JPH02180711A - 珪酸の製造方法 - Google Patents
珪酸の製造方法Info
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- JPH02180711A JPH02180711A JP1302280A JP30228089A JPH02180711A JP H02180711 A JPH02180711 A JP H02180711A JP 1302280 A JP1302280 A JP 1302280A JP 30228089 A JP30228089 A JP 30228089A JP H02180711 A JPH02180711 A JP H02180711A
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/50—Agglomerated particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、有機溶剤系の存在下に水を用^て四塩化ケイ
素全加水分解することにょシケイ酸を製造する方法に関
する。
素全加水分解することにょシケイ酸を製造する方法に関
する。
液体四塩化ケイ素をフン化水素酸溶液中に攪拌導入して
沈殿ケイ酸と製造する方法は公知である(西ドイツ国特
許出願公開(DI−A)第35 45 172号明細書
)。
沈殿ケイ酸と製造する方法は公知である(西ドイツ国特
許出願公開(DI−A)第35 45 172号明細書
)。
さらに液体四塩化ケイ素と当量の水を水と混じらない有
機溶剤中で反応させて、沈殿ケイ酸全製造する方法は公
知である。有機浴剤系として、ベン−ご/、氷酢酸、ア
セトンが使用される(米国特、(−第2,269,05
9号明細書)。
機溶剤中で反応させて、沈殿ケイ酸全製造する方法は公
知である。有機浴剤系として、ベン−ご/、氷酢酸、ア
セトンが使用される(米国特、(−第2,269,05
9号明細書)。
本発明の目的は、有機溶剤系の存在下に、水を用いて四
塩化ケイ素を加水分解することによる、ケイ酸の製造方
法であシ、これは四塩化ケイ素または水を予め装入し、
それぞれ他の反応成分全滴加し、その際、四塩化ケイ素
置たは水を純粋な形で滴加し、それぞれもう−万の反応
成分全有機溶剤と混合してまたは溶解させて予め装入す
ることよりなる。
塩化ケイ素を加水分解することによる、ケイ酸の製造方
法であシ、これは四塩化ケイ素または水を予め装入し、
それぞれ他の反応成分全滴加し、その際、四塩化ケイ素
置たは水を純粋な形で滴加し、それぞれもう−万の反応
成分全有機溶剤と混合してまたは溶解させて予め装入す
ることよりなる。
溶剤として使用できるもの:
炭化水素、例えば石油エーテル、ベンジン、パラフィン
、オクタン。
、オクタン。
エーテル、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、またはジ−n−ブチルエーテル。
ル、またはジ−n−ブチルエーテル。
エステル、たとえば酢酸エチルエステルまたは蝋。
塩素化炭化水素たとえば塩化メチレン°またはトリクロ
ルエタン。
ルエタン。
ニトロ化された炭化水素たとえばニトロメタンO
ケトンたとえばアセトン。
シロキサンたとえばシリコーン油。
4級アンモニウム化合物、たとえばオクタデシルジメチ
ルベンジルアンモニウムクロリト。
ルベンジルアンモニウムクロリト。
本発明の方法は次の長所全方するニ
一定の疎水性ケイ酸全1工程で装造することができる。
方法条件の調節によシ、BET式表画表面積び粒度分布
の調整が可能である。
の調整が可能である。
二酸化ケイ素からなる20〜100μの大きさの球を衾
造することができる。
造することができる。
この球は好都合に触媒担体として用りることができる。
次の実験で、三つロフラスコ全使用する。これを水で冷
却する。反応混合物i KPG=攪拌器を用いて攪拌す
る。この反応の際に、10〜3D’Oの温度範囲を保持
する。
却する。反応混合物i KPG=攪拌器を用いて攪拌す
る。この反応の際に、10〜3D’Oの温度範囲を保持
する。
得られた生成物のBET式表面’at、ドイツ工業規格
(DIN)66131により、窒素ガスを使用して測定
する。
(DIN)66131により、窒素ガスを使用して測定
する。
粒度分布七〇ll、As法によシ、かつラスク型電子撮
影像(Rasterelektronenaufnah
me )から調べる。
影像(Rasterelektronenaufnah
me )から調べる。
この反応は通常、1M、分全予め装入し、攪拌しながら
もう1つの成分を所定の時間の間に滴加するように実施
する。
もう1つの成分を所定の時間の間に滴加するように実施
する。
実施例1
装入*:7リコーン油v100ローン・ポーレン(Rh
ona Poulenc )ロデオシル(Rhodeo
sil ) 47VJ100 300IILlH21モ
ル =1時間乳化 (1000u/min )添加:
Si(’/4 V2 モル添
加時間:50分 温度経過:14±2°C 後攪拌時間:1時間(この後攪拌時間で一1℃1で冷却
) 収率: 100チ 生成物= 「疎水性ケイ酸」 ドイツ工業規格 (DIN) 66131 Kヨル 表面項(BET) : 191n271粒度分布(C1
las) : 4−2μ粒反分布(−):2μ C〜含分ニア、9チ 実施例2 装入物: シリコーン油v100(ローン・ポーレン
CRhone Poulenc ) ) 2 D I
ll酢酸エステル 4.1モル 5i(J4 %モル= 600
