JPH02149395A - 殺菌水製造装置及び殺菌水製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、調理環境衛生用０手洗い用１食品材料用及び
おしぼり用等の殺菌水の製造装置及び殺菌水の製造方法
に関し、さらに詳しくは、塩化ナトリウム水溶液の有隔
膜電解によりアノード側に生成する残留塩素濃度の高い
水を、さらに希釈用原水及び／またはカソード側生成水
で混合希釈し、安全な殺菌水を低コストで製造できる装
置及び該殺菌水の製造方法に関する。

（従来の技術） 従来、細菌の殺菌装置としては種々の装置が知られてい
る。例えば、熱処理、アルコール処理、紫外線照射、オ
ゾンによる酸化等を利用した装置、また、食器や食品あ
るいは水道水の殺菌には次亜塩素酸や次亜塩素酸ナトリ
ウムの希釈水溶液を利用した装置が広く用いられている
。

ところで、海水及び高濃度の塩化ナトリウム水溶液を無
隔膜電解することにより、次亜塩素酸ナトリウムを製造
したり、あるいは有隔膜電解にょリアノード側で塩素ガ
ス、カソード側で苛性ソーダを製造することは、工業的
に従来から行なわれている。また、「淡水に近い低濃度
食塩水溶液の無隔膜直接電解による次亜塩素酸塩の生成
」が電気化学および工業物理化学５６．Ｎ０５（１９８
８）に報告されている。さらに特開昭６１−２８３３９
１号には、水道水中に少量含まれる塩素イオンを塩素に
変換することによる飲料水の殺菌方法が示されている。

このように、塩素ガスを水に注入したり、次亜塩素酸ナ
トリウムの希釈水溶液を使用したりするいわゆる塩素殺
菌の場合は、水溶液のｐＨにより残留塩素の存在比が変
化しく第１Ｏ図参照）、それに伴って同一の残留塩素濃
度でも殺菌効果が変動する。殺菌効果が最も大きいとい
われている次亜塩素酸（ＨＣＩ２０）の存在比の高いｐ
Ｈ範囲、すなわちｐＨ３〜７好ましくはｐＨ４〜６にす
れば低い残留塩素濃度でも大きな殺菌効果を発揮するこ
とができる。

（発明が解決しようとする課題） ところが、通常使用される水道水（以下、「原水」とい
う、）のｐＨは、５．８〜８．６の範囲で一般的にはｐ
Ｈ７前後が多い。そのため、単に塩素ガスを水に注入し
たり、あるいは次亜塩素酸や次亜塩素酸ナトリウムの水
溶液を添加するのみでは、上記のｐＨ範囲にコントロー
ルすることはできない。したがって、例えば殺菌抵抗の
強い芽胞菌等を殺菌するためには残留塩素濃度を高める
か、あるいは塩酸等の酸をさらに適量添加しｐＴ（をコ
ントロールする必要がある。

また、一般に、次亜塩素酸ナトリウムの水溶液は、使用
場所とは別の場所で製造され容器に入れられた状態で供
給されるため、別の容器に水道水と次亜塩素酸ナトリウ
ム水溶液を入れ所定濃度に混合希釈後便用する例が多く
、いわゆる溜置き式となり連続的に殺菌水を使用するこ
とができない。

このため、料理店の厨房や食品工場等で食器調理器具１
食品類１手洗い、おしぼり等の殺菌に用いるには、操作
性、安全性及び殺菌効果等の点で問題があった。

一方、塩化ナトリウム水溶液を無隔膜電解により次亜塩
素酸ナトリウムを製造する装置では、その構造上アノー
ド側及びカソード側の生成物が、直ちに中和反応を起こ
すことから、ｐＨを原水よりも酸性側にすることは不可
能である。

