JPH02170335A - マルチターゲットx線管 - Google Patents
マルチターゲットx線管Info
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- JPH02170335A JPH02170335A JP1273929A JP27392989A JPH02170335A JP H02170335 A JPH02170335 A JP H02170335A JP 1273929 A JP1273929 A JP 1273929A JP 27392989 A JP27392989 A JP 27392989A JP H02170335 A JPH02170335 A JP H02170335A
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- ray
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- ray tube
- beams
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
-
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- H01J35/112—Non-rotating anodes
- H01J35/116—Transmissive anodes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はX線管の技術分野に関し、特に工業的用途に用
いられるX線管に関する。
いられるX線管に関する。
(従来技術)
上記X線管は、例えばカリフォルニア州すンタクルーズ
所在のエックスレイ・チクノロシーズ・インコーボレイ
テノドから入手でき、螢光X線による物質の元素分析の
ような用途に用いられうる。
所在のエックスレイ・チクノロシーズ・インコーボレイ
テノドから入手でき、螢光X線による物質の元素分析の
ような用途に用いられうる。
このような分析では、サンプルが一次放射源からのX線
で励起され、これに応答して、サンプル中に存在する元
素のエネルギ特性を有するX線光子を放出する。放出さ
れた光子は検出され、それらのスペクトルは表示されお
よび/またはサンプルの元素構成の分析に用いられうる
。この形式の装置の例としては、英国の会社であるリン
ク・アナリティカル・リミテッドによって製作されたX
R200/300型工ネルギ分散螢光X線分光計があり
、この分光計に関しては、会社資料XR200/300
15/87/10Mに記載されており、その内容は本明
細書において引用している公報にも記載されている。
で励起され、これに応答して、サンプル中に存在する元
素のエネルギ特性を有するX線光子を放出する。放出さ
れた光子は検出され、それらのスペクトルは表示されお
よび/またはサンプルの元素構成の分析に用いられうる
。この形式の装置の例としては、英国の会社であるリン
ク・アナリティカル・リミテッドによって製作されたX
R200/300型工ネルギ分散螢光X線分光計があり
、この分光計に関しては、会社資料XR200/300
15/87/10Mに記載されており、その内容は本明
細書において引用している公報にも記載されている。
一般にこれらX線管は、電子が衝突する単一のターゲッ
トを備えており、X線管ハウジングの側部に設けられた
窓または端部に設けられた窓を通してハウジングから放
出されるX線を発生する。
トを備えており、X線管ハウジングの側部に設けられた
窓または端部に設けられた窓を通してハウジングから放
出されるX線を発生する。
X&?lの特性は、ターゲットの材料および幾何学的配
置、X&i放射角度(ターゲットの面に対するX線ビー
ムの角度)、電子放出源の性質および幾何学的配置およ
び電子放射源とターゲットとの間の電位差のようなフィ
ルタによって決定される。それに加えて、数個のターゲ
ットを備えてはいるが、電子放出源は1つであり、さら
に1個の窓またはX線放射角度および異なるX線特性の
ための数個の窓を備えているX線管がある製作者達によ
り過去に製作されたことが知られている。さらに加えて
、同一平面に設けられた異なる材料(鉄およびモリブデ
ン)からなる一対のターゲットと、各ターゲットのため
の個々に配線されたフィラメントとを備えているが、2
つのターゲットから放射される電子ビームのための1個
の側部窓を備えたX線管のサンプルが本発明の出願臼よ
り1年以上前に可能性探究のために米国で販売されたこ
とが知られている。さらに加えて、2連ターゲツトX線
管がテネシー州オークリッジ所在の会社であるオーテツ
クによって米国で販売された可能性があると思われるが
、この2連ターゲツトX線管は、2月22日から26日
までルイジアナ州ニューオリーンズにおいて開催された
「分析化学および応用分光学に関するピッツバーグ会議
および博覧会」でマチレット・ラボラトリーズのアール
・パレットによって資料633号に発表された[2連タ
ーゲ・7トと端部窓を備えた新型XRFチェーブに関す
るX線管の寿命延長のためのシステム・デザイン理論」
と題する論文に記載されている。さらに加えて、単一の
ターゲット材料よりな1円錐形ターゲットを有するX線
管が、本願出願口より1年以上前に米国で販売されてジ
ェット排気の研究に用いられたことが知られている。こ
のX線管は、円錐形ターゲットと同軸な円柱状電子ビー
ムに応答して、上記円錐の軸と直角な円錐の一部分と同
一平面上にある円形の窓を通じてX線を放射するように
構成されている。単一の端部窓およびターゲットのため
の個々のフィラメントを用いた2連または4連ターゲツ
トX線管は、米国特許第4017757号公報に開示さ
れている。しかしながら、この公報には、個々のターゲ
ットから放射されるX線を分離させる内部コリメート手
段および分離された窓の使用について記載されていない
。
置、X&i放射角度(ターゲットの面に対するX線ビー
ムの角度)、電子放出源の性質および幾何学的配置およ
び電子放射源とターゲットとの間の電位差のようなフィ
