JPH02172806A - 過酸化水素溶液製造装置 - Google Patents
過酸化水素溶液製造装置Info
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- JPH02172806A JPH02172806A JP32712888A JP32712888A JPH02172806A JP H02172806 A JPH02172806 A JP H02172806A JP 32712888 A JP32712888 A JP 32712888A JP 32712888 A JP32712888 A JP 32712888A JP H02172806 A JPH02172806 A JP H02172806A
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- gaseous hydrogen
- peroxide solution
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分腎〕
この発明は、半導体製造工程などで使用される清浄な過
酸化水素溶液を製造する製造装置に関するものである。
酸化水素溶液を製造する製造装置に関するものである。
第５図は、例えば米国特許筒２，０１５，０４０号明細
書に示された過酸化水素溶液製造装置の構成図である９
図において、ＯＩは水素と酸素とが供給され、放電化学
反応により気体状の過酸化水素を生成する放電式過酸化
水素生成装置、卸は過酸化水素生成装置０１の放電電極
などを一定温度に保つ恒温水を循環させる恒温水循環装
置、（２）は過酸化水素生成装置Ｏ１で生成された気体
状の過酸化水素を含む凝縮性気体が取り込まれる過酸化
水素冷却捕集容器、Ｏａは捕集容器０１内で凝縮性気体
を冷却しｌ！１縮させる冷却プレート、（５）は冷却プ
レート圓を冷却する冷却装置である。αｅは過酸化水素
冷却捕集容器ａ１を通過した非′ａ縮性気体（主に水素
）を回収し、過酸化水素生成装置ａ１で再利用するため
の未反応気体循環パイプである。叩は捕集容器Ｑ１から
過酸化水素溶液を取り出す取り出し管である。
書に示された過酸化水素溶液製造装置の構成図である９
図において、ＯＩは水素と酸素とが供給され、放電化学
反応により気体状の過酸化水素を生成する放電式過酸化
水素生成装置、卸は過酸化水素生成装置０１の放電電極
などを一定温度に保つ恒温水を循環させる恒温水循環装
置、（２）は過酸化水素生成装置Ｏ１で生成された気体
状の過酸化水素を含む凝縮性気体が取り込まれる過酸化
水素冷却捕集容器、Ｏａは捕集容器０１内で凝縮性気体
を冷却しｌ！１縮させる冷却プレート、（５）は冷却プ
レート圓を冷却する冷却装置である。αｅは過酸化水素
冷却捕集容器ａ１を通過した非′ａ縮性気体（主に水素
）を回収し、過酸化水素生成装置ａ１で再利用するため
の未反応気体循環パイプである。叩は捕集容器Ｑ１から
過酸化水素溶液を取り出す取り出し管である。
次に、動作について説明する。
酸素及び水素は、流量制御装置ａυと酸素濃度計（図示
無し）により酸素濃度を爆発限界（約６％）以内に保た
れた状態で放電式過酸化水素発生装置Ｑｌに供給され、
ここで放電化学反応により気体状の過酸化水素が生成さ
れる。過酸化水素と同時に生成される水蒸気との凝縮性
気体は過酸化水素冷却捕集容器ａＳに供給され、冷却装
置α９で冷却された冷却プレート００を通過するとき凝
縮し捕集される。捕集された過酸化水素溶液は過酸化水
素冷却捕集装置αｌの底部に貯溜され、適宜、取り出し
口αηから取り出されて利用される。
無し）により酸素濃度を爆発限界（約６％）以内に保た
れた状態で放電式過酸化水素発生装置Ｑｌに供給され、
ここで放電化学反応により気体状の過酸化水素が生成さ
れる。過酸化水素と同時に生成される水蒸気との凝縮性
気体は過酸化水素冷却捕集容器ａＳに供給され、冷却装
置α９で冷却された冷却プレート００を通過するとき凝
縮し捕集される。捕集された過酸化水素溶液は過酸化水
素冷却捕集装置αｌの底部に貯溜され、適宜、取り出し
口αηから取り出されて利用される。
