JPH021494A - 有機錫化合物の除去方法 - Google Patents
有機錫化合物の除去方法Info
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- JPH021494A JPH021494A JP7283989A JP7283989A JPH021494A JP H021494 A JPH021494 A JP H021494A JP 7283989 A JP7283989 A JP 7283989A JP 7283989 A JP7283989 A JP 7283989A JP H021494 A JPH021494 A JP H021494A
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- tin compound
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機錫化合物の工業上有用な除去方法に関する
。
。
〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕モノおよ
びジ有機錫化合物は工業的に価値が高く、ポリ塩化ビニ
ル樹脂用安定剤、’ｆｆａ合成触媒、カチオン電着塗装
触媒またはそれらの合成中間体などとして多用され、ま
た、トリ有機錫化合物は農薬などの分野で重要な位置を
しめている。特に、近年、有機錫オキサイドはエステル
交換法などの有機合成反応において、触媒として重用さ
れている。
びジ有機錫化合物は工業的に価値が高く、ポリ塩化ビニ
ル樹脂用安定剤、’ｆｆａ合成触媒、カチオン電着塗装
触媒またはそれらの合成中間体などとして多用され、ま
た、トリ有機錫化合物は農薬などの分野で重要な位置を
しめている。特に、近年、有機錫オキサイドはエステル
交換法などの有機合成反応において、触媒として重用さ
れている。
ところで、これら有）ａ錫化合物を製造する場合には副
生ずる有機錫化合物を除去すること、また、有機合成反
応において触媒として使用する場合、生成した反応混合
物から除去することが必要である。しかしながら、有機
錫化合物を洗浄、濾過、蒸留、再結晶などの通常の方法
により除去することには種々の難点があった。
生ずる有機錫化合物を除去すること、また、有機合成反
応において触媒として使用する場合、生成した反応混合
物から除去することが必要である。しかしながら、有機
錫化合物を洗浄、濾過、蒸留、再結晶などの通常の方法
により除去することには種々の難点があった。
すなわち、有機錫化合物は通常、水不溶性または水難溶
性のため有機層に溶解しており、水洗浄のみによって反
応系から除去することはほとんど不可能である。また、
アルカリ水溶液を用いて対応する水酸化物にするなどし
て、溶媒に不溶性の化合物に変えて濾過する方法もある
が、水酸化物の粒子形が微細であり、濾過効率が悪＜、
１ｊ、過に長時間を要し、工業上問題である。このよう
なことから、蒸留操作により目的物を分取して、有機錫
化合物を残香として得る方法または再結晶などの手段に
より母液中に残す方法などが採られてきていた。ところ
が、これらの方法はいずれも特殊な装置を要することな
どの設備上の問題があり、また、有機錫化合物の除去率
、目的物の収率などの点で工業的に満足できる結果が得
られていないのが実状である。
性のため有機層に溶解しており、水洗浄のみによって反
応系から除去することはほとんど不可能である。また、
アルカリ水溶液を用いて対応する水酸化物にするなどし
て、溶媒に不溶性の化合物に変えて濾過する方法もある
が、水酸化物の粒子形が微細であり、濾過効率が悪＜、
１ｊ、過に長時間を要し、工業上問題である。このよう
なことから、蒸留操作により目的物を分取して、有機錫
化合物を残香として得る方法または再結晶などの手段に
より母液中に残す方法などが採られてきていた。ところ
が、これらの方法はいずれも特殊な装置を要することな
どの設備上の問題があり、また、有機錫化合物の除去率
、目的物の収率などの点で工業的に満足できる結果が得
られていないのが実状である。
−ｉに、有ａ錫化合物を触媒とする反応では目的物が好
収率、好品質で得られることから、特別な精製手段を用
いることなく、この触媒を除去することができれば、目
的物はそのまま製品として使用し得るのである。したが
って、本発明は有機錫化合物含有液から簡便かつ効率よ
く、有機錫化合物を除去する方法を提供することを目的
