JPH0216880B2

JPH0216880B2 -

Info

Publication number: JPH0216880B2
Application number: JP57106187A
Authority: JP
Inventors: Akio Ishizuka; Akira Kitada
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1982-06-22
Filing date: 1982-06-22
Publication date: 1990-04-18
Also published as: DE3374248D1; US4455323A; EP0097377A1; JPS58223099A; EP0097377B1

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、放射線増感スクリーンの製造法に関
するものである。放射線増感スクリーンは、医療診断を目的とす
るＸ線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊
検査を目的とする工業用放射線撮影などの種々の
分野における放射線撮影において、撮影系の感度
を向上させるために、放射線感応性写真フイルム
の片面あるいは両面に密着させるように重ね合わ
せて使用するものである。そして、この放射線増
感スクリーンの基本構造は、支持体と、その片面
に設けられた放射線増感用蛍光体層とからなる。
なお、この放射線増感用蛍光体層の、支持体とは
反対側の表面（支持体に面していない側の表面）
には一般に、透明な保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から
保護している。放射線増感用蛍光体層は、放射線増感用蛍光体
粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなるも
のであり、この蛍光体粒子は、Ｘ線等の放射線に
よつて励起された時に高輝度の発光を示す性質を
有するものである。従つて、被写体を通過した放
射線の量に応じて蛍光体は高輝度の発光を示し、
放射線増感スクリーンの放射線増感用蛍光体層の
表面に接するようにして重ね合わされて置かれた
放射線感応性写真フイルムは、この蛍光体の発光
によつても感光するため、比較的少ない放射線量
で写真フイルムの充分な感光を達成することがで
きる。上記のような基本構造を有する放射線増感スク
リーンについては、感度が高いこと、および画質
（鮮鋭度、粒状性等）の良好な画像を与えるもの
であることが望まれる。従来、放射線増感スクリーンの製造において放
射線増感用蛍光体層の形成は、蛍光体粒子および
結合剤を適当な溶剤中に分散混合して調製した塗
布液を、支持体上に塗布乾燥することにより行な
われている。ところで、上記塗布液を調製する際、放射線増
感用蛍光体粒子が塗布液中に充分に分散し難いと
いう問題があつた。また、時間の経過につれて蛍
光体粒子がそれぞれ、あるいは凝集して、沈降す
る傾向にあつた。この結果、塗布液中に蛍光体粒
子からなる凝集固化物が生じやすく、支持体上に
このような塗布液を塗布した場合には層厚の等し
い均一な蛍光体層を形成することが困難となるな
どの問題が生じていた。このような場合、塗布液
の塗布操作に支障を与えるのみでなく、得られる
放射線増感用蛍光体層は感度、画質の低下などが
生じる原因となる。特に、上記蛍光体粒子が比重
の大きな粒子である場合、この傾向が著しい。そこで、上記塗布液中における蛍光体粒子の分
散性を向上させるために、たとえば、フタル酸、
ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤な
どの分散剤を添加する方法が提案され、また実際
に行なわれている。本発明は、放射線増感用蛍光体層形成用の塗布
液の調製および塗布操作において上記のような支
障が発生することのない放射線増感スクリーンの
製造法を提供することを目的とするものである。また、本発明は、放射線増感用蛍光体層形成の
ための塗布操作を容易にし、均一な塗布の向上を
可能にした放射線増感スクリーンの製造法を提供
することもその目的とするものである。上記の目的は、放射線増感用蛍光体粒子および