ルタによって決定される。それに加えて、数個のターゲ
ットを備えてはいるが、電子放出源は1つであり、さら
に1個の窓またはX線放射角度および異なるX線特性の
ための数個の窓を備えているX線管がある製作者達によ
り過去に製作されたことが知られている。さらに加えて
、同一平面に設けられた異なる材料(鉄およびモリブデ
ン)からなる一対のターゲットと、各ターゲットのため
の個々に配線されたフィラメントとを備えているが、2
つのターゲットから放射される電子ビームのための1個
の側部窓を備えたX線管のサンプルが本発明の出願臼よ
り1年以上前に可能性探究のために米国で販売されたこ
とが知られている。さらに加えて、2連ターゲツトX線
管がテネシー州オークリッジ所在の会社であるオーテツ
クによって米国で販売された可能性があると思われるが
、この2連ターゲツトX線管は、2月22日から26日
までルイジアナ州ニューオリーンズにおいて開催された
「分析化学および応用分光学に関するピッツバーグ会議
および博覧会」でマチレット・ラボラトリーズのアール
・パレットによって資料633号に発表された[2連タ
ーゲ・7トと端部窓を備えた新型XRFチェーブに関す
るX線管の寿命延長のためのシステム・デザイン理論」
と題する論文に記載されている。さらに加えて、単一の
ターゲット材料よりな1円錐形ターゲットを有するX線
管が、本願出願口より1年以上前に米国で販売されてジ
ェット排気の研究に用いられたことが知られている。こ
のX線管は、円錐形ターゲットと同軸な円柱状電子ビー
ムに応答して、上記円錐の軸と直角な円錐の一部分と同
一平面上にある円形の窓を通じてX線を放射するように
構成されている。単一の端部窓およびターゲットのため
の個々のフィラメントを用いた2連または4連ターゲツ
トX線管は、米国特許第4017757号公報に開示さ
れている。しかしながら、この公報には、個々のターゲ
ットから放射されるX線を分離させる内部コリメート手
段および分離された窓の使用について記載されていない
。
(発明の目的)
これらH4Qの従来技術は所望の目的に適したX線を発
生するのに有用でありうるが、さらに異なる電子ビーム
間およびX線ビーム間のクロストークが少なく、密結合
を許容し、便利かつ効果的なコリメート手段を備えてい
て、より純粋により良好に制j1されたX線ビームを高
能率をもって発生するX線管が要求されている0本発明
はかかる要求に適合したX線管を提供することを目的と
する。
生するのに有用でありうるが、さらに異なる電子ビーム
間およびX線ビーム間のクロストークが少なく、密結合
を許容し、便利かつ効果的なコリメート手段を備えてい
て、より純粋により良好に制j1されたX線ビームを高
能率をもって発生するX線管が要求されている0本発明
はかかる要求に適合したX線管を提供することを目的と
する。
(発明の構成および発明の効果)
本発明によるX線管の実施例では、異なる平面上に異な
る材料によって設けられた多数のターゲットを備えた多
面体陽極を具備している。各ターゲットは、任意のパタ
ーンおよび/またはシーケンスでオン・オフされうるよ
うに、個別に制御される電子放射源を有している。異な
るターゲットから放射されるX線は高能率角度をもって
各内部コリメータおよび個々の端部窓を通じて外部に取
出される。異なる電子ビーム間および異なるX線ビーム
間のクロストークを抑圧し、かつX線ビームの純度を高
めるために、本発明によるX線管は、分離された電子銃
の効果的な幾何学的配置と、同一面になくかつ良好に分
離された多数のターゲットと、電子技術を用いた良好な
制御と、分離された多数の内部コリメータと、多数の窓
と、各X線ビームのターゲットに対する密結合手段とを
備えている。X線は実質的にターゲットの全域から放射
されるか、またはターゲット全域よりも小さい焦点から
のみまたは主としてターゲットがX線を放射するように
、1つまたはそれ以上の電子ビームが形づけられる。
る材料によって設けられた多数のターゲットを備えた多
面体陽極を具備している。各ターゲットは、任意のパタ
ーンおよび/またはシーケンスでオン・オフされうるよ
うに、個別に制御される電子放射源を有している。異な
るターゲットから放射されるX線は高能率角度をもって
各内部コリメータおよび個々の端部窓を通じて外部に取
出される。異なる電子ビーム間および異なるX線ビーム
間のクロストークを抑圧し、かつX線ビームの純度を高
めるために、本発明によるX線管は、分離された電子銃
の効果的な幾何学的配置と、同一面になくかつ良好に分
離された多数のターゲットと、電子技術を用いた良好な
制御と、分離された多数の内部コリメータと、多数の窓
と、各X線ビームのターゲットに対する密結合手段とを
備えている。X線は実質的にターゲットの全域から放射
されるか、またはターゲット全域よりも小さい焦点から
のみまたは主としてターゲットがX線を放射するように
、1つまたはそれ以上の電子ビームが形づけられる。
本発明の実施例においては、X線管が、多面体の例えば
ほぼピラミッド状の前端部を備えたターゲット支持体を
有している。電子ビームの効果的な制御およびターゲッ
ト間の効果的な分離を通じてクロストークを低減するた
めに、上記はぼピラミッド状の前端部は、稜線が直交す
る溝と、尖端の代りの軸孔とを備えている。各切子面上
には、互いに異なる材料で形成され、したがってそれが
電子銃によって励起された場合に異なるX線を放射する
ターゲットが設けられている。ターゲット材料は、上記
溝の内部および上記軸孔の内部まで延びているが、ター
ゲットは互いに分離されている。クロストークをさらに
低減しかつX)3ビームの純度を高めるために、溝およ
び軸孔の外縁は丸められている。X線管のハウジングは
、上記ターゲットのそれぞれから放射されるX線ビーム
のための個々に分離された端部窓を備えている。内部コ
リメート手段は各ターゲットから放射されるX線ビーム
を分離してクロストークをさらに低減しかつX線ビーム
の純度を高める。各X線ビームは互いにかつターゲット
支持体の軸線に対し平行とされうるが、個々の異なるビ
ーム通路に沿って導かれうる。X線管は、電子銃を個々