また、特開昭６１−２８３３９１号に示される水道水中
に少量含まれる塩素イオンを塩素に変換する方法では、
電気伝導率が小さいので少電流しか流せず、残留塩素濃
度を高くするには長時間を要し、また、無隔膜のためｐ
Ｈをコントロールすることができない。

本発明は、上記した問題点を解消し、食器、調理器具１
食品類１手洗い及びおしぼり等の殺菌に適した残留塩素
濃度とｐＨを有する殺菌水を連続的に製造することがで
きる殺菌水製造装置及び殺菌水製造方法を提供すること
を目的とする。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意研究を重ね
た結果、塩化ナトリウム水溶液を右隅膜電解して、アノ
ード側に生成する残留塩素濃度の高い水を、希釈用原水
及び／またはカソード側に生成するアルカリ水で混合希
釈することにより、殺菌に適した残留塩素濃度とｐＨを
有する殺菌水を製造することができることを見出し、本
発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の殺菌水製造装置は、電解用直流電源
装置ニアノードとカソード及び両電極の間に隔膜を有し
、アノード室とカソード室とに分離された電解槽；原水
導入管から供給される原水と、塩化ナトリウム水溶液添
加手段から供給される塩化ナトリウム水溶液とを混合し
て成る被電解水を、該アノード室とカソード室に供給す
る導入管；該アノード室とカソード室のそれぞれから生
成水な取り出す導出管；該アノード室から取り出された
生成水と、該原水導入管から分岐させた希釈用原水導管
から供給される原水及び／または前記カソード室から取
り出される生成水とを混合希釈する手段；を有すること
を特徴とし、また、本発明の殺菌水製造方法は、塩化ナ
トリウム水溶液と原水導入管から供給される原水とを混
合して成る被電解水を、アノード室とカソード室とを有
する電解槽に供給して電解し、ついで、該アノード室か
ら取り出された生成水を、該原水導入管の中途で分岐さ
せた希釈用原水導管から供給される原水及び／またはカ
ソード室から取り出される生成水で混合希釈することを
特徴とする。

原水で希釈する手段を設けると、アノード側に生成する
残留塩素濃度の高い生成水を所定の濃度まで希釈すると
ともに、ｐＨを制御でき、さらに殺菌水の量をアノード
側生成水量の数倍に増加させることが可能となる。

一方、カソード側生成水で希釈する手段を設けるのは、
主としてｐＨを制御するためである。しかしながら、カ
ソード側生成水は、少量添加しただけでｐＨを上昇させ
るので、殺菌水の量をあまり増加させることができない
。

また、原水とカソード側生成水の双方を添加する手段を
設けることにより、ｐＨの制御及び殺菌水量を種々に調
節でき殺菌水製造装置としてより有利である。

なお、これらの操作は、手動でもまた殺菌水中の残留塩
素濃度及びｐＨを連続的に測定する装置を設け、それぞ
れの値が設定範囲内に保持されるように自動制御しても
よい。自動制御にすれば、原水の供給圧力、ｐＨ，電気
伝導率等の変化にかかわらず性状の安定した殺菌水を人
手を要さずにしかも容易に供給することができる。

次に図面に基づいて詳細に説明する。

第１図〜第３図は手動操作による本発明の殺菌水製造装
置の例を示す。

第１図は、アノード側生成水を、希釈用原水のみで混合
希釈する場合の概略系統図、第２図は、希釈用原水及び
カソード側生成水の双方で希釈する場合の概略系統図、
第３図は、カソード側生成水のみで希釈する場合の概略
系統図である。

まず、電解槽について説明する。電解槽はケーシング１
２ａ、１２ｂ、アノード１３、スペーサー１５ａ、１５
ｂ、隔膜１６及びカソード１４により構成されている。

図では単槽平板式の場合を示すが、これらの数量を増し
た複槽平板式あるいは円筒式でもよい。製作加工の面か
らは平板式が好ましい。

スペーサー１５は、電極間距離を設定するとともに被電
解水の流路を確保する役割を担っている。スペーサーを
薄くして電極間距離を小さくすれば低い電圧で電解可能
となるが、被電解水の流速が大きくなり圧力損失が大き
くなるので、双方の条件を考慮して厚さを選定する。図
に示した例では、スペーサーの厚みを３ｍｍとし電極間
距離を設定した。

