JPH02142042A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH02142042A JPH02142042A JP29435688A JP29435688A JPH02142042A JP H02142042 A JPH02142042 A JP H02142042A JP 29435688 A JP29435688 A JP 29435688A JP 29435688 A JP29435688 A JP 29435688A JP H02142042 A JPH02142042 A JP H02142042A
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title abstract 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
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- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、たとえば磁気テープ、磁気ディスク、磁気
シートなどのような磁気記録媒体の磁性体膜を垂直磁化
するのに使用する電子線照射装置に関する。
シートなどのような磁気記録媒体の磁性体膜を垂直磁化
するのに使用する電子線照射装置に関する。
（従来の技術）
周知のようにこの種電子線照射装置では、磁気記録媒体
に電子線を照射するとき、たとえば電子線照射部付近に
設けた磁界発生コイルによって発生する磁界により、被
照射体である磁性体膜を垂直配向する。
に電子線を照射するとき、たとえば電子線照射部付近に
設けた磁界発生コイルによって発生する磁界により、被
照射体である磁性体膜を垂直配向する。
第４図は従来のこの種装置を示し、１は真空室で、内部
に電子線発生源（たとえばカソード）２が設置されであ
る。３は電子線を取り出すための照射窓、４は照射窓３
を閉塞する窓箔、５は窓箔４を外部から押える押え枠で
ある。
に電子線発生源（たとえばカソード）２が設置されであ
る。３は電子線を取り出すための照射窓、４は照射窓３
を閉塞する窓箔、５は窓箔４を外部から押える押え枠で
ある。
６は磁性体膜を垂直配向する磁界を発生するためのコイ
ルで、照射窓３付近の周囲にこれを巻回するようにして
設置されである。７は磁気記録媒体（ウェブ）で、照射
窓３の直下を矢印Ｐ方向に走行されるものとする。
ルで、照射窓３付近の周囲にこれを巻回するようにして
設置されである。７は磁気記録媒体（ウェブ）で、照射
窓３の直下を矢印Ｐ方向に走行されるものとする。
照射窓３では、窓ｒｉ４を冷却する際、および大気と真
空とを隔絶するために、窓箔４を機械的に支持する目的
で、ウェブ７の走行方向Ｐと平行するように、複数の桟
８が設置されている。
空とを隔絶するために、窓箔４を機械的に支持する目的
で、ウェブ７の走行方向Ｐと平行するように、複数の桟
８が設置されている。
電子線発生源２から発射された電子線は、照射窓３の窓
１４を透過してウェブ７を照射する。コイル６によって
発生される磁界は、ウェブ７に垂直に作用し、これによ
って磁性体膜は垂直配向される。
１４を透過してウェブ７を照射する。コイル６によって
発生される磁界は、ウェブ７に垂直に作用し、これによ
って磁性体膜は垂直配向される。
（発明が解決しようとする課題）
前記のように電子線が照射窓３を透過してウェブ７に照
射されるが、電子線発生源２からの電子線が桟８に衝突
し、そのため衝突部分の電子線量が照射面で減少するよ
うになる。
射されるが、電子線発生源２からの電子線が桟８に衝突
し、そのため衝突部分の電子線量が照射面で減少するよ
うになる。
この関係を示したのが第５図、第６図である。
すなわち第５図のように照射窓３内に窓箔４を、ウェブ
７の走行方向Ｐと平行するように配置しておくと、電子
線が桟８に衝突して減少し、そのため第６図に示すよう
に、照射窓３の幅方向に沿う電子線の分布が大きく変動
するようになる０図において、Ｍは桟８のピッチであり
、このピッチに一致する間隔で、電子線の照射量は大き
く変動している。
７の走行方向Ｐと平行するように配置しておくと、電子
線が桟８に衝突して減少し、そのため第６図に示すよう
に、照射窓３の幅方向に沿う電子線の分布が大きく変動
するようになる０図において、Ｍは桟８のピッチであり
、このピッチに一致する間隔で、電子線の照射量は大き
く変動している。
特に前記のようにコイル６によって垂直配向のための磁
界が形成されているときは、磁性体膜は垂直配向される
が、このとき同時に照射窓３を通過する電子線も、この
垂直磁界の、ウェブ７の走行方向Ｐに沿う分力により、
ウェブ７の幅方向Ｗに軌道が曲げられてしまう。
界が形成されているときは、磁性体膜は垂直配向される
が、このとき同時に照射窓３を通過する電子線も、この
垂直磁界の、ウェブ７の走行方向Ｐに沿う分力により、
ウェブ７の幅方向Ｗに軌道が曲げられてしまう。
このようにして軌道が曲げられた電子線の一部は、桟８
に衝突し、そのためウェブ７にまで到達する電子線の均
一性にムラが生じる。これ番こよって第４図に示す電子
線の分布は更に大きく変動するようになる。
に衝突し、そのためウェブ７にまで到達する電子線の均
