JPH02184357A - 除じん装置 - Google Patents

除じん装置

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JPH02184357A
JPH02184357A JP1003723A JP372389A JPH02184357A JP H02184357 A JPH02184357 A JP H02184357A JP 1003723 A JP1003723 A JP 1003723A JP 372389 A JP372389 A JP 372389A JP H02184357 A JPH02184357 A JP H02184357A
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JP
Japan
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filtration device
dust removal
particulate matter
gas
discharge electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP1003723A
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English (en)
Inventor
Masayuki Nagata
真之 永田
Kazutaka Tomimatsu
一隆 富松
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ガス中に含まれるダスト、ヒユーム、ミスト
などの粒子状物質の捕集・除去に適用される除じん装置
に関する。
〔従来の技術〕
通常、ガス中の粒子状物質を捕集・除去する装置として
は、(1)機械的除じん装置(ザイクロン、バグフィル
タ等)、(2)電気的除しん装置(電気集じん器(以下
EPと略称する)等)の2つに大別されるが、上記(1
)のものは所定の粒径の粒子状物質であればその物性に
かかわらず安定した集じん性が得られる代りに大容量の
送風機を要し、耐久性の点からも設備コスト、運転コス
トが高いという欠点がある。一方、上記(2)のものは
上記(1)のものに比べて小容量の送風機で済み、耐久
性も高い代りに、集じん性能が粒子状物質の電気的物性
の影響を受は易(、異種粒子状物質を等しく同じ性能に
て捕集する汎用のサイジングは極めて困難であるという
欠点があり、また−度捕集した粒子状物質の再飛散を防
止するために、主流速を1rVS程度に設計することが
通常であり、装置容量は太き(なりがちである。
上記の機械的及び電気的除じん装置の相互の利点を取り
入れ欠点・を補うことによりコンパクトかつ高性能の除
じん手段を実現するために、従来次のような除じん装置
が本出願によって特許出願C特願昭63−213735
号)されている。
すなわち、第7図に示すように、ガス人口1とガス出口
3をもつ除じん装置のケーシング15内の主ガス流れに
ほぼ平行に複数(図示の味2合は2個)の放電電極6を
設け、開放′1itt極6と平行に小間隔を隔てて(ナ
ロウスRイシングの状態で)設けられるアース電極とし
ての機能を付加されたろ過装置8を設けると共に同放電
if極6とろ過装置8間に高電圧を印加する高圧電源5
を設けている。
上記ろ過装置8の背面の空間は、抽気用送風機9をもつ
抽気管16に連絡され、またガス出口3は送風機4をも
つ抽気ダクト17に連絡されており、上記抽気管16は
上記送風機4の上流側で上記抽気ダクト17に連絡され
ている。
また、第8図に示す他の型式の装置においては、上記第
6図に示す装置の抽気管16の抽気用送風機9を除去し
、ガス出口3を2個設け、同出口3の上流側のケーシン
グ15内に主ガス流の圧損調整用ダンパ10が設けられ
ている。
上記の両除じん装置におけるろ過半段8は、第9図に示
すように、放電電極6に対向するアース電極7と、低圧
損の誘電体であるセラミックフィルタ、多孔質誘電体物
質、ポリプロピレン等で構成されたファイバーベット、
又はバグフィルタ用ろ布等の除じんフィルタ2より成り
、上記アース電極7としては等電位面を形成し、かつガ
スの流れを妨けない構造のもの、例えば金網等が用いら
れている。
上記の第7図及び第8図に示される両除じん装置におい
て、ナロウス投イシングされた放電電極6とろ過装置8
のアース電極7との間に高電圧を印加すると、放電室@
16とろ過装置8間に高電界が形成されるとともに、第
10図にその流線を示すようにイオン風の作用により放
電電極6からろ過装置8へ向う二次流れaが生じ、主ガ
ス流れb中の粒子状物質1・圧電界によるクーロン力と
イオン風による二次流れの両方の影響を受け、ろ過装置
8の方向へ移動し、一部のガス流れとともにろ過装置8
を通過する際にろ過捕集される。ろ過装置8を通過する
ガス量は、抽気手段によって最適に調整され捕集した粒
子状物質の再飛散が防止されている。
この抽気手段としては、第7図に示す装置では抽気用の
送風機9を、第8図に示す装置では、主ガス流の圧損調
整ダンパ10を用いており、これらによってろ過装置8
を通過するガス量が調整されるようになっている。
上記第7図及び第8図に示す除じん装置においては、粒
子状物質の捕集メカニズムとして、電界によるクーロン
力のみならず、イオン風による二次流れを利用している