隔膜１６は、陽イオン及び陰イオンの双方を通過させる
中性膜を使用し、その材質はアノード側に生成する塩素
ガスに冒されないフッ素系とするのが好ましい。炭化水
素系の隔膜は塩素ガスに冒され易く、実用的でない。ま
た、透水性の大きなものは、隔膜の効果を減少させるの
で小さいものが好ましい。

アノード１３の材質は、電解効率に大きく影響するので
、塩素過電圧が小さく酸素過電圧が太きいものが好まし
い。図に示した例においては、触媒作用の大きいチタン
板に白金、イリジウム系をコーティングしたものを使用
し、塩素イオンの酸化反応が進行し易くなるようにして
殺菌に有効な遊離塩素が効率よく発生するようにした。

カソード１４は、耐食性を考慮してチタンを用いている
が、ステンレスでも構わない。

本発明の製造装置を構成している各要素は次のように接
続されている。

まず、アノード１３とカソード１４及び直流電源装置１
７は、電気的に接続されている。

電解槽のアノード室及びカソード室と原水導入管３とは
、アノード側被電解水導入管８及びカソード側被電解水
導入管９並びに被電解水導入管５を介して接続される。

被電解水導入管５の流路へは塩化ナトリウム水溶液を供
給するため、塩化ナトリウム水溶液貯蔵タンク１０が塩
化ナトリウム水溶液添加ポンプ１１を介して接続される
。前記アノード室及びカソード室にはそれぞれアノード
側生成水導出管１８及びカソード側生成水導出管１９が
接続される。さらに、混合希釈部２６へはアノード側生
成水導出管１８と希釈用原水導管２４及び／またはカソ
ード側生成水混合管２３が接続される。希釈用水導管２
４の一方は原水分岐部４に接続される。

また、希釈用原水導管２４．カソード側生成水混合管２
３．カソード側生成水排水管２２の各流路には、それぞ
れの適宜位置に流量調節弁２５゜２１．２０が設けられ
ている。

第４図〜第６図は、第１図〜第３図の装置に殺菌水の残
留塩素濃度及びｐＨの自動制御回路を設けた装置を示す
。

すなわち、混合希釈部２６に接続される殺菌水吐出管２
７の流路に、残留塩素濃度測定装置３０及びｐＨ測定装
置３３を配設する。

そして、希釈用原水のみで希釈する場合は、第４図に示
すように、残留塩素濃度測定装置３０゜コントローラー
３１．調節計３２と直流電源装置１７間及びｐＨ測定装
置３３．コントローラー３４、調節計３５と希釈用原水
流量調節弁２５間をそれぞれ電気的に接続して構成する
。

希釈用原水及びカソード側生成水の両者で希釈する場合
は、第５図に示すように、残留塩素濃度測定装置３０．
コントローラー３１．調節計３２と直流電源装置１７間
、ｐＨ測定装置３３．コントローラー３４．調節計３５
と希釈用原水流量調節弁２５間、ｐＨ測定装置３３．コ
ントローラー３４、調節計３５とカソード側生成水流量
調節弁２１間及びｐＨ測定装置３３．コントローラー３
４、調節計３５とカソード側生成水排水流量調節弁２０
間をそれぞれ電気的に接続して構成する。

また、カソード側生成水のみで希釈する場合は、第６図
に示すように、残留塩素濃度測定装置３０、コントロー
ラー３１．調節計３２と直流電源装置１７間、ｐＨ測定
装置３３．コントローラー３４．調節計３５とカソード
側生成水流量調節弁２１間及びｐＨ測定装置３３゜コン
トローラー３４、調節計３５とカソード側生成水排水流
量調節弁２０間をそれぞれ電気的に接続して構成する。

