JPH02156200A - 放射線装置 - Google Patents
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- JPH02156200A JPH02156200A JP63310422A JP31042288A JPH02156200A JP H02156200 A JPH02156200 A JP H02156200A JP 63310422 A JP63310422 A JP 63310422A JP 31042288 A JP31042288 A JP 31042288A JP H02156200 A JPH02156200 A JP H02156200A
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔（既 要〕
シンクロトロン放射光の発生源として利用される放射線
装置に関し、 波長に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可能で
、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置の提
供を目的とし、 複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互に配設された多
段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射光を取り出
すビームダクトの中間に設け、固定翼の羽根に形成され
た光通過孔と回転翼の羽根の隙間とが直線状に並んだと
きに、放射光が多段軸流タービンを透過するように構成
する。
装置に関し、 波長に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可能で
、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置の提
供を目的とし、 複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互に配設された多
段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射光を取り出
すビームダクトの中間に設け、固定翼の羽根に形成され
た光通過孔と回転翼の羽根の隙間とが直線状に並んだと
きに、放射光が多段軸流タービンを透過するように構成
する。
〔産業上の利用分野］
本発明はシンクロトロン放射光の発生源として利用され
る放射線装置、特に放射光の取り出し効率が高（取扱い
の容易な放射線装置に関する。
る放射線装置、特に放射光の取り出し効率が高（取扱い
の容易な放射線装置に関する。
近年、シンクロトロン放射光（以下放射光と称する）を
利用した技術が注目されており、特にリソグラフィ技術
や半導体プロセス技術等への応用が朋待されている。し
かし放射光は少なくとも１０’ Ｔｏｒｒ位の高真空雰
囲気中において発生する光であり、各種技術に応用する
には先ず放射光を高真空雰囲気中から効率よく取り出す
必要がある。
利用した技術が注目されており、特にリソグラフィ技術
や半導体プロセス技術等への応用が朋待されている。し
かし放射光は少なくとも１０’ Ｔｏｒｒ位の高真空雰
囲気中において発生する光であり、各種技術に応用する
には先ず放射光を高真空雰囲気中から効率よく取り出す
必要がある。
そこで波長に関係なく放射光を効率よく取り出すことが
可能で、しかも取扱いの容易な放射線装置の開発が要望
されている。
可能で、しかも取扱いの容易な放射線装置の開発が要望
されている。
［従来の技術］
第８図は従来の放射１線装置の概要を示す模式図である
。
。
図において放射線装置は放射光１を出力する電子蓄積リ
ング２を有し、放射光１はビームダクト３を経由して作
業領域に取り出される。かかる装置において光速に近い
速さで電子が運動する電子蓄積リング２の内部は、少な
くとも１Ｏ−１０Ｔｏｒｒ位の高真空状態を保っている
ことが要求され、放射光１が使用される作業領域は大気
圧若しくは低真空度雰囲気中である。したがってその間
を接続するビームダクト３は単に放射光１を通すだけで
無く、低真空側から高真空側へのガスの移動を抑制する
作用を具えていることが要求される。
ング２を有し、放射光１はビームダクト３を経由して作
業領域に取り出される。かかる装置において光速に近い
速さで電子が運動する電子蓄積リング２の内部は、少な
くとも１Ｏ−１０Ｔｏｒｒ位の高真空状態を保っている
ことが要求され、放射光１が使用される作業領域は大気
圧若しくは低真空度雰囲気中である。したがってその間
を接続するビームダクト３は単に放射光１を通すだけで
無く、低真空側から高真空側へのガスの移動を抑制する
作用を具えていることが要求される。
そこで従来の放射線装置では図示の如くビームダクト３
の先端を、光の透過率が高く機械的強度に優れたベリリ
ウム（Ｂｅ）板３１で封止すると共に、光通過孔３２を
具えた複数のアパーチャ３３．〜３３゜でビームダクト
３の内部を区切って、各区間にゲートバルブ３４．〜３
４７と排気ダク゛Ｉ・３５＋〜３５．、からなる排気系
を形成し、複数段の排気系を直列に接１続してなる差動
排気系を構成することによって、ビームダクト３にガス
の移動を抑制する作用を付与している。
の先端を、光の透過率が高く機械的強度に優れたベリリ
ウム（Ｂｅ）板３１で封止すると共に、光通過孔３２を
具えた複数のアパーチャ３３．〜３３゜でビームダクト
３の内部を区切って、各区間にゲートバルブ３４．〜３
４７と排気ダク゛Ｉ・３５＋〜３５．、からなる排気系
を形成し、複数段の排気系を直列に接１続してなる差動
排気系を構成することによって、ビームダクト３にガス
の移動を抑制する作用を付与している。
しかし従来の放射線装置には次のような問題点がある。
