JPH0216978Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は、陶磁器タイル等セラミツク建材の
表面に釉を施すための施釉スプレー装置に関し、
特に定量給水装置を備えたスプレー装置に関す
る。

（従来の技術） 陶磁器タイル等セラミツク建材の表面に泥しよ
う状態の釉薬を施す方法として、刷毛塗り、どぶ
漬け、流し掛け、スプレー掛け等の方法がある。
このうちスプレー掛けにおいては、通常、第３図
に示すような装置が用いられている。図示のよう
に、このスプレー装置は、施釉ノズル１００と、
施釉ノズル１００に近接して配置されたエアノズ
ル１０２とを有し、このエアノズル１０２から圧
縮空気を噴射して、施釉ノズル１００の先端開口
から泥しよう状態の釉薬を霧化して飛散させるよ
うになつている。

（考案が解決しようとする問題点） ところで、このようなスプレー掛けによる施釉
方法にあつては、施釉スプレー装置から噴霧され
た釉薬が周囲に飛散するため、通常、施釉スプレ
ー装置をボツクス内部に収容し、そのボツクス内
部においてタイル等に施釉するようにしている。

ところがこの場合、施釉ノズル１００から噴霧
された釉薬が施釉ノズル１００の先端部分或いは
エアノズル１０２の先端部分に付着し、そしてそ
の付着した釉薬が、エアノズル１０２から噴射さ
れるエアによつて或いはその近傍の空気の流れに
よつて乾燥して次第にだんご状の塊１０４に成長
し、この釉薬の塊１０４が施釉ノズル１００の開
口を塞いで施釉不良を引き起してしまう。

これを防止するため、施釉ノズル１００或いは
エアノズル１０２の先端部分を頻繁に清掃するこ
とが行われるが、この場合少なくとも清掃のため
に要する時間（約５分位）だけタイル等の製造ラ
インを一時ストツプさせなければならず、これが
生産性を低下させる一因となつていた。

（問題点を解決するための手段） 本考案はこのような問題点を解決するために為
されたものであり、その要旨は、貯水タンクと、
該タンクからの水を導く導管とを備えた定量給水
装置を施釉スプレー装置に設けるとともに、該導
管の先端部又はこれに接続されたパイプ、注水針
等の給水口部材を前記施釉ノズル若しくはエアノ
ズルの先端部分ないしその近傍部分に固定して、
該先端部分に前記貯水タンクからの水を一定量ず
つ供給するようにしたことにある。

（作用） このような施釉スプレー装置においては、施釉
ノズル若しくはエアノズルの先端部分に定量給水
装置から一定量の水が常に供給されるため、これ
ら施釉ノズル、エアノズル等に付着した泥しよう
状態の釉薬の乾燥が防止される。これにより、そ
れら付着した釉薬がだんご状の塊に成長するのが
抑制される。従つて、塊となつた釉薬によつて施
釉ノズルの先端開口が塞がれる現象が回避され、
以て長時間に亘つてタイル等被施釉物に対して連
続的に釉薬を施すことができるようになる。すな
わち、施釉ノズル若しくはエアノズルの先端部分
の清掃を省略ないしその頻度を少なくすることが
可能となり、以てタイル等セラミツク建材の生産
性向上に寄与することができる。

（実施例） 次に、本考案の実施例を図面に基づいて詳しく
説明する。

第１図及び第２図において、１０は釉薬供給用
のパイプで、ホース１２を介して、泥しよう状態
の釉薬を貯える図示しないタンクに接続されてい
る。

パイプ１０の先端には施釉ノズル１４が設けら
れており、ホース１２及びパイプ１０を通じて送
られた釉薬が、このノズル１４の先端開口（径２
〜３mm程度）から吐出されるようになつている。
尚、パイプ１０には、釉薬の供給量を調節するた
めのバルブ１６が設けられている。

一方、このパイプ１０の近接には、圧縮空気供
給用のパイプ１８が配設されている。パイプ１８
は一端がホース２０に接続されるとともに、他端
にはエアノズル２２が、施釉ノズル１４に対して
90度の角度で設けられており、ホース２０を通じ
て送られた圧縮空気が、エアノズル２２の先端か
ら勢いよく噴射されるようになつている。

これら空気供給用のパイプ１８と釉薬供給用の
パイプ１０とは、連結部２４及び２６にて互いに
連結されており、そしてその一方の連結部２６に
おいて、支持部材２８により回動可能に支持され
るようになつている。

本例の施釉スプレー装置は、定量給水装置３０
（第２図）を備えている。この定量給水装置３０
は、医療用の点滴装置を利用したものであつて、
貯水タンク３２と、これから延び出す導管３６
と、導管３６に設けられた給水量調節部３４と、
導管３６の先端に取り付けられた注水針３８とを
有している。

