JPH02145698A - 洗浄溶剤 - Google Patents
洗浄溶剤Info
- Publication number
- JPH02145698A JPH02145698A JP29782688A JP29782688A JPH02145698A JP H02145698 A JPH02145698 A JP H02145698A JP 29782688 A JP29782688 A JP 29782688A JP 29782688 A JP29782688 A JP 29782688A JP H02145698 A JPH02145698 A JP H02145698A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning solvent
- freon
- dimethoxymethane
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、洗浄力に優れかつ安定性の良いフッ素系混合
溶剤から成る洗浄溶剤、特にプリント基板のフラックス
やゴミの除去および脱脂などに適した洗浄溶剤に関する
ものである。
溶剤から成る洗浄溶剤、特にプリント基板のフラックス
やゴミの除去および脱脂などに適した洗浄溶剤に関する
ものである。
フッ素系溶剤は不燃性、低毒性、５低腐食性等の利点が
あるため、洗浄溶剤として脱脂等の分野、特にプリント
基板のフラックスやゴミの除去、脱脂などの分野で広く
使われている。例えば１，１．２−トリクロロ−１，２
，２−トリフルオロエタン（以下、フロン１１３と略記
する場合がある）に洗浄力を増加させる目的でエタノー
ル、ニトロメタンあるいはメタノールを加えた共沸混合
物は、プリント基板のフラックス除去用の洗浄溶剤とし
て使用されている（特開昭５０−８０９８３号、特開昭
５１−４４５７５号）。しかし、近年フロン１１３に代
る洗浄溶剤が望まれている。
あるため、洗浄溶剤として脱脂等の分野、特にプリント
基板のフラックスやゴミの除去、脱脂などの分野で広く
使われている。例えば１，１．２−トリクロロ−１，２
，２−トリフルオロエタン（以下、フロン１１３と略記
する場合がある）に洗浄力を増加させる目的でエタノー
ル、ニトロメタンあるいはメタノールを加えた共沸混合
物は、プリント基板のフラックス除去用の洗浄溶剤とし
て使用されている（特開昭５０−８０９８３号、特開昭
５１−４４５７５号）。しかし、近年フロン１１３に代
る洗浄溶剤が望まれている。
ところが、フロン１１３に匹敵する代替物はないため、
フロン１１３をベースとした混合物が注目されるように
なった。このような混合物として、フロン１１３とジメ
トキシメタン（以下、ＤＭＭと略記する場合がある）か
ら成る洗浄溶剤が提案されている（英国特許Ｎα１３０
７６３１．独特許Ｎα２１３３８５３） 。
フロン１１３をベースとした混合物が注目されるように
なった。このような混合物として、フロン１１３とジメ
トキシメタン（以下、ＤＭＭと略記する場合がある）か
ら成る洗浄溶剤が提案されている（英国特許Ｎα１３０
７６３１．独特許Ｎα２１３３８５３） 。
しかし、この洗浄溶剤はフロン１１３とＤＭＭの沸点差
が小さいため、任意の比で混合しても液相と気相の組成
のずれが小さいという利点はあるが、ブーリント基板の
ように、金属が共存する場合、安定性が著しく悪く、容
易に分解し、腐食性のガスを発生しやすいという欠点が
ある。
が小さいため、任意の比で混合しても液相と気相の組成
のずれが小さいという利点はあるが、ブーリント基板の
ように、金属が共存する場合、安定性が著しく悪く、容
易に分解し、腐食性のガスを発生しやすいという欠点が
ある。
本発明の目的は、上記問題点を解決するため、フロン１
１３の量を少なくすることができ、しかも洗浄力および
安定性に優九た洗浄溶剤を提供することである。
１３の量を少なくすることができ、しかも洗浄力および
安定性に優九た洗浄溶剤を提供することである。
本発明は、１，１．２− トリクロロ−１，２，２−ト
リフルオロエタンとジメトキシメタンとから成る混合溶
剤に、ニトロアルカン、２−メチルフラン、プロピレン
オキサイドおよびエポキシブタンから選ばれる１種以上
の安定剤を添加することを特徴とする洗浄溶剤である。
