JPH02187288A - レーザマーキングシステム - Google Patents

レーザマーキングシステム

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Publication number
JPH02187288A
JPH02187288A JP1002702A JP270289A JPH02187288A JP H02187288 A JPH02187288 A JP H02187288A JP 1002702 A JP1002702 A JP 1002702A JP 270289 A JP270289 A JP 270289A JP H02187288 A JPH02187288 A JP H02187288A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
marking
liquid crystal
contents
laser beam
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1002702A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Yoshioka
芳夫 吉岡
Hiroo Okawa
宏男 大川
Kiyoshi Saito
斎藤 清
Minoru Fujimoto
実 藤本
Kiyoe Iwaki
岩木 清栄
Kenichi Nemoto
健一 根本
Koji Kuwabara
桑原 皓二
Makoto Yano
眞 矢野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP1002702A priority Critical patent/JPH02187288A/ja
Publication of JPH02187288A publication Critical patent/JPH02187288A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は液晶をマスクに用いたマーキング装置及びこ
の装置を構成要素の一部に用いたレーザマーキングシス
テムに関する。
〔従来の技術〕
従来の装置は特開昭59−45091号公報のように(
第3図参照)レーザビームをスキャンして文字をかく場
合があったが、このようにガルバ式オプティカルスキャ
ナーを用いると、ミラーを電磁力を介して動かすために
時間がかかった。また、特開昭60−221721号公
報のようにレンズをパルスモータで動かしてスキャンす
る場合も同様である。
また、別のマーキング方式として特開昭59−9778
7号公報の様にレーザ光を固定しておき、レーザ光路中
に所望の印字形状だけの光を通すマスクを入れて、マス
クを通った光で印字する方式のものがあるがこの方式は
印字時間は短いが、印字内容が固定されてしまう欠点が
あった。
第4図に示したように、あらかじめ文字、記号が打ちぬ
かれたマスクを回転して印字内容を可変する装置(参考
文献;富士時報VOL6ONα11)も考案されている
が、この場合も印字内容が限定されてしまう欠点があっ
た。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は従来技術が持っている (1)印字内容は可変であるが、印字時間がかかる。
(スキャン方式マーカ) (2)印字速度は速いが、印字内容が固定されてしまう
、(マスク式マーカ) 本発明の目的は、高速でかつ印字内容も広範囲に可変で
きる装置を提供するものである。また印字内容を上位コ
ンピュータより受信することにより、印字内容の表示、
印字、印字後の良否判定を可能とするレーザマーキング
システムを提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のレーザマーキングシステムは、マスクに耐光性
のある液晶を用い、かつ液晶通過後のレーザ光を印字に
使用するための結像光学系、液晶の不具合を監視するた
めの観視光学系を備え、該液晶を制御するマーカコント
ローラ、レーザを制御するレーザコントローラ及びマー
カコントローラへ印字情報を送信する上位コンピュータ
によりシステム構成することにより達成される。
〔作用〕
上記システム構成することにより印字内容は。
マーカコントローラ内に設けられたキャラクタジェネレ
ータ(漢字ROM)のデータを上位コンピュータより送
信されて来る印字内容に基づき選択し、液晶を表示する
ことにより容易に変更できる。
また上位コンピュータで作った図形記号情報を液晶に表
示することもできる。
更に本方式では、液晶をマスクとして使用するため、液
晶の印字内容変更時間のみに印字時間が制約されるので
、高速印字可能となる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例と第1図により説明する。
レーザ発振器1から出射されたレーザ光2は液晶3を通
って対象ワーク4へと導かれる。この時液晶3の上に文
字や図形の像が表われていると、その像の部分を通った
光とその他の部分を通った光とでは偏光方向が異なって
いる。液晶3の後ろに反射板12を置くと特定の偏光方
向のものだけ反射するので、対象ワークには液晶3に表
われた像の形にレーザ光が当てられてマーキングが行わ
れる。一方反射板12で反射された光は、パターン認識
装置へ入射される。この光は、ワークに入射する光とは
ネガとポジの関係にあるので、この光を監視することに
より、ワークへのマーキングの監視ができる。
マーカコントローラ6は、液晶3と表示装置8へ情報を
送って印字したい形を表わす。液晶3と表示装置8へは
同時に同じ信号を送るので、現在のマーキングを常にモ
ニタできる。マーカコントローラ6はレーザコントロー
ラ7、上位コンピュータ9から指令を受けて印字内容を
変更できる。
マーカコントローラ6は印字内容をいくつか記憶し外部
からの指令でそれらの中から一つを選択して印字するこ
とができる。よって多種のワークに対しても外部からの
信号があれば、それぞれに応じた印字ができるし、良品
、不良品に応じた印字も可能であるし、製品の一貫番号
のように一つずつ異なる番号を印字することも可能であ
る。上位コンピュータ9はデータベース10と接続され
ているので、例えばデータとして以前マーキングした内
容を記録しておけば必要に応じてそれを取り出して印字
を行うことができる。また、マーキングの成功不成功等
の情報やワークの種類や数、良・不良の数等の生産管理
のデータを持つこともできる。
レーザコントローラ7はレーザ発振器の充放電等の制御
を行う。レーザコントローラ7は、レーザ発振器1の他
にマーカコントローラ6とローダ・アンローダコントロ
ーラ11と接続されており、これらのユニットは同期を
とって動くように制御される。
第2図にこれらユニットの動作のタイミング図を示す。
マーカコントローラ6は、スタート信号をローダアンロ
ーダコントローラ11とマーカコントローラ6へ送信す
ると同時に自分は液晶のパターンを変更する。ローダア
ンローダコントローラ11はワークを搬送し、レーザ発
振器]−は充電とする。これらの動作が完了した時点で
マーカコントローラ6はレーザ発振器1にレーザ照射信
号を送り、レーザ発振器1はこれを受けてレーザ光を照
射する。以降はこのサイクルを繰り返す。この間マーカ
コントローラ6へは印字内容についての情報が送られる
がこれは上記タイミングとは非動期で処理される。
上位コンピュータ9はデータベース10の管理を行った
り、またパターン認識装置から異常信号を受取った時に
はマーカコントローラ6ヘフイードバツクする。また新
しいデータを作成する時はこの上位コンピュータ9の上
で行う。
ローダ・アンローダコントローラ11はローダ・アンロ
ーダの制御を行う。ラインからの情報をレーザコントロ
ーラ7へも送る。
〔発明の効果〕
本発明は以上説明したように構成されているので、以下
に記載されている様な効果を奏する。
(1)マーキング内容を上位コンピュータにて作成・’
31Bできる。(マーカコントローラにて)(2)上記
のマーキング内容をマニュアル、上位コンビ二一タ、プ
ログラムシーケンサ等により選択できる。
(3)上記の選択したマーキング内容を表示できる。
(4)同様に上記の選択したマーキング内容を液晶マス
クに移送して、この液晶を透過したレーザ光をワークに
当ててマーキングできる。
(5)マーキング結果をデータベースに記録・保存でき
る。
(6)マーキング内容を日時、数、性能によってマニュ
アル、又は自動で変化させられる。
(7)高速マーキングなおかつマーキング内容を容易に
かつ広範囲に変えられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例であるレーザマーカの実施例と
して示したブロック図、第2図は第1図の動作を説明す
るタイミング図、第3図は従来のガルバノ式オプティカ
ルスキャナーでスギャンする方式のレーザマーク装置の
説明図、第4図は従来の円盤に多数のマスクを配置して
円板の回転でマスクを選択する方式のレーザマーク装置
の説明図である。 1・・・レーザ発振器、2・・・レーザ光、3・・・液
晶マスク、4・・・ワーク、5・・・パターン認識装置
、6・・・マーカコントローラ、7・・・レーザコンl
−ローラ、8・・・表示装置、9・・・上位コンピュー
タ、1o・・・データベース、11−・・・ローダアン
ローダコントローラ。 $ 1 図 第2図 レーザ開射 第 図 レンズ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、レーザ光を用いてハーキングする装置において、マ
    スクを液晶にしたことによつて、マーキング内容を上位
    コンピュータから作成・登録する機能、パターン認識装
    置を使つてマーキングをチェックする機能、表示装置に
    マーキング内容を表示する機能、データベースによつて
    マーキング結果、マーキング内容、生産管理情報までを
    記録・保存する機能を持ち、上位コンピュータからマー
    キングまでを同じ形のデータ(情報)で管理でき、高速
    で広範囲の印字内容可変を特徴とするレーザマーキング
    システム。
JP1002702A 1989-01-11 1989-01-11 レーザマーキングシステム Pending JPH02187288A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1002702A JPH02187288A (ja) 1989-01-11 1989-01-11 レーザマーキングシステム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1002702A JPH02187288A (ja) 1989-01-11 1989-01-11 レーザマーキングシステム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02187288A true JPH02187288A (ja) 1990-07-23

