JPH02156136A - 分光分析装置 - Google Patents
分光分析装置Info
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- JPH02156136A JPH02156136A JP30970788A JP30970788A JPH02156136A JP H02156136 A JPH02156136 A JP H02156136A JP 30970788 A JP30970788 A JP 30970788A JP 30970788 A JP30970788 A JP 30970788A JP H02156136 A JPH02156136 A JP H02156136A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、放射線場に置かれた光ファイバを経由して（
る光を′分光分析する装置に関するものである。
る光を′分光分析する装置に関するものである。
放射性物質の吸収分光分析を行う場合は、安全性を確保
するために、その放射性物質を含む試料セルを遮蔽壁で
囲まれた領域内に配置する。そして、遮蔽壁の外に分光
分析用の光を発生する光源と試料セルを透過した光の分
光分析を行う分光器とを配置し、遮蔽壁に穿設された穴
を通して光源と試料セルならびに試料セルと分光器をそ
れぞれ光ファイバで接続して、分光分析を行っている。
するために、その放射性物質を含む試料セルを遮蔽壁で
囲まれた領域内に配置する。そして、遮蔽壁の外に分光
分析用の光を発生する光源と試料セルを透過した光の分
光分析を行う分光器とを配置し、遮蔽壁に穿設された穴
を通して光源と試料セルならびに試料セルと分光器をそ
れぞれ光ファイバで接続して、分光分析を行っている。
しかし、光ファイバは、放射線を照射されると光透過性
が次第に損なわれ、ついには分光分析が不可能となって
しまう。
が次第に損なわれ、ついには分光分析が不可能となって
しまう。
本発明の３題は、このような問題点を解消することにあ
る。
る。
上記課題を解決するために、本発明の分光分析装置は、
放射線による前記光ファイバの損傷を回復させるための
フォトブリーチ光をその光ファイバに対して選択的に供
給するフォトブリーチ手段を備えたものである。
放射線による前記光ファイバの損傷を回復させるための
フォトブリーチ光をその光ファイバに対して選択的に供
給するフォトブリーチ手段を備えたものである。
放射線の照射によって、光ファイバには分子レベルの構
造欠陥が生じ、これが光を吸収して光ファイバの損失が
大きくなり、光透過性が悪くなる。
造欠陥が生じ、これが光を吸収して光ファイバの損失が
大きくなり、光透過性が悪くなる。
これに対して、フォトブリーチ光を光ファイバ中に導く
と分子レベルの構造欠陥が消滅し、光透過性が回復する
。
と分子レベルの構造欠陥が消滅し、光透過性が回復する
。
第１図は、本発明の一実施例である放射性物質の吸収分
光分析を行うための分光分析装置を示す構成図である。
光分析を行うための分光分析装置を示す構成図である。
被δｐ１定体である放射性物質は試料セル１内に収めら
れており、放射能を遮蔽する遮蔽壁２で囲まれた領域内
に配置されている。遮蔽壁２の外には、分光分析用の光
源３、フォトブリーチ装置４および分光器５が置かれて
いる。フォトブリーチ装置４はフォトブリーチ用光源６
および合波器７を備えている。分光分析用光源３と合波
器７、フォトブリーチ用光源６と合波器７、合波器７と
試料セル１、および試料セル１と分光器５は、それぞれ
光ファイバ８．９．１０、および１１によってそれぞれ
光学的に接続されている。
れており、放射能を遮蔽する遮蔽壁２で囲まれた領域内
に配置されている。遮蔽壁２の外には、分光分析用の光
源３、フォトブリーチ装置４および分光器５が置かれて
いる。フォトブリーチ装置４はフォトブリーチ用光源６
および合波器７を備えている。分光分析用光源３と合波
器７、フォトブリーチ用光源６と合波器７、合波器７と
試料セル１、および試料セル１と分光器５は、それぞれ
光ファイバ８．９．１０、および１１によってそれぞれ
光学的に接続されている。
なお、光ファイバ１０および１１は、遮蔽壁２に穿設さ
れた貫通孔１２および１３中を通っており、遮蔽壁２の
内側に露出している部分は試料セル１からの放射線を浴
びている。なお、図では、貫通孔１２および１３におい
て遮蔽９２と光ファイバ１０．１１との間に隙間がある
が、実際にはこの隙間は放射線遮蔽物質で埋め込まれ、
放射能が遮蔽壁２の外に洩れないようになっている。合
波器７では、分光分析用光源３から光ファイバ８を経由
してきた光およびフォトブリーチ用光源６がら光ファイ
バ９を経由してきた光をいずれも光ファイバ１０に導く
。合波器７から光ファイバ１ｏを経由してきた光は、試
料セル１を透過して光ファイバ１１に導かれ、分光器５
に至る。なお、分光分析用光源３および分光器５は、従
来がらある一般的なものである。フォトブリーチ用光源