従来の過酸化水素水製造装置は以上のように構成されて
いるので、特に過酸化水素冷却捕集容器０）の構造が複
雑になる（１１同にあった。すなわち、過酸化水素の捕
集効率は冷却プレート０旬の構造と温度に大きく依存す
るため、冷却プレートα旬の構造が複雑になり、コスト
的にも高価になるという問題点があった。
いるので、特に過酸化水素冷却捕集容器０）の構造が複
雑になる（１１同にあった。すなわち、過酸化水素の捕
集効率は冷却プレート０旬の構造と温度に大きく依存す
るため、冷却プレートα旬の構造が複雑になり、コスト
的にも高価になるという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、気体状の過酸化水素から簡単な構造でしかも
効率よく清浄な過酸化水素溶液を製造できる過酸化水素
溶液製造装置を得ることを目的する。
たもので、気体状の過酸化水素から簡単な構造でしかも
効率よく清浄な過酸化水素溶液を製造できる過酸化水素
溶液製造装置を得ることを目的する。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係る過酸化水素溶液製造装置は、気体状の過
酸化水素を生成する過酸化水素生成部と、上記気体状の
過酸化水素が取り込まれる容器と、この容器内で、気体
状の過酸化水素を溶解できる状態にした液状体により、
上記気体状の過酸化水素を吸収する過酸化水素吸収手段
とを備えたものである。
酸化水素を生成する過酸化水素生成部と、上記気体状の
過酸化水素が取り込まれる容器と、この容器内で、気体
状の過酸化水素を溶解できる状態にした液状体により、
上記気体状の過酸化水素を吸収する過酸化水素吸収手段
とを備えたものである。
この発明においては、過酸化水素を溶解できる状態にさ
れた液状体が、気体状の過酸化水素を吸収する。
れた液状体が、気体状の過酸化水素を吸収する。
第１図は、この発明の一実施例を示す過酸化水素溶液製
造装置の構成図であり、θ傳〜α方は、従来と同様のも
のである。この実施例は、気体状の過酸化水素を吸収す
る液状体として超純水を用いたものである。図において
、（２１）は過酸化水素生成装置α傷で生成された気体
状の過酸化水素を含む混合気体が取り込まれる過酸化水
素吸収容器、（２２）は吸収容器（２１）内で気体状の
過酸化水素を散気する散気管、（２３）は気体状の過酸
化水素を吸収する液状体（この実施例では、超純水）を
供給する補給管、（２４）は気体状の過酸化水素を溶解
できる状態にするために液温を冷却制御する・液温制御
装置、（２５）はその冷却部である。この過酸化水素吸
収容器（２１）は、過酸化水素の分解および不純物の溶
出を防ぐため過酸化水素吸収容器全体や内壁、散気管、
過酸化水素取り出し口など過酸化水素溶液に接触する部
分は石英ガラス、硬質ガラスあるいは弗素系樹脂などの
過酸化水素と反応しない材質で作られている。
造装置の構成図であり、θ傳〜α方は、従来と同様のも
のである。この実施例は、気体状の過酸化水素を吸収す
る液状体として超純水を用いたものである。図において
、（２１）は過酸化水素生成装置α傷で生成された気体
状の過酸化水素を含む混合気体が取り込まれる過酸化水
素吸収容器、（２２）は吸収容器（２１）内で気体状の
過酸化水素を散気する散気管、（２３）は気体状の過酸
化水素を吸収する液状体（この実施例では、超純水）を
供給する補給管、（２４）は気体状の過酸化水素を溶解
できる状態にするために液温を冷却制御する・液温制御
装置、（２５）はその冷却部である。この過酸化水素吸
収容器（２１）は、過酸化水素の分解および不純物の溶
出を防ぐため過酸化水素吸収容器全体や内壁、散気管、
過酸化水素取り出し口など過酸化水素溶液に接触する部
分は石英ガラス、硬質ガラスあるいは弗素系樹脂などの
過酸化水素と反応しない材質で作られている。
次に、動作について説明する。
気体状の過酸化水素は、従来と同様に、放電式過酸化水
素生成装置−で生成できる。生成された過酸化水素を含
む混合ガスは、過酸化水素吸収容器（２１）内で散気管
（２２）より散気され、気体状の過酸化水素は超純水に
溶解し吸収される。
