔式■、X0=OH1X2=(CH3)3−CO1
x3=h、艮1=CF13、−x−y−=トランス−C
H=CH−) (2S、3R,4R,6E)−3−ヒドロキシ−4−メ
チル−2−メチルアミノ−オクト−6−エン酸2 Q 
l 119 (l mモル)をINのNaOH2,2m
l トt’スー(t−ブチル)−ジカーボネート0.3
311.5mモル)を含むジオキサン5alとから成る
溶液に溶解し、反応混合物を2日間室温で撹拌する。得
られる溶液を塩化メチレン200g?に取り、水相を2
NのH2SO4添加によってpH3に調整し、抽出する
。有機相を水30m1で2回洗い、硫酸ナトリウムで乾
燥し、濾過し、蒸発する。得られる無色オイルを溶離剤
として2%メタノール性塩化メチレンを使用してシリカ
ゲル60の15yでクロマトグラフィーに付して、標記
化合物を得る。 〔α)D=+7.2°(±2°)(C=1.0、クロロ
ホルム中)。この化合物は合成目的、例えばペプチド合
成に直接使用することができる。 実施例9: 実施例7および8と同様にし、出発物質として対応する
( 2 R,3S、4 S )−オクテン酸異性体から
出発し、次のものを得る。 al) (4S、5 R) + 4− (ヘキサ−2E
 −エアー5s−イル)−1,2−1−ジメチル−オキ
サゾリン−5−カルボン酸。 a2)(2R,35,45,5E) −2−(N−t−
ブチルオキシ−カルボニル)−メチルアミノ−3−ヒド
ロキシ−4−メチル−オクト−6−エン酸、回転〔α)
、=−7,2°(±2°)(C=1.0、クロロホルム
中)。 実施例10: (2S、3 R,4K、(3E )−および(2に、3
 S、4 S。 6E)−3−ヒドロキシ−4−メチル−2−アミノ−オ
クト−6−エン酸から出発する以外は実施例7および実
施例8と同様にし、次のものを得る。 a)(25,3R,4R,5E)−2−(N−1−ブチ
ルオキシ−カルボニル)−アミノ−3−ヒドロキシ−4
−メチル−オクト−6−エン酸、回転〔α) 、 = 
+2.2°(C=1.0、クロロホルム中)。 b)(2R,3S、4S、6E)−2−(N−t−ブチ
ルオキシ−カルボニル〕−アミノー3−ヒドロキシ−4
−メチル−オクト−6−エン酸、回転〔α〕20=−2
,2°(C=1.0、クロロホルム中)。 (XV) (XIV) ↓d (XVI) (XIII) I−10

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、カルボキシル基について遊離形、 またはペプチド合成用に適する保護形もしくは活性形で
    ある〔1S,2R,3R〕−または〔1R,2S,3S
    〕−1−ニトリロ−1−カルボキシ−3−メチル−2−
    オキシ−ヘプタンもしくは−ヘプト−5−エン、または
    遊離形またはペプチド合成用に適するN−保護形の〔1
    S,2R,3R〕−または〔1R,2S,3S〕−1−
    アミノ−または−1−メチルアミノ−1−カルボニル−
    3−メチル−2−オキシ−ヘプタンもしくは−ヘプト−
    5−エン。 2 遊離形またはペプチド合成用に適する保護形および
    /または活性形の式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R_1は水素またはメチルであり、−x−y−
    は−CH_2−CH_2−または−CH=CH−であり
    、2−,3−および4−位はそれぞれS,RおよびRま
    たはR、SおよびS配位をとる。〕 で表される化合物である、特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 3、R_1および−x−y−が特許請求の範囲第2項記
    載の意味をもつが、但しR_1がメチル、−x−y−が
    −CH_2−CH_2−また は−CH=CH−であるとき、2−、3−および4−位
    がそれぞれR、SおよびS配位である 特許請求の範囲第2項記載の化合物。 4、遊離形である特許請求の範囲第2項記載の化合物。 5、次の群から選択された特許請求の範囲第4項記載の
    化合物: (2S,3R,4R,6E)−8−ヒドロキシ−4−メ
    チル−2−メチルアミノオクト−6−エン酸、(2R,
    3S,4S,6R)−8−ヒドロキシ−4−メチル−2
    −メチルアミノオクト−6−エン酸、(2S,3R,4
    R,6Z)−3−ヒドロキシ−4−メチル−2−メチル
    アミノオクト−6−エン酸、(2R,3S,4S,6Z
    )−8−ヒドロキシ−4−メチル−2−メチルアミノオ
    クト−6−エン酸、(2S,3R,4R)−8−ヒドロ
    キシ−4−メチル−2−メチルアミノオクタン酸、 (2R,3S,4S)−3−ヒドロキシ−4−メチル−
    2−メチルアミノオクタン酸、 (2S,3R,4R,6E)−8−ヒドロキシ−4−メ
    チル−2−アミノオクト−6−エン酸、 (2R,3S,4S,6R)−8−ヒドロキシ−4−メ
    チル−2−アミノオクト−6−エン酸。 6、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、−x−y−は−CH_2−CH_2−または−
    CH=CH−であり、R_1は水素またはメチルであり
    、X_1はヒドロキシまたはペプチド合成用に適したカ