結合剤を含む分散液中に、微粒子状の疎水性シリ
カを蛍光体に対し２重量％以下の量で分散含有さ
せた塗布液を調製し、この塗布液を用いて支持体
上に上記蛍光体粒子および疎水性シリカを分散状
態で含有支持する結合剤からなる放射線増感用蛍
光体層を形成することを特徴とする本発明の放射
線増感スクリーンの製造法により達成することが
できる。本発明は、放射線増感用蛍光体層の形成のため
の塗布液中に、超微粒子状の疎水性シリカをある
特定の割合で分散含有させることにより、塗布液
中における上記蛍光体粒子の分散性を向上させ、
かつ、上記蛍光体粒子の沈降防止において優れた
塗布液を得るとともに、放射線増感スクリーンの
製造工程における塗布時の問題点を改良し、塗布
操作を容易にするものである。すなわち、放射線増感用蛍光体層（以下、単に
蛍光体層と略す）の形成のための塗布液は、一般
に、蛍光体粒子および結合剤を適当な溶剤中で混
合することにより調製される。そして、この塗布
液をドクターブレード、ロールコーター、ナイフ
コーターなどによつて支持体上に塗布し、乾燥し
て蛍光体層が形成される。この塗布液の調製にお
いて、塗布液中の蛍光体粒子は充分に分散し難い
ものである。また、時間の経過につれて蛍光体粒
子が徐々に沈降しやすい。従つて、塗布液中で蛍
光体粒子が凝集して凝集固化物を生じたりするた
め、このような塗布液を用いた場合には支持体上
に均一な蛍光体層を形成することが困難となる。
特に、上記蛍光体粒子が比重の大きな粒子である
場合、この傾向が強く現われる。本発明者の検討によれば、このような塗布液中
における蛍光体粒子の沈降あるいは凝集による塗
布操作の困難さ、またそれに起因する画像の画質
の低下は、上記塗布液中に、微粒子状の疎水性シ
リカを蛍光体に対し２重量％以下の量で分散含有
させて塗布液を調製し、この塗布液を用いて蛍光
体層を形成することにより顕著に防ぐことが可能
であることがわかつた。さらに、塗布液中に上記疎水性シリカを添加含
有させても塗布液の流動性をほとんど低下させる
ことなく、また得られる放射線増感スクリーンの
蛍光体層中に上記疎水性シリカが分散状態で含有
していても、Ｘ線などの放射線に対する蛍光体層
の感度はほとんど低下することなく、上記の顕著
な効果が達成できることがわかつた。次に本発明を詳しく説明する。本発明の放射線増感用スクリーンの製造法は、
たとえば、以下に述べるような操作により実施さ
れる。まず、放射線増感用蛍光体粒子と結合剤とを適
当な溶剤に加え、これを混合することにより結合
剤溶液中に放射線増感用蛍光体粒子が分散した分
散液を調製する。放射線増感用蛍光体粒子としてはすでに各種の
ものが知られており、本発明においては、それら
の各種の放射線増感用蛍光体粒子を特に限定なく
使用することができる。本発明において使用する
のが好ましい放射線増感用蛍光体粒子の例として
は、次のような物質からなる粒子を挙げることが
できる。タングステン酸塩系蛍光体（CaWO₄、
MgWO₄、CaWO₄：Pb等）、テルビウム賦活希土
類酸硫化物系蛍光体〔Y₂O₂S：Tb、Gd₂O₂S：
Tb、La₂O₂S：Tb、（Ｙ，Gd）₂O₂S：Tb、（Ｙ，
Gd）₂O₂S：Tb，Tm等〕、テルビウム賦活希土類
燐酸塩系蛍光体（YPO₄：Tb、GdPO₄：Tb、
LaPO₄：Tb等）、テルビウム賦活希士類オキシハ
ロゲン化物系蛍光体（LaOBr：Tb、LaOBr：
Tb，Tm、LaOCl：Tb、LaOCl：Tb，Tm、
GdOBr：Tb、GdOCl：Tb等）、ツリウム賦活希
土類オキシハロゲン化物系蛍光体（LaOBr：
Tm、LaOCl：Tm等）、硫酸バリウム系蛍光体
〔BaSO₄：Pb、BaSO₄：Eu²⁺、（Ba，Sr）SO₄：
Eu²⁺等〕、２価のユーロピウム賦活アルカリ土類
金属燐酸塩系蛍光体〔Ba₃（PO₄）₂：Eu²⁺、（Ba，
Sr）₃（PO₄）₂：Eu²⁺等〕、２価のユーロピウム賦活
アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体
〔BaFCl：Eu²⁺、BaFBr：Eu²⁺、BaFCl：Eu²⁺，
Tb、BaFBr：Eu²⁺，Tb、BaF₂・BaCl₂・KCl：
Eu²⁺、BaF₂・BaCl₂・xBaSO₄・KCl：Eu²⁺、
