JPH0214518A - エッチング終点検出方法 - Google Patents
エッチング終点検出方法Info
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- JPH0214518A JPH0214518A JP16244288A JP16244288A JPH0214518A JP H0214518 A JPH0214518 A JP H0214518A JP 16244288 A JP16244288 A JP 16244288A JP 16244288 A JP16244288 A JP 16244288A JP H0214518 A JPH0214518 A JP H0214518A
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- etching
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、IC,LSI等の製造に用いるドライエツチ
ング装置によるエツチング終点検出方法に関するもので
ある。
ング装置によるエツチング終点検出方法に関するもので
ある。
(従来の技術)
従来、ドライエツチングにおける終点検出方法としては
、 (1) I’A simple method
of end−poir+L determi
−natton for plasma etchin
g J M几、1Htch+aan etal、 J、
Vac、Sci、Technol、、Vol、1?、N
o、6 Nov、/Dec1980 PP、1378〜
1381 (2)「サブミクロン・リソグラフィ」監修 難波進
サイエンスフォーラム PP、362〜363に開示さ
れるものがあり、それらを以下に示す。
、 (1) I’A simple method
of end−poir+L determi
−natton for plasma etchin
g J M几、1Htch+aan etal、 J、
Vac、Sci、Technol、、Vol、1?、N
o、6 Nov、/Dec1980 PP、1378〜
1381 (2)「サブミクロン・リソグラフィ」監修 難波進
サイエンスフォーラム PP、362〜363に開示さ
れるものがあり、それらを以下に示す。
■発光分光分析法:プラズマの発光スペクトルの変化を
用いる。
用いる。
■反射光分析法二基板に反射するプラズマの変化を用い
る。
る。
■ガス分析法:4重極質世分析計により、ガスを分析し
、その組成の変化を用いる。
、その組成の変化を用いる。
■インピータンス測定法:カソード上のセルフバイアス
電圧Voc(直2it電圧)の変化を用いる。
電圧Voc(直2it電圧)の変化を用いる。
■圧力測定法2及応圧力の変化を用いる。
以下、本発明に最も近い技術である圧力測定法(圧力変
化法)について説明する。
化法)について説明する。
圧力測定法については、上記文献(1)に開示されてい
る。この圧力測定法とは、エツチング終点前後で圧力計
の指示値の変化が生じるが、この変化をエツチングの終
点検出に用いる方法である。
る。この圧力測定法とは、エツチング終点前後で圧力計
の指示値の変化が生じるが、この変化をエツチングの終
点検出に用いる方法である。
A、定圧力制御方式において、
(1)oxガスによるレジストエツチングの場合ガス供
給量(エッチャント消費量)はエツチング中は小であり
、終点間近では大である。また、排気量(生成物のN)
は、逆に、エツチング中は大であり、終点間近では小で
ある。
給量(エッチャント消費量)はエツチング中は小であり
、終点間近では大である。また、排気量(生成物のN)
は、逆に、エツチング中は大であり、終点間近では小で
ある。
(2)cz2ガスによるポリシリコンエツチングの場合
ガス供給量(エッチャント消費りはエツチング中は大で
あり、終点間近では小である。また、排気!!l(生成
物の量)は、逆に、エツチング中は小であり、終点間近
では大である。
あり、終点間近では小である。また、排気!!l(生成
物の量)は、逆に、エツチング中は小であり、終点間近
では大である。
なお、定圧力制御法においては、ガス流量を変化させる
方法と排気量を変化させる方法とがあり、ガス供給量を
制御する場合には排気量を一定にし、逆に、排気量を制
御Bする場合にはガス供給量を一定にする。
方法と排気量を変化させる方法とがあり、ガス供給量を
制御する場合には排気量を一定にし、逆に、排気量を制
御Bする場合にはガス供給量を一定にする。
B、定圧力制御方式でない場合において、(1)0gガ
スによるレジストエツチングの場合エツチング中は大で
あり、終点間近では小である。
スによるレジストエツチングの場合エツチング中は大で
あり、終点間近では小である。
(2)C1,ガスによるポリシリコンエツチングの場合
エツチング中は小であり、終点間近では大である。
このように、エツチング対象物の存無は圧力に影響を及
ぼすので、終点検出に利用できる。
ぼすので、終点検出に利用できる。
第5図に従来のホトレジストの終点検出に圧力測定法A
と発光分光分析法Bを併用した例を示す。
