JPH0215660A - 半導体装置 - Google Patents
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、半導体装置、特にそのパッケージングに関ず
ろ。
ろ。
〈従来技術〉
近年、複数の半導体チップをシステムとして駆動するの
に有効な手段として、これらの半導体チップをm−のセ
ラミックパッケージ内に三次元実装する、いわゆる三次
元マルチチップ実装が多数提案されている。しかしなが
ら、これらの手法は高f)lIiなセラミックパッケー
ジを用いろノこめ、パケーノコストが高くつくという問
題点があり広範な需゛皮を11)ろための障害となって
いる。
に有効な手段として、これらの半導体チップをm−のセ
ラミックパッケージ内に三次元実装する、いわゆる三次
元マルチチップ実装が多数提案されている。しかしなが
ら、これらの手法は高f)lIiなセラミックパッケー
ジを用いろノこめ、パケーノコストが高くつくという問
題点があり広範な需゛皮を11)ろための障害となって
いる。
この問題点を解決する手段として、安+r+Iiな樹脂
成形バケーノを利用した三次元マルチヂップバケージが
既に、特開昭56−62350号、特開昭5fi−(i
2351号および特開昭58−1 :3055:3号(
以下第一従来例という)で開示されている。
成形バケーノを利用した三次元マルチヂップバケージが
既に、特開昭56−62350号、特開昭5fi−(i
2351号および特開昭58−1 :3055:3号(
以下第一従来例という)で開示されている。
しかしながら、第一従来例においては、゛1′−導体ヂ
ツブはリードフレームのチップ取付部の両面に固定され
、半導体チップ間の電気的接続はリードフレームを介し
て行われろため、半導体チップ間の多端子接続を行うこ
とがで、きないという問題点がiうつノこ。
ツブはリードフレームのチップ取付部の両面に固定され
、半導体チップ間の電気的接続はリードフレームを介し
て行われろため、半導体チップ間の多端子接続を行うこ
とがで、きないという問題点がiうつノこ。
そこで、上記問題点を解決ずろノこめに1.11開昭6
1−248541号(以下、第二従来例という)におい
て、二種の半導体チップをフィルムギヤリアを介して主
面同士を一定の間隔を設けて対向接続する手法が提案さ
れている。
1−248541号(以下、第二従来例という)におい
て、二種の半導体チップをフィルムギヤリアを介して主
面同士を一定の間隔を設けて対向接続する手法が提案さ
れている。
く 発明が解決しようとする問題点 〉しかし、第二従
来例では構造的には半導体チップ間の多端子接続が可能
であるが、フィルムキャリア方式を採用しているため、
電極の取り出しは半導体チップ上の素子のない周辺領域
に限定される。さらに、対向する半導体チップの主面間
には樹脂材料等を充填しない構造のため、樹脂成形時の
熟と樹脂充填圧力(通常50〜100 kg/ am’
)により半導体チップが変形を生じ、素子特性が損われ
るという問題点があった。
来例では構造的には半導体チップ間の多端子接続が可能
であるが、フィルムキャリア方式を採用しているため、
電極の取り出しは半導体チップ上の素子のない周辺領域
に限定される。さらに、対向する半導体チップの主面間
には樹脂材料等を充填しない構造のため、樹脂成形時の
熟と樹脂充填圧力(通常50〜100 kg/ am’
)により半導体チップが変形を生じ、素子特性が損われ
るという問題点があった。
また、半導体チップの三次元構造に関してはこれらのほ
かに、例えば特公昭58−45822号(以下第三従来
例という)、特開昭5L−88863号(以下第四従来
例という)等が提案されているが、第三従来例において
は、半導体チップ間は第二従来例と同様に空洞であり、
また第四従来例においては半導体チップ間の周辺部分の
みを樹脂により固着せしめている。このため、これらの
半導体チップを成形用樹脂によりパケージした場合には
、同様に半導体チップが変形を生じ、素子特性が劣化す
るという問題点かあった。
かに、例えば特公昭58−45822号(以下第三従来
例という)、特開昭5L−88863号(以下第四従来
例という)等が提案されているが、第三従来例において
は、半導体チップ間は第二従来例と同様に空洞であり、
また第四従来例においては半導体チップ間の周辺部分の
みを樹脂により固着せしめている。このため、これらの
半導体チップを成形用樹脂によりパケージした場合には
、同様に半導体チップが変形を生じ、素子特性が劣化す
るという問題点かあった。
そごで、本発明は、複数の゛ト導体チップを多端子接続
でき、半導体チップの変形による素子特性の劣化なしに
樹脂成形パケージングができ、さらに小2(°(かつ多
機能な半導体装置を提供することを[1的とする。
でき、半導体チップの変形による素子特性の劣化なしに
樹脂成形パケージングができ、さらに小2(°(かつ多
機能な半導体装置を提供することを[1的とする。
く 問題点を解決するための手段 〉
本発明による問題点解決手段は、第1.2(Dの如く、
成形樹脂Iにより形成された単一のパッケージ2内に複
数側の半導体チップ3.4とリードフレーム、5とを有
し、第一の半導体チップ3の主面;3aと第二半導体チ
ップ4の主面4aとの間の全部上たは大部分に前記成形
樹脂1の樹脂成形熱と樹脂充填圧力に耐え得る変形防止
樹脂13が充填された乙のである。
成形樹脂Iにより形成された単一のパッケージ2内に複