に制御して個々のX線ビームの選択されたパターンおよ
び/またはシーケンスを発生する回路を備えた装置に用
いられうる。このXvA管が物質の元素分析に用いられ
る場合、その装置においては、被分析物質にとって適切
なX線ビームのみを選択することが可能であり、利用で
きるX線ビームのすべてまたはある小グループを順次用
いることも可能であり、さらにはX線ビームのすべてま
たは小グループのパターンあるいは小グループのパター
ンのシーケンスを用いることも可能である。そしてこれ
らはすべてX線管または電圧を変えることなしに行なう
ことができる。他の望ましい効果は、X線管電圧および
/または陰極電極を変更することによっても得ることが
できる。
ほぼピラミッド状の前端部を備えたターゲット支持体を
有している。電子ビームの効果的な制御およびターゲッ
ト間の効果的な分離を通じてクロストークを低減するた
めに、上記はぼピラミッド状の前端部は、稜線が直交す
る溝と、尖端の代りの軸孔とを備えている。各切子面上
には、互いに異なる材料で形成され、したがってそれが
電子銃によって励起された場合に異なるX線を放射する
ターゲットが設けられている。ターゲット材料は、上記
溝の内部および上記軸孔の内部まで延びているが、ター
ゲットは互いに分離されている。クロストークをさらに
低減しかつX)3ビームの純度を高めるために、溝およ
び軸孔の外縁は丸められている。X線管のハウジングは
、上記ターゲットのそれぞれから放射されるX線ビーム
のための個々に分離された端部窓を備えている。内部コ
リメート手段は各ターゲットから放射されるX線ビーム
を分離してクロストークをさらに低減しかつX線ビーム
の純度を高める。各X線ビームは互いにかつターゲット
支持体の軸線に対し平行とされうるが、個々の異なるビ
ーム通路に沿って導かれうる。X線管は、電子銃を個々
に制御して個々のX線ビームの選択されたパターンおよ
び/またはシーケンスを発生する回路を備えた装置に用
いられうる。このXvA管が物質の元素分析に用いられ
る場合、その装置においては、被分析物質にとって適切
なX線ビームのみを選択することが可能であり、利用で
きるX線ビームのすべてまたはある小グループを順次用
いることも可能であり、さらにはX線ビームのすべてま
たは小グループのパターンあるいは小グループのパター
ンのシーケンスを用いることも可能である。そしてこれ
らはすべてX線管または電圧を変えることなしに行なう
ことができる。他の望ましい効果は、X線管電圧および
/または陰極電極を変更することによっても得ることが
できる。
本発明の他の実施例では、多数のターゲットを有するが
、これらターゲットは実質的に同一平面上にあって、タ
ーゲット平面に実質的に直角な電子ビームによって励起
されるようになっている。
、これらターゲットは実質的に同一平面上にあって、タ
ーゲット平面に実質的に直角な電子ビームによって励起
されるようになっている。
これらターゲットは電子ビームと同じ方向にX線を放射
する。この実施例は、より制御が容易でより用途が広い
放射能発生源の代替として特に有用であると思われる。
する。この実施例は、より制御が容易でより用途が広い
放射能発生源の代替として特に有用であると思われる。
(実 施 例)
以下、凹面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第1図〜第6図は本発明によるマルチターゲットX線管
の実施例を示し、マルチターゲットX線管10は、性質
の異なるかつクロストークの少ない4本の平行な良好に
コリメートされたビームを発生する。4本のX線ビーム
は、任意のシーケンスまたはパターンでオン・オフする
ことが可能である。X線管10には、ターゲット14a
−14dを備えた多面体よりなる前端部を有する円柱状
のターゲット支持体12が設けられている0本実施例に
おけるターゲット支持体12の前端部はほぼピラミッド
型に形成されているが、このピラミッド状部のほぼ三角
形の側面の基部は曲面をなしている。また、上記ピラミ
ッド状部の突端は軸孔に代えられており、かつ上記ピラ
ミッド状部にはその側面を隔離する溝が設けられている
。ターゲット支持体12は熱的および電気的良導体であ
る銅のような材料で形成されている。ターゲット14a
〜14dのそれぞれは、異なる方向に向けられたX線放
射面を備えており、互いに異なるX線放射材料で形成さ
れうる。本実施例では、4個のターゲット14a〜14
dはそれぞれチタニウム、パラジウム、白金および銅に
より形成されている。
の実施例を示し、マルチターゲットX線管10は、性質
の異なるかつクロストークの少ない4本の平行な良好に
コリメートされたビームを発生する。4本のX線ビーム
は、任意のシーケンスまたはパターンでオン・オフする
ことが可能である。X線管10には、ターゲット14a
−14dを備えた多面体よりなる前端部を有する円柱状
のターゲット支持体12が設けられている0本実施例に
おけるターゲット支持体12の前端部はほぼピラミッド
型に形成されているが、このピラミッド状部のほぼ三角
形の側面の基部は曲面をなしている。また、上記ピラミ
ッド状部の突端は軸孔に代えられており、かつ上記ピラ
ミッド状部にはその側面を隔離する溝が設けられている
。ターゲット支持体12は熱的および電気的良導体であ
る銅のような材料で形成されている。ターゲット14a
〜14dのそれぞれは、異なる方向に向けられたX線放
射面を備えており、互いに異なるX線放射材料で形成さ
れうる。本実施例では、4個のターゲット14a〜14
dはそれぞれチタニウム、パラジウム、白金および銅に
より形成されている。
ターゲット14a−14dは、それぞれ個々に制御され
る電子銃16a−16dよりなる電子発生源を有してお
り、各電子銃16a〜16dはそれぞれフィラメント1
8a−18dを備えている。
る電子銃16a−16dよりなる電子発生源を有してお
り、各電子銃16a〜16dはそれぞれフィラメント1
8a−18dを備えている。
電子銃16a〜16dのそれぞれは、それが励起される
と個別に電子ビーム20a〜20dを発生し、これら電