と発光分光分析法Bを併用した例を示す。
定圧力制御を行っていないバレル型エツチング装置で0
□、 140SCCM、 300−の条件でガラス基板
上のホトレジストを除去している。圧力計はビラニー真
空計を使用している0図から明らかなように、圧力測定
法と発光分光分析法が共に目視のジャストエンチングと
略−敗することを示している。
□、 140SCCM、 300−の条件でガラス基板
上のホトレジストを除去している。圧力計はビラニー真
空計を使用している0図から明らかなように、圧力測定
法と発光分光分析法が共に目視のジャストエンチングと
略−敗することを示している。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、以上述べた終点検出方法においては、以
下に示す欠点があり、技術的に満足できるものではなか
った。即ち、 (1)発光分光分析法、ガス分析法:高価な分析装置が
必要である。
下に示す欠点があり、技術的に満足できるものではなか
った。即ち、 (1)発光分光分析法、ガス分析法:高価な分析装置が
必要である。
(2)反射光分析法:Crなど対象が極めて限られる。
(3)インピータンス測定法:Vocの変化が小さく、
検出が不確実である。
検出が不確実である。
(4)圧力測定法:定圧力制御を行っているドライエツ
チング装置では、終点検出の指標である圧力が変化しな
いので使用できない 本発明は、以上述べたそれぞれの終点検出方法における
高価な機器の使用、対象の限定、不確実性、定圧力制御
を行った場合は通用できないという欠点を除去し、簡便
で汎用性の優れたエツチング終点検出方法を提供するこ
とを目的とする。
チング装置では、終点検出の指標である圧力が変化しな
いので使用できない 本発明は、以上述べたそれぞれの終点検出方法における
高価な機器の使用、対象の限定、不確実性、定圧力制御
を行った場合は通用できないという欠点を除去し、簡便
で汎用性の優れたエツチング終点検出方法を提供するこ
とを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、上記問題点を解決するために、定圧力制御を
行うドライエツチング装置を用いたエツチング終点検出
方法において、定圧力制御を行うために変化させるパラ
メータの値を計測し、該計測値をアナログ信号からディ
ジタル信号に変換し、該変換されたディジタル信号をコ
ンピュータに読み込み、前記ディジタル信号を監視して
、エツチングの終点検出を行うようにしたものである。
行うドライエツチング装置を用いたエツチング終点検出
方法において、定圧力制御を行うために変化させるパラ
メータの値を計測し、該計測値をアナログ信号からディ
ジタル信号に変換し、該変換されたディジタル信号をコ
ンピュータに読み込み、前記ディジタル信号を監視して
、エツチングの終点検出を行うようにしたものである。
(作用)
本発明によれば、定圧力制御を行うドライエツチング装
置において、定圧力制御を行うために変化させるパラメ
ータであるガス流量又は排気量を計測し、それらの計測
値をアナログ信号からディジタル信号に変換し、該変換
されたディジタル信号をコンピュータに読み込み、前記
ディジタル信号を監視して、例えば、その微分値のピー
クを検出し、エツチングの終点検出を行う。
置において、定圧力制御を行うために変化させるパラメ
ータであるガス流量又は排気量を計測し、それらの計測
値をアナログ信号からディジタル信号に変換し、該変換
されたディジタル信号をコンピュータに読み込み、前記
ディジタル信号を監視して、例えば、その微分値のピー
クを検出し、エツチングの終点検出を行う。
ガス流量と排気量のどちらを監視するかは、定圧力制御
のために変化させるパラメータがガス流量であれば、そ
のガス流量を、そのパラメータが排気量である場合には
、その排気量の方を選択する。
のために変化させるパラメータがガス流量であれば、そ
のガス流量を、そのパラメータが排気量である場合には
、その排気量の方を選択する。
(実施例)
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
に説明する。
第1図は本発明の実施例を示すエツチング終点検出シス
テム構成図である。
テム構成図である。
この図において、平行平板型ドライエンチングWtlは
チェンバ2を具備し、そのチェンバ2内のドライエツチ
ング中の圧力を一定に保つように制御される。そのため
に、チェンバ2内の圧力を測定する圧力計3とその圧力
計による測定値を自動圧力制御装置5に取り込み、その
自動圧力制御装置5からの出力信号によりバタフライバ
ルブ4の開閉度を変化させることにより、チェンバ2の
圧力を一定に保つようにしている。
チェンバ2を具備し、そのチェンバ2内のドライエツチ
ング中の圧力を一定に保つように制御される。そのため
に、チェンバ2内の圧力を測定する圧力計3とその圧力
計による測定値を自動圧力制御装置5に取り込み、その
自動圧力制御装置5からの出力信号によりバタフライバ
ルブ4の開閉度を変化させることにより、チェンバ2の
