JPH02167841A - ガラス被覆方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ガラスに被覆する装置、特にホ・シトガラス
の移動リボンの表面に、互いに反応するガス状反応体か
ら被覆をガラス表面に塗布する装置に関するものである
。

〔従来の技術〕

建築上の用途で、ホットガラス表面上で分解するガス状
反応体を使用して所望の特性の被覆を製造することがで
きることは既知である。ソーラ制御被覆として有用なシ
リコン被覆は、ホットガラス表面上でシラン含有ガスを
熱分解することにより形成していた。また他のソーラ制
御および低放射率（高赤外線反射率〉被覆を他の適当な
ガス状反応体から製造することが多く提案されてきた。

しかし、必要な厚さの充分均一な被覆を得るにはコスト
の面で難点があった。

このような被覆でガラスをコーティングするための代表
的な方法および装置としては、英国特許明細書第１５０
７９９６号に記載されているものがあり、この場合層流
状態の下でガラス表面に平行なガス流を生ぜしめること
によって反応ガスから均一な被覆を施すようにしている
。この英国特許明細書においては、ガラス表面に達する
前に互いに反応し合う反応体の混合物を使用する特別な
装置は設けていない。

英国特許第１５１６０３２号には、液状またはガス状の
１個またはそれ以上の被覆反応体を含有する流体媒体を
使用し、この流体媒体を１個またはそれ以上の流れとし
てホットガラスに指向させ、少なくとも１個の流れの速
度成分をリボンの移動方向にリボンの表面に対して６０
°を越えない角度（または平均角度）傾斜を有するもの
として構成したガラス被覆処理について記載している。

この英国特許を使用すれば、結晶の配列が規則的な均一
構体であるガラス接触層に特徴がある被覆を形成するこ
とができるといわれている。２個またはそれ以上の成分
を互いに反応させたい場合、これら成分は互いに隣接す
るノズルを介して別個の流れとして供給し、層流れはガ
ラス表面に対して鋭角の角度をなす反応体の流れとし、
ガラスの近傍で反応体を互いに接触させる。あるいは単
独のノズルを使用して第１反応体の流れを供給するとと
もに、第２反応体として機能する空気流を第１反応体の
流れの運動エネルギおよび傾斜により反応領域に導入す
る。排出ダクトは接触領域の下流域に設け、接触領域か
らガスを引き出し、ガラス表面にフードを設け、ガラス
に入射する流体流の領域から流体が通過できるようにす
る。

英国特許第１５２４３２６号には、ガス状媒体を被覆す
べきサブストレートに沿ってほぼ乱流のない層としてガ
ラス表面を一部とする流路に沿って流動させる方法につ
いて記載しており、流路は排気ダクトに導かれ、残留ガ
スをガラスから取り出すようにしている。ガス状反応体
は入口チャンネルから流路の上流端部に導かれ、この入
口チャンネルはガス状反応体をともにガラスに対して鏡
角度で合流させて導入するよう位置決めする。

英国特許明細書第２０２６４５４号には、四塩化スズお
よび水蒸気を含有するガス状媒体を使用してホットガラ
ス表面に酸化薄膜を形成する方法について記載している
。特に好適な実施例においては、四塩化スズの蒸気を含
有する窒素キャリヤガスを被覆すべきガラス面に沿って
流動させ、水蒸気を含む空気流を上記キャリヤガス流の
ガラス面に沿って流動する位置に送給する。例えば、フ
ッ化水素などのドーピング剤をサブストレート面に別個
に供給し、または湿気のある空気に混合させることがで
きる。ガス流は、ガス流がほぼ乱流のない層として流動
する浅い流路から排気ダクトに達する被覆ギヤラリ−ま
たは被覆室に導入することによってガラス表面に供給す
るとよい。排気ダクトから残留ガスをガラスから引き出
す。ガス流は被覆ギヤラリ−または被覆室の天井に達す
る供給導管から被覆室に導入し、この供給導管を下方お
よびガラスリボンの移動方向の前方に水平に対して４５
°の角度で傾斜させる。