子ビーム20a〜20dは、電子銃とターゲットとの間
の電位差およびX線管の幾何学的配置にもとづいて、そ
れぞれターゲット143〜14dの1つに衝突してそこ
からX線を放射する。フロントハウジング22はターゲ
ット支持体12の前端部および電子銃16a〜16dを
取り囲んでおり、かつより大きいメインハウジング24
に接続されている。メインハウジング24は、上述した
部材を周知の態様で機械的に支持し、かつヒートシンク
として機能しており(非循環または循環オイルバスを備
えてもよい)、高電圧コネクタ26およびフィラメント
・コネクタをその後端に備えている。高電圧コネクタ2
6はターゲット支持体12に(したがってターゲラ)1
4a〜14dに対し)および電子銃16a〜16dに高
電圧を供給して、各フィラメン)18a−18dが励起
されたときに電子ビーム20a〜20dを発生するのに
充分な電位差を各電子銃とそのターゲットとの間におい
て周知の態様で確保する。フィラメント・コネクタ28
はフィラメント18a〜18dに作動電流を供給する。
と個別に電子ビーム20a〜20dを発生し、これら電
子ビーム20a〜20dは、電子銃とターゲットとの間
の電位差およびX線管の幾何学的配置にもとづいて、そ
れぞれターゲット143〜14dの1つに衝突してそこ
からX線を放射する。フロントハウジング22はターゲ
ット支持体12の前端部および電子銃16a〜16dを
取り囲んでおり、かつより大きいメインハウジング24
に接続されている。メインハウジング24は、上述した
部材を周知の態様で機械的に支持し、かつヒートシンク
として機能しており(非循環または循環オイルバスを備
えてもよい)、高電圧コネクタ26およびフィラメント
・コネクタをその後端に備えている。高電圧コネクタ2
6はターゲット支持体12に(したがってターゲラ)1
4a〜14dに対し)および電子銃16a〜16dに高
電圧を供給して、各フィラメン)18a−18dが励起
されたときに電子ビーム20a〜20dを発生するのに
充分な電位差を各電子銃とそのターゲットとの間におい
て周知の態様で確保する。フィラメント・コネクタ28
はフィラメント18a〜18dに作動電流を供給する。
この場合、フィラメント18a〜18dのうちの任意の
1つまたはそれ以上が何時でもオン・オフされうるよう
に、各フィラメントに対し独立した個々に制御された電
流供給がなされることが重要である。ターゲット14a
−14dのそれぞれが電子ビーム20a〜20dによっ
てそれぞれ励起された場合、ターゲット148〜14d
はそれぞれX線1ビーム30a〜30dを放射し、これ
らX線ビーム30a〜30dは、フロントハウジング2
2の端部に設けられた窓32a〜32dをそれぞれ通じ
て外部に放出される。X線ビーム30a〜30dが窓3
2a〜32dに達する途中に、X線ビーム30a〜30
dを通過させる管状の内部コリメータ34a〜34dが
設けられていることによって、クロストークが低減され
る0本実施例においては、X線ビーム303〜30dが
互いにかつターゲット支持体12の軸線12aに対し平
行となるように、ターゲット14a−14dとコリメー
タ34a〜34dと窓32a〜32dとの幾何学的配置
が決定されている。ターゲット支持体12の前端部にお
ける上記ピラミッド状部の4つの側面は、溝36a〜3
6dによって互いに隔離されており、かつ上記ピラミッ
ド状部の前端に、上記溝36a〜36dよりも深い軸孔
38が形成されている。
1つまたはそれ以上が何時でもオン・オフされうるよう
に、各フィラメントに対し独立した個々に制御された電
流供給がなされることが重要である。ターゲット14a
−14dのそれぞれが電子ビーム20a〜20dによっ
てそれぞれ励起された場合、ターゲット148〜14d
はそれぞれX線1ビーム30a〜30dを放射し、これ
らX線ビーム30a〜30dは、フロントハウジング2
2の端部に設けられた窓32a〜32dをそれぞれ通じ
て外部に放出される。X線ビーム30a〜30dが窓3
2a〜32dに達する途中に、X線ビーム30a〜30
dを通過させる管状の内部コリメータ34a〜34dが
設けられていることによって、クロストークが低減され
る0本実施例においては、X線ビーム303〜30dが
互いにかつターゲット支持体12の軸線12aに対し平
行となるように、ターゲット14a−14dとコリメー
タ34a〜34dと窓32a〜32dとの幾何学的配置
が決定されている。ターゲット支持体12の前端部にお
ける上記ピラミッド状部の4つの側面は、溝36a〜3
6dによって互いに隔離されており、かつ上記ピラミッ
ド状部の前端に、上記溝36a〜36dよりも深い軸孔
38が形成されている。
ターゲット143〜14dは上記ピラミッド状部の切子
面を覆っており、各ターゲソ)14a〜14dは溝36
a〜36dのうちの隣接する2つの溝の途中にまでおよ
び軸孔38の途中にまで延びているが、ターゲット14
8〜14dは互いに分離されている。第6図に示されて
いるように、ターゲット14a〜14dのそれぞれは、
例えばろう付けによってターゲット支持体12の前端部
のピラミッド状側面にそれぞれ固着された薄板となしう
る。各ターゲット14a〜14dは、隣接する2つの溝
の途中まで、例えば溝の底まで曲げこまれており、溝3
6aについて36alおよび36a2で示されているよ
うに、善導36a〜36dの各外縁が丸められているこ
とに注目されたい。また、軸孔38の外縁と溝363〜
36dの外縁とが接するコーナも含めて軸孔38の外縁
も丸められていることに注目されたい。さらに、軸孔3
8の外縁は連続していないが、隣接する溝の外縁間を覆
う弧を形成していることに注目されたい。本実施例にお
いて第2図〜第4図に示されているターゲット支持体1
2およびその各面、溝36a〜36dおよび軸孔38の
寸法は下記の通りである。すなわち、ターゲット支持体
12は約1911(0,75インチ)の外径を有する円
柱よりなり、その前端部の軸線方向の大きさは約2.5
鶴(0,1インチ)、溝36a 〜36dの深さおよび
幅は約2.5−■(0,1インチ)、軸孔38は約6.