６は、例えば、キセノンランプ、重水素ランプ、水銀ラ
ンプあるいはヘリウムカドミウムレーザなど、波長が２
００〜５００ｎｍ辺りの紫外領域で強い光を放つことが
できる光源を用いればよい。
れた貫通孔１２および１３中を通っており、遮蔽壁２の
内側に露出している部分は試料セル１からの放射線を浴
びている。なお、図では、貫通孔１２および１３におい
て遮蔽９２と光ファイバ１０．１１との間に隙間がある
が、実際にはこの隙間は放射線遮蔽物質で埋め込まれ、
放射能が遮蔽壁２の外に洩れないようになっている。合
波器７では、分光分析用光源３から光ファイバ８を経由
してきた光およびフォトブリーチ用光源６がら光ファイ
バ９を経由してきた光をいずれも光ファイバ１０に導く
。合波器７から光ファイバ１ｏを経由してきた光は、試
料セル１を透過して光ファイバ１１に導かれ、分光器５
に至る。なお、分光分析用光源３および分光器５は、従
来がらある一般的なものである。フォトブリーチ用光源
６は、例えば、キセノンランプ、重水素ランプ、水銀ラ
ンプあるいはヘリウムカドミウムレーザなど、波長が２
００〜５００ｎｍ辺りの紫外領域で強い光を放つことが
できる光源を用いればよい。
つぎに、本実施例の動作を説明する。
分光分析用光Ｒ３から出射した分光分析光は、光ファイ
バ８、合波器７、光ファイバ１ｏを順に経て、試料セル
１内の被測定体に至る。そして、この被測定体を透過し
た分光分析光は、光ファイバ１１に導かれて分光器５に
入射する。一方、この分光分析光の照射と並行して、フ
ォトブリーチ用光源３からフォトブリーチ光が照射され
る。このフォトブリーチ光は、光ファイバ９に導かれて
合波器７に至り、そこから分光分析光と同様に光ファイ
バ１０、試料セル１、光ファイバ１１を経て分光器５に
入射する。
バ８、合波器７、光ファイバ１ｏを順に経て、試料セル
１内の被測定体に至る。そして、この被測定体を透過し
た分光分析光は、光ファイバ１１に導かれて分光器５に
入射する。一方、この分光分析光の照射と並行して、フ
ォトブリーチ用光源３からフォトブリーチ光が照射され
る。このフォトブリーチ光は、光ファイバ９に導かれて
合波器７に至り、そこから分光分析光と同様に光ファイ
バ１０、試料セル１、光ファイバ１１を経て分光器５に
入射する。
光ファイバ１０および１１は放射線によって構造欠陥が
生じるが、フォトブリーチ光が随時その欠陥を回復させ
るので、光透過性の低下が最小限に抑えられる。分光器
５には分光分析光とフォトブリーチ光の両方が同時に入
射されるが、波長が分光分析光の波長と重ならないよう
なフォトブリーチ光を予め選択しておくことにより、分
光器５はフォトブリーチ光の影響を何等受けることなく
分光分析光に基づく分光分析を行うことができる。
生じるが、フォトブリーチ光が随時その欠陥を回復させ
るので、光透過性の低下が最小限に抑えられる。分光器
５には分光分析光とフォトブリーチ光の両方が同時に入
射されるが、波長が分光分析光の波長と重ならないよう
なフォトブリーチ光を予め選択しておくことにより、分
光器５はフォトブリーチ光の影響を何等受けることなく
分光分析光に基づく分光分析を行うことができる。
また、フォトブリーチ光と分光分析光を同時に照射する
とフォトブリーチ光により分光分析が妨害されるような
場合には、第２図に示すように、外部制御可能な光路切
替器１４を合波器７の代わりに用いると共に、分光器５
の手前にシャッタ１５を挿入し、両者をコントローラ１
６で制御すればよい。すなわち、非測定時には光ファイ
バ１０を光ファイバ９側に接続すると同時にシャツ夕１
５を閉じてフォトブリーチをかけておき、測定を行う直
前に光ファイバ１０を光ファイバ８側に接続すると同時
にシャッタ１５を開くようにコントローラ１６で制御す
る。このようにすれば、分光分析光とフォトブリーチ光
を交互に照射されることになり、フォトブリーチ光によ
るブリーチ効果が残っている間のみ断続的に分光分析を
行うこともできる。
とフォトブリーチ光により分光分析が妨害されるような
場合には、第２図に示すように、外部制御可能な光路切
替器１４を合波器７の代わりに用いると共に、分光器５
の手前にシャッタ１５を挿入し、両者をコントローラ１
６で制御すればよい。すなわち、非測定時には光ファイ
バ１０を光ファイバ９側に接続すると同時にシャツ夕１
５を閉じてフォトブリーチをかけておき、測定を行う直
前に光ファイバ１０を光ファイバ８側に接続すると同時
にシャッタ１５を開くようにコントローラ１６で制御す
る。このようにすれば、分光分析光とフォトブリーチ光
を交互に照射されることになり、フォトブリーチ光によ
るブリーチ効果が残っている間のみ断続的に分光分析を
行うこともできる。
なお、フォトブリーチ光により光ファイバの放射線損失
が回復できることについては、特願昭６０−２７０７１
１公報などに開示されている。
が回復できることについては、特願昭６０−２７０７１
１公報などに開示されている。
第３図は、本発明の他の実施例を示す構成図である。こ