（Ba，Mg）F₂・BaCl₂・KCl：Eu²⁺等〕、沃化物
系蛍光体（CsI：Na、CsI：Tl、NaI、KI：Tl
等）、硫化物系蛍光体〔ZnS：Ag、（Zn，Cd）
Ｓ：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：Cu、（Zn，Cd）Ｓ：
Cu、Al等〕、燐酸ハフニウム系蛍光体
（HfP₂O₇：Cu等）。ただし、本発明に用いる放射
線増感用蛍光体粒子は、これらのものに限られる
ものではなく、放射線の照射により可視領域ある
いは近紫外領域の発光を示す蛍光体の粒子であれ
ばいかなるものであつてもよい。このような放射
線増感用蛍光体粒子のなかで特に好ましいもの
は、Gd₂O₂S：Tb、BaFBr：Eu²⁺、および
CaWO₄などの比重の大きな粒子である。蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の
蛋白質、デキストラン等のポリサツカライド、ま
たはアラビアゴムのような天然高分子物質；およ
び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニ
トロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリ
デン・塩化ビニルコポリマー、ポリメチルメタク
リレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、
ポリウレタン、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリビニルアルコール、線状ポリエステルな
どような合成高分子物質などにより代表される結
合剤を挙げることができる。このような結合剤の
なかで特に好ましいものは、ニトロセルロース、
線状ポリエステル、およびニトロセルロースと線
状ポリエステルとの混合物である。分散液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル；ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル；そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。分散液における結合剤と放射線増感用蛍光体粒
子との混合比は、目的とする放射線増感スクリー
ンの特性、蛍光体粒子の種類などによつて異なる
が、一般には結合剤と蛍光体粒子との割合比は、
１：１ないし１：100（重量比）の範囲から選ば
れ、そして特に１：８ないし１：40（重量比）の
範囲から選ぶことが好ましい。次に、上記分散液に微粒子状の疎水性シリカを
蛍光体粒子に対し２重量％以下の量で添加し、ボ
ールミル、インペラーミル、ロールミルなどを用
いて充分に混合して塗布液を調製する。なお、疎
水性シリカは、蛍光体粒子に対して、0.01〜1.0
重量％の範囲の量で用いることが好ましく、ま
た、0.1〜0.5重量％の範囲の量で用いることが特
に好ましい。本発明で用いる疎水性シリカは、一次粒子の平
均径が５〜80ミリミクロンの範囲にあるものであ
る。本発明で用いる疎水性シリカの具体例として、
例えば、ジメチルジクロロシラン、オクチルトリ
メトキシシラン、あるいはトリメチルヘキサメチ
ルジシラザンで処理した微粒子状のシリカが挙げ
られる。疎水性シリカは、塗布液中の溶剤などと反応せ
ず、塗布液中の溶剤などと水素結合を起こすこと
もなく、また、溶剤への化学的吸着もほとんど生
じることがない。また、疎水性シリカは、非常に
微細な粒子であるので、塗布液の流動性をほとん
ど変化させることなく、塗布液中における蛍光体
粒子の分散性を向上させ、同時に蛍光体粒子の沈
降を防止することができる。特に、本発明におけ
る疎水性シリカの添加は、比重の大きな蛍光体粒
子の沈降を効果的に抑制するものである。さらに、疎水性シリカは白色の粉末であり、Ｘ
線などの放射線の照射によつて吸収および発光を
生じることがなく、また蛍光体層中で水分を吸収
して放射線増感スクリーンの放射線に対する感度
を低下させるようなことがない。なお、塗布液中に、該塗布液中における蛍光体
粒子の分散性を向上させる目的で、疎水性シリカ
とともに、公知の分散剤を添加することも可能で