すなわち、前記残留塩素濃度測定装置３０及びｐＨ測定
装置３３からの信号を、あらかじめ設定しておいた値と
比較し、電解電流並びに希釈用原水流量及び／またはカ
ソード側生成水混合流量と排水流量とを制御し、常に殺
菌水の残留塩素濃度及びｐＨを設定範囲内に保持するよ
うにした構成である。

このように、殺菌水の残留塩素濃度及びｐＨを測定しフ
ィードバックして自動制御することにより原水の供給圧
力、ｐＨ，電気伝導率等の変化に対しても殺菌水の性状
を安定に保つことができる。

第７図〜第９図は、自動制御のブロック図を示す。第７
図は第４図に、第８図は第５図に、第９図は第６図にそ
れぞれ示した装置に対応する。ここで示した殺菌水の残
留塩素濃度の制御方法は、電解電流を制御する方法であ
り、精度がよくかつシステム化も容易な方法である。図
示しないが、これ以外にも塩化ナトリウム水溶液濃度、
被電解水量等の電解条件や希釈用原水流量を制御する方
法がある。ただし、それらの方法は、図示した方法より
も構成が複雑になる。なお、ここでは、塩化ナトリウム
水溶液濃度、被電解水量は一定としている。

殺菌水の残留塩素濃度を自動制御する電気回路は、残留
塩素濃度測定装置３０．電気信号を変換するコントロー
ラー３１．調節計３２及び直流電源装置１７から構成さ
れる。一方、殺菌水のｐＨを自動制御する電気回路は、
ｐＨ測定装置３３゜電気信号を変換するコントローラー
３４．調節計３５並びに希釈用水量調節弁２５及び／ま
たはカソード側生成水流量調節弁２１とカソード側生成
水排水流量調節弁２０から構成される。

また、装置の故障等で殺菌水の残留塩素濃度やｐＨが設
定範囲を大幅に逸脱したときは、例えば警報等で知らせ
るようにしてもよい。

原水の時間的な供給圧力変動に伴う被電解電流の変動、
あるいは季節的な原水のｐＨ及び電気伝導率の変動とい
った外乱が多い場合は、自動制御回路を設けた装置を使
用することが好ましい。

殺菌水中の残留塩素濃度は、残留塩素濃度測定装置３０
によって連続的に測定される。濃度信号はコントローラ
ー３１を経由し調節計３２にフィードバックされる。調
節計３２では基準となる残留塩素濃度設定値とフィード
バック信号とを比較し、偏差に応じて直流電源装置１７
へ制御信号を送り電解電流を制御する。この演算に用い
る残留塩素濃度とＯＸＸ電電流関係は、第１１図及び第
１３図から得られる。

殺菌水中のｐＨは、ｐＨ測定装置３３により連続的に測
定される。ｐＨ信号はコントローラー３４を経由し調節
計３５にフィードバックされる。調節計３５では基準と
なるｐＨ設定値とコントローラー３４で変換されたフィ
ードバック信号とを比較し偏差に応じて希釈用原水流量
調節弁２５及び／またはカソード側生成水流量調節弁２
１とカソード側生成水排水流量調節弁２０へ制御信号を
送り混合希釈水量を制御する。この演算に用いるｐＨと
Ｏｘ比電電流関係は第１２図及び第１４図から得られる
。

（作用） 本発明の装置によれば、塩化ナトリウム水溶液を右隅膜
電解することにより殺菌水を製造することができるが、
電解槽における反応は以下のとおりである。

被電解水は、直流電流により電解される。アノード側で
は塩素イオンが次の反応により次亜塩素酸となり、カソ
ード側ではナトリウムイオンと水の反応で苛性ソーダと
水素ガスが生じる。また、この反応で、アノード側は酸
性になりカソード側はアルカリ性になる。