即ち、ビームダクトを区切るアパーチャがそれぞれ光通
過孔３２を有し、この光通過孔が差動排気系のバイパス
を形成して排気効率を低下させる。したがってＢｅ板で
封止されたビームダクト先端の真空度を１０−６〜１０
−’Ｔｏｒｒとしても、電子蓄積リング２の高真空度を
維持するのに必要なビームダクト長は１０ｍ以上になる
。
過孔３２を有し、この光通過孔が差動排気系のバイパス
を形成して排気効率を低下させる。したがってＢｅ板で
封止されたビームダクト先端の真空度を１０−６〜１０
−’Ｔｏｒｒとしても、電子蓄積リング２の高真空度を
維持するのに必要なビームダクト長は１０ｍ以上になる
。
一方、リソグラフィ技術や半導体プロセス技術等で使用
される数人〜数１０人の長波長光は、Ｂｅ仮による減衰
が大きくその厚さを５０μｍ以下にする必要がある。し
かし大気圧若しくは真空度が１０刊〜１０−”Ｔｏｒｒ
の作業領域と、真空度が１０−ｂ〜１０−’Ｔ。
される数人〜数１０人の長波長光は、Ｂｅ仮による減衰
が大きくその厚さを５０μｍ以下にする必要がある。し
かし大気圧若しくは真空度が１０刊〜１０−”Ｔｏｒｒ
の作業領域と、真空度が１０−ｂ〜１０−’Ｔ。
ｒｒのビームダクト先端との圧力差が大きく、厚さが５
０μｍ以下のＢｅ板ではその圧力差に耐えることができ
ない。
０μｍ以下のＢｅ板ではその圧力差に耐えることができ
ない。
使用される光の波長が更に長い分野ではＢｅ板の減衰が
増大し、Ｂｅ板でビームダクト先端を封止すると光が取
り出せなくなる。かかる場合は作業領域を１０１〜１０
−’ＴｏｒｒＯ高真空状態にしてＢｅ板を無くす必要が
あるが、作業領域を高真空状態にすると被照射ターゲッ
トの取扱いが極めて困難になる。
増大し、Ｂｅ板でビームダクト先端を封止すると光が取
り出せなくなる。かかる場合は作業領域を１０１〜１０
−’ＴｏｒｒＯ高真空状態にしてＢｅ板を無くす必要が
あるが、作業領域を高真空状態にすると被照射ターゲッ
トの取扱いが極めて困難になる。
本発明の目的は波長に関係なく放射光を効率よく取り出
すことが可能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な
放射線装置を提供することにある。
すことが可能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な
放射線装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
第１図は本発明になる放射線装置の原理を示す模式図で
ある。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表してい
る。
ある。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表してい
る。
上記課題は複数の固定翼６１と回転翼６２とが軸方向に
交互に配設された多段軸流タービン６を、電子蓄積リン
グ２から放射光１を取り出すビームダクト４の中間に設
け、それぞれの固定翼６１の羽根６３に形成された光通
過孔６４と、各回転翼６２の羽根６５の隙間６６とが直
線状に並んだときに、放射光１が多段軸流タービン６を
透過するよう構成されてなる本発明の放射線装置によっ
て達成される。
交互に配設された多段軸流タービン６を、電子蓄積リン
グ２から放射光１を取り出すビームダクト４の中間に設
け、それぞれの固定翼６１の羽根６３に形成された光通
過孔６４と、各回転翼６２の羽根６５の隙間６６とが直
線状に並んだときに、放射光１が多段軸流タービン６を
透過するよう構成されてなる本発明の放射線装置によっ
て達成される。
〔作 用］
第１図において複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互
に配設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから
放射光を取り出すビームダク１−の中間に設け、それぞ
れの固定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根
の隙間とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流タ
ービンを透過するよう構成することによって、減衰の要
因となるＢｅ板を光路中から除去することが可能になる
。
に配設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから
放射光を取り出すビームダク１−の中間に設け、それぞ
れの固定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根
の隙間とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流タ
ービンを透過するよう構成することによって、減衰の要
因となるＢｅ板を光路中から除去することが可能になる
。
しかもビームダクトにおける排気効率が上昇し被照射タ
ーゲットを、１０−１〜１０− ”Ｔｏｒｒの低真空度
中や大気圧の作業領域に設置することができ、１０ｍ以
上°あったビームダクト長を１ｍ以下に短縮することが
可能になる。
ーゲットを、１０−１〜１０− ”Ｔｏｒｒの低真空度
中や大気圧の作業領域に設置することができ、１０ｍ以
上°あったビームダクト長を１ｍ以下に短縮することが
可能になる。
即ち波長に関係なく放射光を効率よく取り出すことが可
能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置
を実現することができる。
能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放射線装置
を実現することができる。
以下添付図により本発明の実施例について説明する。な