Family

ID=11536619

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1002702A Pending JPH02187288A (ja) 1989-01-11 1989-01-11 レーザマーキングシステム

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JP (1) JPH02187288A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0714726A2 (en) 1994-11-28 1996-06-05 Nec Corporation Method for making patterns by scanning laser beam and apparatus and the mask applied to the same apparatus
US5605641A (en) * 1992-11-25 1997-02-25 Komatsu Ltd. Method and apparatus for laser marking a continuously moving workpiece
US5801868A (en) * 1993-11-19 1998-09-01 Komatsu Ltd. Apparatus for and method of laser making
US5821497A (en) * 1993-01-29 1998-10-13 Kabushiki Kaisha Seisakusho Laser marking system and laser marking method
US10583668B2 (en) 2018-08-07 2020-03-10 Markem-Imaje Corporation Symbol grouping and striping for wide field matrix laser marking

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5605641A (en) * 1992-11-25 1997-02-25 Komatsu Ltd. Method and apparatus for laser marking a continuously moving workpiece
US5821497A (en) * 1993-01-29 1998-10-13 Kabushiki Kaisha Seisakusho Laser marking system and laser marking method
US5801868A (en) * 1993-11-19 1998-09-01 Komatsu Ltd. Apparatus for and method of laser making
EP0714726A2 (en) 1994-11-28 1996-06-05 Nec Corporation Method for making patterns by scanning laser beam and apparatus and the mask applied to the same apparatus
US6097420A (en) * 1994-11-28 2000-08-01 Nec Corporation Method and apparatus for marking patterns by a scanning laser beam, a mask applied to the same apparatus
US10583668B2 (en) 2018-08-07 2020-03-10 Markem-Imaje Corporation Symbol grouping and striping for wide field matrix laser marking

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