JPH02154201A - 反射防止膜作成法 - Google Patents

反射防止膜作成法

Info

Publication number
JPH02154201A
JPH02154201A JP63309030A JP30903088A JPH02154201A JP H02154201 A JPH02154201 A JP H02154201A JP 63309030 A JP63309030 A JP 63309030A JP 30903088 A JP30903088 A JP 30903088A JP H02154201 A JPH02154201 A JP H02154201A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reflection preventing
reflection
film
low
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63309030A
Other languages
English (en)
Inventor
Akifumi Nishikawa
昭文 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fukui Prefecture
Original Assignee
Fukui Prefecture
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fukui Prefecture filed Critical Fukui Prefecture
Priority to JP63309030A priority Critical patent/JPH02154201A/ja
Publication of JPH02154201A publication Critical patent/JPH02154201A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 の  ′− 本発明は透明なプラスチ・ツク素置オおよびガラス素材
表面の反射率低≧織方法に間するものである。更に詳し
くは、 コーティングされた、透明なプラスチック素材
およびガラス素材を無一物、特に金属類を原着すること
なく、低温プラズマ処理することのみによって素材表面
に反射防止II能膿を作成する方法に間するものである
11且遣 光学機器に使われるレンズおよび窓なとは必ずフレネル
反射あるいはゴースト現象(化学と工業 第34巻17
1 (1981,No8)@照)が起きるので、反射防
止膜加工を施して使用されている。このような反射防止
技術は主として光学材料の性能白玉を目的に発鳴してき
たが、近年各挿表示装者の視角性の改良や太陽熱f11
用技両技術の材料による反射ロスの減少等、池の分野に
おいても反射防止の重要性はとhに高まっている。方法
的には、薄膜コーティングおよびカラスなとの素材表面
変成の2通りある。
これらの方法には、■低屈折率膜、■多層干渉膜、■多
孔質層のいずれかによる必要がある。
■低屈折率膜は光の干渉効果を応用するもので、低屈折
率材料(例えば、Mt<F2、氷晶石AIF+・3Na
F)の被膜を行う、他の例としては、低屈折率の含フツ
素ポリマーをレンズ表面にコーティングすることにより
臨界入射角を大きくシ。
反射率を低下する方法がある。ハーフルオロフテン−2
をプラズマ重合法によりレンズ表面にコーティングさせ
、反射防IE機能を付与している。   (4ppli
ed  0ptics、Vol、15.+32.197
B、No1)4j多層干渉詳は光の干渉理論に基つき高
屈折率躾、低犀折率膜を交互に積層したもので、マルチ
コートと言われる由綽である。これは単層膜に比へIl
k低反脣4率が低く、かつその分光特性は層数に応した
広い低NI4域(波長域)を有している。材料的には、
通常、 低PA所率膜としてMgF2.5iOa(屈折
$ 1.46)が、高屈折事績としてT102(lat
R率2.3)がよく用いられろ、この方法が、レンズな
との透明な嚢材表面の反*4$低減および増X!!効果
(反It防1と膜は吸収が少ないので反@1防止効果と
ともに増透効果をも、もっている)を行う方法として刊
用されている。これには真空蒸着法あるいはスパッタリ
ンク法なとがある。
現在使用されている蒸1オ料として(i、この池にAl
aOr、TiO2ZrO;なとが用いi、れてい■多孔
′M層は、カラス表面を!Ik機酸で処理したときに得
られるスケルトン層で代表されろように、 シリカなと
1氏屈i斤5X誘電1本の針4大またはスホンン秋構造