お第２図は多段軸流タービンの構成を示す図、第３図は
固定翼と回転翼の形状を示す図、第４図は制御０装置の
一例、第５図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第
６図は本発明の第２の実施例を示す模式図、第７図は本
発明の第３の実施例を示す模式図である。
お第２図は多段軸流タービンの構成を示す図、第３図は
固定翼と回転翼の形状を示す図、第４図は制御０装置の
一例、第５図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第
６図は本発明の第２の実施例を示す模式図、第７図は本
発明の第３の実施例を示す模式図である。
第１図（ａ）において本発明になる放射線装置は多段軸
流タービン６が、電子蓄積リング２から放射光ｌを取り
出すビームダクト４の中間に設けられており、多段軸流
タービン６は複数の固定翼６１と回転翼６２とが軸方向
に交互に配設され、複数の回転翼６２は中心部が同一回
転軸に固定されている。
流タービン６が、電子蓄積リング２から放射光ｌを取り
出すビームダクト４の中間に設けられており、多段軸流
タービン６は複数の固定翼６１と回転翼６２とが軸方向
に交互に配設され、複数の回転翼６２は中心部が同一回
転軸に固定されている。
それぞれの固定翼６１の羽根６３には第１図（ｂ）に示
す如く光通過孔６４が形成され、光通過孔６４と回転翼
６２の羽根６５の隙間６６とが直線状に−並んだとぎに
、アパーチャ４１の光通過孔４２を透過した放射光１が
多段軸流タービン６を透過する。
す如く光通過孔６４が形成され、光通過孔６４と回転翼
６２の羽根６５の隙間６６とが直線状に−並んだとぎに
、アパーチャ４１の光通過孔４２を透過した放射光１が
多段軸流タービン６を透過する。
第１図（ｂ）において低真空側に存在する残留ガスＧは
矢示の如く、固定翼６１と回転翼６２の開口部から高真
空側に流れようとするが、回転翼６２の回転に伴って羽
根６５が矢示の如く高速度で移動しており、羽１１１６
５に衝突した残留ガスＧは低真空側に押し戻され高真空
側への流入が阻止される。一部の残留ガスＧは羽根６５
の隙間６６を通して高真空側に流入するが、複数の回転
翼６２が軸方向に配設されているため後段の羽根６５に
よって低真空側に押し戻される。
矢示の如く、固定翼６１と回転翼６２の開口部から高真
空側に流れようとするが、回転翼６２の回転に伴って羽
根６５が矢示の如く高速度で移動しており、羽１１１６
５に衝突した残留ガスＧは低真空側に押し戻され高真空
側への流入が阻止される。一部の残留ガスＧは羽根６５
の隙間６６を通して高真空側に流入するが、複数の回転
翼６２が軸方向に配設されているため後段の羽根６５に
よって低真空側に押し戻される。
従来の差動排気系とは異なり多段軸流タービンは極く狭
い空間に、固定翼６１と回転翼６２からなる排気系を多
数段収納することが可能であり、低真空側が大気圧若し
くは真空度が１０−１〜１０− ”Ｔｏｒｒの作業領域
であっても、排気系の段数を多くすることで電子蓄積リ
ング２の高真空度を十分維持することができる。
い空間に、固定翼６１と回転翼６２からなる排気系を多
数段収納することが可能であり、低真空側が大気圧若し
くは真空度が１０−１〜１０− ”Ｔｏｒｒの作業領域
であっても、排気系の段数を多くすることで電子蓄積リ
ング２の高真空度を十分維持することができる。
なお残留ガスの移動速度は速くても音速程度で光速で移
動する放射光との間に大きい差がある。
動する放射光との間に大きい差がある。
したがって羽根６５が残留ガスの移動を止める程度に回
転翼６２を回転させても、羽根６５によって放射光の光
路が完全に遮断されることはない。その際放射光１は回
転翼６２の羽根６５によってスイッチングされ、断続的
になるが回転翼６２が高速で回転しており実用上の支障
はない。
転翼６２を回転させても、羽根６５によって放射光の光
路が完全に遮断されることはない。その際放射光１は回
転翼６２の羽根６５によってスイッチングされ、断続的
になるが回転翼６２が高速で回転しており実用上の支障
はない。
本発明の放射線装置に用いられる多段軸流タービンは、
例えば第２図に示す如く真空ポンプ等に用いられるもの
と同等の構造を有し、複数の固定χ６１と回転翼６２と
が軸方向に交互に配設されていて、固定翼６１は外周部
が外枠６８に固定され回転翼６２は中央部が回転軸６９
に固定されている。また回転軸６９は磁気軸受７０等を
介して固定軸７１に軸止され、回転軸６９と固定軸７１
との間に外側が回転し得る高周波モータ７２が装着され
ている。
例えば第２図に示す如く真空ポンプ等に用いられるもの
と同等の構造を有し、複数の固定χ６１と回転翼６２と
が軸方向に交互に配設されていて、固定翼６１は外周部
が外枠６８に固定され回転翼６２は中央部が回転軸６９
に固定されている。また回転軸６９は磁気軸受７０等を
介して固定軸７１に軸止され、回転軸６９と固定軸７１
との間に外側が回転し得る高周波モータ７２が装着され
ている。
このように磁気軸受７０等を介して回転軸６９を固定軸
７１に軸止し、回転軸６９と固定軸７１との間に高周波
モータ７２が装着されてなる装置では、回転軸６９と固
定軸７１の相対的な位置を維持するための機構が必要で
ある。そこで半径方向マグネット７３、半径方向センサ
７４、軸方向マグネット７５、軸方向センサ７６等が、
回転軸６９と固定軸７１の相対的な位置を維持するため
の機構として固定軸７１に装着されている。
７１に軸止し、回転軸６９と固定軸７１との間に高周波
モータ７２が装着されてなる装置では、回転軸６９と固
定軸７１の相対的な位置を維持するための機構が必要で
ある。そこで半径方向マグネット７３、半径方向センサ
７４、軸方向マグネット７５、軸方向センサ７６等が、
回転軸６９と固定軸７１の相対的な位置を維持するため