一方、施釉ノズル１４には、先細りの筒状の保
持部材４０が溶接・固定されており、この保持部
材４０によつて上記注水針３８が保持されてい
る。注水針３８は先端部分が１〜５mm程度保持部
材４０から突き出す状態で保持されており、貯水
タンク３２から送られて来た水が注水針３８の先
端から一定量ずつ施釉ノズル１４の先端部分に供
給されるようになつている。

次に本例のスプレー装置の作用を説明する。

先ず給水量調節部３４を操作して給水量を適当
量（例えば注水針３８から６秒間に１滴（約0.1
c.c.）の水が供給される程度）に調節した上で、エ
アノズル２２から圧縮空気を噴射する。すると施
釉ノズル１４の開口から泥しよう状態の釉薬が噴
霧され、ベルトコンベヤ４２にて運ばれてくるタ
イル４４の表面に吹き付けられる。尚、図示は省
略しているが本例ではスプレー装置はボツクスの
内部に収容されており、タイル４４の表面への施
釉は、このボツクスの内部にて行なわれる。

施釉ノズル１４から噴霧された釉薬は、一部施
釉ノズル１４及びエアノズル２２の先端部分に付
着し、そしてエアノズル２２からのエアによつて
或いは噴出エアに基づく空気の流れによつて乾燥
しようとする。ところが本例の装置においては、
注水針３８の先端から供給される水によつて、施
釉ノズル１４の先端部分が常に湿つた状態に保た
れるため、少なくとも施釉ノズル１４の先端部分
において付着した釉薬の乾燥及びその成長が抑制
される。このため施釉ノズル１４に対する清掃を
それ程頻繁に行なわなくても良くなる。例えば、
従来少なくとも１時間に１度くらいの頻度で清掃
を行なわなければならなかつたのが、本例の装置
によれば４時間に１度くらいの頻度で足りるよう
になり、これによつてタイル４４の生産性が向上
するとともに、施釉ノズル１４開口の詰まりに基
づく施釉むらがなくなる。

以上、本考案の実施例を詳述したが、本考案は
その他の形態で構成することが可能である。

例えば上記の注水針３８に代えて硬質パイプ或
いは可撓性のチユーブ等を給水口部材として用い
ることも可能であるし、かかる給水口部材を、或
いは注水タンク３２からの導管３６を直接的にエ
アノズル２２の側に固定して、エアノズル２２の
乾燥を阻止するようにすることも可能である。エ
アノズル２２に付着した釉薬が乾燥してだんご状
の塊に成長すると、その釉薬の塊によつて施釉ノ
ズル１４の先端開口が塞がれるため、かかるエア
ノズル２２に対して水を供給した場合でも、本考
案の目的を達成することができるのである。

また水の供給量として例示した上記の値はあく
まで本考案の一例であつて、本考案においてはそ
の他種々の量で水を供給するようにすることが可
能である。尤も水の供給量をあまり多くすると釉
薬の濃度が薄くなることから、供給水量として
は、0.5秒で１滴乃至10秒で１滴の範囲内で適当
に設定することが好ましい。施釉ノズル又はエア
ノズルに付着した釉薬を単に湿らせておくだけで
十分効果があるため、この程度の水の供給量でも
十分に本考案の目的を達することができるのであ
る。

更に水の供給位置としては、施釉ノズル、エア
ノズルの先端部分及びその近傍部分の範囲内で適
当に定め得るなど、本考案はその主旨を逸脱しな
い範囲において、当業者の知識に基づき様々な変
形を加えた形態で構成することが可能である。

（考案の効果） 以上詳述したように、本考案によれば、施釉ス
プレー装置の施釉ノズルまたはエアノズルの先端
部分に付着した釉薬の乾燥が防止される。

これにより、これら施釉ノズル、エアノズルの
静掃を省略し、或はその頻度を少なくすることが
可能となり、以てセラミツク建材の生産性が高め
られるとともに、施釉むらが無くなつてその品質
向上も達せられる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図はそれぞれ本考案の一実施例
である施釉スプレー装置の要部正面図であり、第
３図は従来の施釉スプレー装置の一例を示す要部
正面図である。 １４……施釉ノズル、２２……エアノズル、３
２……貯水タンク、３６……導管、３８……注水
針、４４……陶磁器タイル。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 施釉ノズルと、該施釉ノズルに近接して配置さ
   れたエアノズルとを有し、該エアノズルから圧縮
   空気を噴射して、該施釉ノズルの先端開口から泥
   しよう状態の釉薬を霧化して飛散させる施釉スプ
   レー装置において、 貯水タンクと該タンクからの水を導く導管とを
   備えた定量給水装置を設けるとともに、該導管の
   先端部分又はこれに接続されたパイプ、注水針等
   の給水口部材を前記施釉ノズル若しくはエアノズ
   ルの先端部分ないしその近傍部分に固定して、該
   先端部分に前記貯水タンクからの水を一定量ずつ
   供給するようにしたことを特徴とする施釉スプレ
   ー装置。