JPH02140636A - 後方散乱光測定装置 - Google Patents
後方散乱光測定装置Info
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- JPH02140636A JPH02140636A JP29413288A JP29413288A JPH02140636A JP H02140636 A JPH02140636 A JP H02140636A JP 29413288 A JP29413288 A JP 29413288A JP 29413288 A JP29413288 A JP 29413288A JP H02140636 A JPH02140636 A JP H02140636A
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- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- G01M11/30—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
- G01M11/31—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter and a light receiver being disposed at the same side of a fibre or waveguide end-face, e.g. reflectometers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は先導波路の不連続点の探索に利用する。
特に、光導波路内で生じる後方散乱光を１ｍｍ以下の空
間分解能で高精度に測定する装置に関する。
間分解能で高精度に測定する装置に関する。
本発明は、先導波路内で生じた後方散乱光に参照光を合
波させてその合波光を測定する後方散乱光測定装置にお
いて、二つの位置で合波光を独立に測定してその出力に
含まれる同相成分を互いに打ち消すことにより、光源か
らの出射光の光強度変動によって生じる信号対雑音比の
劣化を改善するものである。
波させてその合波光を測定する後方散乱光測定装置にお
いて、二つの位置で合波光を独立に測定してその出力に
含まれる同相成分を互いに打ち消すことにより、光源か
らの出射光の光強度変動によって生じる信号対雑音比の
劣化を改善するものである。
第４図は従来例の後方散乱光測定装置を示すブロック構
成図である。
成図である。
光源１の出射光は、ファイバ形光結合器２により二つの
光束に分岐される。光源１としては、例えば高輝度発光
ダイオード（Ｓ Ｌ ＤＳｓｕｐｅｒｌｕｍｉ−ｎｅｓ
ｃｅｎｔ ｄｉｏｄｅ）が用いられる。分岐された一方
の光束は、ファイバ形光結合器２の一方の出射端から出
射され、対物レンズ３により平行ビームとなる。この平
行ビームは、移動台５に設けられた可動全反射鏡４で反
射した後、再び対物レンズ３を介してファイバ形光結合
器２に入射する。この光束が参照光として使用される。
光束に分岐される。光源１としては、例えば高輝度発光
ダイオード（Ｓ Ｌ ＤＳｓｕｐｅｒｌｕｍｉ−ｎｅｓ
ｃｅｎｔ ｄｉｏｄｅ）が用いられる。分岐された一方
の光束は、ファイバ形光結合器２の一方の出射端から出
射され、対物レンズ３により平行ビームとなる。この平
行ビームは、移動台５に設けられた可動全反射鏡４で反
射した後、再び対物レンズ３を介してファイバ形光結合
器２に入射する。この光束が参照光として使用される。
分岐された他方の光束は、被測定光導波路６に入射する
。この光束により、被測定光導波路６内で後方散乱光が
発生する。被測定光導波路６の各点で生じた後方散乱光
は、再びファイバ形光結合器２に入射し、上述の参照光
と合波される。この合波光を光検出器７により検出する
。信号処理部８は、光検出器７の出力により、被測定光
導波路６内で生じる後方散乱光の強度を求める。
。この光束により、被測定光導波路６内で後方散乱光が
発生する。被測定光導波路６の各点で生じた後方散乱光
は、再びファイバ形光結合器２に入射し、上述の参照光
と合波される。この合波光を光検出器７により検出する
。信号処理部８は、光検出器７の出力により、被測定光
導波路６内で生じる後方散乱光の強度を求める。
可動全反射鏡４を移動させると、参照光の光路長が変化
するため、後方散乱光に対する遅延時間が変化する。こ