より成る。
本発明の低温プラズマ処理による方法は→+11J孔質
層によるものであり5本弁明に関する文献なとは皆職て
、全く新規な方法である。
が    ゛ する これら■、(■の金嘱蒸看法においては、カラスレンズ
では300〜41) Ot:の高温下で、慎看しうるの
に対し、プラスチックレンズでは高温処理によるレンズ
の白1嘲・比のために常温に近い低温下でMIFI、な
けれはならず、いろいろな工夫が必要となり、装置の複
雑化と操作の煩雑化か問題となっている。また、プラス
チックしンスの場合易染性と言った長所が金Ix類の薄
膜をレンズ表面にコートするため槽中性になり、反利防
止膜加工堵の染色か不iiT能となる。それ故、反1防
市膜加工前に染色しなければならず、プラスチックレン
ズの易染性と言った長所が半減し、この問題点を解決す
るのがIll l今されている。
す        の 本発明者らは上記の点に着目し、さらに矯正用プラスチ
ックレンズの将来性および太11111利用に看目し、
透明なカラス素材およびプラスチック素I才のN11防
IJニー能付与について鋭童広範囲な不読的研究を1テ
った結果、コーティングされた、プラスチック素を才お
よびカラス素材を1氏、!フラスマ曜I4ずろことによ
って所間の効果が躊られろことを見い出し、本発明を完
成した。
低温7ラスマによ7て素材表面Si域数しり2)0シ〜
教千イツク”2)0>のi!開内でエツチングされ、分
解されることは既知の如くである。この現象に注目し、
表面領域でシリコン系ハードコートを才をエツチングし
、分解することによってSiO,SiO2の多孔質層の
反射防止膜を作成することに成功した。このことについ
ては特許願63−227317に申請した。
そのバートコ−1才中に81以外の池の金属化合物を導
入したり、−aの有機コーティング材に、低温プラズマ
処理によって1反射防1F機能を有する金属1ヒ物(例
えは、 5iOp、Al2O3なと)になりつる金属化
合物の1つ以上を加えたりすることにより更に反鴫寸防
止機能を上げろと同時に1反11防+h III特有の
色を目を自由に変えることもできた。
本発明の目的は、従来の技術である金Ix頚の真空蒸着
法を用いずに、低温プラズマ処理法により透明なプラス
チックおよびカラス素材表面領域に、反射防IJ:ll
lとして知られている金@酸化(ヒ合物(酬えは、 5
iOa、Al20tなと)の多孔質層を形成し、反射防
止41111!膜を作成する方法を提供することにある
他の目的は、反射防+h嗅作成1肴に染色可能な利点を
提供することにある。すなわち、環1防止矯正プラスチ
ックレンズを消費者好みの色相に染色可能な利点にある
すなわち、低温プラズマ処理によって、反刺防止機能を
有する金属酸1ヒ物(削えは、S+021.八120:
なと)になりうろ金属化合物の1つ以上を加えたコーテ
ィング1才(金属含有$1.0重量%以上)によって処
理された、透明なプラスチック素材およびカラス素材を
低温フ゛ラス゛マ処理し、素材表面に反41防1ヒ8I
能を11与することを特徴とした反射防+h Ill1
作成法である。
11立盈j 本発明の透明なフラスナックW材およびカラス素材とは
嘴色および有色のレンズを意味しているのであって、そ
れらの板状素材をも意味する。
一般に用いられているハードコーティング争才としては
マルチラジカル架橋アクリル系剤や、7ミノIl詣硬化
系ハードコーティング剤なとの炭素鎖系、およびオルカ
ッシリコン化学に基礎を置くポリオルカッシロキサン系
コーティング剤のケイ索鎖系のIt を1料か用いられ
て(する。
本発明のコーチインク材とはL記の有機系FM脂、合成
樹脂および天然F!A詣口こSl、A1、M gなとの
有機および%jilll金1ヒ台物の1つ以上を加えた
コーティング化 およびSl、A1、fVI gなとの
有機金属化合物(例え(i、上記のホリオルカノシロキ
サン系コーティング材)の単独あるいCiそれらにSi
、  AI、Mgなとの有機および輿晴金属化合物の1
つ以上を加えたコーティング争才をン味するのであって
、これらの金1類はSl。
AltiよひM g金属化合物に限定されるものでなく
、低温プラズマ処理により反喝檀防止機能を有する金I
X#(ヒ物になりうる金111EIヒ合物を意味する。
また、そのコート処理法には湿式法および乾式法(CV
D法をも含む)があり、いずれの方法も本発明に過用す
る。
本発明のコーティングされた、透明なプラスチック素を
才およびカラス素材を低温プラズマ処理し、素を4表面
領域がエツチングされ、金属酸化物(例えは、 5iO
5SiO2、Al201なと)の多孔′M層の反射防I
F膜が形成される。この素材表面領域の活性1ヒをl?