ある。そのような分散剤の例としては、フタル
酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性
剤などを挙げることができる。また、塗布液には、成形後の蛍光体層中におけ
る結合剤と蛍光体粒子との間の結合力を向上させ
るための可塑剤などの種々の添加剤が混合されて
いてもよい。そのような目的に用いられる可塑剤
の例としては、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレ
ジル、燐酸ジフエニルなどの燐酸エステル；フタ
ル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルなどの
フタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリル
エチル、グリコール酸ブチルフタリルブチルなど
のグリコール酸エステル；そして、トリエチレン
グリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエ
チレングリコールとコハク酸とのポリエステルな
どのポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸と
のポリエステルなどを挙げることができる。上記のようにして調製された放射線増感用蛍光
体粒子、疎水性シリカ、および結合剤を分散含有
する塗布液において、蛍光体粒子の分散性は著し
く向上し、沈降も殆ど発生しない。また、塗布液
の流動性は疎水性シリカを添加しないものと比較
して、ほとんど変化しない。このような理由によ
り、塗布液中において蛍光体粒子が凝集して凝集
固化物を生じたり、あるいは、塗布液の支持体へ
の塗布操作に支障をきたすことがない。上記のようにして調製された蛍光体粒子、疎水
性シリカ、および結合剤を含有する塗布液を、次
に、支持体の表面に均一に塗布することにより塗
布液の塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の
塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロール
コーター、ナイフコーターなどを用いることによ
り行なうことができる。本発明に用いられる支持体は、放射線増感スク
リーンの製造のための材料として知られている各
種の材料から任意に選ぶことができる。そのよう
な材料の例としては、セルロースアセテート、ポ
リエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
アミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカー
ボネートなどのプラスチツク物質のフイルム、ア
ルミニウム箔、アルミニウム合金箔などの金属シ
ート、通常の紙、バライタ紙、レジンコート紙、
二酸化チタンなどの顔料を含有するピグメント
紙、ポリビルアルコールなどをサイジングした紙
などを挙げることができる。このような支持体の
なかで特に好ましい支持体の材料は、プラスチツ
クフイルムである。このプラスチツクフイルムに
はカーボンブラツクなどの光吸収性物質が練り込
まれていてもよく、あるいは二酸化チタンなどの
光反射性物質が練り込まれていてもよい。前者は
高鮮鋭度タイプの放射線増感用スクリーンに適し
た支持体であり、後者は高感度タイプの放射線増
感用スクリーンに適した支持体である。なお、支持体と蛍光体層の結合を強化するた
め、あるいは放射線増感スクリーンとしての感度
もしくは画質を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層、もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。また物質の非破壊検査を目的とする工業用放
射線撮影に用いる放射線増感スクリーンにおいて
は、蛍光体層が設けられる側の支持体表面に、散
乱放射線の除去などを目的として、鉛箔、鉛合金
箔、錫箔などの金属箔を設けることも行なわれて
いる。本発明に用いられる支持体についても、こ
れらの各種の層を設けることができ、それらの構
成は所望の放射線増感スクリーンの目的、用途な