u/+nin 添加: 水1モル 添加時間=10分 温度経過:20−25°C 後攪拌: 1時間 −” 600 u/min 生成物: 「疎水性ケイ酸」 表面積(BgT) : 221 m”/!/粒度分布(
C1las) : 32μ(凝集像)C−含分: 7.
6 i係 実施例3 装入W: 酢酸エステル 2.05モル石油
エーテル沸点140℃ 200!!JH201モル 添加: 51ct40.5モル 添加時間:60分 攪拌速度:600番/min 温度経過:46−49°C 後攪拌= 45℃で1時間 収率: 90係 表面積(BIT) : 47 m”、Q/粒度分布(c
ilas) : 15μ 実施何4 装入物: 酢酸エステル 石油エーテル沸点1 添加: 5i(J。
ona Poulenc )ロデオシル(Rhodeo
sil ) 47VJ100 300IILlH21モ
ル =1時間乳化 (1000u/min )添加:
Si(’/4 V2 モル添
加時間:50分 温度経過:14±2°C 後攪拌時間:1時間(この後攪拌時間で一1℃1で冷却
) 収率: 100チ 生成物= 「疎水性ケイ酸」 ドイツ工業規格 (DIN) 66131 Kヨル 表面項(BET) : 191n271粒度分布(C1
las) : 4−2μ粒反分布(−):2μ C〜含分ニア、9チ 実施例2 装入物: シリコーン油v100(ローン・ポーレン
CRhone Poulenc ) ) 2 D I
ll酢酸エステル 4.1モル 5i(J4 %モル= 600
u/+nin 添加: 水1モル 添加時間=10分 温度経過:20−25°C 後攪拌: 1時間 −” 600 u/min 生成物: 「疎水性ケイ酸」 表面積(BgT) : 221 m”/!/粒度分布(
C1las) : 32μ(凝集像)C−含分: 7.
6 i係 実施例3 装入W: 酢酸エステル 2.05モル石油
エーテル沸点140℃ 200!!JH201モル 添加: 51ct40.5モル 添加時間:60分 攪拌速度:600番/min 温度経過:46−49°C 後攪拌= 45℃で1時間 収率: 90係 表面積(BIT) : 47 m”、Q/粒度分布(c
ilas) : 15μ 実施何4 装入物: 酢酸エステル 石油エーテル沸点1 添加: 5i(J。
添加時間=55分
攪拌速度: 600 u/min
温度経過:16−246C
後攪拌: 1時間
収率: 91%
表面&(Bjl:T) : 110m2/9粒夏測定(
C1las) : 13.6μ実施例5 装入物: 添加: 添加時間二 攪拌速度: 温度経過: 酢酸エステル slct。
C1las) : 13.6μ実施例5 装入物: 添加: 添加時間二 攪拌速度: 温度経過: 酢酸エステル slct。
55分
600 u%m1n
16−2[]6°
C
2,05モル
0℃ 2001d
1モル
0.5モル
4.1モル
1モル
0.5モル
後攪拌: 1時間
収率: 95%
表面積(BET) : 780 m2/、li+粒度測
足(C1las) : 30μ 実施例6 装入物: アセトン 石油エーテル140℃ 添加: 5i(J。
足(C1las) : 30μ 実施例6 装入物: アセトン 石油エーテル140℃ 添加: 5i(J。
添加時間=55分
攪拌時間: 80 u/min
温度経過: 17−9℃
後攪拌= 1時間
収率: 100チ
表面積CBET) :
粒度測定(Cilas) :
実施例7
装入物: 31(J。
6.4モル
00M
1モル
0゜5モル
1モル
第四アンモニウム化合物(オクタデ
シルジメチルベンジルアンモニウム
クロリド) 0.00024モル
添加時間:20分
攪拌速度:1oooψ1n
温度経過: 3 [J−45℃
後攪拌: 同じ温度で1時間
収率: 100チ
表面積(BgT) : 90 m2/1粒度測定(C1
las) : 31μ C−含分:3.9係 01−含分:0.3%
las) : 31μ C−含分:3.9係 01−含分:0.3%
Claims (1)
- 1、有機溶剤系の存在下に四塩化ケイ素を水を用いて加
水分解することによりケイ酸を製造する方法において、
四塩化ケイ素または水を予め装入し、それぞれ他方の反
応成分を滴加し、その際、四塩化ケイ素または水を純粋
な形で滴加し、それぞれ他の反応成分を有機溶剤系と混
合してまたは溶解して予め装入することを特徴とする、
ケイ酸の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3839384 | 1988-11-22 | ||
| DE3839384.0 | 1988-11-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02180711A true JPH02180711A (ja) | 1990-07-13 |
Family
ID=6367624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1302280A Pending JPH02180711A (ja) | 1988-11-22 | 1989-11-22 | 珪酸の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0372251B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02180711A (ja) |
| AT (1) | ATE73423T1 (ja) |
| DE (1) | DE58900956D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102515184A (zh) * | 2012-01-09 | 2012-06-27 | 河北科技大学 | 一种四氯化硅水解制备二氧化硅粉体的方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6071486A (en) * | 1997-04-09 | 2000-06-06 | Cabot Corporation | Process for producing metal oxide and organo-metal oxide compositions |
| US6315971B1 (en) | 1997-04-09 | 2001-11-13 | Cabot Corporation | Process for producing low density gel compositions |
| US6172120B1 (en) | 1997-04-09 | 2001-01-09 | Cabot Corporation | Process for producing low density gel compositions |
| EP1047734B1 (en) * | 1998-01-15 | 2004-10-27 | Cabot Corporation | Method of preparing treated silica |
| DE69902223T2 (de) * | 1998-01-15 | 2003-01-23 | Cabot Corp., Boston | Polyfunktionelle organosilan behandlung von kieselsäure |
| DE19814839A1 (de) | 1998-04-02 | 1999-10-07 | Bayer Ag | Hydrophobierte oxidische oder silikatische Füllstoffe enthaltende Emulsionskautschukmischungen sowie deren Verwendung zur Herstellung von Reifen |
| US6174926B1 (en) | 1999-01-13 | 2001-01-16 | Cabot Corporation | Method of preparing organically modified silica |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS645904A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Mitsubishi Metal Corp | Method for hydrolyzing silicon chloride |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2269059A (en) * | 1938-05-14 | 1942-01-06 | Corning Glass Works | Method of preparing finely comminuted oxides |
| DE1014533B (de) * | 1955-12-30 | 1957-08-29 | Mitsubishi Rayon Co | Verfahren zur Herstellung einer kolloidalen Loesung von Kieselsaeure |
| JPS5621725B2 (ja) * | 1973-09-12 | 1981-05-21 |
-
1989
- 1989-11-10 DE DE8989120839T patent/DE58900956D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-10 AT AT89120839T patent/ATE73423T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-11-10 EP EP89120839A patent/EP0372251B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-22 JP JP1302280A patent/JPH02180711A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS645904A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Mitsubishi Metal Corp | Method for hydrolyzing silicon chloride |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102515184A (zh) * | 2012-01-09 | 2012-06-27 | 河北科技大学 | 一种四氯化硅水解制备二氧化硅粉体的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE58900956D1 (de) | 1992-04-16 |
| ATE73423T1 (de) | 1992-03-15 |
| EP0372251A1 (de) | 1990-06-13 |
| EP0372251B1 (de) | 1992-03-11 |
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