4M(0,25インチ)の深さと約6.4mm (0,
25インチ)の内径とを有する。ターゲット材料は、約
2.511あるいはそれより若干少ない距離だけ溝36
a〜36d内および軸孔38内に延びている。
面を覆っており、各ターゲソ)14a〜14dは溝36
a〜36dのうちの隣接する2つの溝の途中にまでおよ
び軸孔38の途中にまで延びているが、ターゲット14
8〜14dは互いに分離されている。第6図に示されて
いるように、ターゲット14a〜14dのそれぞれは、
例えばろう付けによってターゲット支持体12の前端部
のピラミッド状側面にそれぞれ固着された薄板となしう
る。各ターゲット14a〜14dは、隣接する2つの溝
の途中まで、例えば溝の底まで曲げこまれており、溝3
6aについて36alおよび36a2で示されているよ
うに、善導36a〜36dの各外縁が丸められているこ
とに注目されたい。また、軸孔38の外縁と溝363〜
36dの外縁とが接するコーナも含めて軸孔38の外縁
も丸められていることに注目されたい。さらに、軸孔3
8の外縁は連続していないが、隣接する溝の外縁間を覆
う弧を形成していることに注目されたい。本実施例にお
いて第2図〜第4図に示されているターゲット支持体1
2およびその各面、溝36a〜36dおよび軸孔38の
寸法は下記の通りである。すなわち、ターゲット支持体
12は約1911(0,75インチ)の外径を有する円
柱よりなり、その前端部の軸線方向の大きさは約2.5
鶴(0,1インチ)、溝36a 〜36dの深さおよび
幅は約2.5−■(0,1インチ)、軸孔38は約6.
4M(0,25インチ)の深さと約6.4mm (0,
25インチ)の内径とを有する。ターゲット材料は、約
2.511あるいはそれより若干少ない距離だけ溝36
a〜36d内および軸孔38内に延びている。
第6図においてはクーゲット14aおよび14bの厚さ
が誇張されていることに注目されたい。実際はターゲッ
ト142〜14dの厚さは250ミクロン(10ミル)
程度であり、−船釣なターゲット材料に要求される厚さ
の最小値は約50μ(2ミル)である。ターゲット14
a〜14dがターゲット支持体12と同じ材料からなる
場合には、ターゲットプレートをろう付けしてもよいし
、あるいはターゲット支持体の前端の適当な切子面をそ
の面がターゲットとして動作するように仕上げてもよい
、下記の材料、すなわちTI% Crs Fe、Co、
NiXCu、Mo、Rhs Ag、Ta5W、Re。
が誇張されていることに注目されたい。実際はターゲッ
ト142〜14dの厚さは250ミクロン(10ミル)
程度であり、−船釣なターゲット材料に要求される厚さ
の最小値は約50μ(2ミル)である。ターゲット14
a〜14dがターゲット支持体12と同じ材料からなる
場合には、ターゲットプレートをろう付けしてもよいし
、あるいはターゲット支持体の前端の適当な切子面をそ
の面がターゲットとして動作するように仕上げてもよい
、下記の材料、すなわちTI% Crs Fe、Co、
NiXCu、Mo、Rhs Ag、Ta5W、Re。
r>tおよびAuがターゲットに用いるのに適している
と思われる。特定のX線管のためにこれら材料のうちの
いずれを選択し、ターゲット支持体の切子面上にいかな
る順序で配列するかは、XyA管の使用意図によって一
義的に決定される。
と思われる。特定のX線管のためにこれら材料のうちの
いずれを選択し、ターゲット支持体の切子面上にいかな
る順序で配列するかは、XyA管の使用意図によって一
義的に決定される。
本発明によるX線管は、例えばリンク・アナリティカル
社製の螢光X線分光計のような機器に現在用いられてい
るX線管の代りに用いることができる。第7図を参照す
ると、適当な分光計のような装置が概略的に描かれてお
り、第1図〜第6図について説明したX線管10は、ハ
ウジング42内の回転可能なサンプルトレイ40上に置
かれた被分析材料サンプルにX線ビームを当てるように
向けられている。X線管10からのX線の照射に応答し
てサンプルから放射されるX線は、ディテクタ44によ
って検出され、このディテクタ44の出力が分析されて
その結果が分析・表示ユニット46に表示される。X線
ビーム30a〜30dのそれぞれのオン・オフ状態が個
々に制御されうるように、電源・制御ユニット48から
高電圧コネクタ26およびフィラメント・コネクタ28
を介してX線管10に電力が供給される。X線ビームの
シーケンスおよび/またはパターンのセレクタユニット
50は、セレクタ・ノブまたはキーボードのような手操
作手段によって作動されて、任意のときにX線ビーム3
0a〜30dのうちのいずれをオンにし、いずれをオフ
にするかを決定する制御信号を電源・制御ユニット48
に供給する。
社製の螢光X線分光計のような機器に現在用いられてい
るX線管の代りに用いることができる。第7図を参照す
ると、適当な分光計のような装置が概略的に描かれてお
り、第1図〜第6図について説明したX線管10は、ハ
ウジング42内の回転可能なサンプルトレイ40上に置
かれた被分析材料サンプルにX線ビームを当てるように
向けられている。X線管10からのX線の照射に応答し
てサンプルから放射されるX線は、ディテクタ44によ
って検出され、このディテクタ44の出力が分析されて
その結果が分析・表示ユニット46に表示される。X線
ビーム30a〜30dのそれぞれのオン・オフ状態が個
々に制御されうるように、電源・制御ユニット48から
高電圧コネクタ26およびフィラメント・コネクタ28
を介してX線管10に電力が供給される。X線ビームの
シーケンスおよび/またはパターンのセレクタユニット
50は、セレクタ・ノブまたはキーボードのような手操
作手段によって作動されて、任意のときにX線ビーム3
0a〜30dのうちのいずれをオンにし、いずれをオフ
にするかを決定する制御信号を電源・制御ユニット48
に供給する。
あるいは、これら制御信号は上述の分光計が通常内蔵し
ているコンピュータで制御されたプログラムにもとづい
て得るようにしてもよい。
ているコンピュータで制御されたプログラムにもとづい
て得るようにしてもよい。
動作に際しては、適当な回転可能なサンプルトレイ40
によってサンプルが位置決めされ、X線管10はユニッ
ト48.50の制御下に励起されて、それの異なるター
ゲットから異なる特性のX線ビームを、選択されたパタ
ーンおよび/またはシーケンスで発生する。コリメート
されたX′gAビーム30a〜30dがサンプルに照射
されると、これに応答してサンプルからは、照射された
X線の性質およびサンプル材料に依有する特性を有する
X線が放射される。サンプルから発せられたX線は、周
知の態様で分析され、その結果は表示されるか、あるい
は周知の態様で利用される。X線管10から発せられる
4本のX線ビーム303〜30dは、ある場合にはすべ
てが同時にオンとされ、ある場合にはそのうちの1つの
ビームが任意のシーケンスで一時的にオンとされ、また
ある場合には4本より少ない数のビームが任意のパター
ンでオンとされ、さらにある場合には、任意のパターン
のシーケンスで、あるいは単ビームのパターンのシーケ
ンスでオンとされる。4本のビーム30a〜30dは互
いに平行であり、かつターゲット支持体の軸Hl 2
aにも平行である。あるいは、4本のビームが被分析サ
ンプルに収斂するようにこれらビームが互いにおよび/
またはターゲット支持体軸線12aに対しある角度をな
すような配置に変更することも可能である。第8a図お
よび第8b図には本発明の他の実施例が示されており、
このX線管はある種の機器における放射能物質輻射源の
代替として特に適している。X線ターゲッ)61〜64
は適当な真空ハウジング68の内部に面したX線窓66
の内表面に設けられている。窓66はハウジング68の
前端に取付けられたターゲット支持体70の中央部に支
持されている。ターゲット61〜64は、可能ではある
が異なる材料で作成される必要はなく、スパッタリング
のような方法によって窓66の内表面に形成されうる。
によってサンプルが位置決めされ、X線管10はユニッ
ト48.50の制御下に励起されて、それの異なるター
ゲットから異なる特性のX線ビームを、選択されたパタ
ーンおよび/またはシーケンスで発生する。コリメート
されたX′gAビーム30a〜30dがサンプルに照射
されると、これに応答してサンプルからは、照射された
X線の性質およびサンプル材料に依有する特性を有する
X線が放射される。サンプルから発せられたX線は、周
知の態様で分析され、その結果は表示されるか、あるい
は周知の態様で利用される。X線管10から発せられる
4本のX線ビーム303〜30dは、ある場合にはすべ
てが同時にオンとされ、ある場合にはそのうちの1つの
ビームが任意のシーケンスで一時的にオンとされ、また
ある場合には4本より少ない数のビームが任意のパター
ンでオンとされ、さらにある場合には、任意のパターン
のシーケンスで、あるいは単ビームのパターンのシーケ
ンスでオンとされる。4本のビーム30a〜30dは互
いに平行であり、かつターゲット支持体の軸Hl 2
aにも平行である。あるいは、4本のビームが被分析サ
ンプルに収斂するようにこれらビームが互いにおよび/
またはターゲット支持体軸線12aに対しある角度をな
すような配置に変更することも可能である。第8a図お
よび第8b図には本発明の他の実施例が示されており、
このX線管はある種の機器における放射能物質輻射源の
代替として特に適している。X線ターゲッ)61〜64
は適当な真空ハウジング68の内部に面したX線窓66
の内表面に設けられている。窓66はハウジング68の
前端に取付けられたターゲット支持体70の中央部に支
持されている。ターゲット61〜64は、可能ではある
が異なる材料で作成される必要はなく、スパッタリング
のような方法によって窓66の内表面に形成されうる。
互いに隔離された個々に制御される電子発生源がターゲ
ラ)61〜64のそれぞれについて設けられている(第
8a図ではターゲット61および64のための電子発生
aEsxおよびES2のみが示されている)。各電子発
生源はそれぞれ電子ビームを放射し、各電子ビームは、
例えば第83UjJにターゲット61および62に至る
電子ビームが示されているように、ターゲットの面に対
して実質的に直角な方向に沿って各ターゲットに達する
。各電子ビームはターゲットからX線束を放射させ、例
えば第8a図にターゲット61および62から放射され
るX線で示されているように、上記X線束は電子ビーム
が衝突した方向に窓66の外表面を通過することによっ
てハウジング68の外部へ放出される。クロストークを
低減するために、X線管には各ターゲット毎にコリメー
タが設けられている。第8a図にクーゲット61および
62のそれぞれのためのコリメータ72および74が示
されているように、各コリメータはターゲットを取囲む
管状体よりなり、ターゲットからハウジング68の内部
に向って突出している。希望により、外部コリメータを
同様に設けることも可能であり、これら外部コリメータ
は、窓66の外表面においてターゲットの突起を取囲む
X線減衰材料よりなる円筒となしうる。そして外部コリ
メータはハウジング68から延長してクロストークを低
減し、および/または各ターゲットからのX線を周知の
態様で形づくる。第8a図および第8b図には単一のX
線窓66が用いられる場合が示されているが、その代り
に2つまたはそれ以上の互いに分離かつ隔離された窓を
用いることもでき、その場合、1つのターゲットについ
て1つの窓が、あるいは2つまたはそれ以上のターゲッ
トの小グループについて1つの窓が用いられ、ターゲッ
トの数は4より多い場合も少ない場合もありうることに
注目されたい。第8a図および第8b図に示されている
X線管は、すべてのターゲットがまたは任意の小グルー
プのターゲットが同時に励起されることによって、ある
いはターゲットが任意のシーケンスまたはパターンで励
起されることによって作動されうる。
ラ)61〜64のそれぞれについて設けられている(第
8a図ではターゲット61および64のための電子発生
aEsxおよびES2のみが示されている)。各電子発
生源はそれぞれ電子ビームを放射し、各電子ビームは、
例えば第83UjJにターゲット61および62に至る
電子ビームが示されているように、ターゲットの面に対
して実質的に直角な方向に沿って各ターゲットに達する
。各電子ビームはターゲットからX線束を放射させ、例
えば第8a図にターゲット61および62から放射され
るX線で示されているように、上記X線束は電子ビーム
が衝突した方向に窓66の外表面を通過することによっ
てハウジング68の外部へ放出される。クロストークを
低減するために、X線管には各ターゲット毎にコリメー
タが設けられている。第8a図にクーゲット61および
62のそれぞれのためのコリメータ72および74が示
されているように、各コリメータはターゲットを取囲む
管状体よりなり、ターゲットからハウジング68の内部
に向って突出している。希望により、外部コリメータを
同様に設けることも可能であり、これら外部コリメータ
は、窓66の外表面においてターゲットの突起を取囲む
X線減衰材料よりなる円筒となしうる。そして外部コリ
メータはハウジング68から延長してクロストークを低
減し、および/または各ターゲットからのX線を周知の
態様で形づくる。第8a図および第8b図には単一のX
線窓66が用いられる場合が示されているが、その代り
に2つまたはそれ以上の互いに分離かつ隔離された窓を
用いることもでき、その場合、1つのターゲットについ
て1つの窓が、あるいは2つまたはそれ以上のターゲッ
トの小グループについて1つの窓が用いられ、ターゲッ
トの数は4より多い場合も少ない場合もありうることに
注目されたい。第8a図および第8b図に示されている
X線管は、すべてのターゲットがまたは任意の小グルー
プのターゲットが同時に励起されることによって、ある
いはターゲットが任意のシーケンスまたはパターンで励
起されることによって作動されうる。
また本発明は、ターゲット支持体の前端に4つ以上の面
を有する多面X線管にも適用できること明らかである0
例えば、本発明によるX線管は、そのターゲット支持体
の前端に5.6.7.8個の切子面とそれに等しいかま
たはそれより少ない数のターゲットを備えうる。これら
ターゲットはそれらのすべてを異なる材料で形成しうる
が、そのうちのいくつかを同じ材料で形成してもよい。
を有する多面X線管にも適用できること明らかである0
例えば、本発明によるX線管は、そのターゲット支持体
の前端に5.6.7.8個の切子面とそれに等しいかま
たはそれより少ない数のターゲットを備えうる。これら
ターゲットはそれらのすべてを異なる材料で形成しうる
が、そのうちのいくつかを同じ材料で形成してもよい。
上記切子面は、ターゲット支持体軸線に対し対称または
非対称とすることができ、またそれらを同じ大きさまた
は異なる大きさに形成しうる0例えば上記切子面が向い
ている方向および内部コリメータと窓の位置を変えるこ
とによって、X線ビームのうちのいくつかまたはすべて
が互いに平行でなく、またいずれか1つまたはそれ以上
のビームの方向が他のビームに対し集合または離散する
関係になるような幾何学的配置に変更することも可能で
ある。各フィラメントがそのターゲットの中心に配置さ
れ、かつ電子ビームがほぼターゲ・ノド全面に当たるよ
うに構成された上述の電子銃は、電子銃とターゲットと
の幾何学的配置によって、およびターゲットと電子銃と
の間の電位差によってパターンが一義的に決定される。
非対称とすることができ、またそれらを同じ大きさまた
は異なる大きさに形成しうる0例えば上記切子面が向い
ている方向および内部コリメータと窓の位置を変えるこ
とによって、X線ビームのうちのいくつかまたはすべて
が互いに平行でなく、またいずれか1つまたはそれ以上
のビームの方向が他のビームに対し集合または離散する
関係になるような幾何学的配置に変更することも可能で
ある。各フィラメントがそのターゲットの中心に配置さ
れ、かつ電子ビームがほぼターゲ・ノド全面に当たるよ
うに構成された上述の電子銃は、電子銃とターゲットと
の幾何学的配置によって、およびターゲットと電子銃と
の間の電位差によってパターンが一義的に決定される。
またその代りに、フィラメント18aから放射される電
子のための板52と電界集束電位発生源E(f)とが第
3図に概略的に示されているように、付加的電界を周知
の態様で用いて、各ターゲット上に電子ビームを集束さ
せることも可能である。上述のものでは電子発生源とし
てフィラメントが用いられているが、他の適当な熱陰極
または冷陰極も使用できる。本発明によるX、%I管の
1つの用途は螢光X&I分光計であるが、このX線管は
、X線透過測定による厚さゲージ用、工程管理および材
料仕様管理用、およびラジオグラフィーおよび濃度検査
計用のような他の用途に、あるいは同位体交換のような
用途に、限定を設けることなく用いることが可能である
。その信奉発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能であ
る。
子のための板52と電界集束電位発生源E(f)とが第
3図に概略的に示されているように、付加的電界を周知
の態様で用いて、各ターゲット上に電子ビームを集束さ
せることも可能である。上述のものでは電子発生源とし
てフィラメントが用いられているが、他の適当な熱陰極
または冷陰極も使用できる。本発明によるX、%I管の
1つの用途は螢光X&I分光計であるが、このX線管は
、X線透過測定による厚さゲージ用、工程管理および材
料仕様管理用、およびラジオグラフィーおよび濃度検査
計用のような他の用途に、あるいは同位体交換のような
用途に、限定を設けることなく用いることが可能である
。その信奉発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能であ
る。
第1図は本発明の一実施例に係るX線管の一部を断面と
した側面図、第2図は第1図の実施例に用いられる多面
体X線ターゲット支持体の側面図、第3図は上記ターゲ
ット支持体をターゲット励起用電子銃とともに示す正面
図、第4図は第1回の実施例に用いられる窓の正面図、
第5図は第4図の5−5線に沿った断面図、第6図は2
つの隣接したターゲットのターゲラ1支持体の軸線と平
行な面に沿った拡大断面図、第7図は本発明の実施例に
係るX線管を用いた螢光X線分光計のブロック図、第8
a図は本発明の他の実施例に係るX線管の前端部の部分
内断、面図、第8b図はその正面図である。 t O−X線管 12−ターゲット支持体 14a〜14d−ターゲット 15a”16d−一電子銃 18a−18d−一・フィラメント 20a 〜20d−電子ビーム 22−フロントハウジング 24−メインハウジング 26−高電圧コネクタ 28−フィラメント・コネクタ 30 a 〜30 d−−X線ビーム 32a 〜32d−窓 34 a 〜34 d−lリメータ 36 a 〜366−?li 38−軸孔40−
サンプルトレイ 44・−ディテクタ化 理 人
した側面図、第2図は第1図の実施例に用いられる多面
体X線ターゲット支持体の側面図、第3図は上記ターゲ
ット支持体をターゲット励起用電子銃とともに示す正面
図、第4図は第1回の実施例に用いられる窓の正面図、
第5図は第4図の5−5線に沿った断面図、第6図は2
つの隣接したターゲットのターゲラ1支持体の軸線と平
行な面に沿った拡大断面図、第7図は本発明の実施例に
係るX線管を用いた螢光X線分光計のブロック図、第8
a図は本発明の他の実施例に係るX線管の前端部の部分
内断、面図、第8b図はその正面図である。 t O−X線管 12−ターゲット支持体 14a〜14d−ターゲット 15a”16d−一電子銃 18a−18d−一・フィラメント 20a 〜20d−電子ビーム 22−フロントハウジング 24−メインハウジング 26−高電圧コネクタ 28−フィラメント・コネクタ 30 a 〜30 d−−X線ビーム 32a 〜32d−窓 34 a 〜34 d−lリメータ 36 a 〜366−?li 38−軸孔40−
サンプルトレイ 44・−ディテクタ化 理 人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ターゲット支持体と、 それぞれが異なる方向に向けられたX線放射面を有し、
かつ異なるX線放射材料で形成されて、上記ターゲット
支持体上に設けられた多数のターゲットと、 上記ターゲットのそれぞれについて設けられており、上
記ターゲットに衝突してそのターゲットからX線を放射
させるための電子を放射する個々に制御された電子銃と
、 少なくとも上記多数のターゲットを収容し、かつ上記タ
ーゲットのそれぞれから放射されるX線ビームのための
互いに分離された窓を備えたハウジングと を具備していることを特徴とするマルチターゲットX線
管。 2、上記ハウジングの内部に設けられて前記X線ビーム
を分離させるコリメート手段を含んでいる請求項1記載
のマルチターゲットX線管。 3、上記ターゲット支持体は、隣接するターゲットを互
いに分離してクロストークを低減させるための溝を備え
ている請求項2記載のX線管。 4、上記ターゲット支持体は、多面体よりなる前端部を
備え、上記ターゲットのそれぞれが上記前端部の各切子
面上に設けられ、上記前端部は、クロストークをさらに
低減させるために上記溝よりも深い軸孔を備えている請
求項3記載のX線管。 5、上記溝および上記軸孔の外縁が丸められてクロスト
ークを低減している請求項4記載のX線管。 6、上記ターゲット支持体は、約19mmの外径を有す
る円柱体よりなり、その前端部の軸線方向の寸法が約2
.5mm、上記溝の深さおよび幅は約2.5mm、上記
軸孔は深さが約6.4mm、内径が約6.4mmである
請求項5記載のX線管。 7、上記ハウジングは真空容器よりなり、上記コリメー
ト手段は上記X線ビームのための個々の管状コリメータ
よりなり、これらコリメータは、上記ハウジング内に設
けられて、このハウジング内で上記X線ビームを互いに
隔離して、これらX線ビームを、上記ターゲット支持体
のピラミッド状前端部の軸線に実質的に平行な方向に導
くように構成されている請求項6記載のX線管。 8、上記電子銃を個々に制御して、上記電子ビームの選
択されたパターンおよびシーケンスのうちの少なくとも
一方を発生させる回路を含んでいる請求項7記載のX線
管。 9、上記ターゲット支持体は、隣接するターゲットを互
いに分離してクロストークを低減させる溝を備えている
請求項1記載のマルチターゲットX線管。 10、上記ターゲット支持体は多面体よりなる前端部を
備え、上記ターゲットのそれぞれが上記前端部の各切子
面上に設けられ、上記前端部は、クロストークをさらに
低減させるために上記溝よりも深い軸孔を備えている請
求項9記載のマルチターゲットX線管。 11、上記溝および上記軸孔の外縁が丸められてクロス
トークを低減している請求項10記載のX線管。 12、上記ターゲット支持体は多面体よりなる前端部を
備え、上記ターゲットのそれぞれが上記前端部の各切子
面上に設けられ、上記前端部は、上記ターゲットの前面
部分を互いに隔離してクロストークを低減させる軸孔を
備えている請求項1記載のマルチターゲットX線管。 13、上記コリメート手段は上記X線ビームのための個
々の管状コリメータよりなり、これらコリメータは、上
記ハウジング内に設けられて、このハウジング内で上記
X線ビームを互いに隔離して、これらX線ビームを個々
のビーム通路に導くように構成されている請求項1記載
のX線線。 14、上記ターゲットの材料は、Ti、Cr、Fe、C
o、Ni、Cu、Mo、Rh、Ag、Ta、W、Re、
PtおよびAuからなるグループの中から選ばれる請求
項1記載のX線線。 15、上記電子銃を個々に制御して、上記電子ビームの
選択されたパターンおよびシーケンスのうちの少なくと
も一方を発生させる回路を含んでいる請求項1記載のX
線線。
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