ホットガラスサブストレートに酸化スズの被覆を形成す
る他の方法として、英国特許第２０３３３７４１３号に
記載のものがある。この英国特許においては、上述の英
国特許第２０２６４５４Ｂ号に記載の装置と同様の装置
を使用し、但しこの装置は第１被覆室の上流側に追加の
被覆室を設け、ガラスサブストレートに酸化金属の下部
被覆を堆積してから酸化スズの被覆を堆積させるもので
ある。

更に、他の方法として英国特許出願第２１８４７４８Ａ
号に記載の方法において、先駆物質および酸化ガスを被
覆室の上流端部てガラスの上方の混合領域に導入する。

熱をこの混合領域に供給し、先駆物質および酸化ガスを
この混合領域において完全に混合させ、被覆形成がほぼ
均一な蒸気混合体から開始される高さでサブストレート
に加える。この混合体はガラスの上面に接触して被覆室
に連続的に流動させる。天井構体は下流方向に高さをＤ
１ａ少し、被覆室に沿う蒸気流を絞るよう構成するとよ
い。好適な実施例においては、天井構体は湾曲して降下
させてガラスの上方の下流屋根部分に合体するようにす
る。このことによれば、被覆室内の先駆物質含有蒸気の
下流への流れをスムースにし、このことは被覆を均一に
する上で有利となる。好適には、被覆室の長さを少なく
とも５ｍとするとよい。このような長い被覆室を使用す
ると、新規に形成したフロートガラスのリボンのような
高速移動サブストレート上に比較的熱い被覆を形成する
ときの被覆効率を向上させるのに特に有益であるといわ
れている。

口発明が解決しようと・する課題〕 しかし、互いに反応するガス状反応体からガラス表面に
被覆を形成しようとし、各反応体を個別の傾斜チャンネ
ルから被覆室に導入する形式の装置例えば、上述の英国
特許明細書第２０２６４５４号に記載の装置を使用する
とき、被覆プロセスの動作中、第２反応ガスを被覆室に
導入するチャンネルの下方端部に好ましくない被覆材料
の堆積を生ずることを本願人は発見した。この材料の堆
積は入口チャンネルの上流側の側壁に多く見られること
がわかった。このような堆積は急速に増大し、ガラスリ
ボンの表面に形成される被覆の品質を阻害することにな
る。ガラスリボン上の被覆は急速に悪化し、ガラスの表
面に堆積する被覆にストライプのような不均一を生ずる
ことになる。

更に、被覆の品質低下を避ける場合、被覆プロセスを中
断し、被覆装置をガラスリボンから持ち上げ、好ましく
ない被覆材料の堆積物を被覆装置から除去することが必
要になる。このクリーニング作業は時間がかかり、無駄
を生ずる。

従って、本発明の目的は、被覆プロセスを長期間連続的
に作動させても被覆材料の好ましくない堆積を最小にす
る被覆装置を得るにある。

〔課題を解決するための手段〕

上述の目的を達成するため、本発明は移動するホットガ
ラスリボンの表面上に少なくとも２個のガス状反応体の
反応により形成される被覆を堆積させる方法において、
被覆室内で前記ガラス上にガラスの移動方向にほぼ平行
な方向の第１ガス状反応体の流れを発生させ、前記被覆
室の天井を（黄切って延在する入口チャンネルにより構
成した入口単段を経て前記第１ガス状反応体の流れに第
２ガス状反応体を導入し、前記第１ガス状反応体および
第２ガス状反応体を前記ガラス表面に接触させてガラス
の移動方向にほぼ平行な方向に流動させてガラス上に所
望の被覆を形威し、前記被覆室の天井は、前記入口チャ
ンネルと被覆室との接合部で段差形状にし、第１反応ガ
スの流れの方向に見て入口チャンネルの上流側の被覆室
天井を、前記入口チャンネルの下流側の被覆室天井より
も高いレベルとし、天井の縦断面で猫かれるラインが段
差形状となるものとしたことを特徴とする。

