JPH02153583A - 波長安定化制御装置 - Google Patents
波長安定化制御装置Info
- Publication number
- JPH02153583A JPH02153583A JP30684988A JP30684988A JPH02153583A JP H02153583 A JPH02153583 A JP H02153583A JP 30684988 A JP30684988 A JP 30684988A JP 30684988 A JP30684988 A JP 30684988A JP H02153583 A JPH02153583 A JP H02153583A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- interference fringe
- diameter
- image sensor
- wavelength
- fabry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/137—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、半導体製造プロセスにおけるリソグラフィ
ー(LSIのパターン露光)などの光源として使用され
る、狭帯化(波長選択)されたエキシマレーザのレーザ
発振装置の波長安定化制御装置に関するものである。
ー(LSIのパターン露光)などの光源として使用され
る、狭帯化(波長選択)されたエキシマレーザのレーザ
発振装置の波長安定化制御装置に関するものである。
特に、2次元に配置された複数のりニアイメージセンサ
によって、光の干渉縞(フリンジ)の直径を正確に求め
ることができるので、光軸のズレを容易に補正すること
ができる等の長所を有するレーザ発振装置の波長安定化
制御装置に関するものである。
によって、光の干渉縞(フリンジ)の直径を正確に求め
ることができるので、光軸のズレを容易に補正すること
ができる等の長所を有するレーザ発振装置の波長安定化
制御装置に関するものである。
[従来の技術]
従来例の構成を第4図及び第5図を参照しながら説明す
る。第4図は、例えばr IEEEJ ournal
Quantum E 1ectricsJQE−14
(1978)17頁に示された従来の波長安定化制御装
置を示すブロック図であり、第5図は、従来の波長安定
化制御装置の撮像素子(7)を示す平面図である。
る。第4図は、例えばr IEEEJ ournal
Quantum E 1ectricsJQE−14
(1978)17頁に示された従来の波長安定化制御装
置を示すブロック図であり、第5図は、従来の波長安定
化制御装置の撮像素子(7)を示す平面図である。
第4図において、従来の波長安定化制御装置は、レーザ
発振装置(1)から出力されたレーザ光の光軸上に設け
られたビームスプリッタ−(3)と、このビームスプリ
ッタ−(3)の直角方向の光軸上に設けられた散乱板(
4)と、この散乱板(4)の出口側に設けられたファブ
リペローエタロン(5)と、このファブリペローエタロ
ン(5)の出口側に設けられた凸レンズ(6)と、この
凸レンズ(6)の透過側に設けられた撮像素子(7)と
、この撮像素子(7)に接続された画像処理部(8)と
、この画像処理部(8)に入力側が接続されかつファブ
リペローエタロン(2)に出力側が接続されたサーボ機
構(9)とから構成されている。
発振装置(1)から出力されたレーザ光の光軸上に設け
られたビームスプリッタ−(3)と、このビームスプリ
ッタ−(3)の直角方向の光軸上に設けられた散乱板(
4)と、この散乱板(4)の出口側に設けられたファブ
リペローエタロン(5)と、このファブリペローエタロ
ン(5)の出口側に設けられた凸レンズ(6)と、この
凸レンズ(6)の透過側に設けられた撮像素子(7)と
、この撮像素子(7)に接続された画像処理部(8)と
、この画像処理部(8)に入力側が接続されかつファブ
リペローエタロン(2)に出力側が接続されたサーボ機
構(9)とから構成されている。
なお、レーザ発振装置(1)は、レーザ発振器(1a)
と、このレーザ発振器(1a)の両側に配置された全反
射ミラー(1b)及び部分反射ミラー(出力ミラー)(
lc)と、レーザ発振器(1a)と部分反射ミラー(l
c)の間に配置された波長選択素子例えばファブリペロ
ーエタロン(2)とから構成されている。
と、このレーザ発振器(1a)の両側に配置された全反
射ミラー(1b)及び部分反射ミラー(出力ミラー)(
lc)と、レーザ発振器(1a)と部分反射ミラー(l
c)の間に配置された波長選択素子例えばファブリペロ
ーエタロン(2)とから構成されている。
第5図において、撮像素子(7)は、1次元のイメージ
センサであるリニアイメージセンサ(7□)から構成さ
れている。このリニアイメージセンサ(71)は長辺方
向がX軸方向に沿うように配置されている。
センサであるリニアイメージセンサ(7□)から構成さ
れている。このリニアイメージセンサ(71)は長辺方
向がX軸方向に沿うように配置されている。
つぎに、上述した従来例の動作を第5図及び第6図を参