数側の半導体チップ3.4とリードフレーム、5とを有
し、第一の半導体チップ3の主面;3aと第二半導体チ
ップ4の主面4aとの間の全部上たは大部分に前記成形
樹脂1の樹脂成形熱と樹脂充填圧力に耐え得る変形防止
樹脂13が充填された乙のである。
く作用〉
L記問題点解決手段において、第一の半導体チップ3の
主面3aと第二の半導体チップ4の主面4aとの界面に
、成形樹脂lの樹脂成形時の熱と樹脂充填圧力に耐え得
る変形防止樹脂13を充填することにより、成形樹脂充
填時の熱や圧力等による半導体チップの変形に起因する
素子特性の劣化を防止することができるので、複数の半
導体チップを多端子接続でき、半導体チップの変形によ
る素子特性の劣化なしに樹脂成形パケージングができろ
。
主面3aと第二の半導体チップ4の主面4aとの界面に
、成形樹脂lの樹脂成形時の熱と樹脂充填圧力に耐え得
る変形防止樹脂13を充填することにより、成形樹脂充
填時の熱や圧力等による半導体チップの変形に起因する
素子特性の劣化を防止することができるので、複数の半
導体チップを多端子接続でき、半導体チップの変形によ
る素子特性の劣化なしに樹脂成形パケージングができろ
。
〈実施例〉
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第1図は本発明半導体装置の断面図、第2図は同じくそ
の要部拡大断面図である。
の要部拡大断面図である。
図示の如く、本発明半導体装置は、成形樹脂1により形
成された単一のパッケージ2内に複数個の半導体チップ
3.4とリードフレーム5とを有し、該第−の半導体チ
ップ3の主面3aと他の少なくとも一個の第二の半導体
チップ4の主面4aとが対向して配置さている。
成された単一のパッケージ2内に複数個の半導体チップ
3.4とリードフレーム5とを有し、該第−の半導体チ
ップ3の主面3aと他の少なくとも一個の第二の半導体
チップ4の主面4aとが対向して配置さている。
前記第−の半導体チップ3の主面3a上には、第2図に
示す如く、前記第二の半導体チップ4の電極端子4bと
電気的に接続される電極端子3bと、前記リードフレー
ム5の電極端子5aLニア[気的に接続される電極端子
3Cが形成され、その他の主面3a上には保護膜6が形
成されている。
示す如く、前記第二の半導体チップ4の電極端子4bと
電気的に接続される電極端子3bと、前記リードフレー
ム5の電極端子5aLニア[気的に接続される電極端子
3Cが形成され、その他の主面3a上には保護膜6が形
成されている。
一方、前記第二半導体チップ4の主面4a上1こは、前
記第一の半導体チップ3の71i極端子3bと電気的に
接続される電極端子4bが形成され、その他の主面4a
上には保護膜7が形成されている。
記第一の半導体チップ3の71i極端子3bと電気的に
接続される電極端子4bが形成され、その他の主面4a
上には保護膜7が形成されている。
1]1f記電極端子3bの表面には、前記第二半導体チ
ップ4の電極端子4b上に形成されたハンダバンプ8と
の良好な電気的接続を得るため、例えばチタン・タング
ステン合金(800人)/銅(2400人)/ハンダ(
5μm)のような三層構造金属膜9か形成されている。
ップ4の電極端子4b上に形成されたハンダバンプ8と
の良好な電気的接続を得るため、例えばチタン・タング
ステン合金(800人)/銅(2400人)/ハンダ(
5μm)のような三層構造金属膜9か形成されている。
また前記電極端子4bの表面には、前記ハンダバンブ8
を形成するため、例えばチタン・タンゲスう−ン合金(
800人)/銅(2400人)のような二層構造金属膜
10が形成され、その上にハンダパップ8が蒸着法、メ
ツキ法等により形成されている。
を形成するため、例えばチタン・タンゲスう−ン合金(
800人)/銅(2400人)のような二層構造金属膜
10が形成され、その上にハンダパップ8が蒸着法、メ
ツキ法等により形成されている。
前記ハンダバンプ8の材料としては、前記成形樹脂1の
充填時の温度(170〜190℃)に耐え得るものを選
ぶ必要があり、本実施例ではスズ(Sn)/鉛(Pb)
−5/95合金(徹点300℃)を用いている。
充填時の温度(170〜190℃)に耐え得るものを選
ぶ必要があり、本実施例ではスズ(Sn)/鉛(Pb)
−5/95合金(徹点300℃)を用いている。
そして、前記第一の半導体チップ3の電極端子3bおよ
び第二半導体チップ4の電極端子4bは、電極端子3b
の上に電極端子4bを重ね合わせリフロー法により接続
されている。
び第二半導体チップ4の電極端子4bは、電極端子3b
の上に電極端子4bを重ね合わせリフロー法により接続
されている。
前記リードフレーム5は、第1図の如(、前記電極端子
5aと前記第一の半導体チップ3が取付けられる取付部
5bとから成り、該取付部5bに第一の半導体チップ3
がダンボンド剤11を用いて固定されている。
5aと前記第一の半導体チップ3が取付けられる取付部
5bとから成り、該取付部5bに第一の半導体チップ3
がダンボンド剤11を用いて固定されている。
また前記電極端子5aおよび電極端子3Cは、アルミニ
ウム線、金線等のボンディングワイヤー12により電気
的に接続されている。
ウム線、金線等のボンディングワイヤー12により電気
的に接続されている。
前記第一の半導体チップ3の主面3aと第二の半導体チ
ップ4の主面4aとの界面に予め1肪記成形樹脂l以外
の変形防止樹脂13(液状熱硬化性樹脂)がデイスペン