更に、本発明は、ホットガラスの移動リボンの表面上に
少なくとも２個のガス状反応体の反応により形成される
被覆を堆積させる被覆装置において、 被覆すべきガラス表面に接触させ、ガラスの移動方向に
ほぼ平行にガス状反応体を流入させてガラス表面に所望
の被覆を形成する側面開放被覆室を設け、この被覆室を
下向きに開放させて被覆すべきガラス表面の幅を横切る
方向に延在させ、前記被覆室には、ガラス表面の幅にわ
たり被覆室を通ってガラス表面上に第１ガス状反応体の
流れを生ぜしめる第１入口手段と、被覆室の幅にわたり
室の天井を横切って延在する入口チャンネルにより構成
し、被覆室における第１ガス状反応体の流れに第２ガス
状反応体を導入する第２入口手段とを設け、 前記被覆室の天井の前記入口チャンネルと被覆室の接合
部分を段差付形状にし、第１反応ガスの流れの方向に見
て入口チャンネルの上流側の被覆室天井を、前記入口チ
ャンネルの下流側の被覆室天井よりも高いレベルにし、
天井の縦断面で描かれるラインが段差形状となるように
し、更に、前記第１ガス状反応体をガス供給ダクトから
前記第１入口手段に移送する第１ガスデイス）　ＩＪビ
ュークと、 前記第２ガス状反応体を第２ガス供給ダクトから前記第
２入口手段に移送する第２ガスディストリビュータと、 前記被覆室から導いて前記第１および第２の入口手段の
下流域に配置し、使用したガスを被覆室から除去する排
出手段と を設けたことを特徴とする。

本発明の好適な実施例においては、前記入口チャンネル
の上流側の被覆室天井を、前記入口チャンネルの下流側
の被覆室天井よりも少なくとも５ｍｍ高くし、また通常
高くても７５ｍｍ程度高いものとする。本願人は１５ｍ
ｍを越えない段差でうまく機能することを見出し、好適
な実施例においては入口チャンネルの上流側の天井が入
口チャンネルの下流側の天井よりも１０ｍｍ高いものと
する。

更に、本発明の好適な実施例においては、第２入口チャ
ンネルを、前記被覆室に通過する反応ガスの流路に対し
てほぼ直角に配置する。

更に、本発明の好適な実施例においては、前記入口チャ
ンネルの下流側側壁の底部は、前記側壁と前記被覆室の
天井との接合部で凸状湾曲面として形成する。

〔発明の作用および効果〕

この構成によれば、第２入口チャンネルの壁に堆積する
好ましくない被覆材料の量は大幅に減少する。従って、
本発明被覆装置は、りＩＪ　−ニングすべき装置の被覆
処理を中断して装置から好ましくない堆積物を除去する
必要な〈従来既知の装置に比べると寿命が長くなる。

第１および第２のガス状反応体をそれぞれに対応のガス
供給ダクトから装置に供給し、倒立した扇形の前壁およ
び後壁間に生ずる第１および第２のガスディストリビユ
ータにガス流を通過させることによって被覆すべきガラ
ス表面に分散され、扇形の前壁および後壁は中心入口か
ら下方に末広となり、被覆すべきガラス表面の幅にわた
り延在する溝孔に、１４端する。好適な実施例において
は、前記前壁および後壁を下方に向かって互いに接近す
る方向に傾斜させて前記溝孔に終端させる。

好適には、前記第１ガスディストリビユータと前記第１
入口手段との間に介在させ、被覆すべきガラス表面の幅
を横切って第１ガス状反応体の均一に分布させる第１ガ
ス流リストリクタを設ける。

同様に第２ガスディストリビユータと第２入口手段との
間に第２ガス流リストリクタを設けることにより第２ガ
ス状反応体を均一に分布させることができる。この第２
ガス流リストリクタは第１ガス流リストリクタと同一の
構造とする。

このようなガスリストリクタは、反応ガスの供給を受け
かつ被覆すべき平坦ガラスにわたり反応ガスを流出させ
る室と一連の少なくとも２個の制限部とを設け、各制限
部は室を横切って延在しかつ複数個の開孔を有するプレ
ート部材により構成する。

