JPH02153583A - 波長安定化制御装置 - Google Patents

波長安定化制御装置

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JPH02153583A
JPH02153583A JP30684988A JP30684988A JPH02153583A JP H02153583 A JPH02153583 A JP H02153583A JP 30684988 A JP30684988 A JP 30684988A JP 30684988 A JP30684988 A JP 30684988A JP H02153583 A JPH02153583 A JP H02153583A
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JP
Japan
Prior art keywords
interference fringe
diameter
image sensor
wavelength
fabry
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Pending
Application number
JP30684988A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Kita
喜多 秀樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH02153583A publication Critical patent/JPH02153583A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、半導体製造プロセスにおけるリソグラフィ
ー(LSIのパターン露光)などの光源として使用され
る、狭帯化(波長選択)されたエキシマレーザのレーザ
発振装置の波長安定化制御装置に関するものである。
特に、2次元に配置された複数のりニアイメージセンサ
によって、光の干渉縞(フリンジ)の直径を正確に求め
ることができるので、光軸のズレを容易に補正すること
ができる等の長所を有するレーザ発振装置の波長安定化
制御装置に関するものである。
[従来の技術] 従来例の構成を第4図及び第5図を参照しながら説明す
る。第4図は、例えばr  IEEEJ ournal
 Quantum E 1ectricsJQE−14
(1978)17頁に示された従来の波長安定化制御装
置を示すブロック図であり、第5図は、従来の波長安定
化制御装置の撮像素子(7)を示す平面図である。
第4図において、従来の波長安定化制御装置は、レーザ
発振装置(1)から出力されたレーザ光の光軸上に設け
られたビームスプリッタ−(3)と、このビームスプリ
ッタ−(3)の直角方向の光軸上に設けられた散乱板(
4)と、この散乱板(4)の出口側に設けられたファブ
リペローエタロン(5)と、このファブリペローエタロ
ン(5)の出口側に設けられた凸レンズ(6)と、この
凸レンズ(6)の透過側に設けられた撮像素子(7)と
、この撮像素子(7)に接続された画像処理部(8)と
、この画像処理部(8)に入力側が接続されかつファブ
リペローエタロン(2)に出力側が接続されたサーボ機
構(9)とから構成されている。
なお、レーザ発振装置(1)は、レーザ発振器(1a)
と、このレーザ発振器(1a)の両側に配置された全反
射ミラー(1b)及び部分反射ミラー(出力ミラー)(
lc)と、レーザ発振器(1a)と部分反射ミラー(l
c)の間に配置された波長選択素子例えばファブリペロ
ーエタロン(2)とから構成されている。
第5図において、撮像素子(7)は、1次元のイメージ
センサであるリニアイメージセンサ(7□)から構成さ
れている。このリニアイメージセンサ(71)は長辺方
向がX軸方向に沿うように配置されている。
つぎに、上述した従来例の動作を第5図及び第6図を参
照しながら説明する。第6図は、従来の波長安定化制御
装置により得られた干渉縞の強度分布を示す波形図であ
る。
レーザ発振装置(1)から出力されたレーザ光の波長は
、光共振器の長さを変えることによって、すなわち、波
長選択素子であるファブリペローエタロン(2)のギャ
ップを変えることによって選択することができる。
まず、レーザ発振装置(1)から出力されたレーザ光の
一部が、ビームスプリッタ−〈3)によって取り出され
、散乱板(4)によって散乱されて、ファブリペローエ
タロン(5)によって分光される。
このファブリペローエタロン(5)を透過することがで
きる光の中心波長λmの条件は、λm= (2n d 
cosθm>/m   −・・  ■(たタシ、n:フ
ァブリペローエタロン(2)のギャップ内の屈折率、d
:ファブリペローエタロン(2)のギャップ、θIll
:ファブリペローエタロン(2)に対する入射角、II
:任意の整数)である。
上記条件式■を満たす波長の光だけが、光軸に垂直な面
上に、同心状の干渉縞を発生することになる。この干渉
縞は、凸レンズ(6)によって集光されて、撮像素子(
7)上に導かれる。
第6図の実線で示すように、干渉縞の強度分布が、画像
処理部(8)の演算処理によって得られる。
干渉縞の1つの直径Dmは、 Dm=2fθ…     ・・・ ■ (ただし、f:凸レンズ(6)と撮像素子(7)との間
の距離、θm= areaos(mλm/2 n d)
)から求めることができる。
したがって、第5図及び第6図の点線で示すように、干
渉縞の光軸すなわち中心波長λ輪がズレると、第5図で
示すように、求める直径がDmからDa’ (Dm’ 
<Da)に変化し、正確な直径Dmが求められなくなる
この直径DI11を表わす信号が、サーボ機1(9)に
フィードバックされ、光共振器の長さすなわちファブリ
ペローエタロン(2)のギャップがサーボi構く9)に
よって制御調節される。すなわち、0式より、レーザ光
の波長λ翔が長いと、干渉縞の直径DIIlが小さくな
り、波長λ輪が短いと、直径D−が大きくなる 従来の波長安定化制御装置は、上述したように1次元の
リニアイメージセンサを使用し、位相検波を利用した制
御を行っている。
[発明が解決しようとする課題] 上述したような従来の波長安定化制御装置では、撮像素
子として1次元のイメージセンサを使用しているので、
撮像素子を干渉縞の光軸上に正確に配置するように調節
しなければならないという問題点があった。
また、熱や振動などにより撮像素子と干渉縞の光軸がズ
しても、補正をすることができないという問題点があっ
た。
この発明は、上述した問題点を解決するためになされた