アノード側： ２　ＣＩ２−　＝　ＣＩ２　ｇ　＋　２　ｅＣβ、＋Ｈ
ｉＯ−ＩＨ”＋Ｃβ−＋ＨＣｌ２０カソード側： ２　Ｎ　ａ　”　＋　２　Ｈｔ　Ｏ＋　２６−２ＮａＯ
Ｈ＋Ｈ＊　　Ｔ なお、次亜塩素酸（ＨＣＪ２０）の存在比は前述した如
＜ｐＨによって変化する。

また、アノード側生成水の残留塩素濃度及びｐＨは被電
解水量と電解電流により（以下、「ＯＸＸ電電流という
）変化し、Ｏｘ比電電流大きくすれば残留塩素濃度は大
きくなり、ｐｌ（は低くなる。Ｏｘ比電電流小さくすれ
ば残留塩素濃度は小さくなり、ｐＨは中性に近づく　（
第１１図、第１２図参照）。ここで、ｏｘ比電電流次式
により算出される。

ＯＸＸ電電流クーロン／Ｉ２） アノード側被電解水量（Ｉ２／ｍ１ｎｌただし、Ｏｘ比
電電流量過大にするとジュール熱による水温上昇が大き
く危険である。

アノード側で生成した残留塩素濃度の高い水は、原水分
岐部で分岐された希釈用原水及び／またはカソード側生
成水と合流し混合希釈されて、残留塩素濃度及びｐＨが
設定範囲内に制御され殺菌水として装置より吐出される
。カソード側生成水は、混合しない場合あるいは混合量
が少なく余った場合には、カソード側生成排水流量調節
弁を経由し装置外に排出される。

以下、本発明の作用を第１図〜第３図に基づきさらに詳
細に説明する。

まず、塩化ナトリウム水溶液は、例えば５〜１０％濃度
とし、貯蔵クンク１０から添加ポンプ１１により被電解
水導入管５に所定の濃度になるように添加される。

被電解水は、アノード側被電解水導入管８、カソード側
被電解水導入管９を経由し電解槽２に供給され、直流電
源装置１７により印加電解される。そして、それぞれ酸
性水及びアルカリ水となり、アノード側生成水導出管１
８、カソード側生成水導出管１９から排出される。被電
解水量の調節は、調節弁６．７で行ない、電解電流は直
流電源装置１７によって調整する。この直流電源装置１
７は、原水の電気伝導率等の変化に対応できるように定
電制御装置を有しており、設定した電解電流に保持する
ことができる。

原水分岐部４で分かれた希釈用原水は、塩化ナトリウム
水溶液を添加せず、かつ電解槽２を通過させずに希釈用
原水導管２４を経由させ、混合希釈部２６でアノード側
で生成した残留塩素濃度の高い水を混合希釈する。

希釈用原水の流量は、流量調節弁２５により、殺菌水が
所定の残留塩素濃度及びｐＨの範囲になるように調整す
る。また、第２図及び第３図に示すようにカソード側生
成水により混合する場合は、カソード側生成水流量調節
弁２１及びカソード側生成水排水流量調節弁２０を調節
して混合希釈部２６で合流させればｐＨの調整を行うこ
とができる。

その結果、残留塩素濃度とｐＨが所定の範囲内に調整さ
れた殺菌水が製造され、殺菌水吐出管２７から排出され
る。

（実施例） 以下、第１表に示す仕様を有する本発明の製造装置によ
り製造された殺菌水の例を説明する。

第１表 夾癒炭ユ 電気伝導率１３８ｕＳ／ｃｍ、ｐＨ７，６，残留塩素濃
度０．ｌｐｐｍの原水に５％濃度の塩化ナトリウム水溶
液を、アノード側被電解水量１２／ｍｉｎ　、カソード
側被電解水量ＩＪ２／ｍｉｎの計２β／ｍｉｎに５０ｃ
ｃ／ｍｉｎ添加し、塩化ナトリウム濃度を１２５０　ｐ
ｐｍとした。これにより被電解水の電気伝導率は約２２
００μＳ／ｃｍまで上昇した。