本明細書中「上流」および「下流」は被覆室における反
応ガスの流れの方向に関して使用する。

特別な実施例においては、ガス流方向をガラス移動方向
と同一方向とするがこれに限定せず、ガラス移動方向と
は逆向きに反応ガスを流動させると都合がよい場合があ
る。

〔実施例〕

次に、図面につき本発明の好適な実施例を説明する。

被覆装置１をリボン状のガラス１２の上方に懸垂し、こ
のガラス１２をローラ（図示せず）により左から右へ移
動させる。

被覆装置は水平のプレート３を有するキャリッジ２から
懸垂し、このプレート３の上面を多数の前方取付ブラケ
ット４および後方取付ブラケット５に溶着する。代表的
には３個の前方取付ブラケットおよび３個の後方取付ブ
ラケットを被覆装置の幅方向に設ける。前方および後方
の各取付ブラケットの１個のブラケットは装置の中心に
取付け、他の２個のブラケットは装置の側面の近傍に取
付ける。取付ブラケット４．５の各々はそれぞれの水冷
ビーム（図示せず）から懸垂し、これらビームは被覆す
べきリボン状ガラスの幅方向に配置する。

装置の下方部分には、多数の整形カーボンブロック３２
．３４．３６．３８．４０および４２を被覆すべきガラ
スの幅に対応する長さにわたり横方向に配置する。カー
ボンブロックは段差形状の天井９ａ、　９ｂを有する被
覆室１０を形成し、第２流入チヤンネル１５の上流にお
ける被覆室１０の天井９ａを第２流入チヤンネル１５の
下流における被覆室１０の天井９ｂよりも高くする。こ
のカーボンブロックは、第１反応ガスを被覆室に導入す
るための垂直の第１入口チャンネル１４により構成され
る第１入口手段と、第２反応ガスを被覆室に導入するた
めの垂直の第２入口チャンネル１５により構成される第
２入口手段と、第１流入チヤンネル１４と第２流入チヤ
ンネル１５との間の被覆室における流路１６と、被覆室
から使用したガスの排出するためき排出チャンネル１８
と、第２流入チヤンネル１５と排出チャンネル１８との
間の被覆室に設けた流路１７とを形成する。

種々のカーボンブロックの各々は水平のプレート部材４
４の下面に懸垂する。ブロックには冷却水などの熱伝達
流体のためのダクト（図示せず）を組み込み、装置の使
用にあたり、これらダクトに冷却水を通過させることに
よりカーボンブロックの温度を調整する。

被覆室１０は被覆すべきリボン状のガラスまたはガラス
リボン１２を横切る開放面を有する。被覆室の上流端部
において、カーボンブロック３２．３４は第１反応ガス
を被覆室に導入するための垂直の第１入口チャンネル１
４を形成する。この第１入口チャンネル１４の下流にお
いて、カーボンブロック３４．３６間に第２反応ガスを
被覆室に導入するための垂直の第２入口チャンネル１５
を形成する。

被覆室の下流端部において、カーボンブロック４０．４
２は使用したガスを被覆室から除去するための排出チャ
ンネル１８を形成する。

第１反応ガスはガス供給ダクト（図示せず）からファン
テイルディストリビュータ１９およびガス流リストリク
タ２２を経て第１入口チャンネル１４に供給する。ファ
ンテイルディストリビューク１９は倒立した扇形の前壁
２０と後壁２１との間に形成され、前壁および後壁は下
方むかって互いに接近し、ファンテイルの底部において
狭い溝孔４８を形成し、この溝孔４８は被覆すべきガラ
スリボンの幅を横切って延在する。

ファンテイル１９の底部の溝孔４８から流入する第１反
応ガスは、このファンテイル１９の下方に取付けたガス
流リストリクタ２２を通過する。

ガス流リストリクタ２２を第３図に詳細に示し、互いに
対向する細長の壁対即ち、対向壁対１２０．１２２およ
び１２１．１２３を有し、これら壁対により細長の室１
２４を形成する。細長壁１２０．１２２及び１２１゜１
２３は被覆すべきガラスリボンを横切って横方向に延在
させ、壁１２０および１２１を上流側の壁とし、壁１２
２および１２３を下流側の壁とする。細長室１２４の各
端部に互いに対向する端壁１２６を設け、各端壁１２６
はガラスリボンの移動方向に平行にする。