照しながら説明する。第6図は、従来の波長安定化制御
装置により得られた干渉縞の強度分布を示す波形図であ
る。
照しながら説明する。第6図は、従来の波長安定化制御
装置により得られた干渉縞の強度分布を示す波形図であ
る。
レーザ発振装置(1)から出力されたレーザ光の波長は
、光共振器の長さを変えることによって、すなわち、波
長選択素子であるファブリペローエタロン(2)のギャ
ップを変えることによって選択することができる。
、光共振器の長さを変えることによって、すなわち、波
長選択素子であるファブリペローエタロン(2)のギャ
ップを変えることによって選択することができる。
まず、レーザ発振装置(1)から出力されたレーザ光の
一部が、ビームスプリッタ−〈3)によって取り出され
、散乱板(4)によって散乱されて、ファブリペローエ
タロン(5)によって分光される。
一部が、ビームスプリッタ−〈3)によって取り出され
、散乱板(4)によって散乱されて、ファブリペローエ
タロン(5)によって分光される。
このファブリペローエタロン(5)を透過することがで
きる光の中心波長λmの条件は、λm= (2n d
cosθm>/m −・・ ■(たタシ、n:フ
ァブリペローエタロン(2)のギャップ内の屈折率、d
:ファブリペローエタロン(2)のギャップ、θIll
:ファブリペローエタロン(2)に対する入射角、II
:任意の整数)である。
きる光の中心波長λmの条件は、λm= (2n d
cosθm>/m −・・ ■(たタシ、n:フ
ァブリペローエタロン(2)のギャップ内の屈折率、d
:ファブリペローエタロン(2)のギャップ、θIll
:ファブリペローエタロン(2)に対する入射角、II
:任意の整数)である。
上記条件式■を満たす波長の光だけが、光軸に垂直な面
上に、同心状の干渉縞を発生することになる。この干渉
縞は、凸レンズ(6)によって集光されて、撮像素子(
7)上に導かれる。
上に、同心状の干渉縞を発生することになる。この干渉
縞は、凸レンズ(6)によって集光されて、撮像素子(
7)上に導かれる。
第6図の実線で示すように、干渉縞の強度分布が、画像
処理部(8)の演算処理によって得られる。
処理部(8)の演算処理によって得られる。
干渉縞の1つの直径Dmは、
Dm=2fθ… ・・・ ■
(ただし、f:凸レンズ(6)と撮像素子(7)との間
の距離、θm= areaos(mλm/2 n d)
)から求めることができる。
の距離、θm= areaos(mλm/2 n d)
)から求めることができる。
したがって、第5図及び第6図の点線で示すように、干
渉縞の光軸すなわち中心波長λ輪がズレると、第5図で
示すように、求める直径がDmからDa’ (Dm’
<Da)に変化し、正確な直径Dmが求められなくなる
。
渉縞の光軸すなわち中心波長λ輪がズレると、第5図で
示すように、求める直径がDmからDa’ (Dm’
<Da)に変化し、正確な直径Dmが求められなくなる
。
この直径DI11を表わす信号が、サーボ機1(9)に
フィードバックされ、光共振器の長さすなわちファブリ
ペローエタロン(2)のギャップがサーボi構く9)に
よって制御調節される。すなわち、0式より、レーザ光
の波長λ翔が長いと、干渉縞の直径DIIlが小さくな
り、波長λ輪が短いと、直径D−が大きくなる 従来の波長安定化制御装置は、上述したように1次元の
リニアイメージセンサを使用し、位相検波を利用した制
御を行っている。
フィードバックされ、光共振器の長さすなわちファブリ
ペローエタロン(2)のギャップがサーボi構く9)に
よって制御調節される。すなわち、0式より、レーザ光
の波長λ翔が長いと、干渉縞の直径DIIlが小さくな
り、波長λ輪が短いと、直径D−が大きくなる 従来の波長安定化制御装置は、上述したように1次元の
リニアイメージセンサを使用し、位相検波を利用した制
御を行っている。
[発明が解決しようとする課題]
上述したような従来の波長安定化制御装置では、撮像素
子として1次元のイメージセンサを使用しているので、
撮像素子を干渉縞の光軸上に正確に配置するように調節
しなければならないという問題点があった。
子として1次元のイメージセンサを使用しているので、
撮像素子を干渉縞の光軸上に正確に配置するように調節
しなければならないという問題点があった。
また、熱や振動などにより撮像素子と干渉縞の光軸がズ
しても、補正をすることができないという問題点があっ
た。
しても、補正をすることができないという問題点があっ
た。
この発明は、上述した問題点を解決するためになされた
もので、撮像素子を干渉縞の光軸上に配置するように調
節することが容易になり、撮像素子と干渉縞の光軸のズ
レを補正することができる波長安定化制御装置を得るこ
とを目的とする。
もので、撮像素子を干渉縞の光軸上に配置するように調
節することが容易になり、撮像素子と干渉縞の光軸のズ
レを補正することができる波長安定化制御装置を得るこ
とを目的とする。
[課題を解決するための手段]
この発明に係る波長安定化制御装置は、以下に述べるよ
うな手段を備えたものである。
うな手段を備えたものである。