としている。
収率、好品質で得られることから、特別な精製手段を用
いることなく、この触媒を除去することができれば、目
的物はそのまま製品として使用し得るのである。したが
って、本発明は有機錫化合物含有液から簡便かつ効率よ
く、有機錫化合物を除去する方法を提供することを目的
としている。
上記目的を達成するために、本発明者らは鋭意検討した
結果、吸着剤を用いて、有機錫化合物を吸着させること
により容易に有機錫化合物のみを除去し得ることを見出
し、本発明を完成させるに至った・ 本発明は、有機錫化合物含有液へ吸着剤を加えて、有機
錫化合物のみを吸着させ除去することを特徴とする有ａ
錫化合物の除去方法に関する。
結果、吸着剤を用いて、有機錫化合物を吸着させること
により容易に有機錫化合物のみを除去し得ることを見出
し、本発明を完成させるに至った・ 本発明は、有機錫化合物含有液へ吸着剤を加えて、有機
錫化合物のみを吸着させ除去することを特徴とする有ａ
錫化合物の除去方法に関する。
本発明を通用し得る有機錫化合物としては、有機錫ハラ
イド（有機錫ハライド、有機錫ブロマイド、有機錫アイ
オダイドなど）、有機錫ハライド、有Ｊａ錫酸、有機錫
ハイドロオキサイド、有８！錫スルフイソド、有機錫メ
ルカプタン、有ａ ＳＲ硫酸塩、有機錫アルコキサイド
（アルコキサイド部は炭素数１〜８個のアルキル基を含
む）、有機錫カルボン酸、その塩（アルカリ金属、アル
カリ土類金属、銅、亜鉛、アルミニウムなどの塩）、も
しくはエステル（エステル部は炭素数１〜８個のアルキ
ル、アリール、アラルキル基を含む）または有機錫チオ
アルカン酸エステル（エステル部は炭素数１〜８個のア
ルキル基を含む）などが挙げられ、各々モノ−、ジーお
よびトリー有機錫化合物が含まれる。置換基としては炭
素数１〜８個のアルキル基（メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オク
チル、２−エチルヘキシル、ｌ、ｌ、３，３テトラメチ
ルブチルなどが挙げられ、特にブチル、オクチルが好ま
しい）、炭素数３〜７個のシクロアルキル（シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチ
ルなどが挙げられ、特にシクロヘキシルが好ましい）、
フェニル、置換フェニル（置換基としては、好ましくは
炭素数１〜８個のアルキル基が挙げられる）、アラルキ
ル（ベンジル、ベンズヒドリル、トリチル、２−フヱニ
ルヘキシル、ネオフィルなど）などの炭素数１〜１８個
の炭化水素基を意味する。
イド（有機錫ハライド、有機錫ブロマイド、有機錫アイ
オダイドなど）、有機錫ハライド、有Ｊａ錫酸、有機錫
ハイドロオキサイド、有８！錫スルフイソド、有機錫メ
ルカプタン、有ａ ＳＲ硫酸塩、有機錫アルコキサイド
（アルコキサイド部は炭素数１〜８個のアルキル基を含
む）、有機錫カルボン酸、その塩（アルカリ金属、アル
カリ土類金属、銅、亜鉛、アルミニウムなどの塩）、も
しくはエステル（エステル部は炭素数１〜８個のアルキ
ル、アリール、アラルキル基を含む）または有機錫チオ
アルカン酸エステル（エステル部は炭素数１〜８個のア
ルキル基を含む）などが挙げられ、各々モノ−、ジーお
よびトリー有機錫化合物が含まれる。置換基としては炭
素数１〜８個のアルキル基（メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オク
チル、２−エチルヘキシル、ｌ、ｌ、３，３テトラメチ
ルブチルなどが挙げられ、特にブチル、オクチルが好ま
しい）、炭素数３〜７個のシクロアルキル（シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンチ
ルなどが挙げられ、特にシクロヘキシルが好ましい）、
フェニル、置換フェニル（置換基としては、好ましくは
炭素数１〜８個のアルキル基が挙げられる）、アラルキ
ル（ベンジル、ベンズヒドリル、トリチル、２−フヱニ
ルヘキシル、ネオフィルなど）などの炭素数１〜１８個
の炭化水素基を意味する。
これら有機錫化合物としては、具体的にはたとえば、ジ
メチル錫オキサイド、ジブチル錫オキサイド、ジオクチ
ル錫オキサイド、ビス１、ジブチル錫オキサイド、モノ
ブチル錫オキサイド°、モツプチル錫酸、モノメチル錫
酸、モノオクチル錫酸、モノフェニル錫酸などの有機錫
酸化物、ジプチル錫スルフイソド、ジフェニル錫スルフ
イツトなどの有機錫硫化物、モノブチル錫トリクロリｌ