の機構として固定軸７１に装着されている。
なお位置検出センサ７７は回転翼６２の同期信号を取り
出すためのセンサであり、コネクタ７８は磁気軸受７０
や高周波モータ７２に電流を供給すると共に、軸方向セ
ンサ７６や位置検出センサ７７から信号を取り出すため
のものである。
出すためのセンサであり、コネクタ７８は磁気軸受７０
や高周波モータ７２に電流を供給すると共に、軸方向セ
ンサ７６や位置検出センサ７７から信号を取り出すため
のものである。
多段軸流タービンの外枠６８の一部に放射光取出ロア９
が設けられ、固定翼６１の放射光取出ロア９と対向する
位置には光通過孔６４が形成されている。したがって高
真空側から多段軸流タービンに入射した放射光１は、回
転翼６２の羽根の隙間と固定翼６１の光通過孔６４を通
り抜けて放射光取出ロア９から出射される。
が設けられ、固定翼６１の放射光取出ロア９と対向する
位置には光通過孔６４が形成されている。したがって高
真空側から多段軸流タービンに入射した放射光１は、回
転翼６２の羽根の隙間と固定翼６１の光通過孔６４を通
り抜けて放射光取出ロア９から出射される。
固定胤６１は第３図（ａ）に示す如く外輪６ｆａと内輪
６１ｂと複数の羽根６３を有し、第３図（Ｃ）に示す如
く外輪６１ａと内輪６１ｂとに固定された羽根６３の面
は、それぞれ外輪６１ａおよび内輪６１ｂの面に対して
所定の角度で交わる。そして羽根６３の一部には放射光
を通ず光通過孔６４が設けられている。
６１ｂと複数の羽根６３を有し、第３図（Ｃ）に示す如
く外輪６１ａと内輪６１ｂとに固定された羽根６３の面
は、それぞれ外輪６１ａおよび内輪６１ｂの面に対して
所定の角度で交わる。そして羽根６３の一部には放射光
を通ず光通過孔６４が設けられている。
また回転翼６２は第３図（ａ）に示す如く複数の羽根６
５の根元が内輪６２ａに固定され、複数の回転翼６２の
内輪６２ａが回転軸６９と一体化されている。第３図（
ｄ）に示す如く内輪６２ａに固定された羽根６５の面は
内輪６２ａの面と所定の角度で交わり、隣接する羽根６
５の間には放射光を通し得る隙間６６を具えている。
５の根元が内輪６２ａに固定され、複数の回転翼６２の
内輪６２ａが回転軸６９と一体化されている。第３図（
ｄ）に示す如く内輪６２ａに固定された羽根６５の面は
内輪６２ａの面と所定の角度で交わり、隣接する羽根６
５の間には放射光を通し得る隙間６６を具えている。
一方、多段軸流タービンの回転を制御する制御装置８は
例えば第４図に示す如く、磁気軸受制御回路８１、周波
数側？’ｔ［１回路８２、モータ駆動回路８３、保護回
路８４、および直流電源回路８５を有し、磁気軸受制御
回路８１は半径方向センサ７４や軸方向センサ７６から
の信号に基づいて、回転軸６９が所定の位置を維持しな
がら安定して回転するよう、半径方向マグネッ１−７３
や軸方向マグネット７５に印加する電流を制御している
。
例えば第４図に示す如く、磁気軸受制御回路８１、周波
数側？’ｔ［１回路８２、モータ駆動回路８３、保護回
路８４、および直流電源回路８５を有し、磁気軸受制御
回路８１は半径方向センサ７４や軸方向センサ７６から
の信号に基づいて、回転軸６９が所定の位置を維持しな
がら安定して回転するよう、半径方向マグネッ１−７３
や軸方向マグネット７５に印加する電流を制御している
。
周波数制御回路８２は図示省略された信号発生回路の他
に、第１の信号入力端子８２ａと第２の信号入力端子８
２ｂを具えており、信号入力端子８２ａに入力される位
置検出センサ７７からのフィードバンク信号ｆ、を、第
２の信号入力端子８２ｂに入力される外部トリガー信号
ｆ２、または信号発生回路から出力される制御信号ｆ３
と比較することによって、信号出力端子８２ｃからその
状況に対応した周期のパルス信号を出力する。
に、第１の信号入力端子８２ａと第２の信号入力端子８
２ｂを具えており、信号入力端子８２ａに入力される位
置検出センサ７７からのフィードバンク信号ｆ、を、第
２の信号入力端子８２ｂに入力される外部トリガー信号
ｆ２、または信号発生回路から出力される制御信号ｆ３
と比較することによって、信号出力端子８２ｃからその
状況に対応した周期のパルス信号を出力する。
例えば定常運転中は制御信号ｆ３が信号出力端子８２ｃ
から出力され、フィードバック信号ｆ１と制御信号ｆ３
との間に差が生じた場合は、その差を無くす方向に多段
軸流タービンの回転を補正するパルス信号が出力される
。また多段軸流タービンの始動時は信号ｆ１に比べて信
号ｆ３が大きく、信号出力端子８２ｃから加速的なパル
ス信号が出力される。
から出力され、フィードバック信号ｆ１と制御信号ｆ３
との間に差が生じた場合は、その差を無くす方向に多段
軸流タービンの回転を補正するパルス信号が出力される
。また多段軸流タービンの始動時は信号ｆ１に比べて信
号ｆ３が大きく、信号出力端子８２ｃから加速的なパル
ス信号が出力される。
更に減速時は信号ｆ、に比べて信号ｆ３が小さく減速的
なパルス信号が出力される。
なパルス信号が出力される。
なおモータ駆動回路８３は周波数制御回路８２から入力
される信号を増幅し、高周波信号を多段軸流タービンの
高周波モータ７２に供給する回路、保護回路８４は半径
方向センサ７４や軸方向センサ７６、位置検出センサ７
７からの信号、およびモータ駆動回路８３の負荷状態を
監視する回路、直流電源回路８５はそれ等の回路に電流
を供給する回路である。
される信号を増幅し、高周波信号を多段軸流タービンの
高周波モータ７２に供給する回路、保護回路８４は半径
方向センサ７４や軸方向センサ７６、位置検出センサ７
７からの信号、およびモータ駆動回路８３の負荷状態を
監視する回路、直流電源回路８５はそれ等の回路に電流
を供給する回路である。
第５図において本発明の第１の実施例は電子蓄積リング
２が、ビームダクト４を介して被照射ターゲット５１を
設置する作業室５と接続されている。