(i)、レーザ光の一部を散乱し分光して集光する光学
手段。
手段。
(ii)、上記集光された光の干渉縞を2次元的に撮像
する撮像素子。
する撮像素子。
(ii)、上記2次元的に撮像された干渉縞の像を演算
処理してその干渉縞の位置を求める画像処理部。
処理してその干渉縞の位置を求める画像処理部。
(iv)、上記求めた干渉縞の位置に基づいて上記レー
ザ光の波長を選択する波長選択素子を制御するサーボ機
構。
ザ光の波長を選択する波長選択素子を制御するサーボ機
構。
[作用]
この発明においては、撮像素子によって、集光された光
の干渉縞が2次元的に撮像される。
の干渉縞が2次元的に撮像される。
つづいて、画像処理部によって、上記2次元的に撮像さ
れた干渉縞の像が演算処理されて、その干渉縞の位置が
求められる。
れた干渉縞の像が演算処理されて、その干渉縞の位置が
求められる。
そして、サーボ機構によって、上記求めた干渉縞の位置
に基づいて、レーザ光の波長を選択する波長選択素子が
制御される。
に基づいて、レーザ光の波長を選択する波長選択素子が
制御される。
[実施例]
2つの実施例、すなわち第1実施例及び第2実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
最初に、第1実施例の構成を第1図及び第2図を参照し
ながら説明する。第1図は、この発明の第1実施例を示
すブロック図であり、撮像素子(7^)以外は上記従来
装置のものと全く同一である。
ながら説明する。第1図は、この発明の第1実施例を示
すブロック図であり、撮像素子(7^)以外は上記従来
装置のものと全く同一である。
また、第2図は、この発明の第1実施例の撮像素子(7
^)を示す平面図である。
^)を示す平面図である。
第1図において、この発明の第1実施例は、上述した従
来装置のものと全く同一のものと、凸レンズ(6)の透
過側に設けられた撮像素子(7^)とから構成されてい
る。
来装置のものと全く同一のものと、凸レンズ(6)の透
過側に設けられた撮像素子(7^)とから構成されてい
る。
ここで、この発明の光学手段は、ビームスプリッタ−(
3)と、散乱板く4)と、ファブリペローエタロン(5
)と、凸レンズ(6)とから構成されている。
3)と、散乱板く4)と、ファブリペローエタロン(5
)と、凸レンズ(6)とから構成されている。
第2図において、撮像素子(7^)は、3つのリニアイ
メージセンサ(7a)、(7b)及び(7c)から構成
されている。これらのリニアイメージセンサ(7a)、
(7b)及び(7c)は、凸レンズ(6)から距離(f
)だけ離れ光軸に垂直な面内に配置され、リニアイメー
ジセンサ(7a)は長辺方向がy軸方向に沿うように配
置され、リニアイメージセンサ(7b)及び(7C)は
同様に長辺方向がそれぞれ=×軸及び+X軸方向に沿う
ように配置されている。
メージセンサ(7a)、(7b)及び(7c)から構成
されている。これらのリニアイメージセンサ(7a)、
(7b)及び(7c)は、凸レンズ(6)から距離(f
)だけ離れ光軸に垂直な面内に配置され、リニアイメー
ジセンサ(7a)は長辺方向がy軸方向に沿うように配
置され、リニアイメージセンサ(7b)及び(7C)は
同様に長辺方向がそれぞれ=×軸及び+X軸方向に沿う
ように配置されている。
つぎに、上述した第1実施例の動作を第2図を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
第2図で示すように、1つの干渉縞が3つのリニアイメ
ージセンサ(7a)、(7b)及び(7C)上につくる
光の強度のピーク位置をA(0,y+>、B (X2,
0>、C(X3,0)とすると、この干渉縞の中心(a
、b)は、(a、b)=((x2+xs)/2. (y
+’+xzx+)/2y+1と表され、また直径りは、 o =I ((xz’+y12)(xi”+y+”))
/yと表される。
ージセンサ(7a)、(7b)及び(7C)上につくる
光の強度のピーク位置をA(0,y+>、B (X2,
0>、C(X3,0)とすると、この干渉縞の中心(a
、b)は、(a、b)=((x2+xs)/2. (y
+’+xzx+)/2y+1と表され、また直径りは、 o =I ((xz’+y12)(xi”+y+”))
/yと表される。
したがって、干渉縞の円の中心がx軸上にない場合でも
、その直径を正確に知ることができる。
、その直径を正確に知ることができる。
サーボ機f11(9)は、上述した直径りと、初期に設
定した値とを比較してファブリペローエタロン(2)を
制御する。
定した値とを比較してファブリペローエタロン(2)を
制御する。
上述したこの発明の第1実施例は、2次元的に配置され
た3つのリニアイメージセンサ(7a)、(7b)及び
(7c)を使用したので、光軸がズしても、干渉縞の中
心及び直径を求めることができるので、波長を長時間安
定に制御することができる。
た3つのリニアイメージセンサ(7a)、(7b)及び
(7c)を使用したので、光軸がズしても、干渉縞の中
心及び直径を求めることができるので、波長を長時間安
定に制御することができる。
また、光軸ズレや面ぶれを補正できるので、撮像素子で