どに応じて任意に選択することができる。塗膜形成後、塗膜を徐々に加熱することにより
乾燥して、支持体上への放射線増感用蛍光体層の
形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする
放射線増感スクリーンの特性、蛍光体粒子の種
類、結合剤と蛍光体粒子との混合比などによつて
異なるが、通常は20ミクロンないし１mmとする。
ただし、この層厚は、50ないし500ミクロンとす
るのが好ましい。なお、放射線増感用蛍光体層は、必ずしも上記
のように支持体上に塗布液を直接塗布して形成す
る必要はなく、たとえば、別に、ガラス板、金属
板、プラスチツクシートなどのシート上に塗布液
を塗布し乾燥することにより蛍光体層を形成した
のち、これを、支持体上に押圧するか、あるいは
接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層とを接
合してもよい。通常の放射線増感スクリーンにおいては、支持
体に接する側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍
光体層を物理的および化学的に保護するための透
明な保護膜が設けられている。このような透明保
護膜の設置は、本発明の放射線増感スクリーンの
製造法においても行なわれることが好ましい。透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体；あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミド
などから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層の表
面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法に
よつても形成することができる。このようにして
形成する透明保護膜の膜厚は、約３ないし20ミク
ロンとするのが望ましい。次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。〔実施例１〕放射線増感用のテルビウム賦活酸硫化ガドリニ
ウム蛍光体（Gd₂O₂S：Tb）粒子と、線状ポリエ
ステル樹脂（東洋紡績製のバイロン500とバイロ
ン200とを17：３の重量比で混合したもの）との
混合物にメチルエチルケトンを添加し、さらに、
硝化度11.5％のニトロセルロースを添加し粗撹拌
して、蛍光体と結合剤との重量比が20：１の、蛍
光体粒子と結合剤とを含有する分散液を調製し
た。次に、この分散液に粒子径が約16ミリミクロ
ンの疎水性シリカ（日本アエロジル(株)製、
AEROSIL Ｒ−972）0.05％（蛍光体粒子に対す
る重量％）を添加した後、さらに、燐酸トリクレ
ジル、ｎ−ブタノール、およびメチルエチルケト
ンを添加し、プロペラミキサーを用いて充分に撹
拌混合して、粘度が30PS（25℃）の、蛍光体粒子
が均一に分散した塗布液（塗布液No.１）を調製し
た。次いで、ガラス板上に水平に置いたカーボン練
り込みポリエチレンテレフタレートシート（支持
体、厚み：250ミクロン）上に塗布液をドクター
ブレードを用いて均一に塗布した。そして塗布後
に、塗膜が形成された支持体を乾燥器内に入れ、
この乾燥器の内部の温度を25℃から100℃に徐々
に上昇させて、塗膜の乾燥を行なつた。このよう
にして、支持体上に層厚が約120ミクロンの蛍光
体層を形成した。そして、この蛍光体層の上にポリエチレンテレ
フタレートの透明フイルム（厚み：12ミクロン、
ポリエステル系接着剤が付与されているもの）を
接着剤層側を下に向けて置いて接着することによ
り、透明保護膜を形成し、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリ
ーン（スクリーンNo.１）を製造した。また、上述と同様にして下記第１表に示される
ような割合（蛍光体粒子に対する重量％）で疎水
性シリカを含有する塗布液No.２〜６を調製し、
各々の塗布液を用いて上述と同様にして放射線増
感スクリーンNo.２〜６を製造した。なお塗布液No.
６および放射線増感スクリーンNo.６は比較のため
に製造されたものである。

【表】

【表】次に、上記のようにして製造した各々の塗布液
（塗布液No.１〜６）を次に記載する液比重試験に
より評価した。まず、塗布液を円筒状容器内に液高30cmとなる
ように注入し、30分間プロペラミキサーで撹拌し
た後、５時間静置した。容器内の塗布液を仮想的
に上から均等に３等分して、上から順に上層部、
中層部、および下層部とし、各部から塗布液をピ
ペツトで少量取り出しその液比重を測定した。また、上記のようにして製造した各々の放射線
増感スクリーン（スクリーンNo.１〜６）に、
80KVpのＸ線を照射した時の感度を測定した。各々の塗布液および相当する放射線増感スクリ
ーンNo.１〜６について得られた結果を第２表に示
す。ただし、疎水性シリカの含有量は蛍光体粒子
に対する重量％で表示した。

〔比較例１〕

実施例１の分散液中に疎水性シリカの代りに、
粒子径が約７ミリミクロンの親水性シリカ（日本
アエロジル(株)製、AEROSIL380）0.05％を添加す
ること以外は実施例１と同様な処理を行なうこと
により、塗布液（塗布液No.７）を調製し、さらに
この塗布液を用いて実施例１と同様な処理を行な
うことにより、支持体、蛍光体層、および透明保
護膜から構成された放射線増感スクリーン（スク
リーンNo.７）を製造した。また、上述と同様にして下記の第３表に示され
るような割合（蛍光体粒子に対する重量％）で親
水性シリカを含有する塗布液No.８〜11を調製し、
各々の塗布液を用いて上述と同様にして放射線増
感スクリーンNo.８〜11を製造した。

【表】上記のようにして製造した各々の塗布液（塗布
液No.７〜11）を、前記の液比重試験により評価し
た。また、上記のようにして製造した各々の放射線
増感スクリーン（スクリーンNo.７〜11）に
80KVpのＸ線を照射した時の感度を測定した。各々の塗布液および相当する放射線増感スクリ
ーンNo.７〜11について得られた結果を第４表に示
す。また、塗布液No.６および放射線増感スクリー
ンNo.６についての結果も併記した。ただし、親水
性シリカの含有量は蛍光体粒子に対する重量％で
表示した。

【表】上記の第２表から明らかなように、本発明の製
造法に従う塗布液（No.１〜５）は、疎水性シリカ
を含有しない従来の塗布液（No.６）よりも、蛍光
体粒子の分散性において優れている。従来の塗布
液（No.６）では、蛍光体粒子の沈降の度合が著し
く、下層部には蛍光体粒子の凝集による凝集固化
物が生じたが、本発明の製造法に従う塗布液（No.
１〜５）では、蛍光体粒子の沈降は減少し凝集固
化物は全く見られなかつた。特に、疎水性シリカ
の添加率が0.1〜0.5重量％の範囲である場合に
は、塗布液中の蛍光体粒子の沈降をほぼ完全に防
ぐことが可能であることがわかる。また、本発明の製造法によつて上記各塗布液を
用いて製造された放射線増感スクリーン（No.１〜
５）のＸ線照射時の感度は、従来の増感スクリー
ンの感度と比較してほとんど変わらないことがわ
かる。上記の第２表および第４表から明らかなよう
に、親水性シリカを含有している塗布液（No.７〜
11）は、本発明の製造法に従う疎水性シリカを含
有する塗布液（No.１〜５）と比較して、蛍光体粒
子の分散性において明らかに劣つている。塗布液
（No.７〜11）は、塗布液中における蛍光体粒子の
沈降の度合が著しく大きく、全ての塗布液中に蛍
光体粒子の凝集による凝集固化物が生じている。また、上記各塗布液を用いて製造された放射線
増感スクリーン（No.７〜11）のＸ線照射時の感度
は、本発明の製造法によつて製造された増感スク
リーン（No.１〜５）の感度と比較しても明らかに
低下していることがわかる。すなわち、本発明の製造法によつて調製される
塗布液（No.１〜５）は、塗布液中における蛍光体
粒子の分散性および沈降防止において非常に優れ
ている。

Claims

【特許請求の範囲】１放射線増感用蛍光体粒子および結合剤を含む
分散液中に、一次粒子の平均径が５〜80ミリミク
ロンの範囲にある微粒子状の疎水性シリカを蛍光
体粒子に対し0.01〜２重量％の量で分散含有させ
た塗布液を調製し、この塗布液を用いて支持体上
に上記蛍光体粒子および疎水性シリカを分散状態
で含有支持する結合剤からなる放射線増感用蛍光
体層を形成することを特徴とする放射線増感スク
リーンの製造法。２微粒子状の疎水性シリカが、放射線増感用蛍
光体粒子に対して0.1〜0.5重量％の範囲の量で用
いられていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の放射線増感スクリーンの製造法。３放射線増感用蛍光体が、テルビウム賦活酸硫
化ガドリニウム蛍光体であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の放射線増感スクリーン
の製造法。