JPH02172876A - 接合方法 - Google Patents

接合方法

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JPH02172876A
JPH02172876A JP32842388A JP32842388A JPH02172876A JP H02172876 A JPH02172876 A JP H02172876A JP 32842388 A JP32842388 A JP 32842388A JP 32842388 A JP32842388 A JP 32842388A JP H02172876 A JPH02172876 A JP H02172876A
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JP
Japan
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layer
bonding
weight
joined
joining
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Pending
Application number
JP32842388A
Other languages
English (en)
Inventor
Setsuo Shoji
節夫 東海林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
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Publication of JPH02172876A publication Critical patent/JPH02172876A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06Joining glass to glass by processes other than fusing
    • C03C27/08Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of intervening metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/40Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal all coatings being metal coatings

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  • Laminated Bodies (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、セラミックス−セラミックス、セラミック
ス−ガラス、セラミックス−金属、ガラス−金属の接合
方法に関する。
〔発明の概要〕
接合は、接合材料の融点の直上で行い、拡散現象を利用
し合金化し、接合後の接合部は合金化により、接合温度
以上の耐熱温度を有する接合方法を提供する。
〔従来の技術〕
従来、Au −205n (SnlOwtχ含有)、S
nSn−10Au(AilOχ含有)の厚い材料で接合
し、第2圓の様に、金属層の間にAu−20Sn、 5
n−10^Uの層が残る様な接合をしていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
この種の接合は、電子部品のパッケージ等に多(用いら
れている。従来の方法であると、第2図に示す様に接合
材料の残留層があるため、近年の高密度実装に伴うチン
ズボンディング時に加わる温度(200〜300℃)に
耐えなければならない。
従って、接合材料として300℃以上の融点をもつ材料
を用いる必要が生じるが、内部に収納されている電子部
品が劣化あるいは、破壊してしまうという欠点を有して
いた。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題を解決するために、本発明はセラミックスもし
くはガラスからなる被接合材料の接合部表面に、少なく
ともCrNもしくはTtJiJと、Ni1ilと、Au
層とからなる金属層を形成し、該AuMのAu重量をA
u  20Snを接合材料とする場合には、Au  2
0Snの重量の5.5〜17.7wt%、又、Sn −
10Auを接合材料とする場合には、Sn  10Au
の重量の12.5〜28.6wt%とし、該接合材料の
融点以上の温度で接合するものである。
〔作用〕
上記の接合方法によれば、被接合材料表面に形成された
Cr、 Ni、^UもしくはTi層 Ni層 Auの三
層構造の最上層であるAu層が接合により接合材料と合
金化し、被接合材料同士を接合する。この際、接合材料
の金含有量が増加することにより、接合材料の融点が上
昇し、接合部の耐熱温度が上昇する。
第3図及び第4図に示す接合材料Au  20Sn及び
5n10AuのAu含有量と融点の関係から、Au含有
量の増加に伴い融点が上昇することがわかる。
ここで被接合材料表面に形成されるA1層の重量の下限
は、接合後の接合部の融点が接合材の融点に対し、作業
上10℃以上、上昇することが望ましく 、Au  2
0Snの場合、その接合材料の重量の5.5−【χ、 
5n−10Auの場合、その接合材料の重量の12.5
wtχが適当である。
又、被接合材料表面に形成される1層の重量の上限は、
Au  20Snの場合、その接合材の重量の17.7
i+t%、5n−10^Uの場合、その接合材の重量の
28.6wt%が適当であり、これ以上のAu層が形成
しても、接合時の拡散による合金化が進まず、被接合材
料表面に形成されたAuJiiが残留し、耐熱温度の上
昇が望めない。
表1及び表2に、被接合材料表面に形成されるCr  
Ni  AuおよびTi−Ni−^UのAu層重量を上
限値とした場合の接合温度と耐熱温度を示す。
表−1cr−Ni−Au 又、被接合材料表面に形成されるCr−Ni−Auもし
くはTi  Ni−Auの三層構造において、Cr層も
しくはTi層は、被接合材料であるセラミックス、ガラ
スとの密着性を向上させるために形成され、Ni層は、
Cr層もしくはTi層とAuJiiとの熱拡散を防止す
る目的として形成されている。
〔実施例〕
以下に本発明を実施例に基づき説明する。
第1図fa)は、本発明の実施例の接合前の構成を示す
断面図である。被接合材料であるガラス1とセラミック
ス5上に金属層がCr層2.N1層3.Au層4の順に
形成されている。そして両金属層の間に接合材料6が配
置され、接合材料6の融点直上に加熱し、金属層中のA
u層4を拡散吸収する形で接合する。こうして接合した
後の接合部の断面を示すのが第1図fblである。ここ
では、金属層中のAu層4は、完全に接合材料中に拡散
し、合金層8を形成し、Au層4は消失している。接合
材料6として^u−20Sn、 Sn  l0Auを用
い、A1層4の重量とAu  20Snの場合、5.5
iytχ+ Sn  10Auの場合12.5wt%と
した時の接合温度と接合後の耐熱温度を示すのが表−3
である。同様に、金属装置中のCr層2をTi層に代替
したときの、接合温度と接合後の耐熱温度を示すのが表
−4である。金属層の構成に関係なく、この発明の方法
により、耐熱温度が接合温度より高くなる結果が得られ
た。
次に、金属層4の層形成重量を、接合材料6が^u  
20Snの場合、17.7wt%、5n−10Auの場
合、28.6+mt%とし接合した結果を、表1及び表
2に示す。
表1及び表2から、被接合材料表面に形成される金属層
の構成に関係なく、耐熱温度の上昇が得られ、特にAu
  20Snの場合には、400℃の耐熱温度が得られ
た。
〔発明の効果〕
以上説明した様に、この発明によると、従来方法に比較
し、飛躍的に接合部の耐熱温度を高くすることができる
という効果を有していた。
の断面図、第2図は従来の接合方法による接合後の断面
図、第3図及び第4図は、Au  20Sn合金のSn
含有量と融点の関係を示す図である。
・ガラス ・Cr層 ・Ni層 ・Aul ・セラミックス ・接合材料 ・合金化層 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林  敬 之 助
【図面の簡単な説明】
第1図<a)は本発明による接合方法の接合前の断面図
、第1図(blは本発明による接合方法の接合後第40

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 少なくとも一方がセラミックスもしくはガラスからなる
    被接合材料を、Au−20SnもしくはSn−10Au
    の接合材料より接合する方法において、セラミックスも
    しくはガラスからなる前記被接合材料の接合部表面に、
    少なくともCr層もしくはTi層と、Ni層と、Au層
    とからなる金属層を形成し、前記Au層のAu重量を、
    前記接合材料がAu−20Snの場合、Au−20Sn
    の重量の5.5〜17.7wt%、前記接合材料がSn
    −10Auの場合、Sn−10Auの重量12.5〜2
    8.6wt%とし、前記接合材料の融点以上の温度で接
    合することを特徴とする接合方法。
JP32842388A 1988-12-26 1988-12-26 接合方法 Pending JPH02172876A (ja)

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JP32842388A JPH02172876A (ja) 1988-12-26 1988-12-26 接合方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994013595A1 (fr) * 1992-12-09 1994-06-23 Nippondenso Co., Ltd. Procede de soudage sans fondant
CN103172277A (zh) * 2011-12-23 2013-06-26 北京有色金属研究总院 一种光学玻璃与可伐合金的气密封接方法

Cited By (3)

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US5829665A (en) * 1992-12-09 1998-11-03 Nippondenso Co., Ltd. Fluxless soldering process
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