JPH02170587A - 半導体レーザ装置と半導体光検出器及びその製造方法 - Google Patents
半導体レーザ装置と半導体光検出器及びその製造方法Info
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- JPH02170587A JPH02170587A JP63326577A JP32657788A JPH02170587A JP H02170587 A JPH02170587 A JP H02170587A JP 63326577 A JP63326577 A JP 63326577A JP 32657788 A JP32657788 A JP 32657788A JP H02170587 A JPH02170587 A JP H02170587A
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- Japan
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- semiconductor laser
- semiconductor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体レーザ装置と半導体光検出器及びその製
造方法に関し、特に光通信、光計測等に用いる半導体レ
ーザと半導体光検出器及びその製造方法に関するもので
ある。
造方法に関し、特に光通信、光計測等に用いる半導体レ
ーザと半導体光検出器及びその製造方法に関するもので
ある。
従来の技術
距離測定や表面の荒さ測定等の光計測及び光ファイバを
用いる多重通信や、コヒーレント光通信には、単一波長
で発振し、その発振波長が安定した半導体レーザが不可
欠である。単一波長での発振は、分布帰還型レーザダイ
オード(DFB−LD)、分布反射型レーザダイオード
(DBR−LD)によりほぼ実現している。一方レーザ
の発振波長の安定化(発振波長幅やドリフトの改11)
には、ある基準の波長を設定してそれとの比較により、
負帰還をかける方法があり、基準波長は波長選別器とし
て主にファブリペロ−共感器、ガスの吸収線等を用いて
作られる。このような方法として例えば光技術]ンタク
トVo1.26No、 1(1988)第35頁から第
42頁に発表されていて、この方法を第5図に示す。
用いる多重通信や、コヒーレント光通信には、単一波長
で発振し、その発振波長が安定した半導体レーザが不可
欠である。単一波長での発振は、分布帰還型レーザダイ
オード(DFB−LD)、分布反射型レーザダイオード
(DBR−LD)によりほぼ実現している。一方レーザ
の発振波長の安定化(発振波長幅やドリフトの改11)
には、ある基準の波長を設定してそれとの比較により、
負帰還をかける方法があり、基準波長は波長選別器とし
て主にファブリペロ−共感器、ガスの吸収線等を用いて
作られる。このような方法として例えば光技術]ンタク
トVo1.26No、 1(1988)第35頁から第
42頁に発表されていて、この方法を第5図に示す。
第5図は、半導体レーザの外部に、ブアブリペロー共振
器を波長選別器として用いて負帰還をかけることにより
、発振波長の安定化を行うブロック図である。半導体レ
ーザ805から出た光は、戻り光によるノイズを避ける
ためのアイソレータ809を通ってハーフミラ−812
で2方向に分けられる。一方の光はファブリペロ−共振
器808へ行き、もう一方の光は線幅測定装置810へ
行く。ファブリベロー共振器808は、共振器長に対応
する波長周期でその有効的な反射率、透過率の波長依存
性を示す。そのため、この共振器808の透過光と反射
光を各々光検出器807.811で検出すると、光の波
長の揺らぎ、中心の発振波長の検出ができる。各々の光
検出器807,811の電流変化として現れ、一方は電
圧増幅器806により増幅し、位相補償回路801で適
切な電流位相に補正して半導体レーザ805へと加え、
波長の揺らぎを抑える。他方は出力光制御用増幅器80
4を通り、レーザ駆動電源802を制御してその中心波
長を安定化する。また半導体レーザ805は通常、駆動
電流(注入電流)や素子の温度によりその中心波長が変
化する。それを避けるためペルチェ素子からなる温度制
御器803を用いて±0.1℃以下の温度制御をして発
振波長をある程度安定化している。また電流についても
同様に注意が払われている。ここではそれでも避けきれ
ない中心波長のドリフトに対処している。ファブリベロ
