JPH0215439A - 光ディスク原盤用レジスト塗布装置 - Google Patents
光ディスク原盤用レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPH0215439A JPH0215439A JP63166131A JP16613188A JPH0215439A JP H0215439 A JPH0215439 A JP H0215439A JP 63166131 A JP63166131 A JP 63166131A JP 16613188 A JP16613188 A JP 16613188A JP H0215439 A JPH0215439 A JP H0215439A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist film
- disk
- resist
- convex lens
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオディスク、ディジタルオーディオディ
スク、静止画・文書ファイルなどの光ディスクを作製す
るだめの光ディスク原盤用レジスト塗布装置に関するも
のである。
スク、静止画・文書ファイルなどの光ディスクを作製す
るだめの光ディスク原盤用レジスト塗布装置に関するも
のである。
従来の技術
一般に光ディスクはその情報密度が極めて大きいことや
、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生する光ディスクとしても近年研究開発が行な
われている。
、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生する光ディスクとしても近年研究開発が行な
われている。
以下、図面を参照しながら上述した従来の光ディスク原
盤用レジスト塗布装置の一例について説明する。第６図
は、従来の光ディスク原盤用レジスト塗布装置の概要を
示すものである。第５図において、１はレジスト液吐出
口、２はガラス盤、３はターンテーブルである。レジス
ト膜を形成するには、光ディスク原盤としてガラス盤を
使用し、精密洗浄したガラス盤２をターンテーブル３に
載せ、ターンテーブルを一定の低速度（５０〜１１００
ｒｐ ）で回転しながらレジスト液をレジスト液吐出口
１よシ滴下し、滴下終了後一定の高速度（３ｏＯ〜１０
１０００ｒｐで回転することによりガラス盤２上にレジ
スト膜を形成する。ここでレジスト膜厚はレジスト液の
濃度、高速の回転数および回転時間で決まシ、通常は初
期に条件出しを行ない、その条件に従いレジスト液の濃
度、高速の回転数および回転時間とも常に一定の状態で
レジスト膜の形成を行なっている。形成したレジスト膜
の膜厚の測定は、レジスト膜形成後別の測定器において
行なっている。
盤用レジスト塗布装置の一例について説明する。第６図
は、従来の光ディスク原盤用レジスト塗布装置の概要を
示すものである。第５図において、１はレジスト液吐出
口、２はガラス盤、３はターンテーブルである。レジス
ト膜を形成するには、光ディスク原盤としてガラス盤を
使用し、精密洗浄したガラス盤２をターンテーブル３に
載せ、ターンテーブルを一定の低速度（５０〜１１００
ｒｐ ）で回転しながらレジスト液をレジスト液吐出口
１よシ滴下し、滴下終了後一定の高速度（３ｏＯ〜１０
１０００ｒｐで回転することによりガラス盤２上にレジ
スト膜を形成する。ここでレジスト膜厚はレジスト液の
濃度、高速の回転数および回転時間で決まシ、通常は初
期に条件出しを行ない、その条件に従いレジスト液の濃
度、高速の回転数および回転時間とも常に一定の状態で
レジスト膜の形成を行なっている。形成したレジスト膜
の膜厚の測定は、レジスト膜形成後別の測定器において
行なっている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような構成では、レジスト液濃度の
ばらつき、回転数のムラ、環境およびガラス盤の温度の
変化などによりレジスト膜厚が変化し、一定の均一なレ
ジスト膜を形成することが出来ない。
ばらつき、回転数のムラ、環境およびガラス盤の温度の
変化などによりレジスト膜厚が変化し、一定の均一なレ
ジスト膜を形成することが出来ない。
本発明は上記の課題に鑑み、さらに高精度の光ディスク
を作製出来る光ディスク原盤用レジスト塗布装置を提供
するものである。
を作製出来る光ディスク原盤用レジスト塗布装置を提供
するものである。
課題を解決するための手段
上記の課題を解決するために本発明の光ディスク原盤用
レジスト塗布装置は、レーザを用いた光学方式のレジス
ト膜厚モニターを設け、レジスト塗布時の回転数あるい
は回転時間をコントロールするものである。
レジスト塗布装置は、レーザを用いた光学方式のレジス
ト膜厚モニターを設け、レジスト塗布時の回転数あるい
は回転時間をコントロールするものである。
作用
本発明は上記構成によりレジスト膜の形成時にレジスト
膜の厚みがモニター出来かつ常に一定の均一な膜厚のレ
ジスト膜を形成することが出来る。
膜の厚みがモニター出来かつ常に一定の均一な膜厚のレ
ジスト膜を形成することが出来る。
実施例
以下本発明の一実施例の光ディスク原盤用レジスト塗布
装置について図面を参照しながら説明する。
装置について図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の第１の実施例における光ディスク原盤
