JPH0213902A - 紫外光反射板 - Google Patents
紫外光反射板Info
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- JPH0213902A JPH0213902A JP16438988A JP16438988A JPH0213902A JP H0213902 A JPH0213902 A JP H0213902A JP 16438988 A JP16438988 A JP 16438988A JP 16438988 A JP16438988 A JP 16438988A JP H0213902 A JPH0213902 A JP H0213902A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、紫外光反射板、特に真空紫外光を発生する
光源装置における紫外光反射板に関するものである。
光源装置における紫外光反射板に関するものである。
第４図は、たとえばヨーロッパ特許公開０２１２９２４
号公報’Ｐｌａｓｍａ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ａｐｐ
ａｒａｔｕｓ」に示されたマイクロ波放電光源装置を示
す断面図であり、１はマイクロ波を伝送する導波管、２
はマイクロ波を発生するマグネトロン、３は発生したマ
イクロ波、４はガスの封入された無電極放電管、５は発
生した紫外光、６は発生した紫外光を所定の方向に取り
出すための反射板、７は紫外光を用いて加工を行うため
の反応室、８は反応室と光源部との間の光取り出し窓で
ある。
号公報’Ｐｌａｓｍａ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ａｐｐ
ａｒａｔｕｓ」に示されたマイクロ波放電光源装置を示
す断面図であり、１はマイクロ波を伝送する導波管、２
はマイクロ波を発生するマグネトロン、３は発生したマ
イクロ波、４はガスの封入された無電極放電管、５は発
生した紫外光、６は発生した紫外光を所定の方向に取り
出すための反射板、７は紫外光を用いて加工を行うため
の反応室、８は反応室と光源部との間の光取り出し窓で
ある。
次にこの装置の動作について説明する。マグネトロン２
によって発生し、導波管１中を伝送されたマイクロ波３
′により無電極放電管４内に封入されたガスが放電、励
起され発光する。この紫外光５の一部は反射板６により
反射され、一部は直接光重り出し窓８を通して反応室７
へ導がれる。
によって発生し、導波管１中を伝送されたマイクロ波３
′により無電極放電管４内に封入されたガスが放電、励
起され発光する。この紫外光５の一部は反射板６により
反射され、一部は直接光重り出し窓８を通して反応室７
へ導がれる。
（発明が解決しようとする課題）
以上のような、従来の光源装置の反射板は、ＡＩのよう
な金属塊をワイヤカット放電加工などの機械加工により
、一定の曲率を有する形状の金属型を鏡面積度で作り、
その型に金属膜や誘電体膜を形成する方法で作成してい
たので、一定の曲率を有するような、３次元形状のもの
に、しかも大面積の膜を形成することは困難であった。
な金属塊をワイヤカット放電加工などの機械加工により
、一定の曲率を有する形状の金属型を鏡面積度で作り、
その型に金属膜や誘電体膜を形成する方法で作成してい
たので、一定の曲率を有するような、３次元形状のもの
に、しかも大面積の膜を形成することは困難であった。
さらに、光源から発せられた紫外光によって損傷を受け
た場合や経年変化により反射率が低下した場合、及び曲
率を変更するなどの場合には、反射板を取り外し、交換
する必要があり、このような移動時の取り扱いが金属型
のような大きいものでは不便であり、また大型の反射板
になると質量が大きくなってしまうなどの問題があった
。なお、反射板の紫外光による損傷や反射板の経年変化
については、Ｊ、Ｏｐｔ、Ｓｏｃ、Ａ１１１．４９．６
（＋９５９） ｐ、５９３−６０２のＦｉｇ、８ 、
Ｔａｂｌｅ ＩＩ （それぞれ第５図、第１表）に示
されているようであり、光の反射率を維持するように定
期的に交換するのが通常である。
た場合や経年変化により反射率が低下した場合、及び曲
率を変更するなどの場合には、反射板を取り外し、交換
する必要があり、このような移動時の取り扱いが金属型
のような大きいものでは不便であり、また大型の反射板
になると質量が大きくなってしまうなどの問題があった
。なお、反射板の紫外光による損傷や反射板の経年変化