圧力を一定に保つようにしている。
この実施例においては、パラメータとして、排気量を用
いてエツチング終点検出を行うものであり、バタフライ
バルブ(可変コンダクタンスパルプ)の開閉度をアナロ
グの電気信号として検出する検出装置6を設け、そのア
ナログの電気信号をA/Dコンバータ7でディジタル信
号に変換して、該ディジタル信号をコンピュータ8に読
み込む。
いてエツチング終点検出を行うものであり、バタフライ
バルブ(可変コンダクタンスパルプ)の開閉度をアナロ
グの電気信号として検出する検出装置6を設け、そのア
ナログの電気信号をA/Dコンバータ7でディジタル信
号に変換して、該ディジタル信号をコンピュータ8に読
み込む。
該コンピュータ8はそのディジタルの電気信号を処理し
、その微分値のピークを検出することにより終点を判定
する。
、その微分値のピークを検出することにより終点を判定
する。
そこで、第2図及び第3図を用いてバタフライバルブの
開閉度をアナログの電気信号として検出する検出装置6
について以下に説明する。
開閉度をアナログの電気信号として検出する検出装置6
について以下に説明する。
第2図はバタフライバルブの開閉度信号の検出装置の構
成図であり、バタフライバルブはリング18と円板19
とからなり、該円板19はモータ2oによって円板19
とリング18の角度(バタフライバルブの開閉度)を変
化させることで、コンダクタンスを変化させる。そこで
、本発明においては、円板19の駆動軸21に駆動転輸
22を取り付け、ベルト24により従動転輸23に駆動
軸21の動き(バタフライバルブの開閉度)を伝達する
。従動転輪23は可変抵抗器25に直結されているので
、バタフライバルブの開閉度は可変抵抗器25の抵抗値
に変換される。
成図であり、バタフライバルブはリング18と円板19
とからなり、該円板19はモータ2oによって円板19
とリング18の角度(バタフライバルブの開閉度)を変
化させることで、コンダクタンスを変化させる。そこで
、本発明においては、円板19の駆動軸21に駆動転輸
22を取り付け、ベルト24により従動転輸23に駆動
軸21の動き(バタフライバルブの開閉度)を伝達する
。従動転輪23は可変抵抗器25に直結されているので
、バタフライバルブの開閉度は可変抵抗器25の抵抗値
に変換される。
この可変抵抗器25は、第3図に示すように、アナログ
電気信号発生回路に組み込まれている。即ち、このアナ
ログ電気信号発生回路は定電圧電源26と、固定抵抗R
827、可変抵抗Rv 28からなり、固定1氏抗L2
7>可変抵抗Rv 28のように設定し、可変抵抗器2
5により可変抵抗Rv 28が変化し、可変抵抗の値に
比例する出力電圧v0をバタフライバルブの開閉度の出
力信号として取り出すことができる。
電気信号発生回路に組み込まれている。即ち、このアナ
ログ電気信号発生回路は定電圧電源26と、固定抵抗R
827、可変抵抗Rv 28からなり、固定1氏抗L2
7>可変抵抗Rv 28のように設定し、可変抵抗器2
5により可変抵抗Rv 28が変化し、可変抵抗の値に
比例する出力電圧v0をバタフライバルブの開閉度の出
力信号として取り出すことができる。
実際に、第1図に示すように、Siウェハ9に塗布した
ノボラック系ホトレジスト10をエツチングの終点を検
出する対象として用い、エツチング電1llO上にノボ
ラック系ホトレジスト10を塗布したSiウェハ9を設
置し、0.を50SCCMに流した状態で圧力を100
mTorrに保つように自動圧力制御装置、5を設定し
、高周波電力を200 W印加した。
ノボラック系ホトレジスト10をエツチングの終点を検
出する対象として用い、エツチング電1llO上にノボ
ラック系ホトレジスト10を塗布したSiウェハ9を設
置し、0.を50SCCMに流した状態で圧力を100
mTorrに保つように自動圧力制御装置、5を設定し
、高周波電力を200 W印加した。
エツチング中におけるバタフライバルブの開閉度の変化
と、目視によるエツチングの終点の関係を第4図に示す
。
と、目視によるエツチングの終点の関係を第4図に示す
。
この図から明らかなように、ノボラック系レジスト10
が消え始めると、バタフライバルブの開きは大きくなり
始め、終点になるとそれが飽和を始める。
が消え始めると、バタフライバルブの開きは大きくなり
始め、終点になるとそれが飽和を始める。
このバタフライバルブの開閉度の変化を、上記したよう
にコンピュータ8に取り込み、バタフライバルブの開閉
度に対応した信号を監視して、その微分値がピークを示
すと、これを検出して、終点の判定を行う。
にコンピュータ8に取り込み、バタフライバルブの開閉
度に対応した信号を監視して、その微分値がピークを示
すと、これを検出して、終点の判定を行う。
即ち、エツチングの終点間近の時間Tにおけるバタフラ
イバルブの開閉度の変化が急峻になるので、これを微分
値のピークとして検出して終点の判定を行う。
イバルブの開閉度の変化が急峻になるので、これを微分
値のピークとして検出して終点の判定を行う。
このようにバタフライバルブ4の開閉度を計測すること
で、エツチングの終点を判定できる。