゛、ジブチル錫ジブロミト、モノフェニル錫トリプロミ
ドなどの有機錫ハロゲン化物、ジブチル錫スルフェート
などの有機錫硫酸塩、ジメチル錫ジアセテート、ジメチ
ル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジアセテート、トリフ
ェニル錫アセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオク
チル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエートなどの有機
錫カルボン酸エステル、ジプチル錫チオグリコレート、
ジブチル錫β−メルカプトプロピオネート オアルカン酸エステル、ジブチル錫ジチオールなどの有
１ｆｆｉｇｌメルカプタン、ジオクチル錫ジメトキサ・
イド、ジオクチル錫ジブトキサイド、ジブチル錫ジフェ
ノキサイドなどの有機錫アルコキサイドやフェノキサイ
ド、テトラブチル錫、テトラフェニル錫などのテトラア
ルキルまたはテトラアリール錫が挙げられるが、もちろ
んこれらに限定されるものではない。
メチル錫オキサイド、ジブチル錫オキサイド、ジオクチ
ル錫オキサイド、ビス１、ジブチル錫オキサイド、モノ
ブチル錫オキサイド°、モツプチル錫酸、モノメチル錫
酸、モノオクチル錫酸、モノフェニル錫酸などの有機錫
酸化物、ジプチル錫スルフイソド、ジフェニル錫スルフ
イツトなどの有機錫硫化物、モノブチル錫トリクロリｌ
゛、ジブチル錫ジブロミト、モノフェニル錫トリプロミ
ドなどの有機錫ハロゲン化物、ジブチル錫スルフェート
などの有機錫硫酸塩、ジメチル錫ジアセテート、ジメチ
ル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジアセテート、トリフ
ェニル錫アセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオク
チル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエートなどの有機
錫カルボン酸エステル、ジプチル錫チオグリコレート、
ジブチル錫β−メルカプトプロピオネート オアルカン酸エステル、ジブチル錫ジチオールなどの有
１ｆｆｉｇｌメルカプタン、ジオクチル錫ジメトキサ・
イド、ジオクチル錫ジブトキサイド、ジブチル錫ジフェ
ノキサイドなどの有機錫アルコキサイドやフェノキサイ
ド、テトラブチル錫、テトラフェニル錫などのテトラア
ルキルまたはテトラアリール錫が挙げられるが、もちろ
んこれらに限定されるものではない。
これら有機錫化合物含有液としては、有機錫化合物を製
造して得られる混合液、または有機錫化合物を触媒とし
て用いた反応により得られる混合液などがある。これら
は、通常有機溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類、クロロメタン、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素などが挙げられる）に溶解している。
造して得られる混合液、または有機錫化合物を触媒とし
て用いた反応により得られる混合液などがある。これら
は、通常有機溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類、クロロメタン、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素などが挙げられる）に溶解している。
有機錫化合物を吸着させために用いられる吸着剤として
は、合成シリカ塩、具体的には合成ケイ酸マグネシウム
または天然シリカ塩、具体的には酸性ケイ酸アルミニウ
ム（酸性白土）、またはシリカゲル、さらにはシリカア
ルミナ化合物などのケイ酸化合物が挙げられる。
は、合成シリカ塩、具体的には合成ケイ酸マグネシウム
または天然シリカ塩、具体的には酸性ケイ酸アルミニウ
ム（酸性白土）、またはシリカゲル、さらにはシリカア
ルミナ化合物などのケイ酸化合物が挙げられる。
有機錫化合物含有液へ吸着剤を添加し、約１０分から数
時間、約３０℃から約１５０℃に加熱することにより、
有機錫化合物の吸着剤表面への吸着が完了する。なお、
必要により濾過助剤（ケイソウ上、パーライト、セルロ
ース、アスベスト、プラスチック粒、マグネシア、セソ
コウ、活性炭、酸性白土、ツルカフロックなど）が使用
される。
時間、約３０℃から約１５０℃に加熱することにより、