については、Ｊ、Ｏｐｔ、Ｓｏｃ、Ａ１１１．４９．６
（＋９５９） ｐ、５９３−６０２のＦｉｇ、８ 、
Ｔａｂｌｅ ＩＩ （それぞれ第５図、第１表）に示
されているようであり、光の反射率を維持するように定
期的に交換するのが通常である。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、信頼性の高い、しかも軽量の反射板を簡便な
方法で提供することを目的とじている。
たもので、信頼性の高い、しかも軽量の反射板を簡便な
方法で提供することを目的とじている。
この発明に係る紫外光反射板は、金属及び前記金属上に
誘電性物質をコーティングした可撓性の反射板を、所定
の曲率を有する反射板の支持体に固定して構成したこと
により、前記目的を達成しようとするものである。
誘電性物質をコーティングした可撓性の反射板を、所定
の曲率を有する反射板の支持体に固定して構成したこと
により、前記目的を達成しようとするものである。
この発明においては、反射板は可撓性であるので、金属
膜、誘電体膜を形成する際には、平板として扱うことが
でき、この反射板は所定の曲率を有する支持体にならう
ように支持体に固定された構造をもつ。この反射板上に
コーティングされた金属は紫外光を効率よく反射し、さ
らにその上にコーティングされた誘電性物質は下の金属
膜を保護するとともに反射効率を高めるように作用する
。
膜、誘電体膜を形成する際には、平板として扱うことが
でき、この反射板は所定の曲率を有する支持体にならう
ように支持体に固定された構造をもつ。この反射板上に
コーティングされた金属は紫外光を効率よく反射し、さ
らにその上にコーティングされた誘電性物質は下の金属
膜を保護するとともに反射効率を高めるように作用する
。
（実施例）
以下に、この発明の一実施例について、図に基づいて説
明する。第１図はこの発明の一実施例による紫外光反射
板を搭載したマイクロ波放電光源装置の側断面を示す模
式図、第２図は第１図のＡ−Ｂ線に沿って裁断した紫外
光反射板を示す断面図である。図において、１１はマイ
クロ波を発生するマグネトロン、１２はこのマグネトロ
ン１１で発生したマイクロ波を伝送する導波管、１３は
アルミナ材などからなる真空隔壁窓、１４は前記マイク
ロ波を閉じ込め、光を通過させる金属からなるメツシュ
キャビティ、１５はマイクロ波放電により真空紫外光を
発する無電極放電管でありこの無電極放電管１５を図示
されない支持体により設置するようになっている。１６
は光源チャンバ、１７はこの光源チャンバ１６に設けた
真空紫外光取り出し窓、１８はこの真空紫外光取り出し
窓１７から取り出される真空紫外光の反射板である真空
紫外光反射板、１９は支持体、２０はこの支持体１９に
取り付けられる可撓性の反射板本体で、たとえばポリカ
ーボネート製のもの、２０ａは紫外光を反射するために
ポリカーボネート製の反射板本体２０の上に真空蒸着あ
るいはスパッタなどで形成された金属膜、たとえばＡ１
．ＺｎＳ膜、２０ｂは紫外光を透過し、反射゛ 板の反
射率を向上させ、しかも紫外光による損傷からＡ１やＺ
ｎＳのような金属膜２０ａを保護するＭｇＦ２などの誘
電性物質の膜である。２１はこの誘電性物質の膜２０ｂ
を、ポリカーボネート製の反射板本体２０の上に形成し
た金属膜２０ａ上に形成することにより構成される反射
板、２２は反射板２１を固定するとめ具である。なお、
反射板２１にコーティングする材料としては、文献Ｊ、
Ｏｐｔ、Ｓｏｃ、＾ｍ、４９．６（１９５９）ｐ、５９
３−６０２や＾ｐｔ、ｏｐｔ。
明する。第１図はこの発明の一実施例による紫外光反射
板を搭載したマイクロ波放電光源装置の側断面を示す模
式図、第２図は第１図のＡ−Ｂ線に沿って裁断した紫外
光反射板を示す断面図である。図において、１１はマイ
クロ波を発生するマグネトロン、１２はこのマグネトロ
ン１１で発生したマイクロ波を伝送する導波管、１３は
アルミナ材などからなる真空隔壁窓、１４は前記マイク
ロ波を閉じ込め、光を通過させる金属からなるメツシュ
キャビティ、１５はマイクロ波放電により真空紫外光を
発する無電極放電管でありこの無電極放電管１５を図示
されない支持体により設置するようになっている。１６
は光源チャンバ、１７はこの光源チャンバ１６に設けた
真空紫外光取り出し窓、１８はこの真空紫外光取り出し
窓１７から取り出される真空紫外光の反射板である真空
紫外光反射板、１９は支持体、２０はこの支持体１９に
取り付けられる可撓性の反射板本体で、たとえばポリカ
ーボネート製のもの、２０ａは紫外光を反射するために