リフルオロエタンとジメトキシメタンとから成る混合溶
剤に、ニトロアルカン、２−メチルフラン、プロピレン
オキサイドおよびエポキシブタンから選ばれる１種以上
の安定剤を添加することを特徴とする洗浄溶剤である。
本発明の洗浄溶剤の主成分である１、１．２−トリクロ
ロ−１，２，２−トリフルオロエタン（ｃｃＱ２Ｆ−ｃ
ｃｃＦ２：フロン１１３）とジメトキシメタン（ＣＨ，
０−ＣＩｌ□−〇ＣＨ３：ＤＭＭ）との混合割合は、重
量比で１０ ： ９０ないし９０：１０の範囲、好まし
くは３０ ： ７０ないし７０ ： ３０の範囲である
。フロン１１３の割合が１０重量部未満になると、エラ
ストマーの膨潤が大きくなり過ぎる傾向があり、好まし
くない。また、フロン１１３の割合が９０重量部を超え
る場合は、フロン１１３の使用址を少なくしようとする
本来の目的に合わなくなる傾向がある。
ロ−１，２，２−トリフルオロエタン（ｃｃＱ２Ｆ−ｃ
ｃｃＦ２：フロン１１３）とジメトキシメタン（ＣＨ，
０−ＣＩｌ□−〇ＣＨ３：ＤＭＭ）との混合割合は、重
量比で１０ ： ９０ないし９０：１０の範囲、好まし
くは３０ ： ７０ないし７０ ： ３０の範囲である
。フロン１１３の割合が１０重量部未満になると、エラ
ストマーの膨潤が大きくなり過ぎる傾向があり、好まし
くない。また、フロン１１３の割合が９０重量部を超え
る場合は、フロン１１３の使用址を少なくしようとする
本来の目的に合わなくなる傾向がある。
本発明で使用する安定剤は、ニトロアルカン、２−メチ
ルフラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブタン
の中から選ばれる１種もしくは複数のものである。これ
らの中ではニトロアルカン。
ルフラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブタン
の中から選ばれる１種もしくは複数のものである。これ
らの中ではニトロアルカン。
２−メチルフラン、プロピレンオキサイドが好ましい。
ニトロアルカン類としては、ニトロメタン。
ニトロエタン、■−二トロプロパンなどが例示できる。
上記安定剤の添加量は、フロン１１３とＤＭＭの混合溶
剤に対して０．０１〜５重量％、好ましくは０．１〜１
重量％である。安定剤の添加量が０．０１重量％未満の
場合は安定剤の効果が小さいため、洗浄溶剤の安定性が
充分ではない。また５重量％を超えると、洗浄後に被洗
浄物に安定剤が残留する心配がある。
剤に対して０．０１〜５重量％、好ましくは０．１〜１
重量％である。安定剤の添加量が０．０１重量％未満の
場合は安定剤の効果が小さいため、洗浄溶剤の安定性が
充分ではない。また５重量％を超えると、洗浄後に被洗
浄物に安定剤が残留する心配がある。
本発明の洗浄溶剤は、フロン１１３とＤＮＮを前記混合
割合で混合し、これに上記安定剤を上記添加割合で添加
することにより製造できる。本発明の洗浄溶剤には、必
要により他の溶剤、添加剤等を配合することができる。
割合で混合し、これに上記安定剤を上記添加割合で添加
することにより製造できる。本発明の洗浄溶剤には、必
要により他の溶剤、添加剤等を配合することができる。
このようにして得られた洗浄溶剤は、一般の洗浄の目的
に使用できるが、特にプリント基板のフラックスや、ゴ
ミの除去あるいは脱脂等に適している。
に使用できるが、特にプリント基板のフラックスや、ゴ
ミの除去あるいは脱脂等に適している。
本発明の洗浄溶剤による洗浄方法は、浸漬法、スプレー
法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれらの組合せなど、
従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄方法として採用されて
いる方法が採用でき、この場合加熱、超音波照射等を行
うこともできる。
法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれらの組合せなど、
従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄方法として採用されて
いる方法が採用でき、この場合加熱、超音波照射等を行
うこともできる。