うプラズマ処理条件の決定要素はガスの成分、圧力、流
量であり、さら二こ出力、  ’RF!時間で6す、 
これらにより反射防II:機能を有する金属酸1ヒ物の
多孔質層の反射防上膜形成の可能性が決定される。
本発明の7ラスマカスは窒素、酸素、水素、アルコン、
 ネオン、・hリウム、空気、水蒸気、I!素、アンモ
ニア、−酸化炭素、二酸化炭素。
iII+酸1ヒ窒素、二酸1ヒ望素、二酸化イオウ、フ
ロン等か有り、ざらに重合性プラズマカスかあり、これ
らは単!!I!または混合して使用5′r能であるが、
1キに金属酸1ヒ物の多孔N層の環11防【L膜彫銭の
可能性から酸素カスが有7hである。−万、酸素を滑ま
ないカスでも低温フラスマ処理によってランカル1ヒし
、大気中に取り出すとき酸素と結合するか、あるいく!
コート材中の酸素と結合して金属酸1ヒ物の多孔質層の
反射防止II Illを形成すると考えられ1反11防
上勃果はある。
本発明の目的を達成するには、低温プラズマ処理カスの
分圧50トル以下、より好ましくは5x(t:+−+ト
ル以下の雰囲χとする二とが望ましい。 20トルを越
えろ分圧をもつブ、ラズマ雰囲気中では、プラズマ処理
の幼果が急激に低下する。プラズマガスの流量は反応器
の容積およびプラズマガスの分圧により決定される。
出力は一般に1500ワツト以下で使用されろ場合が多
いが、処理時間との絹合せにより目的の性能をうること
が可能である。
プラズマ処理時間は素亭才の鏝IIや旧状および%理装
置などによって異なるが、通常数秒から数分間であり、
好ましくは1分〜5分間程度であ る。
プラズマカスを、コーティングされたプラスチック素亭
オおよびカラス素材の表面に作用させる場合、多くの絹
合せが考えられる。すなわち、反応器の構造、電源の積
xi、  m波数、放電旧式および電極の位置なとさま
ざまの選択が可能であ る。
プラズマ処理にあたり、電源としては高F#1波(13
,56M)l z)、マイクロ−&(2,45GHz)
、低迎波(数K Hz )なとがある0放電方式として
はグロー放電が有効である。また、電極の+i17 I
Iについては内部式および外部式等があるが、効果の均
一性を考えれF、?内部式の方が操作が容易である。
川下、実施例によフて本発明をざらに詳綱に説明fるか
、本発明は以下の実K 1%1に限定されるものてCi
ない。
実施例1 マルチランカル架(f!アクリル系l!IN¥1にオル
カッシロキサン系化合物(市版名 TS−56−T 應
山ソーダ■製)を50省置%添加したコーティング材で
処理された透明なフラスナックレンズ(CR−39)お
よびカラスレンズを下記の条件で低温プラズマ処理した
[プラズマ処理条件] 雰囲気カス:   Ot  20 +TI I / m
 i  n減圧度  :0.2torr 出力   :  300〜V 処理時間 :  2分 なお、比較のために上記のコーチインク材で処理されて
いない同様の素を才、フラスチックレンス(CR−39
)およびカラスレンズについても同一の条件で低温プラ
ズマ処理した。
その結果、コーチインクされたカラスレンズ、フラスナ
ックレンズのいずれの素材もslo、5i02金属酸化
物の多孔M1特有の反+14防1h機#li (マセン
タの色相)を示していたが、コーチインク されていな
いカラスレンズ、フラスチソクレンスのいずれの素手オ
も反qt防11:横特有の色相を呈していなかった。
なお、プラズマ処理されていないコーティングプラスチ
ックレンズ(拭HNo+)およびプラズマ処理されたコ
ーティングプラスチックレンズ”(試14 N on〉
ζこっtマ・てSEMによるそれらの表面写真(写真l
、2)、ESCAによる表面分析結果(表1)および可
視光の反引fS(表2)および透過率(表3)を示す。
以下余白 試料Notの表面写真 試料No■の表面写真 X  l  0000 xiooo。
表、1 E S C−1によろフ5ス“7処理前漫の表面状態分
析った0表!では、0/Siの比が変わらないのに対し
てSi/Cの比が大きくなっていることより5i−C結
合か分解され5i−0結台になっている。また、表2.