素生成装置−で生成できる。生成された過酸化水素を含
む混合ガスは、過酸化水素吸収容器（２１）内で散気管
（２２）より散気され、気体状の過酸化水素は超純水に
溶解し吸収される。
超純水中に溶解する過酸化水素は、液温の影響を受ける
ため効率よく製造するには、液温制御装置（２４）によ
り液温を制御するのが望ましい０例えば、過酸化水素吸
収容器（２１）に供給する気体状の過酸化水素濃度が０
．５％、過酸化水素吸収容器（２１）の過酸化水素溶液
に含まれる過酸化水素濃度が３０％、過酸化水素溶液の
廐温か２０℃のとき、過酸化水素の捕集率（吸収量の供
給量に対する割合）は約８６％であるが、液晶を１０℃
にすると捕集率は約９２％に上昇する。一方、過酸化水
素溶液中の過酸化水素濃度が上昇してくると過酸化水素
の捕集率は低下する。例えば、過酸化水素吸収容Ｈ（２
１）に供給する気体状の過酸化水素ン】度が０．５％、
過酸化水素溶液中の過酸化水素濃度が７０％、過酸化水
素溶液のｌ圧点が２０℃の時、過酸化水素の捕集率は約
７０％と低下する。この場合でも液温を０℃にまで下げ
ると捕集率は約９３％に上昇する。このように、ｉｎを
低くすれば捕集効率は良くなるが、過酸化水素溶液が凝
固しない範囲で制御する必要がある。第４図に過酸化水
素濃度と過酸化水素溶液の凝固点の関係を示す。
ため効率よく製造するには、液温制御装置（２４）によ
り液温を制御するのが望ましい０例えば、過酸化水素吸
収容器（２１）に供給する気体状の過酸化水素濃度が０
．５％、過酸化水素吸収容器（２１）の過酸化水素溶液
に含まれる過酸化水素濃度が３０％、過酸化水素溶液の
廐温か２０℃のとき、過酸化水素の捕集率（吸収量の供
給量に対する割合）は約８６％であるが、液晶を１０℃
にすると捕集率は約９２％に上昇する。一方、過酸化水
素溶液中の過酸化水素濃度が上昇してくると過酸化水素
の捕集率は低下する。例えば、過酸化水素吸収容Ｈ（２
１）に供給する気体状の過酸化水素ン】度が０．５％、
過酸化水素溶液中の過酸化水素濃度が７０％、過酸化水
素溶液のｌ圧点が２０℃の時、過酸化水素の捕集率は約
７０％と低下する。この場合でも液温を０℃にまで下げ
ると捕集率は約９３％に上昇する。このように、ｉｎを
低くすれば捕集効率は良くなるが、過酸化水素溶液が凝
固しない範囲で制御する必要がある。第４図に過酸化水
素濃度と過酸化水素溶液の凝固点の関係を示す。
ここで、過酸化水素溶液を希望の濃度に効率よ（製造す
るには、例えば、過酸化水素溶液中の過酸化水素濃度を
計測し、対応する凝固点と希望捕集率とを考慮にいれて
？＆温制御をすればよい。また連続的に過酸化水素溶液
を供給するためには、放電式過酸化水素発生装置ａφに
おける過酸化水素の発生量及び過酸化水素溶液の引き抜
き量に応じて、供給する超純水量などを制御すればよい
。
るには、例えば、過酸化水素溶液中の過酸化水素濃度を
計測し、対応する凝固点と希望捕集率とを考慮にいれて
？＆温制御をすればよい。また連続的に過酸化水素溶液
を供給するためには、放電式過酸化水素発生装置ａφに
おける過酸化水素の発生量及び過酸化水素溶液の引き抜
き量に応じて、供給する超純水量などを制御すればよい
。
第２図は、第１図の実施例において、放電式過酸化水素
生成装置Ｑｌと過酸化水素吸収容器（２１）とを結ぶ管
路を加温する加温装置（３０）とその制御装置（３１）
を付加したものの構成図である。気体状の過酸化水素及
び同時に発生する水蒸気は凝縮性気体であり濃度が飽和
蒸気圧以上になると管路などの管壁で凝縮してしまい、
過酸化水素混合気体の輸送に支障が出る場合がある。こ
の加温装置ｆｆ （３０）は、例えば管路にヒーターな
どを巻き付けたものであり、ガス管路を加温することに
より過酸化水素の凝縮を防ぐことができる。加熱温度は
、発生した気体状の過酸化水素濃度に応じて制御するこ
とが望ましい。例えば、気体状の過酸化水素濃度が０．
１ ％、同時に発生する水蒸気濃度が０．１ ％のとき
凝縮温度は約１３℃以下になるので、管路の温度は１５
℃程度にすれば良い、また気体状の過酸化水素濃度が０
．５％、同時に発生する水蒸気濃度が０．５％のとき凝
縮温度は約３８℃以下になるので、管路の温度は４０℃