れを利用して、被測定光導波路６内の各点を可動全反射
鏡４の位置に対応させ、それぞれの点で生じる後方散乱
光の強度を求めることができる。
するため、後方散乱光に対する遅延時間が変化する。こ
れを利用して、被測定光導波路６内の各点を可動全反射
鏡４の位置に対応させ、それぞれの点で生じる後方散乱
光の強度を求めることができる。
可動全反射鏡４の移動による遅延時間の変化量をｒ、こ
の遅延時間の変化量に対応する被測定光導波路６内の位
置を２とすると、光検出器７の出力は、 Ｉ（ｒ） ＝ｃ （１＋ｒ（２） ｃｏｓ（２πνｏ
ｔ））−・・・・（１） で表される。ここで、Ｃは光強度に比例した定数、ｒ’
（ｚ）は被測定光導波路６内の点２で生じる後方散乱
光の光電場に比例する無次元の値（ｒ（Ｚ）”が相対光
強度を表す）、ν。は可動全反射鏡４の移動にともなっ
て生じるビート周波数である。
の遅延時間の変化量に対応する被測定光導波路６内の位
置を２とすると、光検出器７の出力は、 Ｉ（ｒ） ＝ｃ （１＋ｒ（２） ｃｏｓ（２πνｏ
ｔ））−・・・・（１） で表される。ここで、Ｃは光強度に比例した定数、ｒ’
（ｚ）は被測定光導波路６内の点２で生じる後方散乱
光の光電場に比例する無次元の値（ｒ（Ｚ）”が相対光
強度を表す）、ν。は可動全反射鏡４の移動にともなっ
て生じるビート周波数である。
したがって、光検出器７の出力に含まれる交流成分の振
幅値を測定することによりｒ’ （ｚ）の値を求めるこ
とができ、被測定光導波路６で生じる後方散乱光の強度
分布を求めることができる。
幅値を測定することによりｒ’ （ｚ）の値を求めるこ
とができ、被測定光導波路６で生じる後方散乱光の強度
分布を求めることができる。
しかし、ｒ （ｚ）の値は通常１０−６程度と１に比較
して非常に小さく、光源の出射光の光強度変化によって
生じる雑音に隠されてしまう欠点がある。これを詳しく
説明すると、帯域幅δνで（１）式のビート信号を測定
すると、検波信号は、 δＩ＝ｃ（ｒ’（ｚ）＋ηδν） ・ −・−（
２）となる。ここで、ηは単位帯域幅、単位光パワーあ
たりの相対雑音量であり、光強度雑音を特徴づける量で
ある。
して非常に小さく、光源の出射光の光強度変化によって
生じる雑音に隠されてしまう欠点がある。これを詳しく
説明すると、帯域幅δνで（１）式のビート信号を測定
すると、検波信号は、 δＩ＝ｃ（ｒ’（ｚ）＋ηδν） ・ −・−（
２）となる。ここで、ηは単位帯域幅、単位光パワーあ
たりの相対雑音量であり、光強度雑音を特徴づける量で
ある。
このため、従来の装置では高い信号対雑音比で後方散乱
光を測定することができない欠点があった。
光を測定することができない欠点があった。
本発明は、以上の問題点を解決し、光源の光強度変動に
基づく強度雑音による信号対雑音比の劣化を改善し、先
導波路内で生じる後方散乱光を高精度に測定できる後方
散乱光測定装置を提供することを目的とする。
基づく強度雑音による信号対雑音比の劣化を改善し、先
導波路内で生じる後方散乱光を高精度に測定できる後方
散乱光測定装置を提供することを目的とする。
本発明の後方散乱光測定装置は、後方散乱光と参照光と
が複数の方向に合波され、光検出器が複数の方向の二つ
の方向についてそれぞれ設けられ、信号処理手段に、こ
の二つの光検出器の出力に含まれる同相成分を互いに打
ち消す処理手段を備えたことを特徴とする。
が複数の方向に合波され、光検出器が複数の方向の二つ
の方向についてそれぞれ設けられ、信号処理手段に、こ
の二つの光検出器の出力に含まれる同相成分を互いに打
ち消す処理手段を備えたことを特徴とする。
後方散乱光と参照光とを合波するときに合波光が複数の
方向に出射されることを利用し、その少なくとも二つの
方向の出射光を検出する。この検出出力の同相成分を打
ち消すと、強度雑音の影響が除去され、信号対雑音比が
改善される。
方向に出射されることを利用し、その少なくとも二つの
方向の出射光を検出する。この検出出力の同相成分を打
ち消すと、強度雑音の影響が除去され、信号対雑音比が
改善される。
第１図は本発明第一実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図である。
ク構成図である。
この装置は、光源１を備え、この光源１の出射光を被測
定光導波路６に入射する入射手段、出射光から参照光を
分岐する光分岐手段および参照光を被測定光導波路６の
入射端に現れる後方散乱光に合波する光合波手段として