この被電解水を電圧７Ｖ、電解電流６Ａで電解すると、
アノード側生成水はｐＨ２，７，残留塩素濃度７０ｐｐ
ｍ、カソード側生成水はｐＨ１１，４，残留塩素濃度０
．３ｐｐｍであった。

このアノード側生成水ＩＩ２に、希釈水として原水を４
ｆ２混合したところ、ｐＨ６，１，残留塩素濃度１５ｐ
ｐｍの殺菌水５氾が得られた。

裏腹１ 実施例１で得られたアノード側生成水１βに、希釈水と
して原水を４２及びカソード側生成水を０．３１２混合
したところ、ｐＨ７，０，残留塩素濃度１５ｐｐｍの殺
菌水５．３βが得られた。

！族週１ 実施例１で得られたアノード側生成水１℃に、希釈水と
してカソード側生成水を０．６君混合したところ、ｐＨ
６，９，残留塩素濃度５０ｐｐｍの殺菌水１．６２が得
られた。

夾胤廻Ａ 電気伝導率１３９μＳ／ｃｍ、ｐＨ７，４，残留塩素濃
度０．ｌｐｐｍの原水に５％濃度の塩化ナトリウム水溶
液を、アノード側被電解水量ＩＩ２／ｍｉｎ　、カソー
ド側被電解水量ＩＩ２／ｍｉｎの計２℃／ｍｉｎに５０
　ｃｃ／　ｍｉｎ添加し、塩化ナトリウム濃度を１２５
０ｐｐｍとした。これにより被電解水の電気伝導率は約
２２００μＳ／ｃｍまで上昇した。

この被電解水を電圧１２Ｖ、電解電流１１Ａで電解する
とアノード側生成水は、ｐＨ２，８，残留塩素濃度１６
０ｐｐｍ、カソード側生成水はｐＨ１１，５゜残留塩素
濃度０．３ｐｐｍであった。

このアノード側生成水１βに、希釈水として原水を３℃
混合したところ、ｐ）Ｉ！５．８．残留塩素濃度４０ｐ
ｐｍの殺菌水４Ｉ２が得られた。

Ｋ旌丞１ 実施例４で得られたアノード側生成水ＩＩ２に、希釈水
として原水を３１２及びカソード側生成水を０．３１２
混合したところ、ｐＨ６，６，残留塩素濃度４０　ｐｐ
ｍの殺菌水４．３℃が得られた。

夾胤±ｌ 実施例４で得られたアノード側生成水ＩＩ２に、希釈水
としてカソード側生成水を０．６℃混合したところ、ｐ
Ｈ６，８，残留塩素濃度１００　ｐｐｍの殺菌水１．６
１２が得られた。

なお、第２表及び第３表にこれらの殺菌水を使った殺菌
試験結果を示す。

（発明の効果） 本発明の装置によれば、塩化ナトリウム水溶液を有限膜
電解し、アノード側に残留塩素濃度の高い水を生成させ
、それを希釈用原水及び／またはカソード側生成水で混
合希釈することにより、残留塩素濃度及びｐＨを所定の
範囲にコントロールした殺菌水を連続的に製造できる。

殺菌効果の大きい次亜塩素酸の存在比の高いｐＨ４〜６
で使用できるため次亜塩素酸希釈水溶液よりも低い残留
塩素濃度でも従来と同等の殺菌効果を発揮できる。

また、簡単な操作で殺菌水の製造ができるので安全性及
び操作性の点で優れており、しかも使用場所で必要量だ
け殺菌水を連続的に供給することができるという点でも
非常に優れている。したがって、調理環境衛生用１手洗
い用３食品材料用、おしぼり用等の殺菌水を始め、食品
加工流通分野、飲用水、プール用水、医療分野等、広範
囲の分野に適用可能な殺菌水を低コストで供給可能であ
る。