サー等により充填され、その後加熱炉等により硬化され
ている。
ップ4の主面4aとの界面に予め1肪記成形樹脂l以外
の変形防止樹脂13(液状熱硬化性樹脂)がデイスペン
サー等により充填され、その後加熱炉等により硬化され
ている。
該液状熱硬化性樹脂I3は、硬化面の特性として1へ導
体チップ間に流動性よく流れ込むことが必要であり、硬
化時の特性として硬化後し界面を完全に充填する必要性
から無溶剤型の硬化収縮用の小さいものを選定する必要
がある。また硬化後の特性として、ハンダバンプ8の接
続部の応力を最小にする必要性から、熱膨張率がハンダ
材料の熱膨張率にほぼ等しいしのが望ましく、かつ、そ
の後の樹脂成形工程の前記成形樹脂Iの樹脂注入圧力に
充分耐え得る機械的物性を有するムのを選定ずろ必要が
ある。このことは、成形樹脂注入時の応力による半導体
チップの変形に起因する損傷を防止する上で特に重要で
ある。
体チップ間に流動性よく流れ込むことが必要であり、硬
化時の特性として硬化後し界面を完全に充填する必要性
から無溶剤型の硬化収縮用の小さいものを選定する必要
がある。また硬化後の特性として、ハンダバンプ8の接
続部の応力を最小にする必要性から、熱膨張率がハンダ
材料の熱膨張率にほぼ等しいしのが望ましく、かつ、そ
の後の樹脂成形工程の前記成形樹脂Iの樹脂注入圧力に
充分耐え得る機械的物性を有するムのを選定ずろ必要が
ある。このことは、成形樹脂注入時の応力による半導体
チップの変形に起因する損傷を防止する上で特に重要で
ある。
このような条件を満足する樹脂として本実施例では、充
填剤を混入したエポキシ樹脂(例えば、XNR5001
31,長瀬ヂバ株式会社製、住所:大阪市西区新町1丁
目1番17号)を採用している。
填剤を混入したエポキシ樹脂(例えば、XNR5001
31,長瀬ヂバ株式会社製、住所:大阪市西区新町1丁
目1番17号)を採用している。
そして、上記半導体チップ3,4は金型を用いて前記成
形樹脂1によりパケージングされ、リードフレームは所
望の形状に切断、成形される。
形樹脂1によりパケージングされ、リードフレームは所
望の形状に切断、成形される。
したかつて、本発明半導体装置の製造時には、まず、第
一の半導体チップ3の電極端子3bの金属膜9と第二の
半導体チップ4の電極端子4bの金属膜lOをハンダバ
ンプ8を介して電気的に接続し、ハンダバンプ8に成形
樹脂lの充填時の温度に耐え得するようスズ(Sn)/
鉛(Pb)=5/95合金を用いる。
一の半導体チップ3の電極端子3bの金属膜9と第二の
半導体チップ4の電極端子4bの金属膜lOをハンダバ
ンプ8を介して電気的に接続し、ハンダバンプ8に成形
樹脂lの充填時の温度に耐え得するようスズ(Sn)/
鉛(Pb)=5/95合金を用いる。
次に、第一の半導体チップ3の主面3aと第二の半導体
チップ4の主面4aとの界面に、予め成形樹脂!以外の
変形防止樹脂I3を充填する。なお、変形防止樹脂13
の硬化後の特性としては、ハンダバンプ8の接続部の応
力を最小にするため熱膨張率がハンダ材料の熱膨張率に
ほぼ等しく、かつ、その後の樹脂成形工程の成形樹脂1
の注入圧力に充分耐え得る機械的物性を有するものを選
定する。
チップ4の主面4aとの界面に、予め成形樹脂!以外の
変形防止樹脂I3を充填する。なお、変形防止樹脂13
の硬化後の特性としては、ハンダバンプ8の接続部の応
力を最小にするため熱膨張率がハンダ材料の熱膨張率に
ほぼ等しく、かつ、その後の樹脂成形工程の成形樹脂1
の注入圧力に充分耐え得る機械的物性を有するものを選
定する。
上記の如く、第一の半導体チップ3の主面3aと第二の
半導体チップ4の主面4aとの界面に、成形樹脂1の樹
脂成形時の熱と樹脂充填圧力に耐え得る変形防止樹脂1
3を充填することにより、成形樹脂充填時の熱や圧力等
による半導体チップの変形に起因する素子特性の劣化を
防止するqとかできるので、?S[の半導体チップを多
端子接続でき、半導体チップの変形による素子特性の劣
化なしに樹脂成形パケージングができる。
半導体チップ4の主面4aとの界面に、成形樹脂1の樹
脂成形時の熱と樹脂充填圧力に耐え得る変形防止樹脂1
3を充填することにより、成形樹脂充填時の熱や圧力等
による半導体チップの変形に起因する素子特性の劣化を
防止するqとかできるので、?S[の半導体チップを多
端子接続でき、半導体チップの変形による素子特性の劣
化なしに樹脂成形パケージングができる。
なお、」二足実施例においては、第一の半導体チップ上
に別のm個の半導体チップを接続した場合について述べ
たが、第3図に示す第二実施例の如く、第一の半導体チ
ップ上に別の二個以上の半導体チップ4.14を接続す
る場合、あるいは、第4図に示す第三実施例の如く、第
二の半導体チップの上に第三の半導体チップ14を接続
する場合においてら本発明が有効であることはいうまで
乙ない。
に別のm個の半導体チップを接続した場合について述べ
たが、第3図に示す第二実施例の如く、第一の半導体チ
ップ上に別の二個以上の半導体チップ4.14を接続す
る場合、あるいは、第4図に示す第三実施例の如く、第
二の半導体チップの上に第三の半導体チップ14を接続
する場合においてら本発明が有効であることはいうまで
乙ない。
また、第5図に示す第四実施例の如く、変形防止樹脂の
硬化性樹脂の硬化状態は、第一実施例のような気密状態
にするのではなく、成形(封脂の樹脂成形時の熱を樹脂
充填圧力に耐え得る程度の空隙15があっても良い。