一性にムラが生じる。これ番こよって第４図に示す電子
線の分布は更に大きく変動するようになる。
この発明は桟が設けられている場合でも、その桟の存在
による電子線分布の不均一性を改善することを目的とす
る。
による電子線分布の不均一性を改善することを目的とす
る。
（課題を解決するための手段）
この発明は桟をウェブの走行方向に対して傾斜して設置
したことを特徴とする。
したことを特徴とする。
（作用）
ウェブの走行方向に沿って桟を傾斜して設置しておくと
、照射窓の幅方向、したがってウェブの幅方向からみた
電子線の分布は、均一化されるようになる。
、照射窓の幅方向、したがってウェブの幅方向からみた
電子線の分布は、均一化されるようになる。
（実施例）
この発明の実施例を第１図によって説明する。
なお第４図と同じ符号を付した部分は、同一または対応
する部分を示す、この発明にしたがい、桟８をウェブの
走行方向Ｐに対して傾斜するように設置する。
する部分を示す、この発明にしたがい、桟８をウェブの
走行方向Ｐに対して傾斜するように設置する。
このように桟８を傾斜しておくと、照射窓３内の１点を
通り、ウェブ７の幅方向に平行する直線に沿う電子線分
布および、他の１点を通る別の直線に沿う電子線分布は
、それぞれ第６図と同じようになるが、その各電子線分
布の位相はずれるようになる。
通り、ウェブ７の幅方向に平行する直線に沿う電子線分
布および、他の１点を通る別の直線に沿う電子線分布は
、それぞれ第６図と同じようになるが、その各電子線分
布の位相はずれるようになる。
したがって照射窓３の幅方向、すなわちウェブ７の走行
方向からみた電子線分布は、前記各電子線分布を積算し
た分布に等しくなり、第３図に示すように均一な電子線
分布となる。
方向からみた電子線分布は、前記各電子線分布を積算し
た分布に等しくなり、第３図に示すように均一な電子線
分布となる。
（発明の効果）
以上詳述したようにこの発明によれば、窓箔のための桟
を照射窓に設けた場合でも、ウェブの走行方向に対して
桟を傾斜して設置するようにしたので、電子線の桟に対
する衝突による影響が回避され、ウェブへの電子線の照
射の均一化が可能となるといった効果を奏する。
を照射窓に設けた場合でも、ウェブの走行方向に対して
桟を傾斜して設置するようにしたので、電子線の桟に対
する衝突による影響が回避され、ウェブへの電子線の照
射の均一化が可能となるといった効果を奏する。
第１図はこの発明の実施例に示す正断面図、第２図は第
１図の構成における照射窓の平面図、第３図は同じく電
子線分布特性図、第４図は従来例の正断面図、第５図は
第３図の構成における照射窓の平面図、第６図は同じく
電子線分布特性図である。 １・・真空室、２・・・電子線照射源、３・・・照射窓
、４・・・窓箔、５・・・押え枠、７・・・ウェブ、８
・・・桟、Ｐ・・・ウェブの走行方向。
１図の構成における照射窓の平面図、第３図は同じく電
子線分布特性図、第４図は従来例の正断面図、第５図は
第３図の構成における照射窓の平面図、第６図は同じく
電子線分布特性図である。 １・・真空室、２・・・電子線照射源、３・・・照射窓
、４・・・窓箔、５・・・押え枠、７・・・ウェブ、８
・・・桟、Ｐ・・・ウェブの走行方向。
Claims (1)
- 電子線照射源を内蔵する真空室と、電子線をウェブに照
射する照射窓と、前記照射窓を遮蔽する窓箔と、前記窓
箔を前記照射窓の内側で支持する桟とを備えてなる電子
線照射装置において、前記桟をウェブの走行方向に対し
て傾斜して設置してなる電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29435688A JPH02142042A (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29435688A JPH02142042A (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02142042A true JPH02142042A (ja) | 1990-05-31 |
Family
ID=17806650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29435688A Pending JPH02142042A (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02142042A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0248898B2 (ja) * | 1983-06-13 | 1990-10-26 | Tokyo Shibaura Electric Co |
-
1988
- 1988-11-21 JP JP29435688A patent/JPH02142042A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0248898B2 (ja) * | 1983-06-13 | 1990-10-26 | Tokyo Shibaura Electric Co |
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