JPH0217002Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0217002Y2 JPH0217002Y2 JP4795083U JP4795083U JPH0217002Y2 JP H0217002 Y2 JPH0217002 Y2 JP H0217002Y2 JP 4795083 U JP4795083 U JP 4795083U JP 4795083 U JP4795083 U JP 4795083U JP H0217002 Y2 JPH0217002 Y2 JP H0217002Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- film
- gas ejection
- target
- pipes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 8
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は、フイルム等の表面に金属薄膜を幅
方向および膜厚方向に均一に形成するようにした
反応性スパツタ蒸着装置に関するものである。
方向および膜厚方向に均一に形成するようにした
反応性スパツタ蒸着装置に関するものである。
一般に反応性スパツタ蒸着は、ターゲツトの近
傍にガス噴出管を配置し、たたき出されたターゲ
ツト原子または分子をガスと反応させてフイルム
等の表面に付着させるようになつている。
傍にガス噴出管を配置し、たたき出されたターゲ
ツト原子または分子をガスと反応させてフイルム
等の表面に付着させるようになつている。
かかる反応性スパツタ蒸着膜の均一性は、反応
するガスの分布に多大な影響を受け、特にターゲ
ツトが大きい巻取式反応性スパツタ蒸着装置の場
合顕著である。
するガスの分布に多大な影響を受け、特にターゲ
ツトが大きい巻取式反応性スパツタ蒸着装置の場
合顕著である。
ところで、従来の反応性スパツタ蒸着装置にお
いてはガス噴出管をターゲツトの一方側部に配置
した構造であつたため、ターゲツト全面に対して
ガスを均一に分布させることは難しく、このため
フイルム上に蒸着される金属薄膜がフイルム幅方
向の分布ばかりでなく、膜厚方向にも膜質が異な
り、全体に均一な膜厚の製品が得られないという
欠点があつた。
いてはガス噴出管をターゲツトの一方側部に配置
した構造であつたため、ターゲツト全面に対して
ガスを均一に分布させることは難しく、このため
フイルム上に蒸着される金属薄膜がフイルム幅方
向の分布ばかりでなく、膜厚方向にも膜質が異な
り、全体に均一な膜厚の製品が得られないという
欠点があつた。
この考案は上記のような欠点を解消するために
なされたものであり、ターゲツトの全面に対して
ガスの分布が均一になり、幅方向および膜厚方向
に均一な蒸着膜が得られる反応性スパツタ蒸着装
置を提供することを目的とする。
なされたものであり、ターゲツトの全面に対して
ガスの分布が均一になり、幅方向および膜厚方向
に均一な蒸着膜が得られる反応性スパツタ蒸着装
置を提供することを目的とする。
この考案の構成は、一本のガス供給管から同じ
長さの分岐管を介して二本のガス噴出管を分岐
し、両ガス噴出管をフイルムの流れ方向と直角の
状態でターゲツトの両側上部に平行配置し、しか
も両ガス噴出管を流れるガスが逆になるよう配管
し、ターゲツトの全面に対してガスの分布を均一
になるようにしたものである。
長さの分岐管を介して二本のガス噴出管を分岐
し、両ガス噴出管をフイルムの流れ方向と直角の
状態でターゲツトの両側上部に平行配置し、しか
も両ガス噴出管を流れるガスが逆になるよう配管
し、ターゲツトの全面に対してガスの分布を均一
になるようにしたものである。
以下この考案を添付図面の実施例に基づいて説
明する。
明する。
図示のように大気中から蒸着装置内に導入した
一本のガス供給管１をＴ字管２を介して分岐管３
と４に２分岐し、両分岐管３，４の先端にガス噴
出管５，６が接続されている。
一本のガス供給管１をＴ字管２を介して分岐管３
と４に２分岐し、両分岐管３，４の先端にガス噴
出管５，６が接続されている。
上記ガス噴出管５と６はフイルム７の流れ方向
Ａと直角になるようターゲツト８の両側上部に平
行状態で配置され、両分岐管３と４はＴ字管２か
らガス噴出管５，６までの長さが等しく、しかも
両ガス噴出管５と６の内部におけるガスの流れ方
向が逆になるようにガス噴出管５と６の相反する
端部に接続されている。
Ａと直角になるようターゲツト８の両側上部に平
行状態で配置され、両分岐管３と４はＴ字管２か
らガス噴出管５，６までの長さが等しく、しかも
両ガス噴出管５と６の内部におけるガスの流れ方
向が逆になるようにガス噴出管５と６の相反する
端部に接続されている。
上記ガス噴出管５と６に設けるガス噴出孔９は
長手方向に一定の間隔で設けてもよいが、間隔お
よび孔径を調整し、フイルム７の幅方向に対する
ガスの分布がより均一になるようにするのが好ま
しい。
長手方向に一定の間隔で設けてもよいが、間隔お
よび孔径を調整し、フイルム７の幅方向に対する
ガスの分布がより均一になるようにするのが好ま
しい。
しかし、ガス噴出孔９を一定の間隔で設けた場
合においても、ターゲツト８の全面にわたり、ガ
スの分布は均一になる。すなわち、ガス噴出孔９
を一定の間隔で設けると、ガス噴出管５，６の根
元部分におけるガス噴出孔では、ガス流量が多
く、先端の噴出孔ほど少なくなつてくるが、ター
ゲツト８を挾んで両ガス噴出管５と６が対称の配
置になつているので、一方噴出管の噴出量が少な
い部分に他方噴出管の噴出量が多い部分が臨みフ
イルム７の幅方向における、どの位置においても
ガス噴出合計量は等しくなる。
合においても、ターゲツト８の全面にわたり、ガ
スの分布は均一になる。すなわち、ガス噴出孔９
を一定の間隔で設けると、ガス噴出管５，６の根
元部分におけるガス噴出孔では、ガス流量が多
く、先端の噴出孔ほど少なくなつてくるが、ター
ゲツト８を挾んで両ガス噴出管５と６が対称の配
置になつているので、一方噴出管の噴出量が少な
い部分に他方噴出管の噴出量が多い部分が臨みフ
イルム７の幅方向における、どの位置においても
ガス噴出合計量は等しくなる。
この考案の蒸着装置は上記のような構造であ
り、ターゲツト８の両側に配置したガス噴出管５
と６の噴出孔９からガスを噴出し、ターゲツト８
からたたき出された原子または分子をガスと反応
させ、長さ方向に走行させたフイルム７の表面に
蒸着膜を形成していくものである。
り、ターゲツト８の両側に配置したガス噴出管５
と６の噴出孔９からガスを噴出し、ターゲツト８
からたたき出された原子または分子をガスと反応
させ、長さ方向に走行させたフイルム７の表面に
蒸着膜を形成していくものである。
以上のように、この考案によると、ガス供給管
に等しい長さの分岐管を介して２本のガス噴出管
を分岐接続し、両ガス噴出管をフイルムの長さ方
向と直角の状態でターゲツトの両側上部に配置
し、しかも両噴出管内を流れるガスが逆方向にな
るようにしたので、両ガス噴出管には等しい量の
ガスが供給され、ターゲツトの全面に対してガス
量の分布が均一になり、フイルム幅方向および膜
厚方向に均一な蒸着膜を得ることができるように
なる。
に等しい長さの分岐管を介して２本のガス噴出管
を分岐接続し、両ガス噴出管をフイルムの長さ方
向と直角の状態でターゲツトの両側上部に配置
し、しかも両噴出管内を流れるガスが逆方向にな
るようにしたので、両ガス噴出管には等しい量の
ガスが供給され、ターゲツトの全面に対してガス
量の分布が均一になり、フイルム幅方向および膜
厚方向に均一な蒸着膜を得ることができるように
なる。
またターゲツトの両側からガスを噴出するの
で、フイルムの流れ方向にも、ガスの分布は均一
になり、フイルムの長手方向においても均一に蒸
着膜が得られる。
で、フイルムの流れ方向にも、ガスの分布は均一
になり、フイルムの長手方向においても均一に蒸
着膜が得られる。
さらに、両側のガス噴出管内におけるガスの流
れを逆にしたので、ガスの噴出が両側で対称形に
なり、ガス分布の均一が最も簡単な一定間隔のガ
ス噴出孔を採用しても正確に実現することができ
る。
れを逆にしたので、ガスの噴出が両側で対称形に
なり、ガス分布の均一が最も簡単な一定間隔のガ
ス噴出孔を採用しても正確に実現することができ
る。
実施例
この考案の反応性スパツタ蒸着装置を用いITO
膜をポリエステルフイルムにスパツタ蒸着した。
その結果、0.4mの幅のフイルムでシート抵抗±
５％、透明性±１％以内の良好な幅方向分布が得
られた。また厚み方向の膜厚もESCAでArエツ
チングしながら測定したが均一な膜質が得られ
た。
膜をポリエステルフイルムにスパツタ蒸着した。
その結果、0.4mの幅のフイルムでシート抵抗±
５％、透明性±１％以内の良好な幅方向分布が得
られた。また厚み方向の膜厚もESCAでArエツ
チングしながら測定したが均一な膜質が得られ
た。
図面はこの考案に係る蒸着装置の平面図であ
る。 １……ガス供給管、２……Ｔ字管、３，４……
分岐管、５，６……ガス噴出管、７……フイル
ム、８……ターゲツト、９……ガス噴出孔。
る。 １……ガス供給管、２……Ｔ字管、３，４……
分岐管、５，６……ガス噴出管、７……フイル
ム、８……ターゲツト、９……ガス噴出孔。
Claims (1)
- 矩形ターゲツトを持つた巻取式反応性スパツタ
蒸着装置において、一本のガス供給管から同じ長
さの分岐管を介して二本のガス噴出管を分岐し両
ガス噴出管をフイルムの長さ方向と直角の状態で
ターゲツトの両側上部に、両ガス噴出管中のガス
の流れが逆になるよう平行状態に配置したことを
特徴とする反応性スパツタ蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4795083U JPS59153372U (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 反応性スパツタ蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4795083U JPS59153372U (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 反応性スパツタ蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59153372U JPS59153372U (ja) | 1984-10-15 |
| JPH0217002Y2 true JPH0217002Y2 (ja) | 1990-05-11 |
Family
ID=30178490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4795083U Granted JPS59153372U (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 反応性スパツタ蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59153372U (ja) |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP4795083U patent/JPS59153372U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59153372U (ja) | 1984-10-15 |
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