用レジスト塗布装置の概要を示すものである。第１図に
おいて、１１はレジスト液吐出口、１２はガラス盤、１
３はターンテーブル、１４はモニター用光学系である。
用レジスト塗布装置の概要を示すものである。第１図に
おいて、１１はレジスト液吐出口、１２はガラス盤、１
３はターンテーブル、１４はモニター用光学系である。
また、第２図は第１図の光学系１４の構成を示したもの
であり、第３図は光学系よシ測定した信号の処理系を示
すものである。第２図および第４図において、１６はへ
リウ、ＩＡ−ネオン（Ｈｅ−Ｈｅ＞レーザ、１６はコー
ナーミラー、１７はハーフミラ−１１８は凸レンズ、１
９はビームスプリッタ−１２０はλ／４板、２１はディ
テクター、２２は増幅器、２３は比較器、２４は直流電
源、２５はコントローラである。
であり、第３図は光学系よシ測定した信号の処理系を示
すものである。第２図および第４図において、１６はへ
リウ、ＩＡ−ネオン（Ｈｅ−Ｈｅ＞レーザ、１６はコー
ナーミラー、１７はハーフミラ−１１８は凸レンズ、１
９はビームスプリッタ−１２０はλ／４板、２１はディ
テクター、２２は増幅器、２３は比較器、２４は直流電
源、２５はコントローラである。
レジスト膜厚モニターには第２図に示すよう【Ｈｅ −
Ｎｅ レーザ光を用い、ガラス盤からのレーザの反射
光量がレジスト膜の厚みにより変化することよりその相
関値によりコントロールするものである。第３図にガラ
ス盤上のレジスト膜厚とその反射率（従って反射光量）
の関係を示した。図において曲線は正弦波曲線であシ、
λ／４Ｎ（λ：再生波長、Ｎニレジスト膜の屈折率）の
整数倍でピーク値となる。
Ｎｅ レーザ光を用い、ガラス盤からのレーザの反射
光量がレジスト膜の厚みにより変化することよりその相
関値によりコントロールするものである。第３図にガラ
ス盤上のレジスト膜厚とその反射率（従って反射光量）
の関係を示した。図において曲線は正弦波曲線であシ、
λ／４Ｎ（λ：再生波長、Ｎニレジスト膜の屈折率）の
整数倍でピーク値となる。
まず）コーナーミラー１６．ハーフミラ−１７゜凸レン
ズ１８．ビームスプリッタ−１９，λ／４板２０．凸レ
ンズ１８の順に通しだＨｅ−Ｈｅレーザ光のガラス盤１
２からの反射光をディテクター２１で受けることにより
絞シ込み用凸レンズ１８をガラス盤上に焦点合わせし、
フォーカスサーボをかける。次に、ガラス盤を一定の低
速（６０〜１０１００ｒｐで回転しながらレジスト液吐
出口１１よりレジスト液を滴下し、滴下終了後一定の高
速（３００〜１０００ｒｐｍ ）で回転し、高速回転を
開始してから３０〜４０秒後に反射光の測定を開始する
。そして反射光をハーフミラ−１７を透過したレーザ光
で校正し、そして得られた信号を第４図に示すように増
幅器２２で増幅し、初め直流電源２４で設定した所定の
値と比較器２３で比較し、反射光の方が設定値より大き
くなるまでコントローラ２５で回転数を増加していき、
等しくなった時点で回転を止めレジスト膜形成を終了す
るものである。
ズ１８．ビームスプリッタ−１９，λ／４板２０．凸レ
ンズ１８の順に通しだＨｅ−Ｈｅレーザ光のガラス盤１
２からの反射光をディテクター２１で受けることにより
絞シ込み用凸レンズ１８をガラス盤上に焦点合わせし、
フォーカスサーボをかける。次に、ガラス盤を一定の低
速（６０〜１０１００ｒｐで回転しながらレジスト液吐
出口１１よりレジスト液を滴下し、滴下終了後一定の高
速（３００〜１０００ｒｐｍ ）で回転し、高速回転を
開始してから３０〜４０秒後に反射光の測定を開始する
。そして反射光をハーフミラ−１７を透過したレーザ光
で校正し、そして得られた信号を第４図に示すように増
幅器２２で増幅し、初め直流電源２４で設定した所定の
値と比較器２３で比較し、反射光の方が設定値より大き
くなるまでコントローラ２５で回転数を増加していき、
等しくなった時点で回転を止めレジスト膜形成を終了す
るものである。
発明の効果
以上のように本発明は、レジスト膜厚のモニターを設け
、回転数あるいは回転時間をコントロールすることによ
り、レジスト膜の厚みがモニター出来かつ常に均一な厚
みのレジスト膜を形成出来るようにしたものである。
、回転数あるいは回転時間をコントロールすることによ
り、レジスト膜の厚みがモニター出来かつ常に均一な厚
みのレジスト膜を形成出来るようにしたものである。
第１図は本発明の第１の実施例における光ディスク原盤
用レジスト塗布装置の要部構成図、第２図はその光学系
の構成図、第３図はレジスト膜厚とその反射率との関係
を示すグラフ、第４図は信号処理系のブロック構成図、
第６図は従来の光ディスク原盤用レジスト塗布装置の要
部構成図である。 １１・・・・・・レジスト液吐出口、１２・・・・・・
ガラス盤、１３・・・・・・ターンテーブル、１４・・
・・・・光学系、１５・・・・・・Ｈｅ−Ｎθレーザ、
１６・・・・・・コーナーミラー１７・・・・・・ハー
フミラ−１１８・・・・・・凸レンズ、１９・・・・・
・ビームスプリンター、２Ｑ・・・・・・λ／４板、２
１・・・・・・ディテクター、２２・・・・・・増幅器
、２３・・・・・・比較器、２４・・・・・・直流電源
、２５・・・・・・コントローラ。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第 図 ンン゛ヌト臘厚 ム
用レジスト塗布装置の要部構成図、第２図はその光学系