    ルボキシ保護基またはペプチド合成用に適したカルボキ
    シ活性基であり、X_2は水素またはペプチド合成用に
    適したN−保護基であり、X_3は水素またはペプチド
    合成用に適したO−保護基であるか、(X_2+X_3
    )はペプチド合成用に適した2−N官能基と3−O官能
    基間の架橋保護基であるかまたは(X_2+R_1)は
    ペプチド合成用に適した2価N−保護基であり、少くと
    も1個の保護基が存在するものとし、2−、3−および
    4−位はそれぞれS、RおよびRまたはR、SおよびS
    配位をとる。〕で表される特許請求の範囲第2項記載の
    化合物。 7 X_1がヒドロキシまたはカルボキシ活性基であつ
    て2−N官能基がN−保護形であるか、またはX_1が
    カルボキシ保護基であつて2−N官能基が遊離形である
    特許請求の範囲第6項記載の化合物。 8、次の群から選択された特許請求の範囲第7項記載の
    化合物: (4R,5S)−4−(ヘキサ−2R−エン−5R−イ
    ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
    ルボン酸、 (4S,5R)−4−(ヘキサ−2R−エン−55−イ
    ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
    ルボン酸、 (4R,5S)−4−(ヘキサ−2Z−エン−5R−イ
    ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
    ルボン酸、 (4S,5R)−4−(ヘキサ−2Z−エン−5S−イ
    ル)−1−メチル−2−オキソ−オキサゾリン−5−カ
    ルボン酸、 (4R,5S)−4−(2R−ヘキシル)−1−メチル
    −2−オキソ−オキサゾリン−5−カルボン酸、 (4S,5R)−4−(2S−ヘキシル)−1−メチル
    −2−オキソ−オキサゾリン−5−カルボン酸、 (4R,5S)−4−(ヘキサ−2E−エン−5R−イ
    ル)−2−オキソ−オキサゾリン−5−カルボン酸、 (4S,5R)−4−(ヘキサ−2E−エン−5S−イ
    ル)−2−オキソ−オキサゾリン−5−カルボン酸、 (4R,5S)−4−(ヘキサ−2E−エン−5R−イ
    ル)−1,2−トリメチル−オキサゾリン−5−カルボ
    ン酸、 (4S,5R)−4−(ヘキサ−2E−エン−55−イ
    ル)−1,2−トリメチル−オキサゾリン−5−カルボ
    ン酸、 (4R,5S)−4−(ヘキサ−2E−エン−5R−イ
    ル)−2−ジメチル−オキサゾリン−5−カルボン酸、 (4S,5R)−4−(ヘキサ−2E−エン−5S−イ
    ル)−2−ジメチル−オキサゾリン−5−カルボン酸、 (2S,3R,4R,6E)−2−(N−t−ブチルオ
    キシ−カルボニル)メチルアミノ−3−ヒドロキシ−4
    −メチル−オクト−6−エン酸、 (2R,3S,4S,6E)−2−(N−t−ブチルオ
    キシ−カルボニル)メチルアミノ−3−ヒドロキシ−4
    −メチル−オクト−6−エン酸、 (2S,3R,4R,6E)−2−(N−t−ブチルオ
    キシ−カルボニル)アミノ−3−ヒドロキシ−4−メチ
    ル−オクト−6−エン酸および (2R,3S,4S,6E)−2−(N−t−ブチルオ
    キシ−カルボニル)アミノ−3−ヒドロキシ−4−メチ
    ル−オクト−6−エン酸。 9、〔1S,2R,3R〕−または〔1R,2S,3S
    〕−1−ニトリロ−1−カルボニル−3−メチル−2−
    オキシ−ヘプタンまたは−ヘプト−5−エン残基を含み
    、遊離形またはペプチド合成用に適した保護形の実質的
    に純粋状態にある線状ペプチド。 10、式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) 〔式中、R_1は水素またはメチルであり、−x−y−
    は−CH_2−CH_2−または−CH=CH−であり
    、2−、3−および4−位はそれぞれS、RおよびRま
    たはR、SおよびS配位をとる。〕 で表わされる基を含有する、特許請求の範囲第9項記載
    の、遊離形または保護形のペプチド。 11、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) 〔式中、Aは式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) (式中、R_1は水素またはメチルであり、−x−y−
    は−CH_2−CH_2 −または−CH=CH−であ
    り、2−、3−および4−位はそれぞれS、RおよびR
    またはR、SおよびS配置をとる。) で表わされる基、Bはエチル、1−ヒドロキシエチル、
    イソプロピルまたはn−プロピルである。 但し、Rがメチル、−x−y−が−CH_2−CH_2
    −またはトランス−CH=CH−であるとき、2−、3
    −および4−位はそれぞれR、SおよびS配置をとる]
    で示される化合物。
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