もので、撮像素子を干渉縞の光軸上に配置するように調
節することが容易になり、撮像素子と干渉縞の光軸のズ
レを補正することができる波長安定化制御装置を得るこ
とを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明に係る波長安定化制御装置は、以下に述べるよ
うな手段を備えたものである。
(i)、レーザ光の一部を散乱し分光して集光する光学
手段。
(ii)、上記集光された光の干渉縞を2次元的に撮像
する撮像素子。
(ii)、上記2次元的に撮像された干渉縞の像を演算
処理してその干渉縞の位置を求める画像処理部。
(iv)、上記求めた干渉縞の位置に基づいて上記レー
ザ光の波長を選択する波長選択素子を制御するサーボ機
構。
[作用] この発明においては、撮像素子によって、集光された光
の干渉縞が2次元的に撮像される。
つづいて、画像処理部によって、上記2次元的に撮像さ
れた干渉縞の像が演算処理されて、その干渉縞の位置が
求められる。
そして、サーボ機構によって、上記求めた干渉縞の位置
に基づいて、レーザ光の波長を選択する波長選択素子が
制御される。
[実施例] 2つの実施例、すなわち第1実施例及び第2実施例につ
いて説明する。
最初に、第1実施例の構成を第1図及び第2図を参照し
ながら説明する。第1図は、この発明の第1実施例を示
すブロック図であり、撮像素子(7^)以外は上記従来
装置のものと全く同一である。
また、第2図は、この発明の第1実施例の撮像素子(7
^)を示す平面図である。
第1図において、この発明の第1実施例は、上述した従
来装置のものと全く同一のものと、凸レンズ(6)の透
過側に設けられた撮像素子(7^)とから構成されてい
る。
ここで、この発明の光学手段は、ビームスプリッタ−(
3)と、散乱板く4)と、ファブリペローエタロン(5
)と、凸レンズ(6)とから構成されている。
第2図において、撮像素子(7^)は、3つのリニアイ
メージセンサ(7a)、(7b)及び(7c)から構成
されている。これらのリニアイメージセンサ(7a)、
(7b)及び(7c)は、凸レンズ(6)から距離(f
)だけ離れ光軸に垂直な面内に配置され、リニアイメー
ジセンサ(7a)は長辺方向がy軸方向に沿うように配
置され、リニアイメージセンサ(7b)及び(7C)は
同様に長辺方向がそれぞれ=×軸及び+X軸方向に沿う
ように配置されている。
つぎに、上述した第1実施例の動作を第2図を参照しな
がら説明する。
第2図で示すように、1つの干渉縞が3つのリニアイメ
ージセンサ(7a)、(7b)及び(7C)上につくる
光の強度のピーク位置をA(0,y+>、B (X2,
0>、C(X3,0)とすると、この干渉縞の中心(a
、b)は、(a、b)=((x2+xs)/2. (y
+’+xzx+)/2y+1と表され、また直径りは、 o =I ((xz’+y12)(xi”+y+”))
/yと表される。
したがって、干渉縞の円の中心がx軸上にない場合でも
、その直径を正確に知ることができる。
サーボ機f11(9)は、上述した直径りと、初期に設
定した値とを比較してファブリペローエタロン(2)を
制御する。
上述したこの発明の第1実施例は、2次元的に配置され
た3つのリニアイメージセンサ(7a)、(7b)及び
(7c)を使用したので、光軸がズしても、干渉縞の中
心及び直径を求めることができるので、波長を長時間安
定に制御することができる。
また、光軸ズレや面ぶれを補正できるので、撮像素子で
あるリニアイメージセンサ()a)、(7b)及び(7
c)の取り付は精度の許容範囲が大きくなり、工作が容
易になる他、部品加工が安価で済む。
第2番目に、この発明の第2実施例の構成及び動作を第
3図を参照しながら説明する。第3図は、この発明の第
2実施例の撮像素子(7B)を示す平面図である。
この発明の第2実施例は、上述した第1実施例のうち撮
像素子(7^)の代わりに、撮像素子(7B)から構成
されている。
第3図において、撮像素子(7B)は、6つのリニアイ
メージセンサ(7d)、(7e)、(7f)、(7g)
、(7h)及び(71)から構成されている。これらの
リニアイメージセンサ(7d)、(7e)、(7r)、
(7g)、(7h)及び(71)は、凸レンズ(6)か
ら距離(f)だけ離れた面内に配置され、リニアイメー
ジセンサ(7d)は長辺方向が+x軸方向に沿うように
配置され、他のリニアイメージセンサ(7e)、(7f
)、(7g)、(7h)及び(71)は、リニアイメー
ジセンサ(7d)を基点にして同一面内に60度毎に配
置されている。
したがって、干渉縞の位置に間するデータが6点得られ
るならば、センサ面が光軸に対して垂直でない場合でも
光軸ズレや面ぶれを補正できる。
なお、上記第1及び第2実施例では、干渉縞の位置が所
定の半径(r)以内にあることを条件にして、光軸位置
に関する警報を出すこともできる。
また、上記実施例では1次元のリニアイメージセンサを
複数配置して2次元の撮像素子を構成したが、例えばC
CD等の2次元の撮像素子を使用しても所期の目的を達
成し得ることはいうまでもない。
[発明の効果] この発明は、以上説明したとおり、レーザ光の一部を散
乱し分光して集光する光学手段と、上記集光された光の
干渉縞を2次元的に撮像する撮像素子と、上記2次元的
に撮像された干渉縞の像を演算処理してその干渉縞の位
置を求める画像処理部と、上記求めた干渉縞の位置に基
づいて上記レーザ光の波長を選択する波長選択素子を制
御するサーボ機構とを備えたので、撮像素子を干渉縞の
光軸上に配置するように調節することが容易になり、撮
像素子と干渉縞の光軸のズレを補正することができると
いう効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1実施例を示すブロック図、第2
図はこの発明の第1実施例の撮像素子を示す平面図、第
3図はこの発明の第2実施例の撮像素子を示す平面図、
第4図は従来の波長安定化制御装置を示すブロック図、
第5図は従来の波長安定化制御装置の撮像素子を示す平
面図、第6図は従来の波長安定(ヒ制御装置により得ら
れた干渉縞の強度分布を示す波形図である。 図において、 (1)・・・ レーザ発振装置、 (2)・・・ ファブリペローエタロン(波長選択素子
)、 (3・・・ (4・・・ 5   ・・・ 6   ・・・ 7Δ   ・・・ 8   ・・・ 9   ・・・ なお、 を示す。 ビームスプリッタ− 散乱板、 ファブリペローエタロン、 凸レンズ、 撮像素子、 画像処理部、 サーボ機構である。 各図中、同一符号は同一、又は相当部分:−ミ、二ご−
ユ一二)す 元3図 不5図 Dm  < Dm 釈G″函・璽

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザ光の一部を散乱し分光して集光する光学手段、上
    記集光された光の干渉縞を2次元的に撮像する撮像素子
    、上記2次元的に撮像された干渉縞の像を演算処理して
    その干渉縞の位置を求める画像処理部、及び上記求めた
    干渉縞の位置に基づいて上記レーザ光の波長を選択する
    波長選択素子を制御するサーボ機構を備えたことを特徴
    とする波長安定化制御装置。
JP30684988A 1988-12-06 1988-12-06 波長安定化制御装置 Pending JPH02153583A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002097936A3 (en) * 2001-05-31 2003-05-01 Altitun Ab Apparatus and method for controlling the operating wavelength of a laser
US6859469B2 (en) 2001-12-11 2005-02-22 Adc Telecommunications, Inc. Method and apparatus for laser wavelength stabilization
US7038782B2 (en) 2001-12-11 2006-05-02 Adc Telecommunications, Inc. Robust wavelength locker for control of laser wavelength
JP2019179934A (ja) * 2015-05-22 2019-10-17 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー パルス光ビームのスペクトルフィーチャ計測

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01310583A (ja) * 1988-06-09 1989-12-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 波長可変レーザ装置
JPH0244219A (ja) * 1988-08-04 1990-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 波長検出装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01310583A (ja) * 1988-06-09 1989-12-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 波長可変レーザ装置
JPH0244219A (ja) * 1988-08-04 1990-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 波長検出装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002097936A3 (en) * 2001-05-31 2003-05-01 Altitun Ab Apparatus and method for controlling the operating wavelength of a laser
US6859469B2 (en) 2001-12-11 2005-02-22 Adc Telecommunications, Inc. Method and apparatus for laser wavelength stabilization
US7038782B2 (en) 2001-12-11 2006-05-02 Adc Telecommunications, Inc. Robust wavelength locker for control of laser wavelength
JP2019179934A (ja) * 2015-05-22 2019-10-17 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー パルス光ビームのスペクトルフィーチャ計測
CN112179493A (zh) * 2015-05-22 2021-01-05 西默有限公司 脉冲光束的光谱特征量测
CN112179493B (zh) * 2015-05-22 2024-06-07 西默有限公司 脉冲光束的光谱特征量测

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