本発明によれば、 １，１．２− トリクロロ−１，２
，２−トリフルオロエタンとジメトキシメタンとの混合
溶剤に特定の安定剤を添加したので、１，１．２−）−
リクロロー１．２．２−トリフルオロエタンの量を少な
くすることができ、しかも洗浄力および安定性に優れ。
，２−トリフルオロエタンとジメトキシメタンとの混合
溶剤に特定の安定剤を添加したので、１，１．２−）−
リクロロー１．２．２−トリフルオロエタンの量を少な
くすることができ、しかも洗浄力および安定性に優れ。
金属が共存する場合でも分解することなく、腐食性のガ
スが発生しない洗浄溶剤を得ることができる。
スが発生しない洗浄溶剤を得ることができる。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例１
フロン１１３とＤＭＨの混合割合が９０／１０（重量比
）である混合溶Ｍ９９．５重量％に表１に示す安定剤を
各々０．５重量％添加して試験溶液を得た。この試験溶
液中の水分量を測定したところ５０ｐｐｍであった。
）である混合溶Ｍ９９．５重量％に表１に示す安定剤を
各々０．５重量％添加して試験溶液を得た。この試験溶
液中の水分量を測定したところ５０ｐｐｍであった。
この試験溶液４ｇを内径１１ｍｍのガラス管に入れ、８
ｍｍ ｗＸ６０ｍｍ ｆｉＸ １ｍｍ ｔの鉄片、アル
ミニウム片。
ｍｍ ｗＸ６０ｍｍ ｆｉＸ １ｍｍ ｔの鉄片、アル
ミニウム片。
および亜鉛片を浸漬して封管した。これを１００℃で４
日間貯蔵した後、ガラス管の先端を切断し、試験溶液を
脱イオン水と混合してバブリングし、バブリング後水相
を濾紙を通して５０ｍ＋２のメスフラスコに入れた、ま
た上記ガラス管内に脱イオン水３〜５ｍＱを入れ数回洗
浄し、この洗浄水も前記メスフラスコに集め、水を加え
て全量を５０＋ａ１１とした。
日間貯蔵した後、ガラス管の先端を切断し、試験溶液を
脱イオン水と混合してバブリングし、バブリング後水相
を濾紙を通して５０ｍ＋２のメスフラスコに入れた、ま
た上記ガラス管内に脱イオン水３〜５ｍＱを入れ数回洗
浄し、この洗浄水も前記メスフラスコに集め、水を加え
て全量を５０＋ａ１１とした。
この溶液中の塩素イオン濃度をイオンクロマトグラフィ
ーで測定した。結果を表１に示す。
ーで測定した。結果を表１に示す。
表１
果は高い。
実施例２
フロン１１３とＤＭＨの混合割合が９０７１０（重量比
）である混合溶剤９９．５重量％、および表１に示した
０、５重量％の安定剤から成る試験溶液に水を添加して
実施例１と同様なテストを行なった。なお、試験溶液中
の水分量は５８０ｐｐｍであった。結果を表２に示す。
）である混合溶剤９９．５重量％、および表１に示した
０、５重量％の安定剤から成る試験溶液に水を添加して
実施例１と同様なテストを行なった。なお、試験溶液中
の水分量は５８０ｐｐｍであった。結果を表２に示す。
表２
−１）沈澱物が多量に生じ測定不能
表１から分るように、水分が少ない場合にはジエチルア
ミンを除き、いずれの安定剤も安定他動＄１）沈澱物が
多量に生じ測定不能 表２から分るように、水分が多い場合でも、ニトロメタ
ン、２−メチルフラン、プロピレンオキサイド、エポキ
シブタンの安定剤としての効果は大きい。
ミンを除き、いずれの安定剤も安定他動＄１）沈澱物が
多量に生じ測定不能 表２から分るように、水分が多い場合でも、ニトロメタ
ン、２−メチルフラン、プロピレンオキサイド、エポキ
シブタンの安定剤としての効果は大きい。
実施例３
一辺が４５ｍｍ四方のプリント基板に表３に示す各種フ
ラックスを各々６０μΩ均一に塗布した。この基板をい
ったん１００℃まで予備加熱した後、２６０℃の溶融ハ
ンダ槽で２ ｆｔ／ｍｉｎの速度でハンダ付した。
ラックスを各々６０μΩ均一に塗布した。この基板をい
ったん１００℃まで予備加熱した後、２６０℃の溶融ハ
ンダ槽で２ ｆｔ／ｍｉｎの速度でハンダ付した。
−時間室温で静置した後、フロン１１３／ＤＭＭ／ニト
ロメタン＝８９．５／１０１０．５ （重量％）からな
る洗浄溶剤で洗浄した。洗浄工程は沸騰浸漬３０秒、超
音波洗浄６０秒、蒸気洗浄３０秒で行った。洗浄後、プ
リント基板上に残ったイオン性残渣をオメガメータ（ケ
ンコ社製、商標）で測定した（実施例）。