有機錫化合物の吸着剤表面への吸着が完了する。なお、
必要により濾過助剤（ケイソウ上、パーライト、セルロ
ース、アスベスト、プラスチック粒、マグネシア、セソ
コウ、活性炭、酸性白土、ツルカフロックなど）が使用
される。
吸着剤の使用量は有機錫化合物に対して、約２０〜１０
０部（重量）、好ましくは３０〜７０部（重量）でよく
、また、濾過助剤の有機錫化合物に対しての使用量は約
１〜１０部（重量）、好ましくは３〜７部（重量）がよ
い。
０部（重量）、好ましくは３０〜７０部（重量）でよく
、また、濾過助剤の有機錫化合物に対しての使用量は約
１〜１０部（重量）、好ましくは３〜７部（重量）がよ
い。
こうして得られた錫化合物の吸着剤は濾過などの簡便な
方法により、はぼ完全に分離することができる。また、
必要に応じて遠心沈降操作などにより得た上澄み液を濾
過するとより効果的である。
方法により、はぼ完全に分離することができる。また、
必要に応じて遠心沈降操作などにより得た上澄み液を濾
過するとより効果的である。
このようにして得た有機層は必要に じ、本発明を反復
実施することにより、有機錫化合物の濃度を低減させる
ことができる。
実施することにより、有機錫化合物の濃度を低減させる
ことができる。
本発明により有機錫化合物が除去された反応生成物液は
、そのまま目的物として使用できるし、再結晶、蒸留、
カラムクロマトグラフなどの常法により目的物を単離、
精製することができる。
、そのまま目的物として使用できるし、再結晶、蒸留、
カラムクロマトグラフなどの常法により目的物を単離、
精製することができる。
本発明を実施することにより、反応系がら不要な有機錫
化合物を１０ｐｐｍの濃度にまで、はぼ完全に除去する
ことができ、また、特別な装置も不要であることから操
作もきわめて簡便であり、さらに目的物はほとんど除去
されないことから、工業的にすぐれた方法である。
化合物を１０ｐｐｍの濃度にまで、はぼ完全に除去する
ことができ、また、特別な装置も不要であることから操
作もきわめて簡便であり、さらに目的物はほとんど除去
されないことから、工業的にすぐれた方法である。
以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、
本発明はこれらにより限定されるものではない。錫残存
量は原子吸光光度法によった。
本発明はこれらにより限定されるものではない。錫残存
量は原子吸光光度法によった。
実施例１
３−（３，５−ジ第３級ブチルー４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸メチル１８２．７ｇ（０、６２５モル
）とペンタエリスリトール１９．３ ｇ（０，１４２モ
ル）およびジブチル錫オキサイド０．９ ｇ （０，０
０３６モル）からテトラキス〔３（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメ
チルコメタンを合成した。そのトルエン溶液３００ｇへ
合成ケイ酸マグネシウム（水沢化学型）４５ｇを加え、
室温で１時間撹拌する。濾過して有機層を分取した。錫
残存量は２ｐｐｍであった（除去率９９．９％）。
ル）プロピオン酸メチル１８２．７ｇ（０、６２５モル
）とペンタエリスリトール１９．３ ｇ（０，１４２モ
ル）およびジブチル錫オキサイド０．９ ｇ （０，０
０３６モル）からテトラキス〔３（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメ
チルコメタンを合成した。そのトルエン溶液３００ｇへ
合成ケイ酸マグネシウム（水沢化学型）４５ｇを加え、
室温で１時間撹拌する。濾過して有機層を分取した。錫
残存量は２ｐｐｍであった（除去率９９．９％）。
実施例２
実施例１において、ジブチル錫オキサイドの代わりにモ
ノブチル錫オキサイドを使用する。錫残存量は６ｐｐｍ
であった（除去率９９．７％）。
ノブチル錫オキサイドを使用する。錫残存量は６ｐｐｍ
であった（除去率９９．７％）。
実施例３
３−（３，５−ジ第３級ブチルー４−ヒドロキシフェノ
ール）プロピオン酸メチル１２４．８ｇ（０，４２７モ
ル）とオクタデシルアルコール８８６８ｇ（０，３２８
モル）およびモノブチル錫オキサイド０．１３ｇ（０，
０００７モル）からオクタデシル３− （３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキジフェニル）プロピオネート
を製造した。その融解液２１４ｇへ合成ケイ酸マグネシ