ファイバ形光結合器２を備え、後方散乱光と参照光との
光路長差を変化させる光路長差制御手段として対物レン
ズ３および移動台５に設けられた可動全反射鏡４を備え
、ファイバ形光結合器２の出力光を検出する光検出器７
．１０を備え、この光検出器７．１０の出力から被測定
光導波路６の長手方向における後方散乱光の強度分布を
求める信号処理手段として差動増幅器１１および信号処
理部８を備える。
定光導波路６に入射する入射手段、出射光から参照光を
分岐する光分岐手段および参照光を被測定光導波路６の
入射端に現れる後方散乱光に合波する光合波手段として
ファイバ形光結合器２を備え、後方散乱光と参照光との
光路長差を変化させる光路長差制御手段として対物レン
ズ３および移動台５に設けられた可動全反射鏡４を備え
、ファイバ形光結合器２の出力光を検出する光検出器７
．１０を備え、この光検出器７．１０の出力から被測定
光導波路６の長手方向における後方散乱光の強度分布を
求める信号処理手段として差動増幅器１１および信号処
理部８を備える。
ファイバ形光結合器２は２人力２出力の構造であり、光
源１から第一のテールＴ＋ に入射した光を第三のテー
ルＴ３および第四のテールＴ、から出射するとともに、
第三のテールＴ３に入射した光と第四のテールＴ４に入
射した光とを合波して第一のテールＴ、と第二のテール
Ｔ２とから出射する。
源１から第一のテールＴ＋ に入射した光を第三のテー
ルＴ３および第四のテールＴ、から出射するとともに、
第三のテールＴ３に入射した光と第四のテールＴ４に入
射した光とを合波して第一のテールＴ、と第二のテール
Ｔ２とから出射する。
ここで本実施例の特徴とするところは、光検出器７．１
０が二つのテールＴ、 、Ｔ２のそれぞれについて設け
られ、二つの光検出器７．１０の出力に含まれる同相成
分を互いに打ち消す処理手段として差動増幅器１１を備
えたことにある。
０が二つのテールＴ、 、Ｔ２のそれぞれについて設け
られ、二つの光検出器７．１０の出力に含まれる同相成
分を互いに打ち消す処理手段として差動増幅器１１を備
えたことにある。
光検出器７はファイバ形光結合器２の第一のテールＴ１
の出射端に配置され、光検出器１０はファイバ形光結合
器９の合波光出射端に配置される。
の出射端に配置され、光検出器１０はファイバ形光結合
器９の合波光出射端に配置される。
第二のテールＴ２にはファイバ形光結合器９が設けられ
、光源１の出射光をファイバ形光結合器２に結合すると
ともに、ファイバ形光結合器２からの合波光を他のテー
ルに出射する。
、光源１の出射光をファイバ形光結合器２に結合すると
ともに、ファイバ形光結合器２からの合波光を他のテー
ルに出射する。
光検出器７．１０の出力は差動増幅器１１を介して信号
処理部８に供給される。
処理部８に供給される。
光検出器７．１０の検出出力は、それぞれ、）ｃ、＝（
、（１＋ｒ’（Ｚ）ｃｏｓ（２ｙｒνｏｔ））Ｉｃｚ＝
Ｃ２（１−Ｔ’（ｚ） ｃｏｓ（２ｒｒ ｖａ’ｔ＞
）となる。このため、中心周波数ν。、帯域幅δνのフ
ィルタを通過する信号は、 δＪｃ、＝ Ｃ＋ （ｒ’（ｚ） ｃｏｓ（２πνａｔ
）＋Ｋ（ｔ）δν） δＩｅ２＝ Ｃ２（−ｒ’ｃｏｓ（２π°ν。ｔ ）＋
Ｋ（ｔ）δν） となる。ここでＫ （ｔ）は強度雑音による係数であり
、その二重平均平方根がηに等しい。
、（１＋ｒ’（Ｚ）ｃｏｓ（２ｙｒνｏｔ））Ｉｃｚ＝
Ｃ２（１−Ｔ’（ｚ） ｃｏｓ（２ｒｒ ｖａ’ｔ＞
）となる。このため、中心周波数ν。、帯域幅δνのフ
ィルタを通過する信号は、 δＪｃ、＝ Ｃ＋ （ｒ’（ｚ） ｃｏｓ（２πνａｔ
）＋Ｋ（ｔ）δν） δＩｅ２＝ Ｃ２（−ｒ’ｃｏｓ（２π°ν。ｔ ）＋
Ｋ（ｔ）δν） となる。ここでＫ （ｔ）は強度雑音による係数であり
、その二重平均平方根がηに等しい。
ここで、光検出器１０に入射する合波光は、ファイバ形
光結合器９で三方されているため、Ｃ２＝ １／２ＣＩ である。そこで、差動増幅器１１により、光検出器７の
出力δＩ ｃｌから光検出器１０の出力δＩｅ２を二倍
したものを減算すると、 δＬ＋ ２δＩｃ２＝ ２ ｃ ｒ ｒ’（ｚ） ｃ
ｏｓ（２ｒｒ ｖｏ ｔ ）となり、強度雑音の項Ｋ
（ｔ）δνが消去される。
光結合器９で三方されているため、Ｃ２＝ １／２ＣＩ である。そこで、差動増幅器１１により、光検出器７の
出力δＩ ｃｌから光検出器１０の出力δＩｅ２を二倍
したものを減算すると、 δＬ＋ ２δＩｃ２＝ ２ ｃ ｒ ｒ’（ｚ） ｃ