硬化性樹脂の硬化状態は、第一実施例のような気密状態
にするのではなく、成形(封脂の樹脂成形時の熱を樹脂
充填圧力に耐え得る程度の空隙15があっても良い。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく
、本発明の範囲内で上記実施例に多くの(p正および変
更を加え得ろことは勿論である。
、本発明の範囲内で上記実施例に多くの(p正および変
更を加え得ろことは勿論である。
例えば、本実施例において、変形防止樹脂(熱硬化性樹
脂)としてエボキノ樹脂か使用されているが、この他に
ム尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂を使用して
ム良い。これらの熱硬化性樹脂は、一般に耐熱性、耐溶
剤性が良く、充填剤を入れて強靭な成形を得ることがで
きるものである。
脂)としてエボキノ樹脂か使用されているが、この他に
ム尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂を使用して
ム良い。これらの熱硬化性樹脂は、一般に耐熱性、耐溶
剤性が良く、充填剤を入れて強靭な成形を得ることがで
きるものである。
〈発明の効果〉
以上の説明から明らかな通り、本発明によると、第一の
半導体チップの主面と第二の半導体チップの主面との界
面に、成形樹脂の樹脂成形時の熱と樹脂充填圧力に耐え
得る変形防止樹脂を充填することにより、成形樹脂充填
時の熱や圧力等による半導体チップの変形に起因する素
子特性の劣化を防止することかできるので、複数の半導
体チップを多端子接続でき、半導体チップの変形による
素子特性の劣化なしに樹脂成形バケージングができろと
いつノこ優れfこ効果がある。
半導体チップの主面と第二の半導体チップの主面との界
面に、成形樹脂の樹脂成形時の熱と樹脂充填圧力に耐え
得る変形防止樹脂を充填することにより、成形樹脂充填
時の熱や圧力等による半導体チップの変形に起因する素
子特性の劣化を防止することかできるので、複数の半導
体チップを多端子接続でき、半導体チップの変形による
素子特性の劣化なしに樹脂成形バケージングができろと
いつノこ優れfこ効果がある。
第1 i<1は本発明第−実血例゛1′−導体装置の断
面図、第2図は間しくその要部拡大断面図、第3図は同
しく第二実施例の要部拡大断面図、第4図は同じく第三
実j曲例の要部拡大断面図、第5図は同しく第四実施例
の要部拡大断面図である。 成形ful llf、2・パッケージ、3:第一の半導
体チップ、3,1.主面、11・第二の芋導体チップ、
4 a主面、5 リードフレーム、3 b、 3 c、
4 b、 5 a電(・’l! dlol、:子、1
3.熱硬化性樹脂。 願 人 ノヤープ株式会社
面図、第2図は間しくその要部拡大断面図、第3図は同
しく第二実施例の要部拡大断面図、第4図は同じく第三
実j曲例の要部拡大断面図、第5図は同しく第四実施例
の要部拡大断面図である。 成形ful llf、2・パッケージ、3:第一の半導
体チップ、3,1.主面、11・第二の芋導体チップ、
4 a主面、5 リードフレーム、3 b、 3 c、
4 b、 5 a電(・’l! dlol、:子、1
3.熱硬化性樹脂。 願 人 ノヤープ株式会社
Claims (1)
- 成形樹脂により形成された単一のパッケージ内に複数個
の半導体チップとリードフレームとを有し、第一の半導
体チップの主面と第二半導体チップの主面との間の全部
または大部分に前記成形樹脂の樹脂成形熱と樹脂充填圧
力に耐え得る変形防止樹脂が充填されていることを特徴
とする半導体装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63165551A JPH0750759B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 半導体装置 |
| EP19890111856 EP0348972A3 (en) | 1988-07-01 | 1989-06-29 | A semiconductor device and a process for manufacturing thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63165551A JPH0750759B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0215660A true JPH0215660A (ja) | 1990-01-19 |
| JPH0750759B2 JPH0750759B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=15814520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63165551A Expired - Fee Related JPH0750759B2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 半導体装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0348972A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0750759B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0574774A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-03-26 | Nec Kyushu Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
