JPH0217626A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPH0217626A JPH0217626A JP63168472A JP16847288A JPH0217626A JP H0217626 A JPH0217626 A JP H0217626A JP 63168472 A JP63168472 A JP 63168472A JP 16847288 A JP16847288 A JP 16847288A JP H0217626 A JPH0217626 A JP H0217626A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- illuminance
- uniformity
- exposure area
- reduction projection
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は縮小投影露光装置に関し、特に半導体デバイス
を製造するのに用いて好適な縮小投影露光装置に関する
ものである。
を製造するのに用いて好適な縮小投影露光装置に関する
ものである。
従来の縮小投影露光装置の一例を第３図を参照して説明
する。第３図はその構造模式図を示し、同図において、
１は光源ランプで、後述する三軸ステージ２１に搭載さ
れている。２はとの光源ランプ１からの特定波長の光を
反射するためのコールドミラーであシ、このミラーは装
置外枠（図示せず）Ｋ固定されている。３はコンデンサ
レンズで、コールドミラー２で反射された光の照度ムラ
を補正する方向に働くようになされている。また、４は
反射ミラー、５はシャッター、６は縮小投影レンズ、７
は照度計で、ＸＹステージ８上に搭載されておシ、この
照度計７は水平面内で移動可能になっている。
する。第３図はその構造模式図を示し、同図において、
１は光源ランプで、後述する三軸ステージ２１に搭載さ
れている。２はとの光源ランプ１からの特定波長の光を
反射するためのコールドミラーであシ、このミラーは装
置外枠（図示せず）Ｋ固定されている。３はコンデンサ
レンズで、コールドミラー２で反射された光の照度ムラ
を補正する方向に働くようになされている。また、４は
反射ミラー、５はシャッター、６は縮小投影レンズ、７
は照度計で、ＸＹステージ８上に搭載されておシ、この
照度計７は水平面内で移動可能になっている。
第４図は第３図の三輪ステージ２１の透視図で、光源ラ
ンプ１を搭載している。また、このステージ２１の駆動
には各軸に対応した駆動調整ツマミ２２ｘ 、２２７及
び２２ｍが使用されている。
ンプ１を搭載している。また、このステージ２１の駆動
には各軸に対応した駆動調整ツマミ２２ｘ 、２２７及
び２２ｍが使用されている。
次に動作について説明する。第３図において、光源ラン
プ１を発した光はコールドミラー２で反射された後、コ
ンデンサレンズ３により照度ムラを軽減して、反射ミラ
ー４で反射され、シャッター５に照射される。露光する
際はこのシャッター５を開き、該シャッター５と縮小投
影レンズ６との間に配置された。パターンを描いたマス
ク（図示せず）ＩＩを、縮小投影レンズ６を通じて、Ｘ
Ｙステージ８上に搭載された試料（図示せず）上に投影
する。このとき、照度ムラはコンデンサレンズ３で軽減
されるが、ＸＹステージ８上では、露光領域内において
は照度ムラが起っている。そこで、ＸＹステージ８上に
配置された照度計７を使って、露光領域内の照度ムラを
測定する。このとき、マスクは光軸上から除かれる。そ
して、測定値から判断して、第４図に示す三軸ゴニオメ
ータのステージ２１を動かす方向を決めた後、各ツマミ
２２Ｘ〜２２冨を手動で回すことによシ、三軸ステージ
２１を動かし、光源ランプｌの光軸に対する位置を変化
させた後、再照度測定を行い、照度ムラが規格値以内に
６れば、調整を終了し露光を行い、規格外であれば、再
び三軸ステージ２１の調整を行う。これを規格内におさ
まるように何度も繰シ返すのである。
プ１を発した光はコールドミラー２で反射された後、コ
ンデンサレンズ３により照度ムラを軽減して、反射ミラ
ー４で反射され、シャッター５に照射される。露光する
際はこのシャッター５を開き、該シャッター５と縮小投
影レンズ６との間に配置された。パターンを描いたマス
ク（図示せず）ＩＩを、縮小投影レンズ６を通じて、Ｘ
Ｙステージ８上に搭載された試料（図示せず）上に投影
する。このとき、照度ムラはコンデンサレンズ３で軽減
されるが、ＸＹステージ８上では、露光領域内において
は照度ムラが起っている。そこで、ＸＹステージ８上に
配置された照度計７を使って、露光領域内の照度ムラを
測定する。このとき、マスクは光軸上から除かれる。そ
して、測定値から判断して、第４図に示す三軸ゴニオメ
ータのステージ２１を動かす方向を決めた後、各ツマミ
２２Ｘ〜２２冨を手動で回すことによシ、三軸ステージ
２１を動かし、光源ランプｌの光軸に対する位置を変化
させた後、再照度測定を行い、照度ムラが規格値以内に
６れば、調整を終了し露光を行い、規格外であれば、再
び三軸ステージ２１の調整を行う。これを規格内におさ
まるように何度も繰シ返すのである。
しかし、従来の縮小投影露光装置は以上のように構成さ
れていたので、照度ムラを少くするためには測定を繰シ
返し行う必要があシ、調整に手間と時間がかがシ、また
正確な調整が難しいなどの問題点があった。
れていたので、照度ムラを少くするためには測定を繰シ
返し行う必要があシ、調整に手間と時間がかがシ、また
正確な調整が難しいなどの問題点があった。
本発明は、上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、容易にかつ速やかに正確な露光領域内におけ
る照度均一性が得られる縮小投影露光装置を得ることを
目的とする。
たもので、容易にかつ速やかに正確な露光領域内におけ
る照度均一性が得られる縮小投影露光装置を得ることを
目的とする。
本発明に係る縮小投影露光装置は、露光領域内での照度
ムラを測定する照度計を有し、この測定値によシ光源ラ
ンプの光軸上の位置、及びコールドミラーの角度の最適
値を演算する演算手段と、その結果から光源ランプとコ
ールドミラーを駆動する駆動機構とを具備したものであ
る。
ムラを測定する照度計を有し、この測定値によシ光源ラ
ンプの光軸上の位置、及びコールドミラーの角度の最適
値を演算する演算手段と、その結果から光源ランプとコ
ールドミラーを駆動する駆動機構とを具備したものであ
る。
本発明における光源ランプ及びコールドミラーは、露光
領域内の照度ムラを、照度計で測定することによって得
られた測定値を演算手段で演算することにより、光源ラ
ンプ及びコールドミラーの駆動方向及び距離、あるいは
角度が算出され、これらランプ及びミラーに付随する駆
動機構によって駆動調整される。
領域内の照度ムラを、照度計で測定することによって得
られた測定値を演算手段で演算することにより、光源ラ
ンプ及びコールドミラーの駆動方向及び距離、あるいは
角度が算出され、これらランプ及びミラーに付随する駆
動機構によって駆動調整される。
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例による縮小投影露光装置の構
造模式図である。この実施例の縮小投影露光装置は、光
源ランプ１．コールドミラー２゜コンデンサレンズ３９
反射ミラー４．シャッター５、縮小投影レンズ６、照度
計７及びＸＹステージ８を有し、シャッター５と縮小投
影レンズ６との間に配置されたパターンを描いたマスク
像を、縮小投影レンズ６を通してＸＹステージ８上に搭
載され喪試料（図示せず）上に縮小投影し露光するよう
に構成されている点は、第３図に示した従来例のものと
同様であるが、光源ランプ１が駆動機構を伴う三軸ステ
ージ９つｔｂランプ駆動機構９上に搭載され、また、コ
ールドミラー２が装置外枠に固定されず、ミラー駆動機
構１０上に搭載されている。そして、本装置のブロック
図を第２図に示す如く、照度計７の測定結果を演算し、
その結果を光源ランプ１及びコールドミラー−２の駆動
機構９．１０へそれぞれ送る補正量演算機構１１を具備
している。ただし、第２図において、Ｌｌは光源ランプ
１の光、Ｌ１１Ｌ！は各コールドミラー２及び縮小投影
光学系６の光、ＤＩは照度計７よシ出力する測定データ
を示し、また、ＤＩは補正量演算機構１１によって算出
された補正値、Ｆｌ及びＦ意は各駆動機構９，１００ラ
ンプ及びミラー駆動力をそれぞれ示す。なお、図中、同
一符号は同一または相当部分を示している。
造模式図である。この実施例の縮小投影露光装置は、光
源ランプ１．コールドミラー２゜コンデンサレンズ３９
反射ミラー４．シャッター５、縮小投影レンズ６、照度
計７及びＸＹステージ８を有し、シャッター５と縮小投
影レンズ６との間に配置されたパターンを描いたマスク
像を、縮小投影レンズ６を通してＸＹステージ８上に搭
載され喪試料（図示せず）上に縮小投影し露光するよう
に構成されている点は、第３図に示した従来例のものと
同様であるが、光源ランプ１が駆動機構を伴う三軸ステ
ージ９つｔｂランプ駆動機構９上に搭載され、また、コ
ールドミラー２が装置外枠に固定されず、ミラー駆動機
構１０上に搭載されている。そして、本装置のブロック
図を第２図に示す如く、照度計７の測定結果を演算し、
その結果を光源ランプ１及びコールドミラー−２の駆動
機構９．１０へそれぞれ送る補正量演算機構１１を具備
している。ただし、第２図において、Ｌｌは光源ランプ
１の光、Ｌ１１Ｌ！は各コールドミラー２及び縮小投影
光学系６の光、ＤＩは照度計７よシ出力する測定データ
を示し、また、ＤＩは補正量演算機構１１によって算出
された補正値、Ｆｌ及びＦ意は各駆動機構９，１００ラ
ンプ及びミラー駆動力をそれぞれ示す。なお、図中、同
一符号は同一または相当部分を示している。
次に上記実施例構成の動作を説明する。ここで、光源ラ
ンプ１を発した光は、コールドミラー２によシ反射され
、コンデンサレンズ３．反射ミ２−４、シャッター５．
縮小投影レンズ６を通Ｊ）、ＸＹステージ８上に投影さ
れる構造は従来と同様であシ、露光領域内の照度の均一
性を測定しＸＹステージ８上の照度計７で行うが、本発
明では、この測定値Ｄ！つまシ測定結果り、を、第２図
に示すように、補正量演算機構１１へ送り、ζこで上記
測定結果Ｄ！よシ、光源ランプ１及びコールドミラー２
を露光領域内での照度均一性を得るための光軸中におけ
る最適位置及び最適角度とに調整するための補正方向、
補正量を演算し、この演算結果を補正量Ｄｓとして光源
ランプ１及びコールドミラー２の各々の駆動機構９．１
０へ伝達する。
ンプ１を発した光は、コールドミラー２によシ反射され
、コンデンサレンズ３．反射ミ２−４、シャッター５．
縮小投影レンズ６を通Ｊ）、ＸＹステージ８上に投影さ
れる構造は従来と同様であシ、露光領域内の照度の均一
性を測定しＸＹステージ８上の照度計７で行うが、本発
明では、この測定値Ｄ！つまシ測定結果り、を、第２図
に示すように、補正量演算機構１１へ送り、ζこで上記
測定結果Ｄ！よシ、光源ランプ１及びコールドミラー２
を露光領域内での照度均一性を得るための光軸中におけ
る最適位置及び最適角度とに調整するための補正方向、
補正量を演算し、この演算結果を補正量Ｄｓとして光源
ランプ１及びコールドミラー２の各々の駆動機構９．１
０へ伝達する。
これＫより、各ランプ及びミラー駆動機構９，１０は、
この補正値り、をもとに光源ランプ１．コールドミラー
２を駆動し、露光領域内の照度ムラを補正する。この補
正終了後、再び露光領域内の照度均一性を測定し、この
測定結果Ｄ１を演算機構１１で判定したうえ、規格外の
値の場合は再補正を実施する。そして、これを、照度均
一性が規格内におさまるまでく夛返すことになる。
この補正値り、をもとに光源ランプ１．コールドミラー
２を駆動し、露光領域内の照度ムラを補正する。この補
正終了後、再び露光領域内の照度均一性を測定し、この
測定結果Ｄ１を演算機構１１で判定したうえ、規格外の
値の場合は再補正を実施する。そして、これを、照度均
一性が規格内におさまるまでく夛返すことになる。
なお、上記実施例では、照度測定はＸＹステージ上の照
度計によって計測していたが、照度計をシャッターの前
に配置し、露光領域の照度均一性が最適の際におけるシ
ャッター前における光強度の分布状態を計測、記録して
おくことＫよシ、シャッターを閉じたままで、また、マ
スクを光軸上に配置したままで照度の調整が可能となる
ようにしてもよい。
度計によって計測していたが、照度計をシャッターの前
に配置し、露光領域の照度均一性が最適の際におけるシ
ャッター前における光強度の分布状態を計測、記録して
おくことＫよシ、シャッターを閉じたままで、また、マ
スクを光軸上に配置したままで照度の調整が可能となる
ようにしてもよい。
以−ヒのように、本発明の縮小投影露光装置によれば、
試料面上に照射される光の照度を計測し露光領域内での
照度の均一性を測定μこの測定値にもとづいて照度ムラ
を補正するための照明光学系の補正値を算出する演算手
段と、その補正値にもとづき照明光学系の移動調整を自
動で行うための調整機構とを具備することにより、露光
領域内の照度均一性を容易にかつ速やかに、また正確に
調整できるので、装置の調整に要する時間の短縮が可能
に々る。また、ショット内に訃ける露光エネルギーの均
一性が高くなることにより、露光エネルギーに依存して
いるマスクパターンの寸法制御性の改、Ｓをはかること
ができる効果がある。
試料面上に照射される光の照度を計測し露光領域内での
照度の均一性を測定μこの測定値にもとづいて照度ムラ
を補正するための照明光学系の補正値を算出する演算手
段と、その補正値にもとづき照明光学系の移動調整を自
動で行うための調整機構とを具備することにより、露光
領域内の照度均一性を容易にかつ速やかに、また正確に
調整できるので、装置の調整に要する時間の短縮が可能
に々る。また、ショット内に訃ける露光エネルギーの均
一性が高くなることにより、露光エネルギーに依存して
いるマスクパターンの寸法制御性の改、Ｓをはかること
ができる効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す縮小投影露光装置の構
造模式図、第２図は本発明の一実施例における動作のブ
ロック図、第３図は従来の縮小投影露光装置の露光領域
照度均一性測定系の構造模式図、第４図は第３図におけ
る三軸ステージの透視図である。 １・・・・光源ランプ、２・・・・コールドミラー ３
・・・・コンデンサレンズ、４・・・書反射ミラー、５
・・・・シャッター、６・・・・縮小投影レンズ、７・
・・・照度計、８・・・・ＸＹステージ、９・・・・ラ
ンプ駆動機構、１０・・・・ミラー駆動機構、１１・・
・・補正量演算機構。 第１図
造模式図、第２図は本発明の一実施例における動作のブ
ロック図、第３図は従来の縮小投影露光装置の露光領域
照度均一性測定系の構造模式図、第４図は第３図におけ
る三軸ステージの透視図である。 １・・・・光源ランプ、２・・・・コールドミラー ３
・・・・コンデンサレンズ、４・・・書反射ミラー、５
・・・・シャッター、６・・・・縮小投影レンズ、７・
・・・照度計、８・・・・ＸＹステージ、９・・・・ラ
ンプ駆動機構、１０・・・・ミラー駆動機構、１１・・
・・補正量演算機構。 第１図
Claims (1)
- 光を照射することにより、マスクに描かれた図形である
マスクパターンをレンズを通して試料上に縮小投影し露
光する縮小投影露光装置において、試料面上に照射され
る光の照度を計測し露光領域内での照度の均一性を測定
し、この測定値にもとづいて照度ムラを補正するための
照明光学系の補正値を算出する演算手段と、その補正値
にもとづき照明光学系の移動調整を自動で行うための調
整機構とを備えたことを特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63168472A JPH0217626A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63168472A JPH0217626A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0217626A true JPH0217626A (ja) | 1990-01-22 |
Family
ID=15868739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63168472A Pending JPH0217626A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0217626A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07192995A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Nec Corp | 露光装置 |
| SG94791A1 (en) * | 2000-03-24 | 2003-03-18 | Nikon Corp | Illuminance measurement apparatus and exposure apparatus |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP63168472A patent/JPH0217626A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07192995A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Nec Corp | 露光装置 |
| SG94791A1 (en) * | 2000-03-24 | 2003-03-18 | Nikon Corp | Illuminance measurement apparatus and exposure apparatus |
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