ガス流リス）　ＩＪクタ２２の入口端部には、室１２４
を横切る細長の入口プレー）Ｒ材１２８を有する入口制
限部１２７を配置する。入口ブレート部材１２８は、互
いに対向する水平プレー）　１３０．１３２の対間に封
鎖固着し、各対のプレー）　１３０．１３２は例えば、
溶接により細長壁１２０．１２２およびファンテイル１
９に取付ける。各対のプレー１−１３０．１３２はねじ
連結部材１３４により互いに強固に連結する。ガスケッ
ト（図示せず〉を各プレート対１３０．１３２と入口ブ
レート部材１２８　との間に配置する。

入口ブレート部材１２８の長さに沿って一列の開孔１３
６を設け、この開孔１３６により入口１１２をを室１２
４の残りの部分に接続する。開孔１３６は、好適には、
直径２ｒａｍから１０ｍｍの範囲の直径の円形孔とする
。特に好適な実施例においては、孔１３６は４　ｍｍの
直径とし、中心間距離が２０ミリの配列にするとよい。

開孔１３６の列は細長室１２４の上流側に配置する。即
ち、開孔１３６の列は室１２４の下流側壁１２２よりも
上流側壁１２０に一層接近させて配置する。

ガス流リストリクタ２２の出口１１０に隣接させて出口
制限部１３８を配置する。この出口制限部１３８は入口
制限部１２７の構造とほぼ同一とし、細長出口ブレート
部材１４０を有し、この出口ブレート部材１４０は互い
に対向する２個のプレー）　１４２．１４４対間に封鎖
固着し、各プレート対１４２．１４４の上方プレートを
例えば、溶接によって対応の細長壁１２１゜１２３に連
結する。プレー）　１４２．１４４はガスケット（図示
せず）により出口ブレート部材１４０から分離する。プ
レート１４２．１４４はねじ連、１部１４６により互い
に緊密に連結し、このねじ連結部１４６はプレート１４
２．１４４およびガス流リストリクタ２２をプレート４
４に強固に結合する。このプレート４４からグラファイ
トブロック３２を懸垂する。出口ブレート部材１４０に
は一列の孔１５２を設け、この孔の直径は２　ｍｍから
１０ｍｍの間の範囲の直径とし、特に好適な実施例にお
いては、４　ｍｍの直径で孔間の中心距離は１０ｍｍと
する。孔１５２の列は細長室１２４の上流側に配置する
。出口ブレート部材１４０の下方でガス流リストリクタ
２２の出口１１０にガス流デフレクタ１５４を取付ける
。ガス流デフレクタ１５４は、プレート１４２の対の下
方プレートに一体で孔１５２に隣接配置した細長のＬ字
状部材１５６を有する。

Ｌ字状部材１５６の自由アーム１５８を出口ブレート部
材１４０に向けて上方に突出させ、出口ブレート部材１
４０との間にギャップ１６０を生じ、このギャップ１６
０を経て孔１５２からの反応ガスをＬ字状部材１５６の
水平アーム１６２により転向した後通過させるようにす
る。

ガス流デフレクタ１５４の目的は、ガス流の局部的な増
加を除去することにある。ガス流はプレート部材１４０
の下方で出口ブレート部材の多孔１５２の近傍でより強
い強度になる傾向がある。ガス流デフレクタ１５４の存
在によりこれら局部的に増加した流れの強度を分散させ
る。場合によっては、ガス流リストリクタからガス流デ
フレクタ１５４を省くこともできる。

入口制限部１２７と出口制限部１３８との間に中間制限
部１６４を配置する。この中間制限部１６４は入口制限
部１２７と同一構造とし、複数個の孔１６８の列を有す
る細長の中間プレート部材１６６を設ける。

中間プレート部材１６６は互いに対向する水平プレー　
）　１７０．１７２の対間に封鎖固着し、これら水平プ
レー）　１７０．１７２は例えば、溶接によって細長壁
１２０゜１２１、１２３にそれぞれ取付ける。ガスケッ
ト（図示せず〉をプレー）　１７０．１７２間に配置し
、中間プレート部材１６６およびプレー）　１７０．１
７２をねじ連結部材１７４により強固に連結する。中間
プレート部材１６６の孔１６８の列は、入口および出口
のプレート１２８．１４０に比べると、細長室１２４の
下流側に配置する即ち、複数個の孔１６８の列を室１２
４の上流壁１２０．１２１よりも下流壁１２２．１２３
により近接させて配置する。この構成によれば、細長プ
レート部材に隣接する孔の列は互いに一列に整列しない
。