で、エツチングの終点を判定できる。
次に、ガス流量を計測してエツチングの終点を判定する
場合について説明する。
場合について説明する。
第6図は本発明の他の実施例を示す終点検出システム構
成図である。
成図である。
図において、バレル型ドライエツチング装置30は、エ
ツチング中の圧力を一定に保つ機構としてチェンバ31
の圧力を計測する圧力計32と、その圧力計32の計測
値を用いてマスフローコントローラ33を制御し、ガス
流量を変化させることでチェンバ31の圧力を一定に保
つ、自動圧力制御装置34を具備している。
ツチング中の圧力を一定に保つ機構としてチェンバ31
の圧力を計測する圧力計32と、その圧力計32の計測
値を用いてマスフローコントローラ33を制御し、ガス
流量を変化させることでチェンバ31の圧力を一定に保
つ、自動圧力制御装置34を具備している。
また、このバレル型ドライエツチング装置30は、エツ
チングの終点を検出するために、マスフローコントロー
ラ33より出力されるガス流量の計測値(アナログの電
気信号)をディジタルの電気信号に変換するA/Dコン
バーク35と、そのディジタルの電気信号を処理し、そ
の微分値のピークを検出することにより終点を検出する
コンビエータ3Gを有する。Siウェハ37に塗布した
ノボラック系ホトレジスト38を、エツチングの終点を
検出する対象として用いた。チェンバ31内にノボラッ
ク系ホトレジスト38を塗布したSiウェハ37を設置
し、0□ガスを流した状態で圧力I Torrに保つよ
うに自動圧力制御装置34を設定し、高周波電力を50
0W印加した。高周波電力印加後の0□ガス流量の増減
の計測値をコンピュータ36で処理し、エツチングの終
点を判定した。
チングの終点を検出するために、マスフローコントロー
ラ33より出力されるガス流量の計測値(アナログの電
気信号)をディジタルの電気信号に変換するA/Dコン
バーク35と、そのディジタルの電気信号を処理し、そ
の微分値のピークを検出することにより終点を検出する
コンビエータ3Gを有する。Siウェハ37に塗布した
ノボラック系ホトレジスト38を、エツチングの終点を
検出する対象として用いた。チェンバ31内にノボラッ
ク系ホトレジスト38を塗布したSiウェハ37を設置
し、0□ガスを流した状態で圧力I Torrに保つよ
うに自動圧力制御装置34を設定し、高周波電力を50
0W印加した。高周波電力印加後の0□ガス流量の増減
の計測値をコンピュータ36で処理し、エツチングの終
点を判定した。
なお、コンビエータ8においては、エツチングの終点の
判定を行う手段として、図示しないが、CPU (中央
処理装置)によって制御されるROM(図示なし)に予
めバタフライバルブの開閉度の変化量とエツチングの終
点との対応テーブルを各エツチング対象毎に記憶してお
き、実際のエツチング時のリアルタイムのバタフライバ
ルブの開閉度の出力信号の変化量をRAM (図示なし
)に記憶して、前記ROMのデータを読み出して、両者
を比較し、エツチングの終点の判定を行うことができる
。
判定を行う手段として、図示しないが、CPU (中央
処理装置)によって制御されるROM(図示なし)に予
めバタフライバルブの開閉度の変化量とエツチングの終
点との対応テーブルを各エツチング対象毎に記憶してお
き、実際のエツチング時のリアルタイムのバタフライバ
ルブの開閉度の出力信号の変化量をRAM (図示なし
)に記憶して、前記ROMのデータを読み出して、両者
を比較し、エツチングの終点の判定を行うことができる
。
また、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
(発明の効果)
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、定圧力
制御を行っているドライエツチング装置において、定圧
力制御のために変化させるパラメータを計測することに
よりエツチングの終点を検出できるようにしたので、定
圧力制御を行っているドライエツチング装置において、
簡便な構成でエツチングの終点検出が可能となる。
制御を行っているドライエツチング装置において、定圧
力制御のために変化させるパラメータを計測することに
よりエツチングの終点を検出できるようにしたので、定
圧力制御を行っているドライエツチング装置において、
簡便な構成でエツチングの終点検出が可能となる。
第1図は本発明の実施例を示すエツチング柊点渣出シス
テム構成図、第2図はバタフライバルブの開閉度信号の
検出装置の構成図、第3図はアナログ電気信号発生回路
図、第4図はエツチング中におけるバタフライバルブの
開閉度の変化と目視によるエツチングの終点の関係を示
す図、第5図は従来のホトレジストの終点検出に圧力測
定法Aと発光分光分析法Bを併用した例を示す図、第6
図は本発明の他の実施例を示す終点検出システム構成図
である。 1・・・平行平板型ドライエツチング装置、2.31・
・・チェンバ、3,32・・・圧力計、4・・・バタフ
ライバルブ、5,34・・・自動圧力制御装置、6・・
・検出装置、7.35・・・A/Dコンバータ、8,3
