JPH02156010A - 溶銑の製造方法及びその装置 - Google Patents

溶銑の製造方法及びその装置

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JPH02156010A
JPH02156010A JP1276978A JP27697889A JPH02156010A JP H02156010 A JPH02156010 A JP H02156010A JP 1276978 A JP1276978 A JP 1276978A JP 27697889 A JP27697889 A JP 27697889A JP H02156010 A JPH02156010 A JP H02156010A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、Ｑ．２ｘｘ以下の粒径に相当する寸法の粒子
からなる鉱石部分Ａを有する種々の粒径の鉄鉱石の還元
製練による溶銑製造方法であって、前記鉱石が還元ガス
により予備還元され、その予備還元された材料が溶融ガ
ス化装置の中で完全に還元され溶解して溶銑となる方法
と、その方法を実施するための装置に関する。
［従来の技術及びその課題］ ０、１１１よりも小さな粒径を有する粒状鉱石の加工処
理が知られている（例えば、Ｗｏｒｌｄ　Ｓｅｅｅｌａ
ｎｄ　Ｍｅｔａｌｖｏｒｋｉｎｇ，　Ｖｏｌ．　６＋　
　８　４／　８　５＋　Ｐ。
ｌ６参照）。Ｑ，５ｘｍ以下の粒径を有する微細な鉱石
は、例えば、ＤＥ−Ａ−２５　　２１　　０３８。
に記載されているように、循環する流動層の中で還元さ
れ得る。しかしながら、これらの処理は、例えば、ふる
い分けられていない状態の微細な鉱石又は鉱石の粗大な
部分からふるい分けられた微細な鉱石によって代表され
る広い粒径幅の鉄鉱石を処理するには、いずれも不適当
である。そのような鉱石は、処理炉の中で予備処理する
か、又はその後他の還元製練処理をしなければ大規模に
銑鉄に処理することができない。このことは、特に、粉
末部分、つまり０．２３１３１以下の粒径を有する鉱石
粒子（鉱石部分Ａ）を含む微細な鉱石に対して維持され
る。そのような鉱石は、予め粉砕し、そして溶解する前
にかたまり状にして均一の粒子寸法にしなければならな
い。
微細な鉱石の還元製練の方法及び装置は、ＤＥ−Ａ−３
５　　３５　　５７２から知り得るが、それによれば、
鉱石は２つの予備還元集合体を通って溶融ガス化装置の
中へその酸素送風平面のレベルで供給される。しかしな
がら、その装置は、第１の予備還元集合体に装填中、少
なくとも粉末の鉱石部分が対向する流れの還元ガスとと
もに運び去られて再び排出されることから、広範囲の粒
子寸法を示す微細な鉱石の処理には適していなかった。
これらの部分の再供給はＤＥ−Ｃ−３５　　３５５７２
では考慮されていない。
前述の処理の別の欠点は、微細な鉱石が予備還元された
状態の溶融帯の近くで溶融ガス化装置に供給され、その
結果、特別な熱が必要となり、それはプラズマバーナに
よって供給されなければらない、ということである。
微細な鉱石の還元製練に関する別の方法がｒＴｈｅ　Ｔ
（ＩＸ　ＲｃｐｏｒｔＪ（ＶｏＬ　ｌ　９，Ｎｏ．　Ｃ
　　４　１　Ｌｐｐ．５−９．１９８７）のパンフレッ
ト（こＪ己；１戊されており、これによれば微細な鉱石
の予備還元は溶融ガス化装置に配置された予備還元炉の
流動層で行われる。しかし、その方法によっても、後の
還元が溶融ガス化装置の中でのみ行われ、それは高エネ
ルギーを消費し、必然的に温度の低下を伴うものである
。また、そこでは還元ガスと共に自動的に運ばれ、そし
て予備還元炉から排出される粉末部分の処理の問題は未
解決のままである。
本発明は、種々の粒子寸法の鉄鉱石、特に粉末部分（鉱
石部分Ａ）を有する鉄鉱石の処理におけるそれらの欠点