ウム（水沢化学製）３５ｇを加え、室温で０．５時間撹
拌する。
ール）プロピオン酸メチル１２４．８ｇ（０，４２７モ
ル）とオクタデシルアルコール８８６８ｇ（０，３２８
モル）およびモノブチル錫オキサイド０．１３ｇ（０，
０００７モル）からオクタデシル３− （３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキジフェニル）プロピオネート
を製造した。その融解液２１４ｇへ合成ケイ酸マグネシ
ウム（水沢化学製）３５ｇを加え、室温で０．５時間撹
拌する。
濾過して有機層を分取した。錫残存量は３ｐｐｍであっ
た（除去率９９．２％）。
た（除去率９９．２％）。
Claims (3)
- （１）有機錫化合物含有液へ吸着剤を加え、有機錫化合
物のみを吸着させて除去することを特徴とする有機錫化
合物の除去方法。 - （２）吸着剤がケイ酸化合物であることを特徴とする請
求項１記載の方法。 - （３）吸着剤が天然シリカ塩、合成シリカ塩またはシリ
カアルミナ化合物であることを特徴とする請求項１記載
の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7283989A JPH021494A (ja) | 1988-03-31 | 1989-03-23 | 有機錫化合物の除去方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-80906 | 1988-03-31 | ||
| JP8090688 | 1988-03-31 | ||
| JP7283989A JPH021494A (ja) | 1988-03-31 | 1989-03-23 | 有機錫化合物の除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021494A true JPH021494A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26413972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7283989A Pending JPH021494A (ja) | 1988-03-31 | 1989-03-23 | 有機錫化合物の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH021494A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104587975A (zh) * | 2015-01-23 | 2015-05-06 | 北京大学深圳研究生院 | 一种生物吸附剂的制备方法以及生物吸附剂的应用 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5233619A (en) * | 1975-09-04 | 1977-03-14 | Technion Res & Dev Foundation | Method of direct preparation of nnacyl derivatives of alphaaaminoo gammaaketo acid and its new compound |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP7283989A patent/JPH021494A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5233619A (en) * | 1975-09-04 | 1977-03-14 | Technion Res & Dev Foundation | Method of direct preparation of nnacyl derivatives of alphaaaminoo gammaaketo acid and its new compound |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104587975A (zh) * | 2015-01-23 | 2015-05-06 | 北京大学深圳研究生院 | 一种生物吸附剂的制备方法以及生物吸附剂的应用 |
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