ために、通常のEPに比べて高効率の集じん性が確保で
きるとともに集じん性能に対する粒子状物質の電気的物
性の影響は小さく、また抽気量を主ガス流速に応じて最
適化することにより捕集した粒子状物質の再飛散を防止
または抑制できる。従って、主ガス流速を5%程度以上
に高めることができるために、装置のコンパクト化が可
能である。同時に、処理ガス量のうち大部分は、ろ過半
段を通過することなくガス出口3より排出されるために
、バグフィルタ等の機械的除しん装置に比較して圧損が
かなり低(、送風機の容量が小さくて済み、設備コスト
や運転コストや運転コストを抑えられるなど、多くの利
点を有していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記第7図および第8図で示される除じん装置には、上
述の如(多くの利点を有する一方、次のような問題点が
あった。
(1)ろ過装置を通過するガス量を制御し捕集した粒状
物質の再飛散を防止する抽気手段を必要とする。すなわ
ち、第7図に示される装置では、抽気手段として抽気用
の送風機9を、第8図に示される装置では圧損調整用の
ダンパ10が必要であり、いずれも通常のバグフィルタ
等の機械式集じん装置に比較すれば小型の装置にて対応
可能ではあるが、通常のEP等の電気式集じん装置に比
較すれは、設備コスト、運転コストの増加やメンテナン
ス項目の追加が必要とされる。
(2)  抽気量の再適化が困難である。特にケーシン
グ内のガス流路が複数に分割され、各々の流路に対して
ろ過装置が設置されている場合には、各ろ過半段につい
て等しく抽気量を最適化するためには、抽気用の送風機
の複数設置や、各抽気配管ごとのダンパ等による圧損調
整手段が必要とされ、さらに設備コスト、運転コストの
増加やメンテナンス項目の追加が必要とされる。
(3)抽気配管を必要とする。オなわち、通常のEP等
に比べて余分の設備を必要とする。また特にケーシング
内のガス流路が複数に分割され、各々の流路に対してろ
過装置が設置されている場合、各ろ過装置について等し
く抽気量を最適化するためには、各抽気配管の圧損を等
しく合せるなど、配管径や経路に配慮する必要がある。
これらの問題点は、全て油気手段を付加したことに起因
するもので、その解決のためには、捕集した粒子状物勾
に対する再飛散防止対策として、抽気に代る手段を見出
すことが望まれる。
本発明は上記問題点を解決しようとするものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記課題を解決するため次の手段を講する。
すなわち、本発明の除しん装置として、粒子状物質を含
むガス流れの中に設けられた放電電極、同放電電極と対
向して設けられ対向電極をもつろ過装置、上記放電電極
およびろ過装置間に高電圧を印加する高圧電源、及び上
記ろ過装置内又はその背面に閉鎖された空間を備えた。
〔作 用〕
第7図および第8図に示される除じん装置においては、
主としてイオン風に起因する二次流れの流線は、第10
図に示すようになる。除じん装置に流入したガス中の粒
子状物質は、ナロウスにイシングされた放電電極6とろ
過装置8間の空間で高電界によるクーロン力と、第10
図で示した二次流れの両方の影響を受け、ろ過装置の方
向へ移動し、一部のガス流れとともにろ過装置8内へ流
入する。
ろ過装置8を通過する際に粒子状物質をろ過捕集された
後のガスは、ろ過装置内に流入した二次流れガスとほぼ
当量外、ろ過装置の背面の空間18から上記した抽気手
段によって抽気されていた。
これに対して、本発明の除じん装置においては、ろ過装
置内又はろ過装置背面に閉鎖された空間な設けたことに
よって、ろ過装置に流入したガスの二次流れおよび粒子
状物質は、ろ過装置内またはろ過装置の背面の閉鎖され
た空間に滞留し、ろ過装置内に滞留する際またはろ過装
置を通過する際に粒子状物質がろ過捕集された後、ろ過
装置に流入した二次流れガスと当量のガスが、再びろ過
装置から主ガス流へ戻る。
本発明では、ろ過装置を構成するフィルタの圧損(開口
率または空孔率および厚さ等をパラメータとする)およ
びろ過装置内又はその背面の閉鎖された空間の容積を変
化させることにより、ろ過装置内またはろ過装置の背面
の閉鎖された空間における二次流れガスの滞留時間を変
化させることが可能であり、この滞留時間内に所定の粒
子状物質をろ過捕集できるように滞留時間を選定するこ
とにより、ろ過手段より主ガス流へ戻るガス中の粒子状
物質の再飛散は、十分に防止または抑制される。
以上の通り、本発明は、抽気手段を設けることな(、ま
た従って、この抽気手段を調整することな(、粒子状物
質をろ過捕集すると共に、その再飛散が十分に防止し抑
制される。
〔実施例〕
本発明の第一の実施例を第1図及び第2図によって説明
する。
本実施例は、以下説明する点が第7図及び第8図に示さ
れる除じん装置と相違するものであり、同一の部分は第
1図中第7図及び第8図におけると同一の符号を付し、
その説明を省略する。
すなわち、本実施例では、ケーシング15の出口側のガ
ス出口3を1個とし、同ガス出口3は送風機4をもつ抽
気管16に接続されていて、第8図に示すような抽気管
16を備えていない。また、第9図に示すアース電極7
と除じんフィルタ8なからなる第7図及び第8図に示さ
れる除じん装置におけると同様な構成のろ過装置8の背
面には、除じん装置のケーシング15又は仕切壁19に
よって閉鎖された空間18が形成されている。
本実施例においては、粒子状物質を含むガスは、ガス人
口1より除しん装置内のナロウスペイシング状態で配置
された放電電極6とろ過装R8で構成された空間に導入
される。ろ過装置8は、放電電極6に対向するアース電
極7と粒子状物質をろ過捕集するフィルター8を併せ備
えており(第9図参照)、放電電極6とろ過装置8の間
は高圧電源5により高電圧が印加されている。放電電極
6とろ過装置8はナロウスはイシングをもって対向して
いるので、高電界が形成されると同時に、第3図にその
流線が示されているようにイオン風による大きな二次流
れが生ずる。従って、第2図に示すように、主ガス流れ
bと共にこの空間に導入された粒子状物質は、第2図に
示すように、電界によるクーロン力とイオン風による二
次流れの両方の影響によってろ過装#8の方向へ移動し
、部のガス二次流れaとともにろ過装置8内へ流入する
。この際に、帯電したガス中の粒状物質は、自己の有す
る電荷によって電界を形成し、その静電気力も利用して
ろ過装置8の除じんフィルタ2によって高い効率で捕集
される。
上記のろ過装置8における除じんフィルタ2の開口率ま
たは空孔率および厚さ等を変えることによる圧損調整、
およびろ過装置8の主ガス流れに対して反対側におかれ
る背面の閉鎖空間】8の容量調整を適描に組合せること
により、ろ過装置8内に流入した粒子状物質を含むガス
二次流れはある時間ろ過装置8内または背面の空間18
において滞留し、その滞留時間内のろ過装置8通過時に
粒子状物質がろ過捕集される。その後ろ過装置8に流入
した二次流れガスと当量のガスがろ過装置8から主ガス
流へ戻る。
以上のように、本実施例では、ろ過捕集効率が要求を満
たすように除じんフィルタ2及び背面空間18を選定し
ているので、ろ過装置8から主ガス流へ二次流れガスが
戻る際の粒子の再飛散は、十分に防止または抑制される
。
第4図ないし第6図によって本発明の第二ないし第四の
実施例を説明する。
第4図に示される第二の実施例においては、各ろ過装置
8の背面に閉鎖された空間が設けられておらす、即ち上
記第一の実施例において背面の閉鎖空間18を設置して
いた空間をもろ過装置8によって充てんしている。
また、第5図に示される第三の実施例においては、主ガ
ス流路が複数に分割されていて、複数のろ過装置8に対
して背面の閉鎖された空間18が共用して設けられてい
る。
また、第6図に示される第四の実施例においては、ろ過
装置背面の閉鎖空間がなく、複数の主ガス流路に対して
ろ過装#8そのものが共用されている。すなわち第5図
に示す上記第三の実施例において背面空間18を設置し
ていた空間をもろ過装置8によって充てんされている。
これら第二ないし第四の実施例においても、第一の実施
例と同様な作用及び効果を奏することができる。
なお、上記各実施例においては、ろ過装置における対向
電極(アース電極)と除じんフィルターが別体に設けら
れているが、導電性フィルターを用いて両者を一体化し
たろ過装置を用いることもできる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、放電電極とこれに対向
して設けられ対向電極をもつろ過装置とに高電圧を印加
するようにした除じん装置において、必要とされた抽気
手段を要しないで捕集した粒状物質の再飛散を防止する
ことができ、抽気手段に要した設備コスト、運転コスト
、メンテナンスコストを必要としないと共に、除じん効
率を保持することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第一の実施例の説明図、第2図は同実
施例のろ過装置及びその背面の閉鎖された空間の部分の
縦断面図、第3図は同実施例におけるイオン風による二
次流れ流線パターンの説明図、第4図ないし第6図はそ
れぞれ本発明の第二ないし第四の実施例の要部の縦断面
図、第7図および第8図はそれぞれ本出願人の特許出願
(特願昭63−213735号)に係る除じん装置の説
明図、第9図は同除しん装置のろ過装置の部分を示す説
明図、第10図は同除しん装置におけるイオン風による
二次流れの流線、aターンの説明図である。 1・・・ガス入口、    2・・・除じんフィルタ。 3・・・ガス出口、    4・・・送風機。 5・・・高圧電源、    6・・・放電電極。 7・・・対向電極、    8・・・ろ過装置。 15・・・ケーシング、17・・・排気ダクト。 18・・・背面の閉鎖された空間、19・・・仕切壁。 a・・・二次流れ、    b・・・主ガス流、。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 粒子状物質を含むガス流れの中に設けられた放電電極、
    同放電電極と対向して設けられ対向電極をもつろ過装置
    、上記放電電極およびろ過装置間に高電圧を印加する高
    圧電源、及び上記ろ過装置内又はその背面に閉鎖された
    空間を備えたことを特徴とする除じん装置。
JP1003723A 1989-01-12 1989-01-12 除じん装置 Pending JPH02184357A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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