程度にすれば凝縮を防止できることになる。
生成装置Ｑｌと過酸化水素吸収容器（２１）とを結ぶ管
路を加温する加温装置（３０）とその制御装置（３１）
を付加したものの構成図である。気体状の過酸化水素及
び同時に発生する水蒸気は凝縮性気体であり濃度が飽和
蒸気圧以上になると管路などの管壁で凝縮してしまい、
過酸化水素混合気体の輸送に支障が出る場合がある。こ
の加温装置ｆｆ （３０）は、例えば管路にヒーターな
どを巻き付けたものであり、ガス管路を加温することに
より過酸化水素の凝縮を防ぐことができる。加熱温度は
、発生した気体状の過酸化水素濃度に応じて制御するこ
とが望ましい。例えば、気体状の過酸化水素濃度が０．
１ ％、同時に発生する水蒸気濃度が０．１ ％のとき
凝縮温度は約１３℃以下になるので、管路の温度は１５
℃程度にすれば良い、また気体状の過酸化水素濃度が０
．５％、同時に発生する水蒸気濃度が０．５％のとき凝
縮温度は約３８℃以下になるので、管路の温度は４０℃
程度にすれば凝縮を防止できることになる。
このようにして管路での凝縮を防ぐことができ、過酸化
水素吸収容器（２１）にまで安定に過酸化水素を供給す
ることができる。また、加温装置（３０）は管路全体を
加温室に納めるなど、一定温度に保てるものであればよ
い。
水素吸収容器（２１）にまで安定に過酸化水素を供給す
ることができる。また、加温装置（３０）は管路全体を
加温室に納めるなど、一定温度に保てるものであればよ
い。
第３図は、この発明の他の実施例を示す過酸化水素製造
装置の構成図である。この実施例では、気体状の過酸化
水素を超純水に吸収させる方法として、スプレー式吸収
法を用いたものである。超純水は、その液温を制御され
た後、スプレーノズル（２６）より微少な水滴となって
噴出させ、気体状の過酸化水素を吸収するものである。
装置の構成図である。この実施例では、気体状の過酸化
水素を超純水に吸収させる方法として、スプレー式吸収
法を用いたものである。超純水は、その液温を制御され
た後、スプレーノズル（２６）より微少な水滴となって
噴出させ、気体状の過酸化水素を吸収するものである。
気体状の過酸化水素を超純水に吸収させる方法は、その
他濡れ壁式吸収法など一般に気体吸収に用いられている
方法などを用いることができる。
他濡れ壁式吸収法など一般に気体吸収に用いられている
方法などを用いることができる。
上記各実施例では、気体状の過酸化水素を吸収する液状
体として超純水を用いたものを示したが、過酸化水素の
適応プロセスに応じて変えても良く、例えば、純度の良
い硫酸水溶液、塩酸水溶液、アンモニア水溶液など気体
状過酸化水素が溶解できるものであれば良い、尚、気体
状の過酸化水素を生成するには、放電式過酸化水素生成
方法を例示したが、これに限られるものではない。
体として超純水を用いたものを示したが、過酸化水素の
適応プロセスに応じて変えても良く、例えば、純度の良
い硫酸水溶液、塩酸水溶液、アンモニア水溶液など気体
状過酸化水素が溶解できるものであれば良い、尚、気体
状の過酸化水素を生成するには、放電式過酸化水素生成
方法を例示したが、これに限られるものではない。
〔発明の効果〕
この発明は以上説明したとおり、気体状の過酸化水素を
生成する過酸化水素生成部と、上記気体状の過酸化水素
が取り込まれる容器と、この容器内で、気体状の過酸化
水素を溶解できる状態にした液状体により、上記気体状
の過酸化水素を吸収する過酸化水素吸収手段とを備えた
ので、気体状の過酸化水素から簡単な構造でしかも効率
よく清浄な過酸化水素溶液を製造できる過酸化水素＋８
液製造装置が得られる効果がある。
生成する過酸化水素生成部と、上記気体状の過酸化水素
が取り込まれる容器と、この容器内で、気体状の過酸化
水素を溶解できる状態にした液状体により、上記気体状
の過酸化水素を吸収する過酸化水素吸収手段とを備えた
ので、気体状の過酸化水素から簡単な構造でしかも効率
よく清浄な過酸化水素溶液を製造できる過酸化水素＋８
液製造装置が得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を示す過酸化水素溶液製造