の実施例は発光分光分析を行うものであり、試料セル２
０内の発光部が放射能を有することから、遮蔽壁２で囲
まれた内部に置かれている。
の実施例は発光分光分析を行うものであり、試料セル２
０内の発光部が放射能を有することから、遮蔽壁２で囲
まれた内部に置かれている。
遮蔽壁２の外側には、分光器５およびフォトブリチ装置
４が配置されている。フォトブリーデ装置４は、フォト
ブリーチ用光源６とハーフミラ−２１で構成されている
。試料セル２０、分光器５およびフォトブリーチ用光源
６とハーフミラ−２１とは、それぞれ光ファイバ２２．
２３．２４で光学的に結合されている。
４が配置されている。フォトブリーデ装置４は、フォト
ブリーチ用光源６とハーフミラ−２１で構成されている
。試料セル２０、分光器５およびフォトブリーチ用光源
６とハーフミラ−２１とは、それぞれ光ファイバ２２．
２３．２４で光学的に結合されている。
この実施例では、試料セル２０内の発光部からの光は、
光ファイバ２２、ハニフミラ−２１および光ファイバ２
３を介して分光器５に導かれ、そこで分光分析が行われ
る。一方、フォトブリーチ用先源６を駆動してフォトブ
リーチ光を光ファイバ２４中に出射すると、このフォト
ブリーチ光はハーフミラ−２１で反射され、光ファイバ
２２中に入射される。光ファイバ２２のうち遮蔽壁２の
内側すなわち試料セル２０側に露出している部分は放射
線場にあるため、そのまま放置すれば光透過性がしだい
に劣化してくるが、本実施例ではフォトブリーチ光が常
時入射されるため光透過性の劣化がほとんど進行しない
。
光ファイバ２２、ハニフミラ−２１および光ファイバ２
３を介して分光器５に導かれ、そこで分光分析が行われ
る。一方、フォトブリーチ用先源６を駆動してフォトブ
リーチ光を光ファイバ２４中に出射すると、このフォト
ブリーチ光はハーフミラ−２１で反射され、光ファイバ
２２中に入射される。光ファイバ２２のうち遮蔽壁２の
内側すなわち試料セル２０側に露出している部分は放射
線場にあるため、そのまま放置すれば光透過性がしだい
に劣化してくるが、本実施例ではフォトブリーチ光が常
時入射されるため光透過性の劣化がほとんど進行しない
。
上記の実施例では、いずれも彼Ｍｊ定対象自身が放射性
物質である場合を示したが、被７１）１定対象が放射性
物質か否かは問題ではなく、測定系を構成する先ファイ
バが放射線場に置かれている場合には、常に本発明を適
用することができる。
物質である場合を示したが、被７１）１定対象が放射性
物質か否かは問題ではなく、測定系を構成する先ファイ
バが放射線場に置かれている場合には、常に本発明を適
用することができる。
また、フォトブリーチ光としては、波長が２００ｎｍ前
後のものが最も有効である。波長が２００ｎｍよりも短
（なると光ファイバ中の伝送光；が少なくなり、また、
波長が長くなると光エネルギが小さくなってフォトブリ
ーチ作用が低下し、波長が１．４μｍ以上となると、は
とんどフォトブリーチの効果がなくなるので、フォトブ
リーチ光としては、波長が２００ｎｍがら１．４μｍま
での光が望ましい。
後のものが最も有効である。波長が２００ｎｍよりも短
（なると光ファイバ中の伝送光；が少なくなり、また、
波長が長くなると光エネルギが小さくなってフォトブリ
ーチ作用が低下し、波長が１．４μｍ以上となると、は
とんどフォトブリーチの効果がなくなるので、フォトブ
リーチ光としては、波長が２００ｎｍがら１．４μｍま
での光が望ましい。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の分光分析装置によれば、
フォトブリーチ光を放射線場に置がれた光ファイバに対
して選択的に供給するフォトブリチ手段を備えているの
で、所望の時間に適宜フォトブリーチ光を光ファイバに
入射することができる。したがって、光ファイバの寿命
を長期化することができ、分光分析感度を長期にわたっ
て保持することができる。
フォトブリーチ光を放射線場に置がれた光ファイバに対
して選択的に供給するフォトブリチ手段を備えているの
で、所望の時間に適宜フォトブリーチ光を光ファイバに
入射することができる。したがって、光ファイバの寿命
を長期化することができ、分光分析感度を長期にわたっ
て保持することができる。
第１図は、本発明の一実施例を示す構成図、第２図は、
本発明の他の実施例を示す構成図、第３図は、本発明の
さらに別の実施例を示す構成図である。 １．２０・・・試料セル、２・・・遮蔽壁、３・・・分
光分析用光源、４・・・フォトブリーチ装置、５・・・
分光器、６・・・フォトブリーチ用光源、７・・・合波
器、８．９゜１０．１１，２２，２３．２４・・・光フ
ァイバ、１４・・・光路切替器、１５・・・シャッタ、
１６・・・コントローラ、２１・・・ハーフミラ− 特許出願人 動力炉・核燃料開発事業間開
住友電気工業株式会社 代理人弁理士 長谷用 芳 樹間
塩 １） 辰 也第１の実施例 第 】 図 第３の実施例 第３図
本発明の他の実施例を示す構成図、第３図は、本発明の