ｏｓ（２ｒｒ ｖｏ ｔ ）となり、強度雑音の項Ｋ
（ｔ）δνが消去される。
このようにして、後方レーリ散乱光の相対電場振幅を示
すｒ’ （ｚ）の値を高い信号対雑音比で測定できる。
すｒ’ （ｚ）の値を高い信号対雑音比で測定できる。
実験では、従来例装置に比較して信号対雑音比が２桁改
善された。
善された。
第２図は本発明第二実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図を示す。
ク構成図を示す。
この実施例装置は、光源１を備え、この光源１の出射光
を被測定光導波路６に入射する入射手段、出射光から参
照光を分岐する光分岐手段および参照光を被測定光導波
路６０入射端に現れる後方散乱光に合波する光合波手段
として３人力３出力のファイバ形光結合器１２を備え、
後方散乱光と参照光との光路長差を変化させる光路長差
制御手段として対物レンズ３および移動台５に設けられ
た可動全反射鏡４を備え、ファイバ形光結合器１２の出
力光を検出する光検出器７．１０を備え、この光検出器
７．１０の出力から被測定光導波路６の各点における後
方散乱光の強度を求める信号処理手段として差動増幅器
１１および信号処理部８を備える。
を被測定光導波路６に入射する入射手段、出射光から参
照光を分岐する光分岐手段および参照光を被測定光導波
路６０入射端に現れる後方散乱光に合波する光合波手段
として３人力３出力のファイバ形光結合器１２を備え、
後方散乱光と参照光との光路長差を変化させる光路長差
制御手段として対物レンズ３および移動台５に設けられ
た可動全反射鏡４を備え、ファイバ形光結合器１２の出
力光を検出する光検出器７．１０を備え、この光検出器
７．１０の出力から被測定光導波路６の各点における後
方散乱光の強度を求める信号処理手段として差動増幅器
１１および信号処理部８を備える。
ファイバ形光結合器１２は、光源１の出射光がテールＴ
。から入射し、この光をテールＴ３ 、Ｔ４およびＴ、
に出射する。さらに、テールＴ３に入射した参照光とテ
ールＴ５に入射した被測定光導波路６の後方散乱光とを
合波し、テールＴ、およびテールＴ２に出射する。
。から入射し、この光をテールＴ３ 、Ｔ４およびＴ、
に出射する。さらに、テールＴ３に入射した参照光とテ
ールＴ５に入射した被測定光導波路６の後方散乱光とを
合波し、テールＴ、およびテールＴ２に出射する。
ここで本実施例の特徴とするところは、光検出器７．１
０がテールＴ＋ 、Ｔ２の出射端にそれぞれ設けられ、
信号処理手段に二つの光検出器７．１０の出力に含まれ
る同相成分を互いに打ち消す処理手段として差動増幅器
１１を備えたことにある。
０がテールＴ＋ 、Ｔ２の出射端にそれぞれ設けられ、
信号処理手段に二つの光検出器７．１０の出力に含まれ
る同相成分を互いに打ち消す処理手段として差動増幅器
１１を備えたことにある。
差動増幅器１１は二つの光検出器７．１０の出力の差を
求め、信号処理部８はその値を処理する。
求め、信号処理部８はその値を処理する。
本実施例により、第一実施例と同じく信号対雑音比が２
桁改善される。また、光学系が第一実施例に比較して単
純となる。
桁改善される。また、光学系が第一実施例に比較して単
純となる。
第３図は本発明第三実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図を示す。
ク構成図を示す。
この実施例装置は、光源１を備え、この光源１の出射光
を被測定光導波路６に入射する入射手段および出射光か
ら参照光を分岐する光分岐手段としてファイバ形光結合
器２および固定全反射鏡４′を備え、参照光を被測定光
導波路６の入射端に現れる後方散乱光に合波する光合波
手段としてビームスプリッタ１３を備え、後方散乱光と
参照光との光路長差を変化させる光路長差制御手段とし
て固定プリズム１５および移動台１６上に設けられた可
動プリズム１４を備え、ファイバ形光結合器１２の出力
光を検出する光検出器７．１０を備え、この光検出器７
．１０の出力から被測定光導波路６の各点における後方
散乱光の強度を求める信号処理手段として差動増幅器１
１および信号処理部８を備える。
を被測定光導波路６に入射する入射手段および出射光か
ら参照光を分岐する光分岐手段としてファイバ形光結合
器２および固定全反射鏡４′を備え、参照光を被測定光
導波路６の入射端に現れる後方散乱光に合波する光合波
手段としてビームスプリッタ１３を備え、後方散乱光と
参照光との光路長差を変化させる光路長差制御手段とし