２が、ビームダクト４を介して被照射ターゲット５１を
設置する作業室５と接続されている。
ビームダクト４の高真空側にはゲートバルブ４３とアパ
ーチャ４１が、低真空側にはゲートバルブ４４と排気ダ
クト４５が設けられており、作業室５の真空度はゲート
バルブ５２と排気ダクト５３により１０−１〜１０”２
Ｔｏｒｒに調整されている。
ーチャ４１が、低真空側にはゲートバルブ４４と排気ダ
クト４５が設けられており、作業室５の真空度はゲート
バルブ５２と排気ダクト５３により１０−１〜１０”２
Ｔｏｒｒに調整されている。
かかる装置においてゲートバルブ４３．４４、および排
気ダクト４５を調整し、ビームダクト４の中間に設けら
れた多段軸流タービン６を回転させることによって、ビ
ームダクト４に接続された電子蓄積リング２の内部は所
定の高真空状態になる。多段軸流タービン６は制御装置
８から出力される高周波信号によって駆動され、フィー
ドバンク信号ｆ１と制御信号との間に差が生じた場合は
、その差を無くす方向に多段軸流タービンの回転が補正
される。
気ダクト４５を調整し、ビームダクト４の中間に設けら
れた多段軸流タービン６を回転させることによって、ビ
ームダクト４に接続された電子蓄積リング２の内部は所
定の高真空状態になる。多段軸流タービン６は制御装置
８から出力される高周波信号によって駆動され、フィー
ドバンク信号ｆ１と制御信号との間に差が生じた場合は
、その差を無くす方向に多段軸流タービンの回転が補正
される。
また第６図において本発明の第２の実施例は電子蓄積リ
ング２と作業室５が、２基の多段軸流タービン６Ａ、６
Ｂを具えたビームダクト、１を介して接続され、ビーム
ダクト４の高真空側にゲートバルブ４３とアパーチャ４
１、低真空側にゲートバルブ・１４と排気ダクト４５、
多段軸流タービン６Ａと６Ｂの間にゲートバルブ４６が
設けられている。なお被照射ターゲット５１が設置され
る作業室５の真空度は第１の実施例と同様、ゲートバル
ブ５２と排気夕゛クト５３により１０−１〜１Ｏ−２Ｔ
ｏｒｒに言周整されている。
ング２と作業室５が、２基の多段軸流タービン６Ａ、６
Ｂを具えたビームダクト、１を介して接続され、ビーム
ダクト４の高真空側にゲートバルブ４３とアパーチャ４
１、低真空側にゲートバルブ・１４と排気ダクト４５、
多段軸流タービン６Ａと６Ｂの間にゲートバルブ４６が
設けられている。なお被照射ターゲット５１が設置され
る作業室５の真空度は第１の実施例と同様、ゲートバル
ブ５２と排気夕゛クト５３により１０−１〜１Ｏ−２Ｔ
ｏｒｒに言周整されている。
かかる装置においてゲートバルブ４３．４４．４６、お
よび排気ダクト４５を調整すると共に、２基の多段軸流
タービン６Ａ、６Ｂを回転させることによって、電子蓄
積リング２の内部を第１の実施例に比べ一層高真空状態
にすることができる。しかし本実施例の場合は多段軸流
タービン６Ａ、６Ｂの回転翼を、それぞれの羽根の隙間
が直線状に並ぶように制御する必要がある。そこで多段
軸流タービン６Ａ、６Ｂからフィードバック信号ｆｌｓ
ｆｚを制御装置８に入力し、多段軸流タービン６Ａ、
６Ｂの回転が同期するよう制御している。
よび排気ダクト４５を調整すると共に、２基の多段軸流
タービン６Ａ、６Ｂを回転させることによって、電子蓄
積リング２の内部を第１の実施例に比べ一層高真空状態
にすることができる。しかし本実施例の場合は多段軸流
タービン６Ａ、６Ｂの回転翼を、それぞれの羽根の隙間
が直線状に並ぶように制御する必要がある。そこで多段
軸流タービン６Ａ、６Ｂからフィードバック信号ｆｌｓ
ｆｚを制御装置８に入力し、多段軸流タービン６Ａ、
６Ｂの回転が同期するよう制御している。
更に第７図において本発明の第３の実施例は電子蓄積リ
ング２が大気圧中の作業領域と、中間に２基の多段軸流
タービン６Ａ、６Ｃを具えたビームダクト４を介して接
続され、ビームダクト４は高真空側にゲートバルブ４３
とアパーチャ４１、多段軸流タービン６Ａと６０の間に
ゲートバルブ４４と排気ダクト４５を具えている。
ング２が大気圧中の作業領域と、中間に２基の多段軸流
タービン６Ａ、６Ｃを具えたビームダクト４を介して接
続され、ビームダクト４は高真空側にゲートバルブ４３
とアパーチャ４１、多段軸流タービン６Ａと６０の間に
ゲートバルブ４４と排気ダクト４５を具えている。
かかる装置においてゲートバルブ４３．４４、および排
気ダクト４５を調整すると共に、２基の多段軸流タービ
ン６Ａ、６Ｃを回転させることによって、ビームダクト
４に接続された電子蓄積リング２の内部は所定の高真空
状態になる。しかし多段軸流タービン６Ｃは直接空気に
接触しているため、回転数や回転翼の大きさ、形状等が
当然多段軸流タービン６Ａと異なり、回転翼の羽根の隙
間を直線状に並べるための同期が一層厳しくなる。
気ダクト４５を調整すると共に、２基の多段軸流タービ
ン６Ａ、６Ｃを回転させることによって、ビームダクト
４に接続された電子蓄積リング２の内部は所定の高真空
状態になる。しかし多段軸流タービン６Ｃは直接空気に
接触しているため、回転数や回転翼の大きさ、形状等が
当然多段軸流タービン６Ａと異なり、回転翼の羽根の隙
間を直線状に並べるための同期が一層厳しくなる。
そこで多段軸流タービン６Ａ、６Ｃはそれぞれ専用の制
御装置８Ａ、８Ｂを有し、多段軸流タービン６Ａと６０
から出力されるフィードバック信号を、それぞれ専用の
制御装置８Ａと８Ｂに入力すると同時に、多段軸流ター
ビン６Ａから出力されるフィードバック信号を制御装置
８Ｂに入力し、多段軸流タービン６Ｃが多段軸流タービ
ン６Ａに同期するよう構成している。
御装置８Ａ、８Ｂを有し、多段軸流タービン６Ａと６０
から出力されるフィードバック信号を、それぞれ専用の
制御装置８Ａと８Ｂに入力すると同時に、多段軸流ター
ビン６Ａから出力されるフィードバック信号を制御装置
８Ｂに入力し、多段軸流タービン６Ｃが多段軸流タービ