あるリニアイメージセンサ()a)、(7b)及び(7
c)の取り付は精度の許容範囲が大きくなり、工作が容
易になる他、部品加工が安価で済む。
あるリニアイメージセンサ()a)、(7b)及び(7
c)の取り付は精度の許容範囲が大きくなり、工作が容
易になる他、部品加工が安価で済む。
第2番目に、この発明の第2実施例の構成及び動作を第
3図を参照しながら説明する。第3図は、この発明の第
2実施例の撮像素子(7B)を示す平面図である。
3図を参照しながら説明する。第3図は、この発明の第
2実施例の撮像素子(7B)を示す平面図である。
この発明の第2実施例は、上述した第1実施例のうち撮
像素子(7^)の代わりに、撮像素子(7B)から構成
されている。
像素子(7^)の代わりに、撮像素子(7B)から構成
されている。
第3図において、撮像素子(7B)は、6つのリニアイ
メージセンサ(7d)、(7e)、(7f)、(7g)
、(7h)及び(71)から構成されている。これらの
リニアイメージセンサ(7d)、(7e)、(7r)、
(7g)、(7h)及び(71)は、凸レンズ(6)か
ら距離(f)だけ離れた面内に配置され、リニアイメー
ジセンサ(7d)は長辺方向が+x軸方向に沿うように
配置され、他のリニアイメージセンサ(7e)、(7f
)、(7g)、(7h)及び(71)は、リニアイメー
ジセンサ(7d)を基点にして同一面内に60度毎に配
置されている。
メージセンサ(7d)、(7e)、(7f)、(7g)
、(7h)及び(71)から構成されている。これらの
リニアイメージセンサ(7d)、(7e)、(7r)、
(7g)、(7h)及び(71)は、凸レンズ(6)か
ら距離(f)だけ離れた面内に配置され、リニアイメー
ジセンサ(7d)は長辺方向が+x軸方向に沿うように
配置され、他のリニアイメージセンサ(7e)、(7f
)、(7g)、(7h)及び(71)は、リニアイメー
ジセンサ(7d)を基点にして同一面内に60度毎に配
置されている。
したがって、干渉縞の位置に間するデータが6点得られ
るならば、センサ面が光軸に対して垂直でない場合でも
光軸ズレや面ぶれを補正できる。
るならば、センサ面が光軸に対して垂直でない場合でも
光軸ズレや面ぶれを補正できる。
なお、上記第1及び第2実施例では、干渉縞の位置が所
定の半径(r)以内にあることを条件にして、光軸位置
に関する警報を出すこともできる。
定の半径(r)以内にあることを条件にして、光軸位置
に関する警報を出すこともできる。
また、上記実施例では1次元のリニアイメージセンサを
複数配置して2次元の撮像素子を構成したが、例えばC
CD等の2次元の撮像素子を使用しても所期の目的を達
成し得ることはいうまでもない。
複数配置して2次元の撮像素子を構成したが、例えばC
CD等の2次元の撮像素子を使用しても所期の目的を達
成し得ることはいうまでもない。
[発明の効果]
この発明は、以上説明したとおり、レーザ光の一部を散
乱し分光して集光する光学手段と、上記集光された光の
干渉縞を2次元的に撮像する撮像素子と、上記2次元的
に撮像された干渉縞の像を演算処理してその干渉縞の位
置を求める画像処理部と、上記求めた干渉縞の位置に基
づいて上記レーザ光の波長を選択する波長選択素子を制
御するサーボ機構とを備えたので、撮像素子を干渉縞の
光軸上に配置するように調節することが容易になり、撮
像素子と干渉縞の光軸のズレを補正することができると
いう効果を奏する。
乱し分光して集光する光学手段と、上記集光された光の
干渉縞を2次元的に撮像する撮像素子と、上記2次元的
に撮像された干渉縞の像を演算処理してその干渉縞の位
置を求める画像処理部と、上記求めた干渉縞の位置に基
づいて上記レーザ光の波長を選択する波長選択素子を制
御するサーボ機構とを備えたので、撮像素子を干渉縞の
光軸上に配置するように調節することが容易になり、撮
像素子と干渉縞の光軸のズレを補正することができると
いう効果を奏する。
第1図はこの発明の第1実施例を示すブロック図、第2
図はこの発明の第1実施例の撮像素子を示す平面図、第
3図はこの発明の第2実施例の撮像素子を示す平面図、
第4図は従来の波長安定化制御装置を示すブロック図、
第5図は従来の波長安定化制御装置の撮像素子を示す平
面図、第6図は従来の波長安定(ヒ制御装置により得ら
れた干渉縞の強度分布を示す波形図である。 図において、 (1)・・・ レーザ発振装置、 (2)・・・ ファブリペローエタロン(波長選択素子
)、 (3・・・ (4・・・ 5 ・・・ 6 ・・・ 7Δ ・・・ 8 ・・・ 9 ・・・ なお、 を示す。 ビームスプリッタ− 散乱板、 ファブリペローエタロン、 凸レンズ、 撮像素子、 画像処理部、 サーボ機構である。 各図中、同一符号は同一、又は相当部分:−ミ、二ご−
ユ一二)す 元3図 不5図 Dm < Dm 釈G″函・璽
図はこの発明の第1実施例の撮像素子を示す平面図、第
3図はこの発明の第2実施例の撮像素子を示す平面図、
第4図は従来の波長安定化制御装置を示すブロック図、
第5図は従来の波長安定化制御装置の撮像素子を示す平
面図、第6図は従来の波長安定(ヒ制御装置により得ら