ー共振器808や線幅測定装置810から戻って(る光
があると、半導体レーザ805の発振が不安定になり、
線幅の増加、モードの乱れなど良(ないことが起きる。
器を波長選別器として用いて負帰還をかけることにより
、発振波長の安定化を行うブロック図である。半導体レ
ーザ805から出た光は、戻り光によるノイズを避ける
ためのアイソレータ809を通ってハーフミラ−812
で2方向に分けられる。一方の光はファブリペロ−共振
器808へ行き、もう一方の光は線幅測定装置810へ
行く。ファブリベロー共振器808は、共振器長に対応
する波長周期でその有効的な反射率、透過率の波長依存
性を示す。そのため、この共振器808の透過光と反射
光を各々光検出器807.811で検出すると、光の波
長の揺らぎ、中心の発振波長の検出ができる。各々の光
検出器807,811の電流変化として現れ、一方は電
圧増幅器806により増幅し、位相補償回路801で適
切な電流位相に補正して半導体レーザ805へと加え、
波長の揺らぎを抑える。他方は出力光制御用増幅器80
4を通り、レーザ駆動電源802を制御してその中心波
長を安定化する。また半導体レーザ805は通常、駆動
電流(注入電流)や素子の温度によりその中心波長が変
化する。それを避けるためペルチェ素子からなる温度制
御器803を用いて±0.1℃以下の温度制御をして発
振波長をある程度安定化している。また電流についても
同様に注意が払われている。ここではそれでも避けきれ
ない中心波長のドリフトに対処している。ファブリベロ
ー共振器808や線幅測定装置810から戻って(る光
があると、半導体レーザ805の発振が不安定になり、
線幅の増加、モードの乱れなど良(ないことが起きる。
そこでアイソレータ809は、逆から入ってくる光を遮
断するためのものである。
断するためのものである。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の従来の構成では、装置が大型であり
、発振波長の温度安定性および高速変調時の周波数安定
性が良(ないという課題があった。上述の課題は以下の
理由で生ずる。
、発振波長の温度安定性および高速変調時の周波数安定
性が良(ないという課題があった。上述の課題は以下の
理由で生ずる。
すなわち第1にファブリベロー共振器では、熱膨張で共
娠周波数が変化してしまい、基準波長のずれが起きる。
娠周波数が変化してしまい、基準波長のずれが起きる。
そのため基準波長の温度安定性が悪いため、発振波長の
温度安定性が悪い。
温度安定性が悪い。
第2に光検出器から半導体レーザまでの配線が、ファブ
リペロ−共振やガスチューブ等の波長選別器の大きさ(
通常数備〜数十cm )の分だけ長(なり、信号遅延が
生じる。そのため半導体レーザで高速変調する際、高速
変調時の安定化ができない。
リペロ−共振やガスチューブ等の波長選別器の大きさ(
通常数備〜数十cm )の分だけ長(なり、信号遅延が
生じる。そのため半導体レーザで高速変調する際、高速
変調時の安定化ができない。
本発明は、上述の課題に鑑みて試されたもので、装置が
小型であり、発振波長の温度安定性が良く、高速変調時
の周波数安定性が良い半導体レーザ装置と半導体光検出
器及びその製造方法を提供することを目的とする。
小型であり、発振波長の温度安定性が良く、高速変調時
の周波数安定性が良い半導体レーザ装置と半導体光検出
器及びその製造方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は上述の課題を解決するため、4fまたは5f電
子を有する元素がドープされた光吸収層を有する半導体
光検出器に半導体レーザの出力光を吸収させ、前記半導
体光検出器の出力電流を前記半導体レーザの波長駆動電
流として帰還させ、前記半導体レーザの発振波長を安定
化させるという構成を備えたものである。
子を有する元素がドープされた光吸収層を有する半導体
光検出器に半導体レーザの出力光を吸収させ、前記半導
体光検出器の出力電流を前記半導体レーザの波長駆動電
流として帰還させ、前記半導体レーザの発振波長を安定
化させるという構成を備えたものである。
作用
本発明は上述の構成によって、f電子準位間の遷移は4
fまたは5f電子が内殻電子であるため、温度や添加す
る先の材料等の外部環境の影響を受けに((、そのエネ
ルギーは受は入れ先の物質で一定となる。
fまたは5f電子が内殻電子であるため、温度や添加す
る先の材料等の外部環境の影響を受けに((、そのエネ