ン６Ａに同期するよう構成している。
このように複数の固定翼と回転翼とが軸方向に交互に配
設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射
光を取り出すビームダクトの中間に設け、それぞれの固
定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根の隙間
とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流タービン
を透過するよう構成することによって、減衰の要因とな
るＢｅ板を光路中から除去することが可能になる。
設された多段軸流タービンを、電子蓄積リングから放射
光を取り出すビームダクトの中間に設け、それぞれの固
定翼の羽根に形成された光通過孔と回転翼の羽根の隙間
とが直線状に並んだときに、放射光が多段軸流タービン
を透過するよう構成することによって、減衰の要因とな
るＢｅ板を光路中から除去することが可能になる。
しかもビームダクトにおける排気効率が上昇し被照射タ
ーゲットを、１０−１〜１０−２Ｔｏｒｒの低真空度中
や大気圧の作業領域に設置することができ、１０ｍ以上
あったビームダクト長を１ｍ以下に短縮することが可能
になる。即ち波長に関係なく放射光を効率よく取り出す
ことが可能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放
射線装置を実現することができる。
ーゲットを、１０−１〜１０−２Ｔｏｒｒの低真空度中
や大気圧の作業領域に設置することができ、１０ｍ以上
あったビームダクト長を１ｍ以下に短縮することが可能
になる。即ち波長に関係なく放射光を効率よく取り出す
ことが可能で、ビームダクト長が短く取扱いの容易な放
射線装置を実現することができる。
上述の如く本発明によれば波長に関係なく放射光を効率
よく取り出すことが可能で、ビームダグ１−長が短く取
扱いの容易な放射線装置を提供することができる。
よく取り出すことが可能で、ビームダグ１−長が短く取
扱いの容易な放射線装置を提供することができる。
第１図は本発明になる放射線装置の原理を示す模式図、
第２図は多段軸流タービンの構成を示す図、第３図は固
定翼と回転翼の形状を示す図、第４図は制御装置の一例
、 第５図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第６図は
本発明の第２の実施例を示す模式図、第７図は本発明の
第３の実施例を示す模式図、第８図は従来の放射線装置
の概要を示す模式図、である。図において １は放射光、 ２は電子蓄積リング、４はビー
ムダクト、 ５は作業室、 ６．６Ａ、６Ｂ、６Ｃは多段軸流タービン、８は制御装
置、 ４１はアパーチャ、４２は光通過孔、４３．
４４．４６．５２はゲートバルブ、４５．５３は排気ダ
クト、５１は被照射ターゲット、６１は固定翼、
６１ａは外輪、６１ｂ 、６２ａは内輪、 ６２は回
転翼、６３．６５は羽根、 ６４は光通過孔、６６
は羽根の隙間、 ６８は外枠、 ６９は回転軸、 ７０は６ｎ気輔受、７１は固定
軸、 ７２は高周波モータ、７３は半径方向マグ
ふント、７４は半径方向センサ、７５は軸方向マグネッ
ト、７６は軸方向センサ、７７は位置検出センサ、７８
はコ皐りタ、７９は放射光取出口、 ８１はＣｎｎ軸軸受制御回路 ８２は周波数制御回路、 ２ａ ２ｂ は信号入力端子、 ２ｃ は信号出力端子、 ８３はモーフ駆動回路、 ８４は保護回路、 ８５は直流電源回路、 をそれぞれ表す。 ′７上う杉元９−ごノＰＩ情７へ５示１２グ τ
・口 君 −」 （０，） （外 杏発幌１＝なろ放射惺裟買の原理已示１榎へ・Σ￥
１ 回 （か） ／→） （ｔ−１） 因て饗乙工転翼の柑７）夫８示１０ 第 ３ ロ 二一一 −」 町仰装置ｏ−中（ １斗刀 ニ≦発綱ρ’、４ｙｔ＞疋そ脣１１乞示ず榎へ２メ ５
記 ｑ７２ ′促釆ｎ仄判棟七！の穂才Ｅ弾、ず領ベロ第 ６
囲
定翼と回転翼の形状を示す図、第４図は制御装置の一例
、 第５図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第６図は
本発明の第２の実施例を示す模式図、第７図は本発明の
第３の実施例を示す模式図、第８図は従来の放射線装置
の概要を示す模式図、である。図において １は放射光、 ２は電子蓄積リング、４はビー
ムダクト、 ５は作業室、 ６．６Ａ、６Ｂ、６Ｃは多段軸流タービン、８は制御装
置、 ４１はアパーチャ、４２は光通過孔、４３．
４４．４６．５２はゲートバルブ、４５．５３は排気ダ
クト、５１は被照射ターゲット、６１は固定翼、
６１ａは外輪、６１ｂ 、６２ａは内輪、 ６２は回
転翼、６３．６５は羽根、 ６４は光通過孔、６６
は羽根の隙間、 ６８は外枠、 ６９は回転軸、 ７０は６ｎ気輔受、７１は固定
軸、 ７２は高周波モータ、７３は半径方向マグ
ふント、７４は半径方向センサ、７５は軸方向マグネッ
ト、７６は軸方向センサ、７７は位置検出センサ、７８
はコ皐りタ、７９は放射光取出口、 ８１はＣｎｎ軸軸受制御回路 ８２は周波数制御回路、 ２ａ ２ｂ は信号入力端子、 ２ｃ は信号出力端子、 ８３はモーフ駆動回路、 ８４は保護回路、 ８５は直流電源回路、 をそれぞれ表す。 ′７上う杉元９−ごノＰＩ情７へ５示１２グ τ
・口 君 −」 （０，） （外 杏発幌１＝なろ放射惺裟買の原理已示１榎へ・Σ￥
１ 回 （か） ／→） （ｔ−１） 因て饗乙工転翼の柑７）夫８示１０ 第 ３ ロ 二一一 −」 町仰装置ｏ−中（ １斗刀 ニ≦発綱ρ’、４ｙｔ＞疋そ脣１１乞示ず榎へ２メ ５
記 ｑ７２ ′促釆ｎ仄判棟七！の穂才Ｅ弾、ず領ベロ第 ６
囲
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 複数の固定翼（６１）と回転翼（６２）とが軸方向に交
互に配設された多段軸流タービン（６）を、電子蓄積リ