を除去し、広範囲に粒子寸法が分布する鉱石が、これを
予め粉砕したり、かたまり状にすることなく、溶融ガス
化装置の中で還元製練法によって溶解し溶銑にされうる
方法及び装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明は前記目的を達成するためになされたもので、Ｑ
、２ｚｊＩ以下の粒径に相当する寸法の粒子からなるあ
る部分（Ａ）を有する種々の粒径の鉄鉱石の還元製練で
あって、前記鉱石が還元ガスによって予（ｌｔ＆還元さ
れ、かつ、溶融ガス化装置（１）の中で予ｊｆｆｆｆｆ
ｉ元された材料が完全に還元されて溶銑に溶解される還
元製練による溶銑の生産方法において、前記予ｖｌ還元
された鉱石のある部分（Ａ）が、還元ガスによる分類に
よってより大きな粒径の粒子からなる鉱石部分（Ｂ）か
ら分離され、前記鉱石部分く八とＢ）がそれぞれ完全に
還元されて前記溶融ガス化装置の溶融帯に供給されるこ
止を特徴とするものである。
また、溶銑の製造装置は、溶融ガス化装置と還元サイク
ロンとの組合せであって、前記還元サイクロンが、その
送出部で、還元鉄鉱石の搬送手段を介して溶融ガス化装
置の下部に連結され、還元ガス管が溶融ガス化装置の静
層帯から還元サイクロンに導びかれていることを特徴と
するものである。
［作用及び効果］ 本発明によれば、前記目的は、予備還元された鉱石部公
人を、還元ガスによる分類によって大きな粒径寸法の粒
子からなる鉱石部分Ｂから分離し、これら２つの鉱石部
分ＡとＢを別々に完全に還元し、そして、それらを溶融
ガス化装置の溶融帯に供給することで達成される。
鉱石部分Ａの完全な還元は還元サイクロンの中で行われ
、その中には予備還元された鉱石部分Ａと共に運ばれる
還元ガスが案内されるようにするのが好ましい。鉱石部
分への鉄石粒子は小粒径であることから、サイクロンの
中では固体の分離に一般に必要とされる短い時間で完全
な還元が行われる。
残る鉱石部分Ｂは、鉱石部分Ａの分離中、還元ガスによ
っである程度まで予備還元され、その予備還元の程度は
当然のことながら鉱石粒子が大きくなれば低（なる。予
備還元された２ａｍ以下の粒径の鉱石粒子は、重力作用
下で、還元ガスによって流動する流動層を通過させると
いう簡単な方法で完全に還元することができ、また完全
に還元される。この寸法の鉱石粒子は、そのような処理
の後、還元サイクロンの中で分離されながら鉱石部公人
と同様に実質上高度に金属化される。なぜならば、流動
層の中で比較的長時間還元ガスの接触を受けるからであ
る。一般に直接還元法で採用されている塔炉に比べて、
流動層によりすばやく、そして−層効率的な還元が行わ
れる。
２つの完全に還元された鉱石部分ＡとＢは、酸素送風平
面の領域又は該平面上のコークス層の領域で溶融ガス化
装置に供給されることで都合良く溶解して溶銑となる。
還元された鉱石部分Ａ、！：Ｂが高度に金属化されるこ
とで、溶銑を製造する溶融ガス化装置の中ではわずかな
熱しか必要としない。
もし、鉱石部分Ｂが最大５ｕの粒径に相当する寸法の粒
子を含んでいると、この鉱石部分も還元ガスによって流
動される流動層を通過させるのが適当で、それにより２
ｕ以下の粒径に相当する寸法の粒子を有する鉱石部分Ｂ
１が分離され、そして、少なくとも２ａｍの粒径に相当
する寸法の粒子を有する鉱石部分Ｂ２が、特別に還元ガ
スによって流動する固定届を重力作用下で通過しさらに
還元される。
それにより、少なくとも２ＲＭ、最大５ｘｇの粒径を有
する鉱石粒子さえも相当高度に金属化されるので、還元
された鉱石部分Ｂ１が酸素送風平面の領域又はその平面
上のコークス層の領域で溶融ガス化装置に供給され、還
元された鉱石部分Ｂ２が噴射口平面の上で溶融ガス化装
置に供給されて、溶融銑鉄が得られることが保証される
。