ルギーは受は入れ先の物質で一定となる。
またそのエネルギー幅も非常に狭い(1c+a−’以下
)。この遷移を用いると決まった狭い波長範囲の光に高
い感度を持つ半導体光検出器が実現できる。これを半導
体レーザと組み合わせた場合、半導体光検出器が検出す
る基準波長の温度安定性が良いため、半導体レーザの発
振波長の温度安定性を増すことができる。
)。この遷移を用いると決まった狭い波長範囲の光に高
い感度を持つ半導体光検出器が実現できる。これを半導
体レーザと組み合わせた場合、半導体光検出器が検出す
る基準波長の温度安定性が良いため、半導体レーザの発
振波長の温度安定性を増すことができる。
また半導体光検出器と半導体レーザを組み合わせること
により、光検出器と半導体レーザまでの配線が短(なり
、高速変調時の周波数安定性を増すことができる。
により、光検出器と半導体レーザまでの配線が短(なり
、高速変調時の周波数安定性を増すことができる。
実施例
第1図は本発明の一実施例による半導体レーザの斜視図
を示す。以下第1図を用いて説明する。
を示す。以下第1図を用いて説明する。
この半導体レーザは、波長選択性を持つ半導体光検出部
100.半導体レーザ部200.電子回路部400をモ
ノリシック化したものである。
100.半導体レーザ部200.電子回路部400をモ
ノリシック化したものである。
まず半導体レーザ部200の構成と動作を説明する。
半導体レーザ部200は、DBR−LDを示し、ファブ
リペロ−型レーザの発光部203と、同一光軸上に注入
電流(位相制御電流230)により有効的に光路長を変
化させる位相制御部202と、回折格子204を設置し
たDBR部201とを付加した構成になっている。
リペロ−型レーザの発光部203と、同一光軸上に注入
電流(位相制御電流230)により有効的に光路長を変
化させる位相制御部202と、回折格子204を設置し
たDBR部201とを付加した構成になっている。
また発光部203は、ストライブ型のレーザであり、n
型1nP基板211上のn型クラッド層210と活性層
208が、n型ブロック層207とn型ブロック層20
9によって埋め込まれていて、その上にn型クラッド層
206.p型電極205が形成されている。そして基板
211の裏面にはn型電極212が形成されている。
型1nP基板211上のn型クラッド層210と活性層
208が、n型ブロック層207とn型ブロック層20
9によって埋め込まれていて、その上にn型クラッド層
206.p型電極205が形成されている。そして基板
211の裏面にはn型電極212が形成されている。
発光された光のうち、DBR部201にある回折格子2
04の周期に応じたブラッグ波長の光が選択的に、発光
部203に帰還されるため、回折格子の周期に対応する
単一波長でレーザ発振が起こる。位相制御部202に位
相制御電流230゜DBR部201にDBR電流220
を同時に注入すると、それぞれの部分の屈折率が変化し
てDBR部201ではブラッグ波長が微少に変化し、単
−発振を保ちながら発振波長を連続的に可変できる。
04の周期に応じたブラッグ波長の光が選択的に、発光
部203に帰還されるため、回折格子の周期に対応する
単一波長でレーザ発振が起こる。位相制御部202に位
相制御電流230゜DBR部201にDBR電流220
を同時に注入すると、それぞれの部分の屈折率が変化し
てDBR部201ではブラッグ波長が微少に変化し、単
−発振を保ちながら発振波長を連続的に可変できる。
次に半導体光検出部100の構成と動作を以下説明する
。
。
半導体光検出部100は半導体レーザ部200の発光部
203とほぼ同一の構成をしたフォトダイオードである
。ただしI n(1,s3G ao、crA sからな
る光吸収層(活性層)208に、4f電子を有する元素
としてエルビウム(Er)を集束イオンビームを用いて
、I X 10I9/c/ドープされていることが違う
。
203とほぼ同一の構成をしたフォトダイオードである
。ただしI n(1,s3G ao、crA sからな
る光吸収層(活性層)208に、4f電子を有する元素
としてエルビウム(Er)を集束イオンビームを用いて
、I X 10I9/c/ドープされていることが違う
。
第2図は、I no、s3c ao、+7A s光吸収
層にErをドープしたフォトダイオードの光吸収係数の
波長依存性を示す特性図である。
層にErをドープしたフォトダイオードの光吸収係数の
波長依存性を示す特性図である。
ただし、第2図の波長範囲を1.40μmから1.70