ング（２）から放射光（１）を取り出すビームダクト（
４）の中間に設け、 それぞれの固定翼（６１）の羽根（６３）に形成された
光通過孔（６４）と、各回転翼（６２）の羽根（６５）
の隙間（６６）とが直線状に並んだときに、該放射光（
１）が該多段軸流タービン（６）を透過するよう構成さ
れてなることを特徴とする放射線装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63310422A JPH0695159B2 (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 放射線装置 |
| US07/441,616 US4996700A (en) | 1988-12-08 | 1989-11-27 | Irradiation equipment for applying synchrotron radiation |
| KR8918036A KR930002560B1 (en) | 1988-12-08 | 1989-12-06 | Irradiation equipment of synchrotron radiation |
| DE68914420T DE68914420T2 (de) | 1988-12-08 | 1989-12-07 | Synchrotron-Bestrahlungsgerät. |
| EP89122557A EP0373504B1 (en) | 1988-12-08 | 1989-12-07 | Synchrotron radiation irradiation equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63310422A JPH0695159B2 (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 放射線装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02156200A true JPH02156200A (ja) | 1990-06-15 |
| JPH0695159B2 JPH0695159B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=18005069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63310422A Expired - Fee Related JPH0695159B2 (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 放射線装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4996700A (ja) |
| EP (1) | EP0373504B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0695159B2 (ja) |
| KR (1) | KR930002560B1 (ja) |
| DE (1) | DE68914420T2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5389888A (en) * | 1991-06-18 | 1995-02-14 | Seiko Seiki Kabushika Kaisha | Synchrotron radiation beam generator |
| EP1396758A2 (en) | 2002-09-03 | 2004-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Differential pumping system and exposure apparatus |
| US6897456B2 (en) | 2002-09-06 | 2005-05-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Differential pumping system and exposure apparatus |
| US7820992B2 (en) | 2007-08-28 | 2010-10-26 | Kobe Steel, Ltd. | Neutron chopper |
| US20100284502A1 (en) * | 2007-12-28 | 2010-11-11 | Gregory Piefer | High energy proton or neutron source |
| US9024261B2 (en) | 2009-12-15 | 2015-05-05 | Phoenix Nuclear Labs Llc | Method and apparatus for performing active neutron interrogation of containters |
| JP2015197446A (ja) * | 2014-04-02 | 2015-11-09 | エアバス デーエス ゲーエムベーハーＡｉｒｂｕｓ ＤＳ ＧｍｂＨ | チョッパーディスク並びにその製造方法及びその製造装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5195121A (en) * | 1992-01-22 | 1993-03-16 | B.C. Medical Ltd. | X-ray beam modulator |