もし、鉱石部分Ｂがさらに２０ｘｍまでの粒径、好まし
くはＬｏｌｌｍまでの粒径に相当する寸法の粒子を含ん
でいれば、本ケースにおいて、２ｔｘｘから２０ｆｆＪ
＋の粒径、好ましくは２ＲＪ＋から１０ｘｇまでの粒径
を有する粒子を含む鉱石部分Ｂ２は、溶融ガス化装置の
流動層の上に位置する４７１層帯に案内される。
本発明に係る処理を実施する装置は、溶融ガス化装置と
還元サイクロンの組合せからなるもので、還元サイクロ
ンは、その送り出し側で、還元鉄鉱石の搬送手段と、溶
融ガス化装置の静層空間から還元サイクロンに導びかれ
た還元ガス管とを介して、溶融ガス化装置の下部に連結
されている。
このタイプの装置は、粉状の鉱石と、０，５１１Ｍまで
の粒径に相当する寸法の粒子を有する粉状の鉱石や微細
な鉱石を経済的に処理するのに特に適している。現在使
用されている鉄鉱石を直接還元する装置に比べて、本発
明の装置は密集度の点でも優れている。
本発明による装置の好適な例は、還元炉が溶融ガス化装
置と還元サイクロンとの間の還元ガス管に配設されてお
り、前記還元炉が還元ガスにより形成される流動層を有
し、好ましくはさらに固定層を有し、そして該固定層の
送出側で少なくとも１つの還元鉄鉱石の運搬手段を介し
て溶融ガス化装置に連結されている、ことに特徴がある
。この装置によれば、２０１肩までの粒径を有する種々
の寸法の粒子からなる鉱石の混合物を非常に簡単かつ経
済的に処理することができる。
［実施例コ 本発明に係る装置の個々の実施例の概要を示す第１図か
ら第４図に関して、本発明をさらに詳細に説明する。
第１図において、溶融ガス化装置が１で示してあり、図
示する具体例において、前記溶融ガス化装置ｌは下部１
゛、中央部ｌ”、及び拡幅された上部１”を備えている
。下部１°は溶融湯を受けるようになっている。中央部
１”に酸素の供給管３を有する噴射口２（バーナー）が
接続しである。また、炭素質材料の供給管４と完全に還
元された鉱石の供給管５が噴射口平面の領域に直接入っ
ている。代わりに、第１図において破線で示す管５゜の
ように、前記管５は噴射口平面上の上部コークス層Ｈの
領域で溶融ガス化装置ｌの中に接続してもよい。
上部の拡幅領域１゛では、溶融ガス化装置ｌは、４０ｘ
ｘまでの粒径に相当する寸法の粒子を有するかたまりの
多い石炭の装填手段６と、鉱石の装填手段７と、フラッ
クスの装填手段８とを備えている。また、上部１“には
溶融ガス化装置の中で作られる還元ガスを案内する還元
ガス管９が設けである。
中央部１”°では、固定ｉｆと■（固定層帯）が粗大な
コークス粒子によって形成されている。その下に集めら
れた溶融湯は溶融金ＦＡｌｏとスラグ１１からなり、こ
れら２つの部分にはそれぞれに１つの液体を出す口が設
けである。固定層Ｉはガス供給部を備えておらず、いか
なるガスもそこを通過することはない。その上には、−
酸化炭素の生成下で、供給管３から流出する酸素を含む
ガスによりコークス粒子が流励する固定層■が形成され
ている。固定層■の上には、流動層■が形成され、それ
は固定層■で作られる還元ガスにより運動状態に保たれ
る。小さな石炭やコークスの粒子は流動層■に留まる。
大きな石炭やコークスの粒子は、対応する粒子層の流動
点よりも下にガス流のはっきりしだ管速度が存在するよ
うに、単にブレーキがかけられ、流動層ｍを通って落下
し、固定層ＨとＩの形成下で沈澱する。
流動層■の上には、静層帯■があり、そこに鉄鉱石など
が装填さ（する。
１２は還元サイクロンを示し、そこは還元ガス管９とフ
ラックスの充填手段１３が接続されている。還元サイク
ロンの下端部には、完全に還元された粉末鉱石１４′の
排出手段１４が設けてあり、これは管５に通じている。
還元サイクロンの上部から、浮遊する還元された鉱石粉
から解放された炉頂ガスが頂部ガス管１５を通じて排出