μmに限定している。光吸収層208のエネルギーギャ
ブ(Eg)は、室温で(0,73eV;1.70μm)
であり、またErの4f準位間吸収の一つに0.8eV
(波長1.55μm)がある。波長が1.55μm付近
の光吸収過程は二種類あり、Eg (0,73eV)に
相当する波長より短波長側にあり、広い波長領域にわた
る価電子帯と伝導帯間のバンド間遷移と、Erによる波
長1.55μmでの狭帯域の吸収である。このため、こ
のフォトダイオードの波長感度特性は、前記二つの過程
による吸収を重畳したものであり、波長1.55μmの
狭い波長領域において相対的に高い感度を持つ。
μmに限定している。光吸収層208のエネルギーギャ
ブ(Eg)は、室温で(0,73eV;1.70μm)
であり、またErの4f準位間吸収の一つに0.8eV
(波長1.55μm)がある。波長が1.55μm付近
の光吸収過程は二種類あり、Eg (0,73eV)に
相当する波長より短波長側にあり、広い波長領域にわた
る価電子帯と伝導帯間のバンド間遷移と、Erによる波
長1.55μmでの狭帯域の吸収である。このため、こ
のフォトダイオードの波長感度特性は、前記二つの過程
による吸収を重畳したものであり、波長1.55μmの
狭い波長領域において相対的に高い感度を持つ。
第3図は、第1図に示す半導体レーザの動作を示すブロ
ック図である。波長選択性を持つ半導体光検出部100
と波長可変型車−波長発娠レーザである半導体レーザ部
200と位相制御電流と、DBR電流を制御する電子回
路部400を組み合わせることにより、半導体レーデの
発振波長の安定化が行える。以下、半導体レーザの発振
波長の安定化の方法を示す。
ック図である。波長選択性を持つ半導体光検出部100
と波長可変型車−波長発娠レーザである半導体レーザ部
200と位相制御電流と、DBR電流を制御する電子回
路部400を組み合わせることにより、半導体レーデの
発振波長の安定化が行える。以下、半導体レーザの発振
波長の安定化の方法を示す。
駆動電流240により半導体レーザ部200から発振光
を二方向に出力させ、ひとつはモニタ光として半導体光
検出部100に入れて光検出電流(rp)110となる
。第4図(a) 〜(C)はそれぞれI nO,s3G
ao、47A S光吸収層にErをドープしたフォト
ダイオードの光検出電流(Ip)の波長(λ1) 依存
性および光検出電流の波長に対する1階微分、2階微分
を示す特性図である。
を二方向に出力させ、ひとつはモニタ光として半導体光
検出部100に入れて光検出電流(rp)110となる
。第4図(a) 〜(C)はそれぞれI nO,s3G
ao、47A S光吸収層にErをドープしたフォト
ダイオードの光検出電流(Ip)の波長(λ1) 依存
性および光検出電流の波長に対する1階微分、2階微分
を示す特性図である。
ここで1p=ip(λ+)、l p”=d2(i p)
/dλ1である。第4図(C)に示すように光検出電流
の波長に対する2階激分(Id’)は、波長1.55μ
mにおいて極値をとる。
/dλ1である。第4図(C)に示すように光検出電流
の波長に対する2階激分(Id’)は、波長1.55μ
mにおいて極値をとる。
前記光検出電流110を緩衝増幅器、微分回路、制御回
路などからなる電子回路部400に入れて、−■p
が極小になるように、位相制御電流230とDBR電流
220を制御するとレーザの発振波長が1.55μmと
なる。このレーザの発振波長の基準となるErの吸収波
長は安定であるため、レーザの発振波長もまた安定であ
り温度特性が良い。また半導体レーザをモノリシック化
することにより、配線長の減少などによって高速変調特
性が良くなる。
路などからなる電子回路部400に入れて、−■p
が極小になるように、位相制御電流230とDBR電流
220を制御するとレーザの発振波長が1.55μmと
なる。このレーザの発振波長の基準となるErの吸収波
長は安定であるため、レーザの発振波長もまた安定であ
り温度特性が良い。また半導体レーザをモノリシック化
することにより、配線長の減少などによって高速変調特
性が良くなる。
なお本実施例では波長選択性を持つ半導体光検出部の形
成手段として、4f電子を有するErを前記半導体光検
出部の光吸収層にドーピングして、Erが持つ4f準位
間吸収の1つである0、8eVを用いたが、その他の4
f準位間吸収、例えば0.72eV、1.OeVなどを
用いることもできる。また、ネオジウム(Nd)、ガド
リニウム(Gd)、イットリビウム(Yb)等の4f準
