JPH0216510Y2 - - Google Patents
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- JPH0216510Y2 JPH0216510Y2 JP5012683U JP5012683U JPH0216510Y2 JP H0216510 Y2 JPH0216510 Y2 JP H0216510Y2 JP 5012683 U JP5012683 U JP 5012683U JP 5012683 U JP5012683 U JP 5012683U JP H0216510 Y2 JPH0216510 Y2 JP H0216510Y2
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- electrode
- semiconductor layer
- cathode
- thin film
- film transistor
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- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
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- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
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- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
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Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の技術分野〕
本考案は基板上に形成した薄膜トランジスタの
ドレイン電極上に蛍光面を形成してなる蛍光表示
管に関するものである。
ドレイン電極上に蛍光面を形成してなる蛍光表示
管に関するものである。
従来この種の蛍光表示管は、第1図(断面図)
および第2図(平面図)に示すように、ガラス等
からなる絶縁性の基板1の上に形成した薄膜トラ
ンジスタ(以下TFTと称す)2と、そのドレイ
ン電極2aの上に形成した蛍光面3と、この蛍光
面3の上方に張設したカソード4および蛍光面3
とカソード4との間に張設したグリツドメツシユ
5とによつて構成される。なお、図において2b
は薄膜トランジスタ2を構成するゲート電極、2
cはゲート絶縁層、2dは半導体層、2eはソー
ス電極、また、6はオーバーコート層であり、ド
レイン電極2aはこのオーバーコート層6を貫通
するスルーホール7を通してその表面まで引出さ
れ、蛍光面用電極2a′を構成している。半導体層
2dとしては、CdSe,Te,Si等が用いられる。
および第2図(平面図)に示すように、ガラス等
からなる絶縁性の基板1の上に形成した薄膜トラ
ンジスタ(以下TFTと称す)2と、そのドレイ
ン電極2aの上に形成した蛍光面3と、この蛍光
面3の上方に張設したカソード4および蛍光面3
とカソード4との間に張設したグリツドメツシユ
5とによつて構成される。なお、図において2b
は薄膜トランジスタ2を構成するゲート電極、2
cはゲート絶縁層、2dは半導体層、2eはソー
ス電極、また、6はオーバーコート層であり、ド
レイン電極2aはこのオーバーコート層6を貫通
するスルーホール7を通してその表面まで引出さ
れ、蛍光面用電極2a′を構成している。半導体層
2dとしては、CdSe,Te,Si等が用いられる。
このように従来のTFTを用いた蛍光表示管に
おいては、半導体層2dを用いているために、こ
の半導体層2dに光が侵入した場合、そのオン・
オフ電流が増大するという欠点があつた。また、
蛍光面3の上方にグリツドメツシユ5を張設して
いるため、このグリツドメツシユ5により蛍光面
3に影が生じ、蛍光面3の発光パターンの品位を
低化させる欠点があつた。。
おいては、半導体層2dを用いているために、こ
の半導体層2dに光が侵入した場合、そのオン・
オフ電流が増大するという欠点があつた。また、
蛍光面3の上方にグリツドメツシユ5を張設して
いるため、このグリツドメツシユ5により蛍光面
3に影が生じ、蛍光面3の発光パターンの品位を
低化させる欠点があつた。。
本考案は、このような事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、TFTを用いた蛍光表示
管において、半導体層への光の侵入を防止すると
ともにグリツドメツシユにより蛍光面に影が生じ
るのを防ぐことが可能な蛍光表示管を提供するこ
とにある。
のであり、その目的は、TFTを用いた蛍光表示
管において、半導体層への光の侵入を防止すると
ともにグリツドメツシユにより蛍光面に影が生じ
るのを防ぐことが可能な蛍光表示管を提供するこ
とにある。
このような目的を達成するために、本考案は、
蛍光面の周囲に、半導体層を覆いかつカソードか
ら放射される電子を拡散させる遮光性の拡散電極
を設けたものである。
蛍光面の周囲に、半導体層を覆いかつカソードか
ら放射される電子を拡散させる遮光性の拡散電極
を設けたものである。
すなわち、TFTにおいて半導体層への光の侵
入を阻止するには半導体層上に光阻止膜を備えれ
ばよいことは一般に知られている。本考案はこの
光阻止膜を導体とし、かつ蛍光面を囲むように設
けたものである。
入を阻止するには半導体層上に光阻止膜を備えれ
ばよいことは一般に知られている。本考案はこの
光阻止膜を導体とし、かつ蛍光面を囲むように設
けたものである。
以下、図示する実施例を用いて本考案を詳細に
説明する。
説明する。
第3図および第4図は、本考案の一実施例を示
す断面図および平面図である。これらを第1図お
よび第2図に示した従来例と対比して見れば明ら
かなように、本実施例では、蛍光面用電極2a′の
上に形成された蛍光面3をとり囲むように電子ビ
ームを拡散させる働きをし拡散電極として作用す
る補助電極8が設けられ、オーバーコート層6を
介して半導体層2dを覆つている。
す断面図および平面図である。これらを第1図お
よび第2図に示した従来例と対比して見れば明ら
かなように、本実施例では、蛍光面用電極2a′の
上に形成された蛍光面3をとり囲むように電子ビ
ームを拡散させる働きをし拡散電極として作用す
る補助電極8が設けられ、オーバーコート層6を
介して半導体層2dを覆つている。
このような構成は、例えばガラスからなる基板