され、冷却器１６で冷却され、冷却ガス送風機１７で圧
縮され、そして、溶融ガス化装置１からのガスと粉末鉱
石の浮遊物を冷却するために、返送管１８を経由して還
元ガス管９に供給されるか、又は注入器２０によって排
出管１９を経由して管５に供給される。炉頂ガスは、枝
管１５′を通って装置から取り出し、それを他の目的に
供給することもできる。
第１図に図示された本発明に係る装置の具体例は、最大
０．５ｘｚの粒径に相当する寸法の粒子であって、特に
粉末鉱石、Ｑ、２ｘｘ以下の粒径を有する鉱石粒子（鉱
石部分Ａ）以外の鉄分を含む微細な鉱石を処理するのに
適している。この種の鉱石は溶融ガス化装置ｌの静層帯
（ＩＹ）に装填され、静層帯（ＩＶ）の上部で約１００
０°Ｃの温度を有し、そこで溶融ガス化装置の下部で形
成された対向してくる還元ガスによって予備還元される
。
予備還元された鉱石部分Ａはほぼ全体的に還元ガスと共
に運ばれて還元ガス管９を通って還元サイクロン１２へ
供給され、その際にガスと粉末鉱石の浮遊物は約８００
’Ｃまで冷却される。
還元サイクロン１２では、鉱石部分Ａｌｔ還元ガスによ
って完全に還元され、サイクａｙの動作によって還元ガ
スから分離される。次に、完全に還元された鉱石部分Ａ
はυ「出手段１４を介して管５に導かれ、炉頂ガスによ
って溶融ガス化装置の溶融帯、すなわち、酸素送風平面
の領域又はその上のコークス層の領域に直接吹き込まれ
る。
溶融ガス化装置１の静層帯■に残留する少なくとも０．
２ｍｍ（かつ最大０．５ｆｆｉ１）の粒径を有する微細
な鉱石部分は、静届帯でも予備還元されるが、還元ガス
流によって排出されることはなく、重力作用の下で流動
層■を通って固定層■と■に達し、完全に還元されて溶
解する。
第１図に図示された装置では、０．５ｘｚ以上の粒径を
有する鉱石部分が処理されることはない。
何とすれば、それらは溶融ガス化装置の中では満足のい
く程度まで完全に還元され得ることはないからである。
この種の鉱石の処理は、第２図に図示した本発明による
装置の具体例において達成される。それは第１図による
別の形のものと、主として、溶融ガス化装置１と還元サ
イクロン１２との間の還元ガス管９に還元炉２１が配置
されている点で相違しており、前記還元炉２１はスラッ
クスの装填手段Ｉ３“と鉱石の装填手段７″と、完全に
還元された微細な鉱石の排出手段２２とを備えている。
還元炉２１の内部では、溶融ガス化装置ｌから還元ガス
管９で噴射口２３の平面に吹き込まれる還元ガスにより
、鉱石の流動層■が維持される・。
流動層■の上には、静層帯■がある。完全に還元された
微細な鉱石のために、管２４が排出手段２２に続き、管
５に接続されている。
第２図に記載されている装置のその他の部分は第１図に
図示し、以上で説明したものと一致している。
第２図に図示した本発明に係る装置の具体例は、特に、
１４ｘまでの粒径の鉱石粒子を有する微細な鉱石を処理
するのに適している。その鉱石は装填手段７°によって
還元炉２１の静層帯■に装填され、溶融ガス化装置ｌの
中で作られ、そして還元ガス管９を通り還元炉２１の下
部に流動層を維持しつつ吹く込まれる還元ガスの対向す
る流れにより部分的に予備還元される。第１図による溶
融ガス化装置１の静層帯■で生じる過程に類似して、還
元ガスは、還元炉２Ｉの上部から導き出された連続する
還元ガス管９を通り、予備還元された鉱石部公人を乗せ
て還元サイクロンに導かれる。後者の鉱石部分Ａは還元
サイクロン１２で完全に還元され、第１図を参照して説
明した溶融ガス化装置に供給される。
静層帯■に残る予備還元された微細な鉱石部分は、０．
２ｘｚからｌａｘの粒径に相当する寸法の粒子を有し、
還元ガスによって排出されることな（、重力作用の下で
流動層Ｖを通り、完全に還元されて還元炉の下端部で排
出され、そして管５に供給され、完全に還元された鉱石