さらに、殺菌水の残留塩素濃度及びｐＨを自動制御する
回路を設ければ、原水の供給圧力。

ｐＨ，電気伝導率等の変化にかかわらず安定した殺菌水
を供給することが可能で、殺菌効果をより高めることが
できる。また、各流量調整、電流調整等の調整監視作業
が不要となり省力化できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明の殺菌水製造装置の概略系統図
であり、第４図〜第９図は自動制御回路を設けた殺菌水
製造装置の概略系統図及び電気回路ブロック図であり、
第１０図は遊離塩素濃度存在比とｐＨの関係を表わす図
であり、第’１１図はＯｘ比電電流残留塩素濃度の関係
の一例を表わす図であり、第１２図はＯｘ比電電流ｐＨ
の関係の一例を表わす図であり、第１３図は希釈倍率と
残留塩素濃度の関係の一例を表わす図であり、第１４図
は希釈倍率とｐＨの関係の一例を表わす図である。 ｌ：殺菌水製造装置、２：電解槽、３：原水導入管、４
：原水分岐部、５：被電解水導入管、６：アノード側電
解水流量調節弁、７：カソド側電解水流量調節弁、８ニ
アノード側被電解水導入管、９：カソード側被電解水導
入管、ｌＯ：塩化ナトリウム水溶液貯蔵タンク、ｌｌ：
塩化ナトリウム水溶液添加ポンプ、１２ａ、１２ｂ：電
解槽ケーシング、１３ニアノード、１４：カソード、１
５ａ、１５ｂニスペーサ−１１６：隔膜、１７：直流電
解装置、１８ニアノード側生成水導出管、１９：カソー
ド側生成水導出管、２０：カソード側生成水排水流量調
節弁、２１：カソード側生成水流量調節弁、２２：カソ
ード側生成水排水管、２３：カソード側生成水混合管、
２４：希釈用原水導管、２５：希釈用原水流量調節弁、
２６：混合希釈部、２７：殺菌水吐出管、３０：残留塩
素濃度測定装置、３１：コントローラー、３２：調節計
、３３：ｐＨ測定装置、３４：コントローラー、３５：
調節計