ポリカーボネート製の反射板本体２０の上に真空蒸着あ
るいはスパッタなどで形成された金属膜、たとえばＡ１
．ＺｎＳ膜、２０ｂは紫外光を透過し、反射゛ 板の反
射率を向上させ、しかも紫外光による損傷からＡ１やＺ
ｎＳのような金属膜２０ａを保護するＭｇＦ２などの誘
電性物質の膜である。２１はこの誘電性物質の膜２０ｂ
を、ポリカーボネート製の反射板本体２０の上に形成し
た金属膜２０ａ上に形成することにより構成される反射
板、２２は反射板２１を固定するとめ具である。なお、
反射板２１にコーティングする材料としては、文献Ｊ、
Ｏｐｔ、Ｓｏｃ、＾ｍ、４９．６（１９５９）ｐ、５９
３−６０２や＾ｐｔ、ｏｐｔ。
２６．４ （１９８７）Ｉ）、６θ５−ｐ、６０６に示
されるような２００ｎｍ （２０ｏｏ人）以下の真空紫
外光に対してＡＩ上にＭｇＦ、をコーティングする材料
系が、ＬａＦ、またはＬｉＹＦ４をコーティングする材
料よりもが高反射率であることがわかる。（たとえば、
第３図にＡｐｌ、Ｏｐｔ、２６．４ （＋９８７）ｐ、
６０５−ｐ、６０６中のＦｉｇ、１を示す、） 次に、動作について説明する。可撓性の反射板本体２０
は平板として、片面に真空蒸着などの成順方法で金属膜
（ＡＩ、ＺｎＳなど）を形成し、その上に同様にしてＭ
ｇＦ２の膜を形成する。この反射板本体２０を支持体１
９にそわして、反射板２１をとめ具２２で固定する。こ
の場合、反射板２１はポリカーボネート板の弾力性によ
り支持体１９にすきまなく密着して取り付けられること
になる。一方、光源チャンバ１６内を真空ポンプ（図示
せず）で真空排気したのち、マグネトロン１１で発生し
たマイクロ波を導波管内１２に伝ばんさせ、メツシュキ
ャビティ１４に給電する。このマイクロ波により、放電
管内部のプラズマ媒体が放電・励起され、発光する。発
せられた光は、支持体１９によって固定された反射板２
１により、集光・反射されて、所望する方向へ光取り出
し窓１７から取り出される。
されるような２００ｎｍ （２０ｏｏ人）以下の真空紫
外光に対してＡＩ上にＭｇＦ、をコーティングする材料
系が、ＬａＦ、またはＬｉＹＦ４をコーティングする材
料よりもが高反射率であることがわかる。（たとえば、
第３図にＡｐｌ、Ｏｐｔ、２６．４ （＋９８７）ｐ、
６０５−ｐ、６０６中のＦｉｇ、１を示す、） 次に、動作について説明する。可撓性の反射板本体２０
は平板として、片面に真空蒸着などの成順方法で金属膜
（ＡＩ、ＺｎＳなど）を形成し、その上に同様にしてＭ
ｇＦ２の膜を形成する。この反射板本体２０を支持体１
９にそわして、反射板２１をとめ具２２で固定する。こ
の場合、反射板２１はポリカーボネート板の弾力性によ
り支持体１９にすきまなく密着して取り付けられること
になる。一方、光源チャンバ１６内を真空ポンプ（図示
せず）で真空排気したのち、マグネトロン１１で発生し
たマイクロ波を導波管内１２に伝ばんさせ、メツシュキ
ャビティ１４に給電する。このマイクロ波により、放電
管内部のプラズマ媒体が放電・励起され、発光する。発
せられた光は、支持体１９によって固定された反射板２
１により、集光・反射されて、所望する方向へ光取り出
し窓１７から取り出される。
前記のようにこの発明の一実施例によれば、紫外光源か
らの光を反射、集光する光学系において、所定の曲率を
有する反射板本体２０の支持体１９に、金属膜２０ａ及
び該金属膜２０ａ上に誘電性物質の膜２０ｂをコーティ
ングした可撓性の反射板本体２０を保持・固定すること
により真空紫外光の反射板１８を構成したので、従来の
反射板において、ＡＩのような金属塊をワイヤカット放
電加工などの機械加工により一定の曲率を有する形状の
金属型を鏡面積度で作り、その型に金属膜や誘電体膜を
形成する方法で作成していたことと比較して反射板の製
作及び交換が容易になり、反射板及び紫外光源の信頼性
を高めるとともに製作コストを低減できる。
らの光を反射、集光する光学系において、所定の曲率を
有する反射板本体２０の支持体１９に、金属膜２０ａ及
び該金属膜２０ａ上に誘電性物質の膜２０ｂをコーティ
ングした可撓性の反射板本体２０を保持・固定すること
により真空紫外光の反射板１８を構成したので、従来の
反射板において、ＡＩのような金属塊をワイヤカット放
電加工などの機械加工により一定の曲率を有する形状の
金属型を鏡面積度で作り、その型に金属膜や誘電体膜を
形成する方法で作成していたことと比較して反射板の製
作及び交換が容易になり、反射板及び紫外光源の信頼性
を高めるとともに製作コストを低減できる。
また、反射板の経年変化に対しても簡単に処理できるよ