第２反応ガスは第２入口チャンネル１５に第２ガス供給
ダクト（図示せず）から他のファンテイルディストリビ
ュータ２４を経て供給し、このファンテイルディストリ
ビュータ２４はファンテイルディストリビュータ１９と
同一の構成とし、ガス流リストリクタ２２と同一構造の
ガス流リストリクタ２５を経て供給する。

排出チャンネル１８からくる排気ガスせはスペーサユニ
ット５２のチャンネル５０および反転した扇形の前壁２
７および後壁２８よりなる排出ファンテイル２６に通過
させる。排出ファンテイルは廃棄ガス、未反応ガスおよ
びキャリヤガスを排出ダクト（図ゝ示せず）に移送する
。

第１入ロチヤンネル１４および第２入口チャンネル１５
を懲戒するカーボンブロック３２．３４．３６の各高さ
は、第２入口チャンネル１５と被覆室との間の結合部に
おいて被覆室１０の天井９ａ、　９ｂに段差を生ずるよ
う選択し、入口チャンネル１５の上流側の被覆室の天井
９ａが第２入口チャンネル１５の下流側の被覆室の天井
９ｂよりも高いレベルとなるようにし、第１図に示すよ
うに、天井の縦断面で猫かれるラインは不連続となり段
差形状を持つようにする。

このようにブロック３６の底部はブロック３４の底部よ
りも１０帥低くなるよう選択するのが一般的である。こ
の結果、第２入口チャンネルの上流側壁５４の底部は第
２入口チャンネル１５の下流側壁５６の底部よりも１０
ｍｍ高く、従って、入口溝孔５８は段差形状になる。こ
のような段差付入口溝孔５８は、入口溝孔５８の近傍で
第２入口チャンネル１５の側壁に堆積する固形の被覆材
料の料を最小にすることがわかった。このような段差は
、第１ガス状反応体の流れをガラス面に指向させ、第１
ガス状反応体が第２入口チャンネルの開口部に流れこむ
ことが”Ｑいようにし、入口チャンネルの開口部の垂直
面に被覆材料が堆積する局部反応を生ずるのを防止する
さようを行うものと考えられる。

特に好適な実施例においてはカーボンブロック３６の上
流側下方コーナーは例えば、第４図に示すように凸状湾
曲面５７として形成し、代表的には高さが１０ｍｍの段
付入口溝孔５８となるよう１０ｍｍの曲率半径にする。

この曲率半径は第２入口チャンネルの開口に堆積物がた
まるのをほぼ防止する段差の効果を維持する程度に充分
小さいものとすべきである。

使用にあたり、本発明の被覆装置はガラスリボン１２の
上方に懸垂し、このガラスリボンをローラ（図示せず）
により左方から右方に前進させる。

この被覆装置は、装置の下流側端部のカーボンブロック
４２が被覆すべきガラスリボンの表面の上方１０ｍｒａ
のオーダーの高さに保持される高さに懸垂する。第１反
応ガス、−船釣にはキャリヤガスに希釈した反応ガスを
ファンティルディストリビュータ１９およびガスリスト
リクタ２２に供給し、被覆すべきガラスの幅を横切る方
向にガスを均一に分散させる。ガスリストリクタ２２を
出たガスは第１入口チャンネル１４から被覆室１０に流
入し、第２入口チャンネル１５の底部に向かって室１０
の流路１６に沿ってガラスにほぼ平行な第１方向に移動
する。キャリヤガスに希釈した第２反応ガスをファンテ
イルディストリビューク２４およびガスリストリクタ２
５に供給し、第２ガス反応体がガラスの幅方向に均一に
分布されるようにする。

リストリクタ２５の底部から出るガスは第２入口チャン
ネル１５を経て被覆室における第１反応ガスの流れに合
流させ、流路１７に沿ってガラス面上にガス状反応体の
混合流を生じ、２個の反応ガスが反応してホットガラス
面上に皮膜を堆積する。