れた干渉縞の強度分布を示す波形図である。 図において、 (1)・・・ レーザ発振装置、 (2)・・・ ファブリペローエタロン(波長選択素子
)、 (3・・・ (4・・・ 5 ・・・ 6 ・・・ 7Δ ・・・ 8 ・・・ 9 ・・・ なお、 を示す。 ビームスプリッタ− 散乱板、 ファブリペローエタロン、 凸レンズ、 撮像素子、 画像処理部、 サーボ機構である。 各図中、同一符号は同一、又は相当部分:−ミ、二ご−
ユ一二)す 元3図 不5図 Dm < Dm 釈G″函・璽
Claims (1)
- レーザ光の一部を散乱し分光して集光する光学手段、上
記集光された光の干渉縞を2次元的に撮像する撮像素子
、上記2次元的に撮像された干渉縞の像を演算処理して
その干渉縞の位置を求める画像処理部、及び上記求めた
干渉縞の位置に基づいて上記レーザ光の波長を選択する
波長選択素子を制御するサーボ機構を備えたことを特徴
とする波長安定化制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30684988A JPH02153583A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 波長安定化制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30684988A JPH02153583A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 波長安定化制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02153583A true JPH02153583A (ja) | 1990-06-13 |
Family
ID=17961993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30684988A Pending JPH02153583A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 波長安定化制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02153583A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002097936A3 (en) * | 2001-05-31 | 2003-05-01 | Altitun Ab | Apparatus and method for controlling the operating wavelength of a laser |
| US6859469B2 (en) | 2001-12-11 | 2005-02-22 | Adc Telecommunications, Inc. | Method and apparatus for laser wavelength stabilization |
| US7038782B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-05-02 | Adc Telecommunications, Inc. | Robust wavelength locker for control of laser wavelength |
| JP2019179934A (ja) * | 2015-05-22 | 2019-10-17 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | パルス光ビームのスペクトルフィーチャ計測 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01310583A (ja) * | 1988-06-09 | 1989-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 波長可変レーザ装置 |
| JPH0244219A (ja) * | 1988-08-04 | 1990-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 波長検出装置 |
-
1988
- 1988-12-06 JP JP30684988A patent/JPH02153583A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01310583A (ja) * | 1988-06-09 | 1989-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 波長可変レーザ装置 |
| JPH0244219A (ja) * | 1988-08-04 | 1990-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 波長検出装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002097936A3 (en) * | 2001-05-31 | 2003-05-01 | Altitun Ab | Apparatus and method for controlling the operating wavelength of a laser |