て固定プリズム１５および移動台１６上に設けられた可
動プリズム１４を備え、ファイバ形光結合器１２の出力
光を検出する光検出器７．１０を備え、この光検出器７
．１０の出力から被測定光導波路６の各点における後方
散乱光の強度を求める信号処理手段として差動増幅器１
１および信号処理部８を備える。
ファイバ形光結合器２は、光源ｌの出射光を分岐して固
定全反射鏡４′と被測定光導波路６とに入射する。固定
全反射鏡４′により反射された参照光と、被測定光導波
路６内の発生した後方散乱光とは、ファイバ形光結合器
２により合波される。
定全反射鏡４′と被測定光導波路６とに入射する。固定
全反射鏡４′により反射された参照光と、被測定光導波
路６内の発生した後方散乱光とは、ファイバ形光結合器
２により合波される。
ビームスプリッタ１３、可動プリズム１４および固定プ
リズム１５はバルク形マイケルソン干渉計を構成する。
リズム１５はバルク形マイケルソン干渉計を構成する。
ファイバ形光結合器２の出射光は、対物レンズにより平
行ビームとなり、ビームスプリッタ１３に入射する。こ
の入射光は、ビームスプリッタ１３により二つに分岐し
、可動プリズム１４と固定プリズム１５とでそれぞれ折
り返されたて再び合波する。合波光は二つの方向に出射
される。
行ビームとなり、ビームスプリッタ１３に入射する。こ
の入射光は、ビームスプリッタ１３により二つに分岐し
、可動プリズム１４と固定プリズム１５とでそれぞれ折
り返されたて再び合波する。合波光は二つの方向に出射
される。
ここで本実施例の特徴とするところは、光検出器７．１
０がビームスプリッタ１３の二つの出射方向についてそ
れぞれ設けられ、信号処理手段に、この二つの光検出器
７．１０の出力に含まれる同相成分を互いに打ち消す処
理手段を備えたことにある。
０がビームスプリッタ１３の二つの出射方向についてそ
れぞれ設けられ、信号処理手段に、この二つの光検出器
７．１０の出力に含まれる同相成分を互いに打ち消す処
理手段を備えたことにある。
被測定光導波路６の後方散乱光と参照光とは、ファイバ
形光結合器２により一度合波される。この合波光をビー
ムスプリッタ１３で分岐すると、双方に後方散乱光の成
分が含まれる。しかし、その強度が参照光に比較して十
分に小さいため、可動プリズム１４側に分岐された光を
参照光として使用できる。このとき光検出器７．１０の
出力は、（３）式においてＣ，＝０２とした場合と同等
である。このため、差動増幅器１１により両出力の差を
とることにより、強度雑音を低減できる。
形光結合器２により一度合波される。この合波光をビー
ムスプリッタ１３で分岐すると、双方に後方散乱光の成
分が含まれる。しかし、その強度が参照光に比較して十
分に小さいため、可動プリズム１４側に分岐された光を
参照光として使用できる。このとき光検出器７．１０の
出力は、（３）式においてＣ，＝０２とした場合と同等
である。このため、差動増幅器１１により両出力の差を
とることにより、強度雑音を低減できる。
この実施例ではさらに、ファイバ形光結合器２の出射端
にファイバ形位相変調器１７を設け、これにより参照光
を位相変調する。ファイバ形位相変調器１７は光ファイ
バをＰＺＴ円筒形電歪振動子に巻きつけた構造をもつ。
にファイバ形位相変調器１７を設け、これにより参照光
を位相変調する。ファイバ形位相変調器１７は光ファイ
バをＰＺＴ円筒形電歪振動子に巻きつけた構造をもつ。
このファイバ形位相変調器１７に交流電圧を加えること
により、ファイバ内を伝撤する参照光を位相変調する。
により、ファイバ内を伝撤する参照光を位相変調する。
このとき、可動プリズム１４の移動とともに生じる干渉
強度信号のうち、ファイバ形位相変調器１７の駆動周波
数成分のみを検波する。これにより、第一実施例および
第二実施例と同様に、参照光と被測定光導波路６内の各
点で生じた後方散乱光との干渉成分のみを抽出すること
ができる。
強度信号のうち、ファイバ形位相変調器１７の駆動周波
数成分のみを検波する。これにより、第一実施例および
第二実施例と同様に、参照光と被測定光導波路６内の各
点で生じた後方散乱光との干渉成分のみを抽出すること
ができる。
実験では、第一実施例および第二実施例と同じく信号対
雑音比が２桁改善された。また、第一実施例および第二
実施例では、ファイノく形光結合器を用いるための光強
度の損失や、二つの出力の直流成分が必ずしも同一の値
とならないことがあった。これに対して本実施例の場合