うになり、さらに反射板に金属膜、誘電性膜を形成する
ときも平板として取り扱うことができるため、大面積に
均一に成膜が可能で反応室の大面積に対応できる。
うになり、さらに反射板に金属膜、誘電性膜を形成する
ときも平板として取り扱うことができるため、大面積に
均一に成膜が可能で反応室の大面積に対応できる。
さらに、強度の強い光を得るために、マイクロ波の電力
を増加すると反射板２１自身も損傷を受けたり、経年変
化による反射率低下などで交換が必要になるが、とめ具
２２をはずすだけで簡単に取り換えることができる。
を増加すると反射板２１自身も損傷を受けたり、経年変
化による反射率低下などで交換が必要になるが、とめ具
２２をはずすだけで簡単に取り換えることができる。
さらに、また、反射板本体２０に蒸着させる金属膜の種
類、厚さを変えたものをいくつか用意しておけば、取り
出す光の波長域に応じて、適当な反射板を選択すること
により、効率よく所望の真空紫外光を選択することがで
きる。
類、厚さを変えたものをいくつか用意しておけば、取り
出す光の波長域に応じて、適当な反射板を選択すること
により、効率よく所望の真空紫外光を選択することがで
きる。
当然のことながら、反射板の製作に要する費用は、安価
な樹脂材と蒸着のみであり、前述した従来の反射板の一
体物からの鏡面加工に比べて経済的であることはいうま
でもない。
な樹脂材と蒸着のみであり、前述した従来の反射板の一
体物からの鏡面加工に比べて経済的であることはいうま
でもない。
なお、上記実施例では反射板２１にポリカーボネートか
らなる樹脂材を用いたが、弾力性を存するリン青銅など
の金属板を用いると、付着性のよいＡＩ蒸着膜をコーテ
ィングした真空紫外光反射板が得られる。
らなる樹脂材を用いたが、弾力性を存するリン青銅など
の金属板を用いると、付着性のよいＡＩ蒸着膜をコーテ
ィングした真空紫外光反射板が得られる。
以上に、説明してきたように、こ°の発明によれば、紫
外光特に真空紫外光を発生する光源装置における紫外光
反射板を、金属及び金属上に誘電性物質のコーティング
された可撓性の反射板とそれを固定する所定の曲率を有
する反射板の支持体とで構成したことにより、反射板の
交換、移動の操作性が向上し、反射板の経年変化に対し
ても簡単に処理できるようになる。また、反射板に金属
膜、誘電性膜を形成する際も平板として取り扱うことが
できるので、大面積に均一に成膜可能で、反応室の大面
積化にも対応でき、信頼性が高く、軽量の紫外光反射板
を簡単な方法で提供できるという効果を有する。
外光特に真空紫外光を発生する光源装置における紫外光
反射板を、金属及び金属上に誘電性物質のコーティング
された可撓性の反射板とそれを固定する所定の曲率を有
する反射板の支持体とで構成したことにより、反射板の
交換、移動の操作性が向上し、反射板の経年変化に対し
ても簡単に処理できるようになる。また、反射板に金属
膜、誘電性膜を形成する際も平板として取り扱うことが
できるので、大面積に均一に成膜可能で、反応室の大面
積化にも対応でき、信頼性が高く、軽量の紫外光反射板
を簡単な方法で提供できるという効果を有する。
第１図はこの発明の一実施例による紫外光反射板を搭載
したマイクロ波放電光源装置の側断面を示す模式図、第
２図は第１図のＡ−Ｂ線に沿って裁断した紫外光反射板
を示す断面図、第３図はＡＩ上にＭｇＦ２をコーティン
グしたときの反射率を示す図、第４図は従来のマイクロ
波放電光源装置を示す断面図、第５図は反射板の紫外光
による損傷を示す説明用図、第１表は反射板の経年変化
を示す表である。 １１はマグネトロン、１２は導波管、１３は真空隔壁窓
、１４はメツシュキャビティ、１５は無電極放電管、１
６は光源チャンバ、１７は真空紫外光取り出し窓、１８
は真空紫外光の反射板、１９は支持体、２０は可撓性の
反射板本体、２０ａは金属膜、２０ｂは誘電性物質の膜
、２１は反射板、２２はとめ具である。 なお、図中、同一符号は同一部分または相当部分を示す
。
したマイクロ波放電光源装置の側断面を示す模式図、第
２図は第１図のＡ−Ｂ線に沿って裁断した紫外光反射板
を示す断面図、第３図はＡＩ上にＭｇＦ２をコーティン
グしたときの反射率を示す図、第４図は従来のマイクロ
波放電光源装置を示す断面図、第５図は反射板の紫外光
による損傷を示す説明用図、第１表は反射板の経年変化
を示す表である。 １１はマグネトロン、１２は導波管、１３は真空隔壁窓
、１４はメツシュキャビティ、１５は無電極放電管、１
６は光源チャンバ、１７は真空紫外光取り出し窓、１８