6・・・コンピュータ、9,37・・・Stウェハ、1
0.38・・・ノボラック系ホトレジスト、11・・・
エツチング電極、18・・・リング、19・・・円板、
20・・・モータ、21・・・駆動軸、22・・・駆動
転輪、23・・・従動転輸、24・・・ベルト、25・
・・可変抵抗器、30・・・バレル型ドライエツチング
装置、33・・・マスフローコントローラ。 特許出願人 沖電気工業株式会社
テム構成図、第2図はバタフライバルブの開閉度信号の
検出装置の構成図、第3図はアナログ電気信号発生回路
図、第4図はエツチング中におけるバタフライバルブの
開閉度の変化と目視によるエツチングの終点の関係を示
す図、第5図は従来のホトレジストの終点検出に圧力測
定法Aと発光分光分析法Bを併用した例を示す図、第6
図は本発明の他の実施例を示す終点検出システム構成図
である。 1・・・平行平板型ドライエツチング装置、2.31・
・・チェンバ、3,32・・・圧力計、4・・・バタフ
ライバルブ、5,34・・・自動圧力制御装置、6・・
・検出装置、7.35・・・A/Dコンバータ、8,3
6・・・コンピュータ、9,37・・・Stウェハ、1
0.38・・・ノボラック系ホトレジスト、11・・・
エツチング電極、18・・・リング、19・・・円板、
20・・・モータ、21・・・駆動軸、22・・・駆動
転輪、23・・・従動転輸、24・・・ベルト、25・
・・可変抵抗器、30・・・バレル型ドライエツチング
装置、33・・・マスフローコントローラ。 特許出願人 沖電気工業株式会社
Claims (4)
- (1)定圧力制御を行うドライエッチング装置を用いた
エッチング終点検出方法において、 (a)定圧力制御を行うために変化させるパラメータの
値を計測し、 (b)該計測値をアナログ信号からディジタル信号に変
換し、 (c)該変換されたディジタル信号をコンピュータに読
み込み、 (d)前記ディジタル信号を監視して、エッチングの終
点検出を行うエッチング終点検出方法。 - (2)前記パラメータとして排気量を用いることを特徴
とする請求項1記載のエッチング終点検出方法。 - (3)前記パラメータとしてガス流量を用いることを特
徴とする請求項1記載のエッチング終点検出方法。 - (4)前記ディジタル信号の微分値のピークを検出し、
エッチングの終点検出を行う請求項1記載のエッチング
終点検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16244288A JPH0214518A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | エッチング終点検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16244288A JPH0214518A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | エッチング終点検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0214518A true JPH0214518A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=15754695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16244288A Pending JPH0214518A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | エッチング終点検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0214518A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010066345A (ko) * | 1999-12-31 | 2001-07-11 | 구본준, 론 위라하디락사 | 압력 변화율을 이용한 에칭 종결시점 검출방법 |
| CN102339773A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 一种通过阀开度判断刻蚀终止点的方法 |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP16244288A patent/JPH0214518A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010066345A (ko) * | 1999-12-31 | 2001-07-11 | 구본준, 론 위라하디락사 | 압력 변화율을 이용한 에칭 종결시점 검출방법 |
| CN102339773A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 一种通过阀开度判断刻蚀终止点的方法 |
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