の構成図、第３図はレジスト膜厚とその反射率との関係
を示すグラフ、第４図は信号処理系のブロック構成図、
第６図は従来の光ディスク原盤用レジスト塗布装置の要
部構成図である。 １１・・・・・・レジスト液吐出口、１２・・・・・・
ガラス盤、１３・・・・・・ターンテーブル、１４・・
・・・・光学系、１５・・・・・・Ｈｅ−Ｎθレーザ、
１６・・・・・・コーナーミラー１７・・・・・・ハー
フミラ−１１８・・・・・・凸レンズ、１９・・・・・
・ビームスプリンター、２Ｑ・・・・・・λ／４板、２
１・・・・・・ディテクター、２２・・・・・・増幅器
、２３・・・・・・比較器、２４・・・・・・直流電源
、２５・・・・・・コントローラ。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第 図 ンン゛ヌト臘厚 ム
Claims (1)
- レジスト膜厚モニターを設け、このレジスト膜厚モニタ
ーからのモニター信号によりレジスト塗布時のレジスト
膜厚をコントロールすることを特徴とする光ディスク原
盤用レジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63166131A JPH0215439A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 光ディスク原盤用レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63166131A JPH0215439A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 光ディスク原盤用レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0215439A true JPH0215439A (ja) | 1990-01-19 |
Family
ID=15825610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63166131A Pending JPH0215439A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 光ディスク原盤用レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0215439A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005082550A1 (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-09 | Origin Electric Company, Limited | ディスクの製造方法及び製造装置 |
| JP2006313077A (ja) * | 2005-05-06 | 2006-11-16 | Ricoh Co Ltd | 光学積層体検査方法，光学積層体製造方法および光学積層体検査装置ならびに光学積層体製造装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59112873A (ja) * | 1982-12-18 | 1984-06-29 | Toshiba Corp | レジスト塗布方法およびその装置 |
| JPS59120909A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-12 | Fujitsu Ltd | レジスト塗布膜厚測定方法 |
-
1988
- 1988-07-04 JP JP63166131A patent/JPH0215439A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59112873A (ja) * | 1982-12-18 | 1984-06-29 | Toshiba Corp | レジスト塗布方法およびその装置 |
| JPS59120909A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-12 | Fujitsu Ltd | レジスト塗布膜厚測定方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005082550A1 (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-09 | Origin Electric Company, Limited | ディスクの製造方法及び製造装置 |
| DE112005000463B4 (de) * | 2004-03-01 | 2011-04-28 | Origin Electric Company, Ltd. | Herstellungsverfahren und Herstellungsvorrichtung für eine Scheibe |
| JP2006313077A (ja) * | 2005-05-06 | 2006-11-16 | Ricoh Co Ltd | 光学積層体検査方法，光学積層体製造方法および光学積層体検査装置ならびに光学積層体製造装置 |
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