成る作用モードにおいて、本願と同日出願の明細書に詳
細に記載したように、ガス流条件を制御して第２入口チ
ャンネル１５を通過する第２反応ガスおよび流路１７を
経る混合ガス反応体の乱流を生ずるようにし、かつ第２
反応ガスが流路１６に沿って第１反応ガスに逆流するの
を防止するとよい。

反応で生じた消費ガス（キャリヤガス、未反応の反応ガ
スおよび廃棄ガス）を被覆領域から排出ダクト１８を経
て減圧（例えば、図示しない排気ファンからの吸気）に
より引き出す。この減圧は上方に向かって拡開する倒立
した扇形の前壁２７および後壁２８よりなる排出ファン
ティル２６に加える。この減圧は被覆領域からガスを引
き出すだけでなく、被覆装置の上流端８２９および下流
端１３０における外気の流れも吸引する。

上述の装置は入口チャンネルに被覆材料が堆積して第２
入口チャンネルを塞ぐことなく、従って、ガラスリボン
上に均一な被覆を高い能率で生産することを容易にし、
長期間稼働させることがでる。

本発明装置は、例えば、第１反応ガスとして塩化第一ス
ズ、第２反応ガスとして水蒸気を使用して赤外線反射酸
化薄膜被覆を形成するのに有用である。被覆の赤外線反
射率を向上するため例えば、アンチモンまたはフッ素の
ようなドーパントを反応ガスに含有させるとよい。酸化
チタンまたは窒化チタンなどの他のコーティングを本発
明装置により施すこともできる。酸化チタンコーティン
グを施すためには、四塩化チタンを第一反応ガスとして
使用し、水蒸気を第２反応ガスとして使用する。窒化チ
タンのコーティングを施すためには、四塩化チタンを第
一反応ガスとして使用し、アンモニアを第２反応ガスと
して使用する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明装置の縦断面図、 第２図は、第１図の装置の矢印■の方向から見た端面図
、 第３図は、第１図の装置に組み込んだガス流リストリク
タの詳細を示す拡大縦断面図、第４図は、第２入口手段
の下方端部の好適な形状を示す部分縦断面図である。 １・・・被覆装置　　　　　２・・・キャリッジ３・・
・プレート　　　　　４・・・前方取付ブラケット５・
・・後方取付ブラケット ９ａ、　９ｂ・・・天井　　　　　１０・・・被覆室１
２・・・ガラスリボン　　　１４・・・第１入ロチヤン
ネル１５・・・第２入口チャンネル １６、１７・・・流路　　　　　１８・・・排出チャン
ネル１９、２４・・・ファンテイルディストリビュータ
２２、２５・・・ガス流リストリクタ ２６・・・排出ファンティル　２７・・・前壁２８・・
・後壁　　　　　　　２９・・・上流端部３０・・・下
流端部 ３２、３４．３６．３８．４０゜ ４４・・・プレート部材 ５２・・・スペーサユニット ５６・・・下流側壁 ５８・・・入口溝孔 １２７・・・入口制限部 １５４・・・ガス流デフレクク １６４・・・中間制限部 ４２・・・カーボンブロック ４８・・・溝孔 ５４・・・上流側壁 ５７・・・凸条彎曲面 １２４・・・細長室 １３８・・・出口制限部