には、マイケルソン干渉計から自然に得られる二つの出
力を使用するため、余分な損失がなく、しかも測定系が
単純となる利点がある。
雑音比が２桁改善された。また、第一実施例および第二
実施例では、ファイノく形光結合器を用いるための光強
度の損失や、二つの出力の直流成分が必ずしも同一の値
とならないことがあった。これに対して本実施例の場合
には、マイケルソン干渉計から自然に得られる二つの出
力を使用するため、余分な損失がなく、しかも測定系が
単純となる利点がある。
以上説明したように、本発明の後方散乱光測定装置は、
光導波路内で生じた後方散乱光の光強度を測定する場合
の主要雑音源である光源出射光の光強度雑音を従来に比
較して２桁以上低減できる。
光導波路内で生じた後方散乱光の光強度を測定する場合
の主要雑音源である光源出射光の光強度雑音を従来に比
較して２桁以上低減できる。
したがって、方向散乱光の強度分布を高い信号対雑音比
で測定できる効果がある。
で測定できる効果がある。
本発明の後方散乱光測定装置は、光集積回路その他の先
導波路の障害点や散乱点その他・の不連続点の探索に用
いて、その位置を非常に精密に探索できる効果がある。
導波路の障害点や散乱点その他・の不連続点の探索に用
いて、その位置を非常に精密に探索できる効果がある。
第１図は本発明第一実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図。 第２図は本発明第二実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図。 第３図は本発明第三実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図。 第４図は従来例後方散乱光測定装置のブロック構成図。 １・・・光源、２．９．１２・・・ファイバ形光結合器
、３・・・対物レンズ、４・・・可動全反射鏡、４′・
・・固定全反射鏡、５．１６・・・移動台、６・・・被
測定光導波路、７．１０・・・光検出器、８・・・信号
処理部、１１・・・差動増幅器、１３・・・ビームスプ
リフタ、１４・・・可動プリズム、１５・・・固定プリ
ズム、１７・・・ファイバ形位相変調器。 忽二芙砧例 ′Ｉｆ：Ｊ２ 図 ノ５−−−３宍５］コ万十ｐり 肩 １ 図
ク構成図。 第２図は本発明第二実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図。 第３図は本発明第三実施例後方散乱光測定装置のブロッ
ク構成図。 第４図は従来例後方散乱光測定装置のブロック構成図。 １・・・光源、２．９．１２・・・ファイバ形光結合器
、３・・・対物レンズ、４・・・可動全反射鏡、４′・
・・固定全反射鏡、５．１６・・・移動台、６・・・被
測定光導波路、７．１０・・・光検出器、８・・・信号
処理部、１１・・・差動増幅器、１３・・・ビームスプ
リフタ、１４・・・可動プリズム、１５・・・固定プリ
ズム、１７・・・ファイバ形位相変調器。 忽二芙砧例 ′Ｉｆ：Ｊ２ 図 ノ５−−−３宍５］コ万十ｐり 肩 １ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光源と、 この光源の出射光を被測定光導波路に入射する入射手段
と、 前記出射光から参照光を分岐する光分岐手段と、この参
照光を前記被測定光導波路の入射端に現れる後方散乱光
に合波する光合波手段と、 前記後方散乱光と前記参照光との光路長差を変化させる
光路長差制御手段と、 前記光合波手段の出力光を検出する光検出器と、この光
検出器の出力から前記被測定光導波路の長手方向におけ
る後方散乱光の強度分布を求める信号処理手段と を備えた後方散乱光測定装置において、 前記光合波手段は複数の方向に合波光を出射する構造で
あり、 前記光検出器は前記複数の方向の二つの方向についてそ
れぞれ設けられ、 前記信号処理手段はこの二つの光検出器の出力に含まれ
る同相成分を互いに打ち消す処理手段を含む ことを特徴とする後方散乱光測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29413288A JPH02140636A (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 後方散乱光測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29413288A JPH02140636A (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 後方散乱光測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02140636A true JPH02140636A (ja) | 1990-05-30 |