1の上にAl等を蒸着することによりゲート電極
2bを形成し、その上にスパツタリングにより
SiO2等からなる絶縁層2cを形成した後、Au等
の蒸着によりソース電極2eおよびドレイン電極
2aを形成し、その上にスパツタリングにより
SiO2等からなるオーバーコート層6を形成した
後、フオトエツチングによりスルーホール7を形
成し、その上にさらにAl等の蒸着により蛍光面
用電極2a′および補助電極8を形成し、蛍光面用
電極2aの上に蛍光体を塗布して蛍光面3を形成
することにより得られる。
1の上にAl等を蒸着することによりゲート電極
2bを形成し、その上にスパツタリングにより
SiO2等からなる絶縁層2cを形成した後、Au等
の蒸着によりソース電極2eおよびドレイン電極
2aを形成し、その上にスパツタリングにより
SiO2等からなるオーバーコート層6を形成した
後、フオトエツチングによりスルーホール7を形
成し、その上にさらにAl等の蒸着により蛍光面
用電極2a′および補助電極8を形成し、蛍光面用
電極2aの上に蛍光体を塗布して蛍光面3を形成
することにより得られる。
ここで、補助電極8は導電性であるとともに遮
光性を有するために、従来のグリツドメツシユと
同様に例えばカソード4に対して数10V程度の正
の電圧を印加することにより、上方に張設された
カソード4からの電子を拡散させる働きを有する
とともに、半導体層2dへの光の侵入を阻止する
機能を有する。
光性を有するために、従来のグリツドメツシユと
同様に例えばカソード4に対して数10V程度の正
の電圧を印加することにより、上方に張設された
カソード4からの電子を拡散させる働きを有する
とともに、半導体層2dへの光の侵入を阻止する
機能を有する。
したがつて、半導体層2dへの光の侵入による
オン・オフ電流の増大を有効に防止することがで
きるとともに、従来用いられていたグリツドメツ
シユ5が不用となる。このため、第3図および第
4図に示したように蛍光面3の上方にはカソード
4のみが張設される。その後、これらを覆つてガ
ラス製のフエースプレートを被せ、周辺で基板1
に密封してガラス容器を形成し、内部を真空にし
て蛍光表示管が形成できる。
オン・オフ電流の増大を有効に防止することがで
きるとともに、従来用いられていたグリツドメツ
シユ5が不用となる。このため、第3図および第
4図に示したように蛍光面3の上方にはカソード
4のみが張設される。その後、これらを覆つてガ
ラス製のフエースプレートを被せ、周辺で基板1
に密封してガラス容器を形成し、内部を真空にし
て蛍光表示管が形成できる。
なお、補助電極8は上述したように導体であり
かつ光阻止膜としての機能を有するものであれば
よく、Alの他にも例えばAuやNi等を用いてもよ
い。
かつ光阻止膜としての機能を有するものであれば
よく、Alの他にも例えばAuやNi等を用いてもよ
い。
以上説明したように、本考案によれば、蛍光面
の周囲に、半導体層を覆いかつカソードから放射
される電子を拡散させる遮光性の拡散電極を設け
たことにより、半導体層への光の侵入を有効に阻
止し、TFTのオン・オフの電流の増大を防止す
ることができるとともに、グリツドメツシユが不
要となるために蛍光面に影が生じることもなくな
り、発光パターンの品位を上げることができる。
の周囲に、半導体層を覆いかつカソードから放射
される電子を拡散させる遮光性の拡散電極を設け
たことにより、半導体層への光の侵入を有効に阻
止し、TFTのオン・オフの電流の増大を防止す
ることができるとともに、グリツドメツシユが不
要となるために蛍光面に影が生じることもなくな
り、発光パターンの品位を上げることができる。
第1図および第2図は従来の蛍光表示管の構成
例を示す断面図および平面図、第3図および第4
図は本考案の一実施例を示す断面図および平面図
である。 1……基板、2……薄膜トランジスタ、2a…
…ドレイン電極、2a′……蛍光面用電極、2d…
…半導体層、3……蛍光面、4……カソード、8
……補助電極。
例を示す断面図および平面図、第3図および第4
図は本考案の一実施例を示す断面図および平面図
である。 1……基板、2……薄膜トランジスタ、2a…
…ドレイン電極、2a′……蛍光面用電極、2d…
…半導体層、3……蛍光面、4……カソード、8
……補助電極。
Claims (1)
- 基板上に形成した薄膜トランジスタと、この薄
膜トランジスタのドレイン電極に接続して形成さ
れた蛍光面用電極と、蛍光面用電極上に形成され
た蛍光面と、この蛍光面の上方に張設したカソー
ドとを備えた蛍光表示管において、上記蛍光面の
周囲に薄膜トランジスタを構成する半導体層を覆
いかつカソードから放射される電子を拡散させる
遮光性の拡散電極を設けたことを特徴とする蛍光
表示管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5012683U JPS59158268U (ja) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | 螢光表示管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5012683U JPS59158268U (ja) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | 螢光表示管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59158268U JPS59158268U (ja) | 1984-10-24 |
| JPH0216510Y2 true JPH0216510Y2 (ja) | 1990-05-08 |
Family
ID=30180604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5012683U Granted JPS59158268U (ja) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | 螢光表示管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59158268U (ja) |
-
1983
- 1983-04-06 JP JP5012683U patent/JPS59158268U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59158268U (ja) | 1984-10-24 |
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