装置の構成図、第２図は第１図の実施例の過酸化水素溶
液製造装置で気体状過酸化水素の流路に加！装置を付加
したものの構成図、第３図はこの発明の他の実施例を示
す過酸化水素溶液製造装置の構成図、第４図は過酸化水
素濃度と過酸化水素溶液の凝固点の関係を示す図、第５
図は従来の過酸化水素溶液製造装置の構成図である。 図において、αΦは過酸化水素生成部（放電式過酸化水
素生成装置） 、（２１）は過酸化水素吸収容器、（２
２）は散気管である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
装置の構成図、第２図は第１図の実施例の過酸化水素溶
液製造装置で気体状過酸化水素の流路に加！装置を付加
したものの構成図、第３図はこの発明の他の実施例を示
す過酸化水素溶液製造装置の構成図、第４図は過酸化水
素濃度と過酸化水素溶液の凝固点の関係を示す図、第５
図は従来の過酸化水素溶液製造装置の構成図である。 図において、αΦは過酸化水素生成部（放電式過酸化水
素生成装置） 、（２１）は過酸化水素吸収容器、（２
２）は散気管である。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 気体状の過酸化水素を生成する過酸化水素生成部、上記
気体状の過酸化水素が取り込まれる容器、及び、この容
器内で、気体状の過酸化水素を溶解できる状態にした液
状体により、上記気体状の過酸化水素を吸収する過酸化
水素吸収手段を備えたことを特徴とする過酸化水素溶液
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32712888A JPH02172806A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 過酸化水素溶液製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32712888A JPH02172806A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 過酸化水素溶液製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02172806A true JPH02172806A (ja) | 1990-07-04 |
Family
ID=18195622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32712888A Pending JPH02172806A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 過酸化水素溶液製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02172806A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010055768A1 (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-20 | セントラル硝子株式会社 | 四フッ化ゲルマニウムの製造方法 |
-
1988
- 1988-12-23 JP JP32712888A patent/JPH02172806A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010055768A1 (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-20 | セントラル硝子株式会社 | 四フッ化ゲルマニウムの製造方法 |
| JP2010116282A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Central Glass Co Ltd | 四フッ化ゲルマニウムの製造方法 |
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