JPH02163723A - レーザ光強度分布均一光学系 - Google Patents
レーザ光強度分布均一光学系Info
- Publication number
- JPH02163723A JPH02163723A JP63318503A JP31850388A JPH02163723A JP H02163723 A JPH02163723 A JP H02163723A JP 63318503 A JP63318503 A JP 63318503A JP 31850388 A JP31850388 A JP 31850388A JP H02163723 A JPH02163723 A JP H02163723A
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- JP
- Japan
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- mirror
- laser
- laser beam
- reflected
- laser light
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- Pending
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- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 13
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ光強度分布が均一なレーザ加工スポツト
を形成するレーザ光強度分布均一光学系に関シ、％にマ
ルチモードレーザの光学系に関するものである。
を形成するレーザ光強度分布均一光学系に関シ、％にマ
ルチモードレーザの光学系に関するものである。
従来、この種のマルチモードレーザ光強度分布均一光学
系は、レーザ発撫器から発射されたマルチモードレーザ
光をビームエキスパンダにより拡大し、レーザ光強度分
布の均一な部分をアパーチャにより取シ出す方法がとら
れてい友。
系は、レーザ発撫器から発射されたマルチモードレーザ
光をビームエキスパンダにより拡大し、レーザ光強度分
布の均一な部分をアパーチャにより取シ出す方法がとら
れてい友。
上述した従来のマルチモードレーザ光強度分布均一光学
系は、レーザ発振器から発射されたマルチモードレーザ
光をビームエキスパンダによす拡大し、レーザ光強度分
布の均一な部分をアパーチャにより取り出す方法となっ
ているので、発振レーザエネルギ値に比べて取り出せる
有効レーザエネルギ値は減少するという問題があった。
系は、レーザ発振器から発射されたマルチモードレーザ
光をビームエキスパンダによす拡大し、レーザ光強度分
布の均一な部分をアパーチャにより取り出す方法となっ
ているので、発振レーザエネルギ値に比べて取り出せる
有効レーザエネルギ値は減少するという問題があった。
本発明は、前述した従来の問題を改善するためになされ
たものであシ、レーザ発振器から発振したレーザ光を特
定の反射率で９０度反射角にて反射する第１のハーフミ
ラ−と、第１のハーフミラ−からの反射レーザ光を９０
度反射角にて全反射する第１の全反射ミラーと、第１の
全反射ミラーからの反射レーザ光を９０度反射角にて全
反射する第２の全反射ミラーと、第２の全反射ミラーか
らの反射レーザ光を特定の反射率で９０度反射角にて反
射する第２のハーフミラ−と、第２の７１−７ミラー透
過後の透過レーザ光を９０度反射角にて全反射する第３
の全反射ミラーと、第１のハーフミラ−から透過するレ
ーザ光を集光する集光レンズとによシレーザ光強度分布
均一光学系を構成するものである。
たものであシ、レーザ発振器から発振したレーザ光を特
定の反射率で９０度反射角にて反射する第１のハーフミ
ラ−と、第１のハーフミラ−からの反射レーザ光を９０
度反射角にて全反射する第１の全反射ミラーと、第１の
全反射ミラーからの反射レーザ光を９０度反射角にて全
反射する第２の全反射ミラーと、第２の全反射ミラーか
らの反射レーザ光を特定の反射率で９０度反射角にて反
射する第２のハーフミラ−と、第２の７１−７ミラー透
過後の透過レーザ光を９０度反射角にて全反射する第３
の全反射ミラーと、第１のハーフミラ−から透過するレ
ーザ光を集光する集光レンズとによシレーザ光強度分布
均一光学系を構成するものである。
本発明においては、レーザ発振器から発振したレーザ光
を反射角９０度のノ・−７ミラーと、全反射ミ２−との
組合せ光学系によシ、基本発振レーザ光のし・−ザ光強
度分布を重ね合せ、第１のハーフミラ−から透過するレ
ーザ光強度分布の重ね合されたレーザ光を集光レンズに
より集光し、レーザ光強度分布が均一なレーザ加工スポ
ツトを形成できる。
を反射角９０度のノ・−７ミラーと、全反射ミ２−との
組合せ光学系によシ、基本発振レーザ光のし・−ザ光強
度分布を重ね合せ、第１のハーフミラ−から透過するレ
ーザ光強度分布の重ね合されたレーザ光を集光レンズに
より集光し、レーザ光強度分布が均一なレーザ加工スポ
ツトを形成できる。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例によるレーザ光強度分布均一
光学系を示す構成図である。同図において、図示しない
レーザ発振器から出射されたレーザ光りは、第１のハー
フミラ−１に入射し、この第１のハーフミラ−１によシ
特定の反射率で９０度反射角にて反射し、第１の全反射
ミラー２に入射する。このレーザ光は９０度反射角にて
第１の全反射ミラー２および第２の全反射ミラー３を通
過し第２のハーフミニ）−４によ）％定の反射率で９０
度反射角にて反射し、レーザ発振器から出射されたレー
ザ光りと平行に第１のハーフミラ−ＩＫ入射される。一
方、第２のハーフミラ−４を透過したレーザ光は第３の
全反射ミラー５により９０度反射角にて反射し、レーザ
発振器から出射されたレーザ光りと平行に第１のハーフ
ミラ−１に入射される。１回目の第２のハーフミラ−４
および第３の全反射ミラー５から反射されるレーザ光は
、第１のハーフミラ−ＩＫよフ特定の反射率で９０度反
射角にて反射し、第１の全反射ミラー２．第２の全反射
ミラー３を通過し、再び第２の７・−フミラー４．第３
の全反射ミラー５に入射される。
光学系を示す構成図である。同図において、図示しない
レーザ発振器から出射されたレーザ光りは、第１のハー
フミラ−１に入射し、この第１のハーフミラ−１によシ
特定の反射率で９０度反射角にて反射し、第１の全反射
ミラー２に入射する。このレーザ光は９０度反射角にて
第１の全反射ミラー２および第２の全反射ミラー３を通
過し第２のハーフミニ）−４によ）％定の反射率で９０
度反射角にて反射し、レーザ発振器から出射されたレー
ザ光りと平行に第１のハーフミラ−ＩＫ入射される。一
方、第２のハーフミラ−４を透過したレーザ光は第３の
全反射ミラー５により９０度反射角にて反射し、レーザ
発振器から出射されたレーザ光りと平行に第１のハーフ
ミラ−１に入射される。１回目の第２のハーフミラ−４
および第３の全反射ミラー５から反射されるレーザ光は
、第１のハーフミラ−ＩＫよフ特定の反射率で９０度反
射角にて反射し、第１の全反射ミラー２．第２の全反射
ミラー３を通過し、再び第２の７・−フミラー４．第３
の全反射ミラー５に入射される。
ここで、このフィードバックされるし・−ザ光の回数お
よび集光レンズ６への入射レーザ光のビーム径は、ハー
フミラ−１，４と、全反射ばラー２゜３．５との大きさ
および第２のハーフミラ−４と、第３の全反射ミラー５
との垂直距離によシ規定される。
よび集光レンズ６への入射レーザ光のビーム径は、ハー
フミラ−１，４と、全反射ばラー２゜３．５との大きさ
および第２のハーフミラ−４と、第３の全反射ミラー５
との垂直距離によシ規定される。
第２図（ａ）はレーザ発振器から発振したレーザ光りの
強度分布を示す図で、第１図の集光レンズ６の中心を通
る光軸に対して点線の斜線部分で示す上部側レーザ光強
度分布が強くなっている。第２図（′ｂ）はレーザ発振
器から発振したレーザ光りがし一ザ光強度分布均−光学
系を通過し、フィードバック回数が１回の時の集光レン
ズ６への入射前のレーザ光束と、レーザ光強度分布との
関係を示す図で、レーザ光の光束間の距離ｄは第２のハ
ーフミラ−４と第３の全反射ミラー５との垂直距離によ
り規定される。
強度分布を示す図で、第１図の集光レンズ６の中心を通
る光軸に対して点線の斜線部分で示す上部側レーザ光強
度分布が強くなっている。第２図（′ｂ）はレーザ発振
器から発振したレーザ光りがし一ザ光強度分布均−光学
系を通過し、フィードバック回数が１回の時の集光レン
ズ６への入射前のレーザ光束と、レーザ光強度分布との
関係を示す図で、レーザ光の光束間の距離ｄは第２のハ
ーフミラ−４と第３の全反射ミラー５との垂直距離によ
り規定される。
以上説明したように本発明は、特定の反射率のハーフミ
ラ−と、全反射ミラーと、集光レンズとを組合せること
Ｋより、レーザ光強度分布が均一なレーザ加工スポツト
を形成できる効果がある。
ラ−と、全反射ミラーと、集光レンズとを組合せること
Ｋより、レーザ光強度分布が均一なレーザ加工スポツト
を形成できる効果がある。
第１図は本発明の実施例によるレーザ光強度分布均一光
学系の光学系構成図、第２図（ａｌ 、 （ｂ）は第１
図の光学系で得られる集光レンズ入射前レーザ光束位置
とレーザ光強度分布との関係を示す図である０ １ ａ＠ψ・第１のハーフミラ−２１Ｉ・・拳第１の全
反射ミラー ３−・１１１１第２の全反射ミラ４＠１１
＃＠第２のハーフミラ−５１１ｅＩＩＩＩ第３の全反射
ミラー ・集光レンズ。
学系の光学系構成図、第２図（ａｌ 、 （ｂ）は第１
図の光学系で得られる集光レンズ入射前レーザ光束位置
とレーザ光強度分布との関係を示す図である０ １ ａ＠ψ・第１のハーフミラ−２１Ｉ・・拳第１の全
反射ミラー ３−・１１１１第２の全反射ミラ４＠１１
＃＠第２のハーフミラ−５１１ｅＩＩＩＩ第３の全反射
ミラー ・集光レンズ。
Claims (1)
- マルチモードレーザ発振器と、前記レーザ発振器から出
射したレーザ光を反射角９０度で反射する第１のハーフ
ミラーと、前記第１のハーフミラーからの反射レーザ光
を反射角９０度で全反射する第１の全反射ミラーと、前
記第１の全反射ミラーからの反射レーザ光を反射角９０
度で全反射する第２の全反射ミラーと、前記第２の全反
射ミラーからの反射レーザ光を反射角９０度で反射する
第２のハーフミラーと、前記第２のハーフミラーからの
透過レーザ光を反射角９０度で全反射する第３の全反射
ミラーと、前記第２のハーフミラーからの反射レーザ光
および第３の全反射ミラーからの反射レーザ光ならびに
前記レーザ発振器からのレーザ光が前記第１のハーフミ
ラーに入射し透過レーザ光を集光する集光レンズとを備
え、レーザ強度分布が均一なレーザ加工スポツトを形成
することを特徴としたレーザ光強度分布均一光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63318503A JPH02163723A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | レーザ光強度分布均一光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63318503A JPH02163723A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | レーザ光強度分布均一光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02163723A true JPH02163723A (ja) | 1990-06-25 |
Family
ID=18099851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63318503A Pending JPH02163723A (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | レーザ光強度分布均一光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02163723A (ja) |
-
1988
- 1988-12-19 JP JP63318503A patent/JPH02163723A/ja active Pending
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