| JPH05109977A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| US5295045A (en) * | 1990-11-14 | 1994-03-15 | Hitachi, Ltd. | Plastic-molded-type semiconductor device and producing method therefor |
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| US5773896A (en) * | 1996-02-19 | 1998-06-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device having offsetchips |
| KR100235108B1 (ko) * | 1993-03-19 | 1999-12-15 | 윤종용 | 반도체 패키지 |
| KR100559664B1 (ko) * | 2000-03-25 | 2006-03-10 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
| JP2011134818A (ja) * | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体素子内蔵基板 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5311401A (en) * | 1991-07-09 | 1994-05-10 | Hughes Aircraft Company | Stacked chip assembly and manufacturing method therefor |
| US5274913A (en) * | 1991-10-25 | 1994-01-04 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a reworkable module |
| FR2709871B1 (fr) * | 1993-09-06 | 1995-10-13 | Commissariat Energie Atomique | Procédé d'assemblage de composants par hybridation et collage. |
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| EP1447849A3 (en) * | 1997-03-10 | 2005-07-20 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and circuit board having the same mounted thereon |
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Citations (3)
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| JPS6094744A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-27 | Nippon Denso Co Ltd | 混成集積回路装置 |
| JPS63142663A (ja) * | 1986-12-04 | 1988-06-15 | Sharp Corp | 半導体装置とその製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5687395A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-15 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP63165551A patent/JPH0750759B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-06-29 EP EP19890111856 patent/EP0348972A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2011134818A (ja) * | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体素子内蔵基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0348972A2 (en) | 1990-01-03 |
| EP0348972A3 (en) | 1990-09-19 |
| JPH0750759B2 (ja) | 1995-05-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |