JPH02172876A - 接合方法 - Google Patents
接合方法Info
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- JPH02172876A JPH02172876A JP32842388A JP32842388A JPH02172876A JP H02172876 A JPH02172876 A JP H02172876A JP 32842388 A JP32842388 A JP 32842388A JP 32842388 A JP32842388 A JP 32842388A JP H02172876 A JPH02172876 A JP H02172876A
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Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
- C03C27/08—Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of intervening metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/40—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal all coatings being metal coatings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、セラミックス−セラミックス、セラミック
ス−ガラス、セラミックス−金属、ガラス−金属の接合
方法に関する。
ス−ガラス、セラミックス−金属、ガラス−金属の接合
方法に関する。
接合は、接合材料の融点の直上で行い、拡散現象を利用
し合金化し、接合後の接合部は合金化により、接合温度
以上の耐熱温度を有する接合方法を提供する。
し合金化し、接合後の接合部は合金化により、接合温度
以上の耐熱温度を有する接合方法を提供する。
従来、Au −205n (SnlOwtχ含有)、S
nSn−10Au(AilOχ含有)の厚い材料で接合
し、第2圓の様に、金属層の間にAu−20Sn、 5
n−10^Uの層が残る様な接合をしていた。
nSn−10Au(AilOχ含有)の厚い材料で接合
し、第2圓の様に、金属層の間にAu−20Sn、 5
n−10^Uの層が残る様な接合をしていた。
この種の接合は、電子部品のパッケージ等に多(用いら
れている。従来の方法であると、第2図に示す様に接合
材料の残留層があるため、近年の高密度実装に伴うチン
ズボンディング時に加わる温度(200〜300℃)に
耐えなければならない。
れている。従来の方法であると、第2図に示す様に接合
材料の残留層があるため、近年の高密度実装に伴うチン
ズボンディング時に加わる温度(200〜300℃)に
耐えなければならない。
従って、接合材料として300℃以上の融点をもつ材料
を用いる必要が生じるが、内部に収納されている電子部
品が劣化あるいは、破壊してしまうという欠点を有して
いた。
を用いる必要が生じるが、内部に収納されている電子部
品が劣化あるいは、破壊してしまうという欠点を有して
いた。
上記課題を解決するために、本発明はセラミックスもし
くはガラスからなる被接合材料の接合部表面に、少なく
ともCrNもしくはTtJiJと、Ni1ilと、Au
層とからなる金属層を形成し、該AuMのAu重量をA
u 20Snを接合材料とする場合には、Au 2
0Snの重量の5.5〜17.7wt%、又、Sn −
10Auを接合材料とする場合には、Sn 10Au
の重量の12.5〜28.6wt%とし、該接合材料の
融点以上の温度で接合するものである。
くはガラスからなる被接合材料の接合部表面に、少なく
ともCrNもしくはTtJiJと、Ni1ilと、Au
層とからなる金属層を形成し、該AuMのAu重量をA
u 20Snを接合材料とする場合には、Au 2
0Snの重量の5.5〜17.7wt%、又、Sn −
10Auを接合材料とする場合には、Sn 10Au
の重量の12.5〜28.6wt%とし、該接合材料の
融点以上の温度で接合するものである。
上記の接合方法によれば、被接合材料表面に形成された
Cr、 Ni、^UもしくはTi層 Ni層 Auの三
層構造の最上層であるAu層が接合により接合材料と合
金化し、被接合材料同士を接合する。この際、接合材料
の金含有量が増加することにより、接合材料の融点が上
昇し、接合部の耐熱温度が上昇する。
Cr、 Ni、^UもしくはTi層 Ni層 Auの三
層構造の最上層であるAu層が接合により接合材料と合
金化し、被接合材料同士を接合する。この際、接合材料
の金含有量が増加することにより、接合材料の融点が上
昇し、接合部の耐熱温度が上昇する。
第3図及び第4図に示す接合材料Au 20Sn及び
5n10AuのAu含有量と融点の関係から、Au含有
量の増加に伴い融点が上昇することがわかる。
5n10AuのAu含有量と融点の関係から、Au含有
量の増加に伴い融点が上昇することがわかる。
ここで被接合材料表面に形成されるA1層の重量の下限
は、接合後の接合部の融点が接合材の融点に対し、作業
上10℃以上、上昇することが望ましく 、Au 2
0Snの場合、その接合材料の重量の5.5−【χ、
5n−10Auの場合、その接合材料の重量の12.5
wtχが適当である。
は、接合後の接合部の融点が接合材の融点に対し、作業
上10℃以上、上昇することが望ましく 、Au 2
0Snの場合、その接合材料の重量の5.5−【χ、
5n−10Auの場合、その接合材料の重量の12.5
wtχが適当である。
又、被接合材料表面に形成される1層の重量の上限は、
Au 20Snの場合、その接合材の重量の17.7
i+t%、5n−10^Uの場合、その接合材の重量の
28.6wt%が適当であり、これ以上のAu層が形成
しても、接合時の拡散による合金化が進まず、被接合材
料表面に形成されたAuJiiが残留し、耐熱温度の上
昇が望めない。
Au 20Snの場合、その接合材の重量の17.7
i+t%、5n−10^Uの場合、その接合材の重量の
28.6wt%が適当であり、これ以上のAu層が形成
しても、接合時の拡散による合金化が進まず、被接合材
料表面に形成されたAuJiiが残留し、耐熱温度の上
昇が望めない。
表1及び表2に、被接合材料表面に形成されるCr
Ni AuおよびTi−Ni−^UのAu層重量を上
限値とした場合の接合温度と耐熱温度を示す。
Ni AuおよびTi−Ni−^UのAu層重量を上
限値とした場合の接合温度と耐熱温度を示す。
表−1cr−Ni−Au
又、被接合材料表面に形成されるCr−Ni−Auもし
くはTi Ni−Auの三層構造において、Cr層も
しくはTi層は、被接合材料であるセラミックス、ガラ
スとの密着性を向上させるために形成され、Ni層は、
Cr層もしくはTi層とAuJiiとの熱拡散を防止す
る目的として形成されている。
くはTi Ni−Auの三層構造において、Cr層も
しくはTi層は、被接合材料であるセラミックス、ガラ
スとの密着性を向上させるために形成され、Ni層は、
Cr層もしくはTi層とAuJiiとの熱拡散を防止す
る目的として形成されている。
以下に本発明を実施例に基づき説明する。
第1図fa)は、本発明の実施例の接合前の構成を示す
断面図である。被接合材料であるガラス1とセラミック
ス5上に金属層がCr層2.N1層3.Au層4の順に
形成されている。そして両金属層の間に接合材料6が配
置され、接合材料6の融点直上に加熱し、金属層中のA
u層4を拡散吸収する形で接合する。こうして接合した
後の接合部の断面を示すのが第1図fblである。ここ
では、金属層中のAu層4は、完全に接合材料中に拡散
し、合金層8を形成し、Au層4は消失している。接合
材料6として^u−20Sn、 Sn l0Auを用
い、A1層4の重量とAu 20Snの場合、5.5
iytχ+ Sn 10Auの場合12.5wt%と
した時の接合温度と接合後の耐熱温度を示すのが表−3
である。同様に、金属装置中のCr層2をTi層に代替
したときの、接合温度と接合後の耐熱温度を示すのが表
−4である。金属層の構成に関係なく、この発明の方法
により、耐熱温度が接合温度より高くなる結果が得られ
た。
断面図である。被接合材料であるガラス1とセラミック
ス5上に金属層がCr層2.N1層3.Au層4の順に
形成されている。そして両金属層の間に接合材料6が配
置され、接合材料6の融点直上に加熱し、金属層中のA
u層4を拡散吸収する形で接合する。こうして接合した
後の接合部の断面を示すのが第1図fblである。ここ
では、金属層中のAu層4は、完全に接合材料中に拡散
し、合金層8を形成し、Au層4は消失している。接合
材料6として^u−20Sn、 Sn l0Auを用
い、A1層4の重量とAu 20Snの場合、5.5
iytχ+ Sn 10Auの場合12.5wt%と
した時の接合温度と接合後の耐熱温度を示すのが表−3
である。同様に、金属装置中のCr層2をTi層に代替
したときの、接合温度と接合後の耐熱温度を示すのが表
−4である。金属層の構成に関係なく、この発明の方法
により、耐熱温度が接合温度より高くなる結果が得られ
た。
次に、金属層4の層形成重量を、接合材料6が^u
20Snの場合、17.7wt%、5n−10Auの場
合、28.6+mt%とし接合した結果を、表1及び表
2に示す。
20Snの場合、17.7wt%、5n−10Auの場
合、28.6+mt%とし接合した結果を、表1及び表
2に示す。
表1及び表2から、被接合材料表面に形成される金属層
の構成に関係なく、耐熱温度の上昇が得られ、特にAu
20Snの場合には、400℃の耐熱温度が得られ
た。
の構成に関係なく、耐熱温度の上昇が得られ、特にAu
20Snの場合には、400℃の耐熱温度が得られ
た。
以上説明した様に、この発明によると、従来方法に比較
し、飛躍的に接合部の耐熱温度を高くすることができる
という効果を有していた。
し、飛躍的に接合部の耐熱温度を高くすることができる
という効果を有していた。
の断面図、第2図は従来の接合方法による接合後の断面
図、第3図及び第4図は、Au 20Sn合金のSn
含有量と融点の関係を示す図である。
図、第3図及び第4図は、Au 20Sn合金のSn
含有量と融点の関係を示す図である。
・ガラス
・Cr層
・Ni層
・Aul
・セラミックス
・接合材料
・合金化層
以上
出願人 セイコー電子工業株式会社
代理人 弁理士 林 敬 之 助
第1図<a)は本発明による接合方法の接合前の断面図
、第1図(blは本発明による接合方法の接合後第40
、第1図(blは本発明による接合方法の接合後第40
Claims (1)
- 少なくとも一方がセラミックスもしくはガラスからなる
被接合材料を、Au−20SnもしくはSn−10Au
の接合材料より接合する方法において、セラミックスも
しくはガラスからなる前記被接合材料の接合部表面に、
少なくともCr層もしくはTi層と、Ni層と、Au層
とからなる金属層を形成し、前記Au層のAu重量を、
前記接合材料がAu−20Snの場合、Au−20Sn
の重量の5.5〜17.7wt%、前記接合材料がSn
−10Auの場合、Sn−10Auの重量12.5〜2
8.6wt%とし、前記接合材料の融点以上の温度で接
合することを特徴とする接合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32842388A JPH02172876A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 接合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32842388A JPH02172876A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 接合方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02172876A true JPH02172876A (ja) | 1990-07-04 |
Family
ID=18210095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32842388A Pending JPH02172876A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 接合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02172876A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994013595A1 (fr) * | 1992-12-09 | 1994-06-23 | Nippondenso Co., Ltd. | Procede de soudage sans fondant |
| CN103172277A (zh) * | 2011-12-23 | 2013-06-26 | 北京有色金属研究总院 | 一种光学玻璃与可伐合金的气密封接方法 |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP32842388A patent/JPH02172876A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994013595A1 (fr) * | 1992-12-09 | 1994-06-23 | Nippondenso Co., Ltd. | Procede de soudage sans fondant |
| US5829665A (en) * | 1992-12-09 | 1998-11-03 | Nippondenso Co., Ltd. | Fluxless soldering process |
| CN103172277A (zh) * | 2011-12-23 | 2013-06-26 | 北京有色金属研究总院 | 一种光学玻璃与可伐合金的气密封接方法 |
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