3では反射率は非常に小きくなり反射防止効果を、また
透過率は非常に高くなり増+!l効果を同時にそれぞれ
著しく改良させることかでき た。
表   2   反  射  5J(%)低温プラズマ
処理によって、写x1,2では素劃オ表面が鋭く工・フ
チングされ、多孔質層とな表 ;3   通 過 $ (% ) これらの結果より太陽エネルキー、旦、2日(1980
,No2) ニ記載さJL T LlるSiOおよUS
02のポーラスな反Il櫨防正機能膿を作成ずろことか
てきた。
実施例2 実#Il!mlと同様なハートコーチインク亭オで処理
された透明なプラスチック板およびカラス板についても
実権例1と同様の条件で低温プラスマク3理した結果、
同様な反11防jヒ鴎能が付与され た。
また、実施例1の7クリル系樹脂の代わりに天然樹脂あ
るいは曲の合成lS1詣を用いても同様な革古果が14
られた。
実145!11のハードコーティング争才にアルミニウ
ム5ee−フチレート(市販名、へSBD:  用研フ
ァインケミカル圏製)を加える二とによって反射防+h
膜特有の色相を変化させることができた。
なお、実権例1のフラスマ処理条件の1つτあろ’!;
17il気カスをアルゴンにし、、  +11!:、1
実施例1と同様の条件てフラスマ処理を1〒つた結果、
 多少の反射防止効果かえられた。
実権例3 エホキシ系樹脂(平、均讃、子t :3000 ’)に
エチルアセトアセテートアルミニウムシイソブロヒレー
ト(市販名、入L(コH: 用研ファインケミカル曲%
りを金属含有率が1.01i t%以−ヒになるよ″)
二二添加したハードコーティング側オで処理された透明
なプラスチックしンス(CF−39)およびカラスレン
スを実施例1と同様の条件で低温フラスマ処理した。
11Iと同様な多孔質層の反114 GRIt:機能か
付与されたが、その効果は小さい。
フラスマ処理されていないコーティングプラスチックレ
ンス(試料No−l1l)およびフラズマ処理されたコ
ーティングフラスチソクレンス(試¥JNoへ・)につ
いて、可現光の反41率(表4)および透I/81m(
表5)を示す。
表   4   反   11$(% )表 透過 墨 (% ) なお、上記のハードコーティングを才にエチルホリシリ
ケート霞縮合物を添加したハードコーティング参オで処
理した場合−層の反噌′l防市効果を与えた。また、こ
のコーティングを才にマグネンウムアルコレートMg(
OR);を添加した塙合反射防+h III特有の色相
を変化させることかでき た。
及」LΩJIJ 本発明の持重は金Ix!Iの真空蒸胃法と言ったば来の
技術を用いないで素材表面領楠のケイ業績系化合物およ
び金属化合物が低温フラスマ処理によって表面活性化さ
れ1次いで反射防止機能を有する5iO15102なと
の金[1ヒ物の膜が素材表面に容易に本代されるので真
空蒸着の高温やイオンブレーティングの高真空と言った
必要もない、そのため、装置の複雑化と操作の煩1ヒが
なく、熟練を要しない。
また、金属の幡寥貢によって反射防止膜の色相が変化す
ることは知られている0例えは、ンリカ系ではマゼンタ
色、1ヒンルコニュ、ラムではグリーン色を呈する。前
記の真空蒸W法では金属混合物を藺単に蒸胃すにとがて
きないため及側防1ヒ膿の色相を印章に変えろことがで
きない、これに対し本発明法で:i、金属製合物のハー
トコート躾に低温プラズマ処理し、反射防止機能を有す
る様々なM属1ヒ合物が生成ずろことによって、反利防
IL膿の色相を任童に変える二とかできると同時に1反
射防止機能も向りさせることかできる。
また、X空蒸W法でtテった反射防止8I能付与法では
フラスチック素財の易染性を変え、il染性になるのに
対して、本発明法ではプラスチック素側オの易染性を変
えることがないなと多くの特徴を有している。
また素材については、単にFJ iE用レしスに阻ろも
のてなく、例えはサンシャイン計画の1分野である太F
4a+ia給、鴎藁熱機器なと、その応用範囲は多岐に
、ドパいる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 低温プラズマ処理によって、反射防止機能を有する金属
    酸化物(例えば、SiO_2、Al_2O_3など)に
    なりうる金属化合物の1つ以上を加えたコーティング材
    (金属含有率1.0重量%以上)によって処理された、
    透明なプラスチック素材およびガラス素材を低温プラズ
    マ処理し、素材表面に反射防止機能を付与することを特
    徴とした反射防止膜作成法。
JP63309030A 1988-12-07 1988-12-07 反射防止膜作成法 Pending JPH02154201A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63309030A JPH02154201A (ja) 1988-12-07 1988-12-07 反射防止膜作成法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63309030A JPH02154201A (ja) 1988-12-07 1988-12-07 反射防止膜作成法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02154201A true JPH02154201A (ja) 1990-06-13

Family