ロメタン＝８９．５／１０１０．５ （重量％）からな
る洗浄溶剤で洗浄した。洗浄工程は沸騰浸漬３０秒、超
音波洗浄６０秒、蒸気洗浄３０秒で行った。洗浄後、プ
リント基板上に残ったイオン性残渣をオメガメータ（ケ
ンコ社製、商標）で測定した（実施例）。
また、 フロン１１３／エタノール／ニトロメタン＝９
５．７／３．８１０．５ （重量％）からなる洗浄溶剤
を用いて、上記と同様にしてイオン性残渣を測定した（
比較例）。
５．７／３．８１０．５ （重量％）からなる洗浄溶剤
を用いて、上記と同様にしてイオン性残渣を測定した（
比較例）。
結果を表３に示す、なお、表中の値は１Ｍ几規格値に対
する％で示した。
する％で示した。
表３
・１．．２：アルファーメタル社製、商標１１３、−４
＝千住金属（株）ｆ！！５、商標１１５：ハイグレード
社製、商標 実施例４ ７０ ンｌ１３／ＤＭＭ／ ＝ トｏ メ’ｌ ン＝８
９．３５／１０．１７１０．４８ （重量％）から成る
洗浄溶剤を二槽式洗浄機に仕込み、経過時間に対する沸
騰槽および第２槽の組成変化をガスクロマトグラフィー
で測定した。結果を表４に示す。
＝千住金属（株）ｆ！！５、商標１１５：ハイグレード
社製、商標 実施例４ ７０ ンｌ１３／ＤＭＭ／ ＝ トｏ メ’ｌ ン＝８
９．３５／１０．１７１０．４８ （重量％）から成る
洗浄溶剤を二槽式洗浄機に仕込み、経過時間に対する沸
騰槽および第２槽の組成変化をガスクロマトグラフィー
で測定した。結果を表４に示す。
表
表４から分るように。
いずれの槽も組成変化は
極めて小さかった。
Claims (3)
- （１）１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタンとジメトキシメタンとから成る混合溶剤に、
ニトロアルカン、２−メチルフラン、プロピレンオキサ
イドおよびエポキシブタンから選ばれる１種以上の安定
剤を添加することを特徴とする洗浄溶剤。 - （２）１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタンとジメトキシメタンとの混合割合が重量比で
１０：９０ないし９０：１０である請求項（１）記載の
洗浄溶剤。 - （３）安定剤の添加量は混合溶剤に対して０．０１ない
し５重量％である請求項（１）記載の洗浄溶剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29782688A JPH02145698A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 洗浄溶剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29782688A JPH02145698A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 洗浄溶剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02145698A true JPH02145698A (ja) | 1990-06-05 |
| JPH0470360B2 JPH0470360B2 (ja) | 1992-11-10 |
Family
ID=17851660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29782688A Granted JPH02145698A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 洗浄溶剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02145698A (ja) |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP29782688A patent/JPH02145698A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0470360B2 (ja) | 1992-11-10 |
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