部公人と共に溶融ガス化装置に供給される。
還元炉２１は少なくともその下部が円錐状に設計される
のが好ましく、そうすれば、還元ガスに異なる流速を付
与し、２つの鉱石部分の分離が促進される。鉱石部分Ｂ
の粒径が大きいことにもかかわらず、これらは還元炉か
ら排出された時点で、還元サイクロン１２で完全に還元
された鉱石部分Ａとほぼ同しく高度に金属化されている
。これは、大きな粒子は流動層で十分長時間還元ガスの
接触を受けるからである。
さらに広い粒径幅を示す鉱石の処理が、第２図に図示さ
れた具体例に実質上類似する方法で設計された装置であ
って、加えて、還元炉２１において鉱石の固定層■を流
動層■の下に有する装置により達成される。本発明によ
る装置の２つの具体例が第３、第４図に表わされている
。
第３図による装置は、粒径が５ｙｍまでの鉱石を処理す
るのに適している。それは、第２図に図示した具体例と
実質的に同一の方法で運転される。
鉱石はさらに装填手段７゛を通り還元炉２１の止層帯■
に案内され、そこで予備還元され、鉱石部分Ａの分離と
完全な還元が前述のようにして還元サイクロン１２の中
で達成される。本実例では０゜２ｙｍから５ｙの粒径の
鉱石粒子を有する鉱石部分Ｂは、流動層■を通って２ｍ
ｍ以下の粒径の粒子が実質的に完全に還元され、そして
排出手段−２５′によって流動層Ｖの下部から取り除か
れ、管２５を通って管５に供給されて、前述したように
、完全に還元された鉱石部分Ａと共に溶融ガス化装置ｌ
に供給される。
流動層■に残る予す１１１還元された鉱石部分は、それ
ら粒子が２ｍｍから５ｙｍの粒径を有し、重力作用下で
固定層■に到達し、鉱石はさらに還元されながらそこを
通過する。最ｉ聚に、それは排出手段２２°で管２４°
に供給され、注入器２０′を通って管１９°で運ばれる
炉頂ガスと共に、溶融ガス化装置１の中へ、その流動層
■と上部固定層■（溶融ガス化層の還元帯）との境界領
域に吹き込まれ、完全に還元され、そして銑鉄に溶解さ
れる。
１１以上までの粒径を包含する広範囲な粒子寸法を示す
鉱石を処理するとき、鉱石の分別に関連して還元炉に特
別の要求が設けられる。したがって、第３図に示す炉２
１はその下部が円錐状に設計されるだけでなく、還元ガ
スの２つの吹込平面２３、２３’が設けられ、それによ
って大量のガスが供給され、そして、ある部分の粒子の
上昇及び下降速度がいろいろと制御できるようになって
いる。最適な分離効果かえられるのは、固定層■と流動
層■の間の境界が２つの吹込平面２３と２３°の間の円
錐領域に落ち着いている場合であることが証明されてい
る。
上部平面２３に供給される還元ガスによって、小さな鉱
石粒子の流動化、分別蒸留及び還元が第１の場所で行わ
れ、一方、下部平面２３′から供給される還元ガスが主
として鉱石の粗大部分を還元する。
２０ｘｘまで、好ましくはｌＯ＋ｆｚまでの粒径を有す
る粒子に相当する粒子範囲を示す鉱石の溶解は、第３図
に示す具体例に実質的に一致する第４図による装置で達
成されるが、鉱石の粗大部分（２ｍｍ以上の粒径に相当
する鉱石）は装填手段２６によって溶融ガス化装置ｌの
止層帯■に直接装填される。
第４図に示す本発明の別の装置では、含有する石炭のほ
こりをできるだけ分離するために、サイクロン２７が還
元ガス管９、すなわち溶融ガス化装置ｌと還元炉２１と
の間に設けられており、前記はこりは冷却ガスにより排
出手段２８を介して管２９に導かれ、溶融ガス化装置１
にその流動層■の上部領域又は止層帯■に吹き込まれる
。噴射口３０は特別に酸素の供給手段３１を備えている
。
冷却ガスは、石炭のほこりから解放された還元ガスから
なり、溶融ガス化装置１から出て還元ガス管９で運ばれ
、冷却器３２で冷却され、冷却ガス管３３を介して冷却
ガス送風機３４に運ばれ、圧縮されて最終的に管２９に
運ばれる。これに代えて、冷却ガスは帰還管３５を介し
て還元ガス管９に再循環させてもよい。冷却ガスに代え
て、石炭のほこりへの吹き込みに窒素を使用してもよく
、これは管２９のいかなる点から供給してもよい。
冷却器３２を通過した還元ガスは管３６を介して炉頂ガ
ス管３７に供給してもよい。
第４図に図示されている本発明に係る別の装置の動作方
法は第３図に記述されているそれと一致している。すな
わち、鉱石は還元炉２１に装填され、鉱石部分Ａは還元
ガスによって排出され、還元サイクロン１２で完全に還
元され、そして、前述のように、完全に還元された鉱石
部分が頂部ガス、窒素又は他の不活性ガスによって溶融
ガス化装置に吹き込まれて供給される。還元炉２１の静
層帯に残留する鉱石は、■力の作用下で流動層■に入り
、そこで２ａｍ以下の粒径の鉱石粒子はほぼ完全に還元
されて流動層■から排出される。また、残りの鉱石は、
第４図に図示された実施例では、固定層■の鉱石を通り
、還元ガスの上部の吹き込みレベルまで達し、それによ
ってさらに還元されて、その後、溶融ガス化装置１の静
層帯■に装填され、流動層■およびコークスの固定層■
とＩで完全に還元され、銑鉄に溶融されながら通過する
。
以下の例では、本発明によるプロセスのいくつかの典型
的な特性が示してあり、それは第４図に示す発明に従っ
た装置を運転したときに得られる。
使用した石炭の分析表（無水分析材料に関する値）Ｃ８
１，４％ Ｈ４，８％ Ｎ　　　　　　　　１．４％ ０　　　　　　　５．８％ Ｓ　　　　　　　　０１５％ 灰　　　　　　　６．２％ Ｆｅ　　　　　３０．９％（灰中の！１１）Ｃ（固定層
）　６２．９％ 処理された鉄鉱石の分析表 Ｆｅ　　　　　　６６．９％ ＦｅＯＯ，５８％ Ｆ＋３．０．　　　９５．０％ ＣａＯＯ，０２５％ ＭｇＯＯ，１３％ ５ｉｎｓ　　　　　Ｏ，６％ Ａ１２．０．　　　　１．３１％ ＭｎＯＯ，３８％ 焼却ロス　　　　１．６％ 処理された鉄鉱石の粒径分布くふるい分析）５％　　　
ｌＯ＋ｘ １０％　　６，３〜１０ｍｍ １８％　　３．１５〜６．３ｚｍ ４２％　　　１．０〜３．１５ｉｚ ２５％　　　ＩＲ麓以下 還元ガスを製造するために、第４図による装置で前記組
成の石炭が１時間当たり７トン　ガス化され、銑鉄１ト
ン当たり５８０ｍ３の酸素が消費された。酸素の純度は
９５ないし９８％であった。
下記する組成の還元ガスが１時間当たり１４．０ＯＯａ
＋’得られた。
Ｃｏ　　　　　　６２．２％ Ｃｏ！　　　　　４．５％ Ｎｔ　　　　　　　０．５％ Ｈ，２８，５％ ＣＨ，０，３％ 溶融ガス化装置１の中及び還元炉２１の中の管速度は０
．３と０．５ｍ／ａの範囲にあり、還元炉２１の２つの
噴射口平面間を通過する管速度は１．５と３Ｉｌ／ｓの
間になった。
１時間当たり１２．８５）ンの鉄鉱石を処理し、１時間
当たり８．１トンの溶融物を得ることができた。鉄の外
に、下記する組成を存する銑鉄が得られる。
０　　　　　　４％ Ｓｉ　　　　　　　Ｑ、５％ ｐ　　　　　　　　ｏ、ｏｉ％ Ｍｎ　　　　　　　Ｑ、１％ Ｓ　　　　　　　　Ｏ，０４％
【図面の簡単な説明】
第１図から第４図は本発明に係る溶銑の製造装置の概要
を示し、第１図は第１実施例、第２図は第２実施例、第
３図は第３実施例、第４図は第４実施例の図である。 １・・・溶融ガス化装置 ２・・・噴射口 ５．５°・・・供給管 ９・・・還元ガス化装置 １２・・・還元サイクロン ２１・・・還元炉 １、　　ＩＩ・・・固定層 ■・・・流動層 ■・・・静層帯 特許出願人　ホエストーアルビン・ インダストリーアンラーゲンバウ ゲゼルシャフト・ミツト・ ベシュレンクテル・ハフラング 弁理士　青　山　　葆　はか１名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 〔１〕０．２ｍｍ以下の粒径に相当する寸法の粒子から