ID=17988037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63309030A Pending JPH02154201A (ja) 1988-12-07 1988-12-07 反射防止膜作成法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02154201A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04191701A (ja) * 1990-11-26 1992-07-10 Akifumi Nishikawa 反射防止光学材料およびその製造法
JP2009276511A (ja) * 2008-05-14 2009-11-26 Renias:Kk 反射防止樹脂とその製造方法
JP2013003383A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Nissan Motor Co Ltd 耐摩耗性微細構造体及びその製造方法
CN111690904A (zh) * 2020-06-11 2020-09-22 国家纳米科学中心 一种耐高温减反光学膜及其制备方法和用途

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63128180A (ja) * 1986-11-17 1988-05-31 Canon Inc 機能性酸化すず薄膜の形成方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63128180A (ja) * 1986-11-17 1988-05-31 Canon Inc 機能性酸化すず薄膜の形成方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04191701A (ja) * 1990-11-26 1992-07-10 Akifumi Nishikawa 反射防止光学材料およびその製造法
JP2009276511A (ja) * 2008-05-14 2009-11-26 Renias:Kk 反射防止樹脂とその製造方法
JP2013003383A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Nissan Motor Co Ltd 耐摩耗性微細構造体及びその製造方法
CN111690904A (zh) * 2020-06-11 2020-09-22 国家纳米科学中心 一种耐高温减反光学膜及其制备方法和用途

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW562841B (en) Multilayer interference pigment with transparent middle layer
MY123962A (en) Tunable and removable plasma deposited antireflective coatings
KR20000070538A (ko) 광학 기판으로부터의 반사를 감소시키기 위한 코팅막, 반사 감소 방법 및 장치
JPH10500609A (ja) 柔軟な基体のための高い耐摩耗性及び柔軟なコーティング
CN105859153A (zh) 一种防雾减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法
Ducros et al. Optical performances of antireflective moth-eye structures. Comparison with standard vacuum antireflection coatings for application to outdoor lighting LEDs
US20070059942A1 (en) Plasma cvd process for manufacturing multilayer anti-reflection coatings
JPH02154201A (ja) 反射防止膜作成法
JPH07300346A (ja) 防汚性低反射率ガラスおよびその製造方法
JP2007504500A (ja) 光学基板上の反射防止被膜処理法と被膜処理された光学基板および被膜処理実施装置
Selhofer et al. Comparison of pure and mixed coating materials for AR coatings for use by reactive evaporation on glass and plastic lenses
JP2010128423A (ja) 光学物品およびその製造方法
JPH04247427A (ja) 透明被膜形成用塗布液、被膜付基材および液晶表示セル
JPH0274901A (ja) 反射防止機能付与法
JP2684364B2 (ja) 高屈折率コーティング膜
JPH04191701A (ja) 反射防止光学材料およびその製造法
TWI846402B (zh) 一種防霧塗層及其製備方法、及產品
JPS6193402A (ja) 反射防止性を有する染色光学物品
TWI887618B (zh) 一種親水塗層、製備方法及器件
Xu et al. Deposition of stain resistance coating by non-thermal plasma brush application to dental whitening
JP3387142B2 (ja) 防汚性低反射率ガラス物品
CN118531351B (zh) 一种鞋用光学镀膜材料
TWI903285B (zh) 製備塗層的方法、塗層、以及器件
CN114364528B (zh) 亲水性溅射ar涂层
JPS62148339A (ja) 紫外線吸収塗膜付き透明基材