Family
ID=17803715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29413288A Pending JPH02140636A (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 後方散乱光測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02140636A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998043069A1 (en) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Kowa Company, Ltd. | Optical measuring instrument |
| WO1998043068A1 (en) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Kowa Company, Ltd. | Optical measuring instrument |
| WO2004079313A1 (ja) * | 1993-11-17 | 2004-09-16 | Isao Tokumoto | マイケルソン干渉計 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61186830A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-20 | エステイーシー・ピーエルシー | コヒーレントなホモダイン反射計 |
| JPS63196829A (ja) * | 1987-02-10 | 1988-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路障害点探索方法および装置 |
-
1988
- 1988-11-21 JP JP29413288A patent/JPH02140636A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61186830A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-20 | エステイーシー・ピーエルシー | コヒーレントなホモダイン反射計 |
| JPS63196829A (ja) * | 1987-02-10 | 1988-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路障害点探索方法および装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004079313A1 (ja) * | 1993-11-17 | 2004-09-16 | Isao Tokumoto | マイケルソン干渉計 |
| WO1998043069A1 (en) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Kowa Company, Ltd. | Optical measuring instrument |
| WO1998043068A1 (en) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Kowa Company, Ltd. | Optical measuring instrument |
| US6198540B1 (en) | 1997-03-26 | 2001-03-06 | Kowa Company, Ltd. | Optical coherence tomography have plural reference beams of differing modulations |
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