| US6859469B2 (en) | 2001-12-11 | 2005-02-22 | Adc Telecommunications, Inc. | Method and apparatus for laser wavelength stabilization |
| US7038782B2 (en) | 2001-12-11 | 2006-05-02 | Adc Telecommunications, Inc. | Robust wavelength locker for control of laser wavelength |
| JP2019179934A (ja) * | 2015-05-22 | 2019-10-17 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | パルス光ビームのスペクトルフィーチャ計測 |
| CN112179493A (zh) * | 2015-05-22 | 2021-01-05 | 西默有限公司 | 脉冲光束的光谱特征量测 |
| CN112179493B (zh) * | 2015-05-22 | 2024-06-07 | 西默有限公司 | 脉冲光束的光谱特征量测 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4167677A (en) | Optical device for the alignment of two superimposed objects | |
| JP2704001B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| US5193120A (en) | Machine vision three dimensional profiling system | |
| US4636626A (en) | Apparatus for aligning mask and wafer used in semiconductor circuit element fabrication | |
| JP2821073B2 (ja) | ギャップ制御装置及びギャップ制御方法 | |
| EP0534758B1 (en) | Method and device for measuring positional deviation between a plurality of diffraction gratings on the same object | |
| EP0409573B1 (en) | Method of detecting positional deviation | |
| JP2006253671A (ja) | ビームドリフト補償装置及び方法 | |
| NL8600639A (nl) | Werkwijze voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. | |
| JP5149486B2 (ja) | 干渉計、形状測定方法 | |
| US20130188197A1 (en) | Interferometric apparatus for detecting 3d position of a diffracting object | |
| US6339471B1 (en) | Projection exposure apparatus | |
| JP2938187B2 (ja) | パターン形成方法及び同方法を実施するための装置 | |
| US11409199B2 (en) | Pattern drawing device | |
| US5170221A (en) | Parallel light ray measuring apparatus | |
| JP3189367B2 (ja) | アライメント装置および方法 | |
| JP2513300B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| JPH0319689B2 (ja) | ||
| JP3555666B2 (ja) | 位置検出方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
| JP2539047B2 (ja) | 位置合せ方法 | |
| JPH09269278A (ja) | レンズ性能測定方法及び測定装置 | |
| JP2581227B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| JP2805045B2 (ja) | 空間位置決め方法 | |
| JPH07111379B2 (ja) | 単色光源二光束干渉計 | |
| JPH05107346A (ja) | レーザドツプラ速度計 |