| US20050223973A1 (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Infineon Technologies Ag | EUV lithography system and chuck for releasing reticle in a vacuum isolated environment |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2170980B (en) * | 1985-02-07 | 1988-05-25 | Steve Webb | Ct scanner and detector therefor |
| JPS62222634A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-30 | Fujitsu Ltd | Ｘ線露光方法 |
| DE3806950A1 (de) * | 1988-03-03 | 1989-09-14 | Siemens Ag | Vorrichtung zur belichtung einer mit einer strahlungsempfindlichen schicht versehenen probe |
-
1988
- 1988-12-08 JP JP63310422A patent/JPH0695159B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-11-27 US US07/441,616 patent/US4996700A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-06 KR KR8918036A patent/KR930002560B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-07 EP EP89122557A patent/EP0373504B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-07 DE DE68914420T patent/DE68914420T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5389888A (en) * | 1991-06-18 | 1995-02-14 | Seiko Seiki Kabushika Kaisha | Synchrotron radiation beam generator |
| EP1396758A2 (en) | 2002-09-03 | 2004-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Differential pumping system and exposure apparatus |
| US6891172B2 (en) | 2002-09-03 | 2005-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Differential pumping system and exposure apparatus |
| US6897456B2 (en) | 2002-09-06 | 2005-05-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Differential pumping system and exposure apparatus |
| US7820992B2 (en) | 2007-08-28 | 2010-10-26 | Kobe Steel, Ltd. | Neutron chopper |
| US20100284502A1 (en) * | 2007-12-28 | 2010-11-11 | Gregory Piefer | High energy proton or neutron source |
| JP2011508885A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-17 | グレゴリー ピーファー， | 高エネルギー陽子または中性子源 |
| US8837662B2 (en) * | 2007-12-28 | 2014-09-16 | Phoenix Nuclear Labs Llc | High energy proton or neutron source |
| US9024261B2 (en) | 2009-12-15 | 2015-05-05 | Phoenix Nuclear Labs Llc | Method and apparatus for performing active neutron interrogation of containters |
| JP2015197446A (ja) * | 2014-04-02 | 2015-11-09 | エアバス デーエス ゲーエムベーハーＡｉｒｂｕｓ ＤＳ ＧｍｂＨ | チョッパーディスク並びにその製造方法及びその製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68914420T2 (de) | 1994-07-28 |
| KR930002560B1 (en) | 1993-04-03 |
| DE68914420D1 (de) | 1994-05-11 |
| KR900010927A (ko) | 1990-07-11 |
| US4996700A (en) | 1991-02-26 |
| JPH0695159B2 (ja) | 1994-11-24 |
| EP0373504B1 (en) | 1994-04-06 |
| EP0373504A1 (en) | 1990-06-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |