JPH02177417A - 目合せ露光装置 - Google Patents
目合せ露光装置Info
- Publication number
- JPH02177417A JPH02177417A JP63331128A JP33112888A JPH02177417A JP H02177417 A JPH02177417 A JP H02177417A JP 63331128 A JP63331128 A JP 63331128A JP 33112888 A JP33112888 A JP 33112888A JP H02177417 A JPH02177417 A JP H02177417A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blind
- controller
- stage
- signals
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造工程で用いられる目合せ露光
装置に関し、特にステップアンドリピート型目合せ露光
装置に関する。
装置に関し、特にステップアンドリピート型目合せ露光
装置に関する。
従来、この種のステップアンドリピート型目合せ露光装
置は、装置にセットされた半導体ウェーハ群をすべて同
じ露光シーケンスにより露光するように構成されていた
。
置は、装置にセットされた半導体ウェーハ群をすべて同
じ露光シーケンスにより露光するように構成されていた
。
上述した従来のステップアンドリピート型目合せ露光装
置はセットしたウェーハ群(ロット)をすべて同一の露
光シーケンスによって露光するように構成されているの
で、チップ領域にテストパターンをもつウェーハを数枚
製造する場合でも、ウェーハ群を露光シーケンスごとに
分別してセットし、露光シーケンスを変更しながら露光
を行わなければならないため、作業が煩雑となり、多く
の工数を要するという欠点があった。
置はセットしたウェーハ群(ロット)をすべて同一の露
光シーケンスによって露光するように構成されているの
で、チップ領域にテストパターンをもつウェーハを数枚
製造する場合でも、ウェーハ群を露光シーケンスごとに
分別してセットし、露光シーケンスを変更しながら露光
を行わなければならないため、作業が煩雑となり、多く
の工数を要するという欠点があった。
本発明の目合せ露光装置は、レーザ発振器と、半導体ウ
ェーハ上に照射された前記レーザ発振器からのレーザ光
を受け半導体ウェーハ上のシーケンス設定用マークを検
出する検出器と、前記検出器からの信号により露光シー
ケンスを決定しブラインド制御部とステージ制御部とに
信号を送出する主制御部と、前記主制御部からの信号に
よりブラインドの制御を行なうブラインド制御部と、前
記主制御部からの信号により半導体ウェーハを載置する
ステージを移動させるステージ制御部とを含んで構成さ
れる。
ェーハ上に照射された前記レーザ発振器からのレーザ光
を受け半導体ウェーハ上のシーケンス設定用マークを検
出する検出器と、前記検出器からの信号により露光シー
ケンスを決定しブラインド制御部とステージ制御部とに
信号を送出する主制御部と、前記主制御部からの信号に
よりブラインドの制御を行なうブラインド制御部と、前
記主制御部からの信号により半導体ウェーハを載置する
ステージを移動させるステージ制御部とを含んで構成さ
れる。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例のブロック図である。
第1図において目合せ露光装置は、レーザ発振器1と、
ステージ2上に載置された半導体ウェーハ(以下単にウ
ェーハという)3上に照射されたレーザ光を受けウェー
八3上に形成されたシーケンス設定用マークを検出する
検出器4と、この検出器4からの信号により露光シーケ
ンスを決定する。と共に、ブラインド制御部6とステー
ジ制御部8に信号を送出する、CPU等からなる主制御
部5と、この主制御部からの信号によりブラインド7の
制御を行う、パルスモータ等からなるブラインド制御部
6と、主制御部5からの信号によりステージ2のX−Y
方向の動きを制御する、パルスモータ等からなるステー
ジ制御部8と、露光用光源9とから主に構成されている
。
ステージ2上に載置された半導体ウェーハ(以下単にウ
ェーハという)3上に照射されたレーザ光を受けウェー
八3上に形成されたシーケンス設定用マークを検出する
検出器4と、この検出器4からの信号により露光シーケ
ンスを決定する。と共に、ブラインド制御部6とステー
ジ制御部8に信号を送出する、CPU等からなる主制御
部5と、この主制御部からの信号によりブラインド7の
制御を行う、パルスモータ等からなるブラインド制御部
6と、主制御部5からの信号によりステージ2のX−Y
方向の動きを制御する、パルスモータ等からなるステー
ジ制御部8と、露光用光源9とから主に構成されている
。
次に本実施例の操作方法について説明する。
第2図及び第3図は本発明の一実施例によって露光され
たウェーハ3の上面図であり、それぞれ第1及び第2の
露光シーケンスを用いた場合のウェーハマツプを示して
いる。すなわち、第2図におけるチップ領域10Aは製
品となる回路パターン12のものと、特性チエツク及び
プロセスモニタ用テストパターン11のものとにより構
成されている。そして特に、テストパターン11内には
シーケンス設定用のマーク13が形成されている。一方
、第3図のチップ領域10Bは回路パターン12のもの
だけで構成されている。
たウェーハ3の上面図であり、それぞれ第1及び第2の
露光シーケンスを用いた場合のウェーハマツプを示して
いる。すなわち、第2図におけるチップ領域10Aは製
品となる回路パターン12のものと、特性チエツク及び
プロセスモニタ用テストパターン11のものとにより構
成されている。そして特に、テストパターン11内には
シーケンス設定用のマーク13が形成されている。一方
、第3図のチップ領域10Bは回路パターン12のもの
だけで構成されている。
半導体装置の製造工程におけるウェーハは、普通同一製
造工程を持つウェーハ群(ロット)単位で流される。今
、10ット50枚のウェーハ92枚を第2図に示したチ
ップ領域10Aをもつウェーハのように、そして残り4
8枚を第3図に示したチップ領域10Bをもつウェーハ
のように露光するものとする。
造工程を持つウェーハ群(ロット)単位で流される。今
、10ット50枚のウェーハ92枚を第2図に示したチ
ップ領域10Aをもつウェーハのように、そして残り4
8枚を第3図に示したチップ領域10Bをもつウェーハ
のように露光するものとする。
まず第1ステツプとして、50枚のウェーハ3をセット
したのち本実施例の主制御部5に第1の露光シーケンス
を2枚、第2の露光シーケンスを48枚と入力し露光を
行なうと2枚のウェーハ3には第2図に示したパターン
を有するチップ領域10Aが、そして48枚のウェーハ
3には第3図に示したパターンを有するチップ領域10
Bがそれぞれ形成される。
したのち本実施例の主制御部5に第1の露光シーケンス
を2枚、第2の露光シーケンスを48枚と入力し露光を
行なうと2枚のウェーハ3には第2図に示したパターン
を有するチップ領域10Aが、そして48枚のウェーハ
3には第3図に示したパターンを有するチップ領域10
Bがそれぞれ形成される。
次に第2ステツプとして2回目以降の露光時には、各ウ
ェーハのチップ領域のテストパターン11の位置におけ
るシーケンス設定用のマーク13の有無が、レーザ光に
よる走査と検出器4とにより検出される。
ェーハのチップ領域のテストパターン11の位置におけ
るシーケンス設定用のマーク13の有無が、レーザ光に
よる走査と検出器4とにより検出される。
そして、マーク13が検出された場合は第2図に示した
チップ領域10Aを露光する第1の露光シーケンスが選
択され、目合せされたのち主制御部5、ブラインド制御
部6等の動作により自動的に第1の露光シーケンスによ
る露光が2枚のウェーハに施されることになる。
チップ領域10Aを露光する第1の露光シーケンスが選
択され、目合せされたのち主制御部5、ブラインド制御
部6等の動作により自動的に第1の露光シーケンスによ
る露光が2枚のウェーハに施されることになる。
一方、マーク13が検出されない場合は同様に、第3図
に示したチップ領域10Bを露光する第2の露光シーケ
ンスが選択され、第2の露光シーケンスによる露光が4
8枚のウェーハに施される。
に示したチップ領域10Bを露光する第2の露光シーケ
ンスが選択され、第2の露光シーケンスによる露光が4
8枚のウェーハに施される。
このように本実施例によれば、露光シーケンスを選択す
ることができるので、同一ロット中にテストパターンの
入ったウェーハを任意の枚数入れて露光することができ
る。
ることができるので、同一ロット中にテストパターンの
入ったウェーハを任意の枚数入れて露光することができ
る。
尚、上記説明では露光シーケンス設定用のマーク13を
テストパターン11内に形成した場合について説明した
が、回路パターン12内に設けてもよいことは勿論であ
る。
テストパターン11内に形成した場合について説明した
が、回路パターン12内に設けてもよいことは勿論であ
る。
以上説明したように本発明は、目合せ露光装置に、レー
ザ発振器と半導体ウェーハ上のシーケンス設定用マーク
からの反射レーザ光を検出する検出器とこの検出器から
の信号により露光シーケンスを決定しブラインド制御部
とステージ制御部に信号を送出する主制御部とを設ける
ことにより、10ツト中に必要最少限の枚数だけテスト
パターンが入った半導体ウェーハを入れることができる
ため、従来の様にすべての半導体ウェーハにテストパタ
ーンを入れなければならない場合に比べ、無駄が少くな
り、露光時間を短縮でき、しかも目合せ精度を向上させ
ることができるという効果がある。
ザ発振器と半導体ウェーハ上のシーケンス設定用マーク
からの反射レーザ光を検出する検出器とこの検出器から
の信号により露光シーケンスを決定しブラインド制御部
とステージ制御部に信号を送出する主制御部とを設ける
ことにより、10ツト中に必要最少限の枚数だけテスト
パターンが入った半導体ウェーハを入れることができる
ため、従来の様にすべての半導体ウェーハにテストパタ
ーンを入れなければならない場合に比べ、無駄が少くな
り、露光時間を短縮でき、しかも目合せ精度を向上させ
ることができるという効果がある。
ハ、4・・・検出器、5・・・主制御部、6・・・ブラ
インド制御部、7・・・ブラインド、8・・・ステージ
制御部、9・・・光源、IOA、IOB・・・チップ領
域、11・・・テストパターン、12・・・回路パター
ン、13・・・マーク。
インド制御部、7・・・ブラインド、8・・・ステージ
制御部、9・・・光源、IOA、IOB・・・チップ領
域、11・・・テストパターン、12・・・回路パター
ン、13・・・マーク。
代理人 弁理士 内 原 晋
第1図は本発明の一実施例のブロック図、第2図及び第
3図は本発明の一実施例により露光されたウェーハの上
面図である。
3図は本発明の一実施例により露光されたウェーハの上
面図である。
Claims (1)
- レーザ発振器と、半導体ウェーハ上に照射された前記レ
ーザ発振器からのレーザ光を受け半導体ウェーハ上のシ
ーケンス設定用マークを検出する検出器と、前記検出器
からの信号により露光シーケンスを決定しブラインド制
御部とステージ制御部とに信号を送出する主制御部と、
前記主制御部からの信号によりブラインドの制御を行な
うブラインド制御部と、前記主制御部からの信号により
半導体ウェーハを載置するステージを移動させるステー
ジ制御部とを含むことを特徴とする目合せ露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63331128A JPH0722115B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 目合せ露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63331128A JPH0722115B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 目合せ露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02177417A true JPH02177417A (ja) | 1990-07-10 |
| JPH0722115B2 JPH0722115B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=18240184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63331128A Expired - Lifetime JPH0722115B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 目合せ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722115B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236227A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-25 | Canon Inc | 位置合せ装置 |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP63331128A patent/JPH0722115B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236227A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-25 | Canon Inc | 位置合せ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0722115B2 (ja) | 1995-03-08 |
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