    なる部分（Ａ）を有する種々の粒径の鉄鉱石の還元製練
    であって、前記鉱石が還元ガスによって予備還元され、
    かつ、溶融ガス化装置（１）の中で予備還元された材料
    が完全に還元されて溶銑に溶解される還元製練による溶
    銑の製造方法において、前記予備還元された鉱石のある
    部分（Ａ）が、還元ガスによる分類によってより大きな
    粒径の粒子からなる鉱石部分（Ｂ）から分離され、前記
    鉱石部分（ＡとＢ）がそれぞれ完全に還元されて前記溶
    融ガス化装置の溶融帯に供給されることを特徴とする溶
    銑の製造方法。 〔２〕前記鉱石部分（Ａ）の完全なる還元が還元サイク
    ロン（１２）で行われることを特徴とする請求項（１）
    の溶銑の製造方法。 〔３〕前記鉱石部分（Ｂ）が０．２ｍｍから２ｍｍまで
    の粒径に相当する寸法の粒子を有し、該粒子が還元ガス
    によって流動する流動層を通って案内され、そして、そ
    こで完全に還元されることを特徴とする請求項（１）又
    は（２）の溶銑の製造方法。 〔４〕前記２つの完全に還元された鉱石部分が、酸素送
    風平面の領域又はこの平面上であってコークス層（II）
    の領域で溶融ガス化装置（１）に供給されることを特徴
    とする請求項（１）から（３）のいずれかに記載の溶銑
    の製造方法。 〔５〕前記鉱石部分（Ｂ）が０．２ｍｍから５ｍｍまで
    の粒径に相当する寸法の粒子を含み、該粒子が重力の作
    用下で還元ガスによって流動する流動層を通り、そこで
    ２ｍｍ以下の粒径に相当する寸法の粒子を有する鉱石部
    分（Ｂ１）が分離され、少なくとも２ｍｍの粒径に相当
    する寸法の粒子を有する鉱石部分（Ｂ２）が特別に還元
    ガスにより流動する固定層を重力の作用下で通過して更
    に還元されることを特徴とする請求項（１）、（２）及
    び（４）に記載の溶銑の製造方法。 〔６〕前記鉱石部分（Ｂ１）が、還元後に、溶融ガス化
    装置（１）に、その酸素送風平面の領域又はその平面上
    であってコークス層（II）の領域で供給され、前記鉱石
    部分（Ｂ２）が、還元後、噴射口平面上で溶融ガス化装
    置に供給されることを特徴とする請求項（５）の溶銑の
    製造方法。 〔７〕前記鉱石部分（Ｂ）が、２０ｍｍ、好ましくは１
    ０ｍｍまでの粒径に相当する寸法の粒子を含み、前記鉱
    石部分（Ｂ２）が溶融ガス化装置（１）の静層帯（IV）
    に導かれることを特徴とする請求項（６）に記載の溶銑
    の製造方法。 〔８〕溶融ガス化装置（１）と還元サイクロン（１２）
    との組合せであって、前記還元サイクロン（１２）が、
    その送出部で、還元鉄鉱石（１４′）の搬送手段（５、
    ５′）を介して溶融ガス化装置の下部に連結され、還元
    ガス管（９）が溶融ガス化装置（１）の静層帯（IV）か
    ら還元サイクロン（１２）に導びかれている（第１図参
    照）ことを特徴とする前記請求項（１）から（７）の少
    なくとも１つの方法を実施する装置。 〔９〕還元炉（１２）が溶融ガス化装置（１）と還元サ
    イクロン（１２）との間の還元ガス管（９）に配置され
    、前記還元炉が還元ガスにより形成される流動層（Ｖ）
    を有し、好ましくは、さらに固定層（VII）を有し、そ
    の送出部で還元された鉄鉱石の搬送手段（２４、５、２
    ４′、２５）の少なくとも１つを介して溶融ガス化装置
    （１）に連結されていることを特徴とする請求項（８）
    に記載の装置。
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