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）電解用直流電源装置； アノードとカソード及び両電極の間に隔膜を有し、アノ
   ード室とカソード室とに分離された電解槽； 原水導入管から供給される原水と、塩化ナトリウム水溶
   液添加手段から供給される塩化ナトリウム水溶液とを混
   合して成る被電解水を、該アノード室とカソード室に供
   給する導入管； 該アノード室とカソード室のそれぞれから生成水を取り
   出す導出管； 該アノード室から取り出された生成水と、該原水導入管
   の中途で分岐させた希釈用原水導管から供給される原水
   とを混合希釈する手段； を有することを特徴とする殺菌水製造装置。
2. （２）請求項１記載の殺菌水製造装置において、該アノ
   ード室から取り出された生成水と、該原水導入管の中途
   で分岐させた希釈用原水導管から供給される原水とを混
   合希釈する手段に代えて、該アノード室から取り出され
   た生成水と、該原水導入管の中途で分岐させた希釈用原
   水導管から供給される原水及びカソード室から取り出さ
   れた生成水とを混合希釈する手段を有する殺菌水製造装
   置。
3. （３）請求項１記載の殺菌水製造装置において、該アノ
   ード室から取り出された生成水と、該原水導入管の中途
   で分岐させた希釈用原水導管から供給される原水とを混
   合希釈する手段に代えて、該アノード室から取り出され
   た生成水と、カソード室から取り出された生成水とを混
   合希釈する手段を有する殺菌水製造装置。
4. （４）請求項１記載の殺菌水製造装置において、希釈用
   原水導管の流路に流量調節弁を設け、かつ、混合希釈部
   の後に接続される殺菌水吐出管の流路に殺菌水の残留塩
   素濃度を測定する装置とｐＨを測定する装置を配設し、
   該残留塩素濃度測定装置と直流電源装置間及び該ｐＨ測
   定装置と希釈用原水流量調節弁間をそれぞれ電気的に接
   続し、該残留塩素濃度測定装置及び該ｐＨ測定装置から
   の信号をあらかじめ設定しておいた値と比較して、電解
   電流及び希釈用原水流量を制御し、常に殺菌水の残留塩
   素濃度及びｐＨを設定範囲内に保持する自動制御回路を
   設けたことを特徴とする殺菌水製造装置。
5. （５）請求項２記載の殺菌水製造装置において、希釈用
   原水導管の流路とカソード側生成水導出管の流路にそれ
   ぞれ希釈用原水流量調節弁及びカソード側生成水流量調
   節弁とカソード側生成水排水流量調節弁を設け、かつ、
   混合希釈部の後に接続される殺菌水吐出管の流路に殺菌
   水の残留塩素濃度を測定する装置とｐＨを測定する装置
   を配設し、該残留塩素濃度測定装置と直流電源装置間、
   該ｐＨ測定装置と希釈用原水流量調節弁間、該ｐＨ測定
   装置とカソード側生成水流量調節弁間及び該ｐＨ測定装
   置とカソード側生成水排水流量調節弁間をそれぞれ電気
   的に接続し、該残留塩素濃度測定装置及び該ｐＨ測定装
   置からの信号をあらかじめ設定しておいた値と比較して
   、電解電流、希釈用原水流量、カソード側生成水混合流
   量及びカソード側生成水排水流量を制御し、常に殺菌水
   の残留塩素濃度及びｐＨを設定範囲内に保持する自動制
   御回路を設けたことを特徴とする殺菌水製造装置。
6. （６）請求項３記載の殺菌水製造装置において、カソー
   ド側生成水導出管の流路にカソード側生成水流量調節弁
   及びカソード側生成水排水流量調節弁を設け、かつ、混
   合希釈部の後に接続される殺菌水吐出管の流路に殺菌水
   の残留塩素濃度を測定する装置とｐＨを測定する装置を
   配設し、該残留塩素濃度測定装置と直流電源装置間、ｐ
   Ｈ測定装置とカソード側生成水流量調節弁間及びｐＨ測
   定装置とカソード側生成水排水流量調節弁間をそれぞれ
   電気的に接続し、該残留塩素濃度測定装置及び該ｐＨ測
   定装置からの信号をあらかじめ設定しておいた値と比較
   して、電解電流、カソード側生成水混合流量及びカソー
   ド側生成水排水流量を制御し、常に殺菌水の残留塩素濃
   度及びｐＨを設定範囲内に保持する自動制御回路を設け
   たことを特徴とする殺菌水製造装置。
7. （７）塩化ナトリウム水溶液と原水導入管から供給され
   る原水とを混合して成る被電解水を、アノード室とカソ
   ード室とを有する電解槽に供給して電解し、ついで、該
   アノード室から取り出された生成水を、該原水導入管の
   中途で分岐させた希釈用原水導管から供給される原水で
   混合希釈することを特徴とする殺菌水の製造方法。
8. （８）請求項７記載の殺菌水の製造方法において、希釈
   用原水導管から供給される原水で混合希釈する構成に代
   えて、希釈用原水導管から供給される原水及びカソード
   室から取り出された生成水で混合希釈する構成を有する
   殺菌水の製造方法。
9. （９）請求項７記載の殺菌水の製造方法において、希釈
   用原水導管から供給される原水で混合希釈する構成に代
   えて、カソード室から取り出された生成水で混合希釈す
   る構成を有する殺菌水の製造方法。