1位間吸収を有する元素さらに、5f準位間吸収を有す
る元素を用いることができることは言うまでもない。さ
らに半導体光検出部は、それ自身単体で半導体光検出器
として用いることができることは言うまでもない。
成手段として、4f電子を有するErを前記半導体光検
出部の光吸収層にドーピングして、Erが持つ4f準位
間吸収の1つである0、8eVを用いたが、その他の4
f準位間吸収、例えば0.72eV、1.OeVなどを
用いることもできる。また、ネオジウム(Nd)、ガド
リニウム(Gd)、イットリビウム(Yb)等の4f準
1位間吸収を有する元素さらに、5f準位間吸収を有す
る元素を用いることができることは言うまでもない。さ
らに半導体光検出部は、それ自身単体で半導体光検出器
として用いることができることは言うまでもない。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明は、4fまたは
5f電子を有する元素を光吸収層1こドープして特定の
波長に高い感度を持ち、温度安定性の良い半導体光検出
器が、f電子準位間の遷移エネルギー値が一定で、しか
もその幅が非常に狭いことを利用することにより実現で
きる。
5f電子を有する元素を光吸収層1こドープして特定の
波長に高い感度を持ち、温度安定性の良い半導体光検出
器が、f電子準位間の遷移エネルギー値が一定で、しか
もその幅が非常に狭いことを利用することにより実現で
きる。
また半導体レーザと前記半導体光検出器を組み合わせる
ことにより、前記半導体レーザの発振波長の安定化を行
うことにより、従来の大型の光学系が不必要となり、温
度安定性が良(さらに周波数応答性の大幅な向上が図れ
る効果を有するものである。
ことにより、前記半導体レーザの発振波長の安定化を行
うことにより、従来の大型の光学系が不必要となり、温
度安定性が良(さらに周波数応答性の大幅な向上が図れ
る効果を有するものである。
第1図は°本発明の一実施例による半導体レーザの斜視
図、第2図はI n6.53G a6,47A s光吸
収層にErをドープしたフォトダイオードの光吸収係数
の波長依存性を示す特性図、第3図は第1図に示す半導
体レーザの動作を示すブロック図、第4図(a)〜(C
)はそれぞれI n(1,5sG ao、47A S光
吸収層にErをドープしたフォトダイオードの光検出電
流の波長依存性および光検出電流の波長に対する1階微
分、2階微分を示す特性図、第5図は従来技術による半
導体レーザの発振波長の安定化を行うブロック図である
。 100・・・・・・半導体光検出部、110・・・・・
・光検出電流、200・・・・・・半導体レーザ部、2
01・・・・・・DBR部、202・・・・・・位相制
御部、203・旧・・発光部、204・・・・・・回折
格子、210・旧・・活性1!l(光吸収層)、220
・・・・・・DBR電流、230・・・・・・位相制御
電流、240・・・・・・駆動電流、250・・・・・
・発娠光、400・旧・・電子回路部。 代理人の氏名 弁理士 栗野重孝 ほか1名第2図 第 3 図 20θ4虞体ν−ヂ架 第 図 第 図
図、第2図はI n6.53G a6,47A s光吸
収層にErをドープしたフォトダイオードの光吸収係数
の波長依存性を示す特性図、第3図は第1図に示す半導
体レーザの動作を示すブロック図、第4図(a)〜(C
)はそれぞれI n(1,5sG ao、47A S光
吸収層にErをドープしたフォトダイオードの光検出電
流の波長依存性および光検出電流の波長に対する1階微
分、2階微分を示す特性図、第5図は従来技術による半
導体レーザの発振波長の安定化を行うブロック図である
。 100・・・・・・半導体光検出部、110・・・・・
・光検出電流、200・・・・・・半導体レーザ部、2
01・・・・・・DBR部、202・・・・・・位相制
御部、203・旧・・発光部、204・・・・・・回折
格子、210・旧・・活性1!l(光吸収層)、220
・・・・・・DBR電流、230・・・・・・位相制御
電流、240・・・・・・駆動電流、250・・・・・
・発娠光、400・旧・・電子回路部。 代理人の氏名 弁理士 栗野重孝 ほか1名第2図 第 3 図 20θ4虞体ν−ヂ架 第 図 第 図
Claims (3)
- (1)4fまたは5f電子を有する元素がドープされた
光吸収層を有する半導体光検出器に半導体レーザの出力
光を吸収させ、前記半導体光検出器の出力電流を前記半
導体レーザの波長駆動電流として帰還させ、前記半導体
レーザの発振波長を安定化させることを特徴とする半導