は真空紫外光の反射板、１９は支持体、２０は可撓性の
反射板本体、２０ａは金属膜、２０ｂは誘電性物質の膜
、２１は反射板、２２はとめ具である。 なお、図中、同一符号は同一部分または相当部分を示す
。
Claims (1)
- 紫外光源からの光を反射、集光する光学系において、所
定の曲率を有する反射板の支持体に、金属及び該金属上
に誘電性物質をコーティングした可撓性の反射板を保持
・固定して構成したことを特徴とする紫外光反射板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16438988A JPH0213902A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 紫外光反射板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16438988A JPH0213902A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 紫外光反射板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0213902A true JPH0213902A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=15792194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16438988A Pending JPH0213902A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 紫外光反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0213902A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE42338E1 (en) | 1999-07-02 | 2011-05-10 | Asml Netherlands B.V. | Capping layer for EUV optical elements |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5066986A (ja) * | 1973-10-19 | 1975-06-05 | ||
| JPS5595901A (en) * | 1979-01-12 | 1980-07-21 | Ricoh Co Ltd | Manufacture of reflector |
| JPS60181704A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-17 | Canon Inc | 真空紫外用反射ミラー |
| JPS6245122A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-27 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP16438988A patent/JPH0213902A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5066986A (ja) * | 1973-10-19 | 1975-06-05 | ||
| JPS5595901A (en) * | 1979-01-12 | 1980-07-21 | Ricoh Co Ltd | Manufacture of reflector |
| JPS60181704A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-17 | Canon Inc | 真空紫外用反射ミラー |
| JPS6245122A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-27 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE42338E1 (en) | 1999-07-02 | 2011-05-10 | Asml Netherlands B.V. | Capping layer for EUV optical elements |
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