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、移動するホットガラスリボンの表面上に少なくとも
   ２個のガス状反応体の反応により形成される被覆を堆積
   させる方法において、被覆室内で前記ガラス上にガラス
   の移動方向にほぼ平行な方向の第１ガス状反応体の流れ
   を発生させ、前記被覆室の天井を横切って延在する入口
   チャンネルにより構成した入口手段を経て前記第１ガス
   状反応体の流れに第２ガス状反応体を導入し、前記第１
   ガス状反応体および第２ガス状反応体を前記ガラス表面
   に接触させてガラスの移動方向にほぼ平行な方向に流動
   させてガラス上に所望の被覆を形成し、前記被覆室の天
   井は、前記入口チャンネルと被覆室との接合部で段差形
   状にし、第１反応ガスの流れの方向に見て入口チャンネ
   ルの上流側の被覆室天井を、前記入口チャンネルの下流
   側の被覆室天井よりも高いレベルとし、天井の縦断面で
   描かれるラインが段差形状となるものとしたことを特徴
   とする被覆方法。 ２、前記被覆室における反応ガスの流路に対してほぼ直
   交する方向の第１ガス状反応体の流れに第２ガス状反応
   体の流れを導入する請求項１記載の被覆方法。 ３、ホットガラスの移動リボンの表面上に少なくとも２
   個のガス状反応体の反応により形成される被覆を堆積さ
   せる被覆装置において、被覆すべきガラス表面に接触さ
   せ、ガラスの移動方向にほぼ平行にガス状反応体を流入
   させてガラス表面に所望の被覆を形成する側面開放被覆
   室を設け、この被覆室を下向きに開放させて被覆すべき
   ガラス表面の幅を横切る方向に延在させ、前記被覆室に
   は、ガラス表面の幅にわたり被覆室を通ってガラス表面
   上に第１ガス状反応体の流れを生ぜしめる第１入口手段
   と、被覆室の幅にわたり室の天井を横切って延在する入
   口チャンネルにより構成し、被覆室における第１ガス状
   反応体の流れに第２ガス状反応体を導入する第２入口手
   段とを設け、 前記被覆室の天井の前記入口チャンネルと被覆室の接合
   部分を段差付形状にし、第１反応ガスの流れの方向に見
   て入口チャンネルの上流側の被覆室天井を、前記入口チ
   ャンネルの下流側の被覆室天井よりも高いレベルにし、
   天井の縦断面で描かれるラインが段差形状となるように
   し、更に、 前記第１ガス状反応体をガス供給ダクトから前記第１入
   口手段に移送する第１ガスディストリビュータと、 前記第２ガス状反応体を第２ガス供給ダクトから前記第
   ２入口手段に移送する第２ガスディストリビュータと、 前記被覆室から導いて前記第１および第２の入口手段の
   下流域に配置し、使用したガスを被覆室から除去する排
   出手段と を設けたことを特徴とする被覆装置。 ４、前記入口チャンネルの上流側の被覆室天井を、前記
   入口チャンネルの下流側の被覆室天井よりも少なくとも
   ５ｍｍ高くした請求項３記載の被覆装置。 ５、前記入口チャンネルの上流側の被覆室天井を、前記
   入口チャンネルの下流側の被覆室天井よりも高くても７
   ５ｍｍ程度高くした請求項３または４記載の被覆装置。 ６、前記入口チャンネルの上流側の被覆室天井を、前記
   入口チャンネルの下流側の被覆室天井よりも１０ｍｍ高
   くした請求項４または５記載の被覆装置。 ７、第２入口チャンネルを、前記被覆室に通過する反応
   ガスの流路に対してほぼ直角に配置した請求項３乃至６
   のうちのいずれか一項に記載の被覆装置。 ８、前記入口チャンネルの下流側側壁の底部は、前記側
   壁と前記被覆室の天井との接合部で凸状湾曲面として形
   成した請求項３乃至７のうちのいずれか一項に記載の被
   覆装置。 ９、前記第１および第２のガスディストリビュータの各
   々は、中心入口から下方に向かって末広形状となり、被
   覆すべきガラス表面の幅を横切って延在する溝孔に終端
   する倒立扇形形状の前壁と後壁との間に形成した請求項
   ３乃至８のうちのいずれか一項に記載の被覆装置。 １０、前記前壁および後壁を、下方に向かって互いに接
   近する方向に傾斜させて前記溝孔に終端させた請求項９
   記載の被覆装置。 １１、前記第１ガスディストリビュータと前記第１入口
   手段との間に介在させ、被覆すべきガラス表面の幅を横
   切って第１ガス状反応体の均一に分布させる第１ガス流
   リストリクタを設けた請求項３乃至１０のうちのいずれ
   か一項に記載の被覆装置。 １２、前記第２ガスディストリビュータと前記第２入口
   手段との間に介在させ、被覆すべきガラス表面の幅を横
   切って第２ガス状反応体の均一に分布させる第２ガス流
   リストリクタを設けた請求項３乃至１１のうちのいずれ
   か一項に記載の被覆装置。 １３、請求項１または２記載の方法または請求項３乃至
   １２のうちのいずれか一項に記載の装置を使用して形成
   した被覆ガラス。