体レーザ装置。 - (2)4fまたは5f電子を有する元素がドープされた
光吸収層を有し、4fまたは5f内殻電子準位間遷移を
使用することにより波長選択性を持つことを特徴とする
半導体光検出器。 - (3)波長選択性を有する半導体光検出器を、前記半導
体光検出器の光吸収層に4fまたは5f電子を有する元
素をイオン注入法によりドーピングすることにより形成
する半導体光検出器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32657788A JP2532632B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 半導体レ―ザ装置と半導体光検出器及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32657788A JP2532632B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 半導体レ―ザ装置と半導体光検出器及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02170587A true JPH02170587A (ja) | 1990-07-02 |
| JP2532632B2 JP2532632B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=18189365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32657788A Expired - Fee Related JP2532632B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 半導体レ―ザ装置と半導体光検出器及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2532632B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06506814A (ja) * | 1991-11-27 | 1994-07-28 | ヒューズ・エアクラフト・カンパニー | アンテナビームのステアリング用・モノリシック集積化光遅延ネットワーク |
| JPH06291403A (ja) * | 1991-11-01 | 1994-10-18 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 光トランスミッタ |
| JP2010050162A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体波長可変レーザ |
| JP2022123788A (ja) * | 2021-02-12 | 2022-08-24 | 古河電気工業株式会社 | 波長可変レーザ素子の制御方法、波長可変レーザ素子、およびレーザ装置 |
-
1988
- 1988-12-23 JP JP32657788A patent/JP2532632B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06291403A (ja) * | 1991-11-01 | 1994-10-18 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 光トランスミッタ |
| JPH06506814A (ja) * | 1991-11-27 | 1994-07-28 | ヒューズ・エアクラフト・カンパニー | アンテナビームのステアリング用・モノリシック集積化光遅延ネットワーク |
| JP2010050162A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体波長可変レーザ |
| JP2022123788A (ja) * | 2021-02-12 | 2022-08-24 | 古河電気工業株式会社 | 波長可変レーザ素子の制御方法、波長可変レーザ素子、およびレーザ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2532632B2 (ja) | 1996-09-11 |
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