さらに別の実施例を示す構成図である。 １．２０・・・試料セル、２・・・遮蔽壁、３・・・分
光分析用光源、４・・・フォトブリーチ装置、５・・・
分光器、６・・・フォトブリーチ用光源、７・・・合波
器、８．９゜１０．１１，２２，２３．２４・・・光フ
ァイバ、１４・・・光路切替器、１５・・・シャッタ、
１６・・・コントローラ、２１・・・ハーフミラ− 特許出願人 動力炉・核燃料開発事業間開
住友電気工業株式会社 代理人弁理士 長谷用 芳 樹間
塩 １） 辰 也第１の実施例 第 】 図 第３の実施例 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一部が放射線場に置かれた光ファイバと、この光フ
ァイバを経由してくる光を用いて分光分析を行う分光器
と、放射線による前記光ファイバの損傷を回復させるた
めのフォトブリーチ光をその光ファイバに対して選択的
に供給するフォトブリーチ手段とを備えた分光分析装置
。 ２、フォトブリーチ手段は、フォトブリーチ光を発生す
るフォトブリーチ光源と、フォトブリーチ光を光ファイ
バ中に導く光結合器とを有する請求項１記載の分光分析
装置。 ３、光結合器は、合波器またはハーフミラーである請求
項２記載の分光分析装置。 ４、分光分析を行っていないときはフォトブリーチ光を
光ファイバに供給し、分光分析を行っているときはその
フォトブリーチ光の供給を遮断することを特徴とする請
求項１記載の分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30970788A JPH02156136A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30970788A JPH02156136A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 分光分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02156136A true JPH02156136A (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=17996321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30970788A Pending JPH02156136A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02156136A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05164611A (ja) * | 1991-12-18 | 1993-06-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 分光分析装置 |
| WO2000046889A1 (en) * | 1999-02-05 | 2000-08-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fiber amplifier |
| CN103454230A (zh) * | 2013-09-30 | 2013-12-18 | 重庆大学 | 一种精确农残光谱检测装置 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS60187845A (ja) * | 1984-03-08 | 1985-09-25 | Showa Denko Kk | エタンガス濃度の測定方法およびその装置 |
| JPS60204640A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-16 | Nuclear Fuel Ind Ltd | 放射線照射による着色ガラス製品の脱色再生方法 |
| JPS6189543A (ja) * | 1984-09-24 | 1986-05-07 | コルモーゲン テクノロジイズ コーポレイシヨン | デユアルビームスペクトル透過率の測定方法及び装置 |
| JPS62130340A (ja) * | 1985-12-03 | 1987-06-12 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | 放射性雰囲気下物質の分光分析方法および装置 |
| JPS6370804A (ja) * | 1986-09-13 | 1988-03-31 | Fujikura Ltd | 耐放射線光フアイバ伝送装置 |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP30970788A patent/JPH02156136A/ja active Pending
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