JPH0218837A - 液体金属イオン源 - Google Patents
液体金属イオン源Info
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- JPH0218837A JPH0218837A JP63167449A JP16744988A JPH0218837A JP H0218837 A JPH0218837 A JP H0218837A JP 63167449 A JP63167449 A JP 63167449A JP 16744988 A JP16744988 A JP 16744988A JP H0218837 A JPH0218837 A JP H0218837A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は液体金属イオン源に関するものであり、特に
、長時間安定に稼動できるように改良された液体金属イ
オン源に関するものである。
、長時間安定に稼動できるように改良された液体金属イ
オン源に関するものである。
[従来の技術]
液体金属イオン源は、液体金属のイオンから由来するイ
オンビームを与えるものであり、イオン注入装置、イオ
ンビームエツチング装置、イオンマイクロアナライザ等
に利用されている。
オンビームを与えるものであり、イオン注入装置、イオ
ンビームエツチング装置、イオンマイクロアナライザ等
に利用されている。
第2図は、従来の液体金属イオン源の部分切欠断面図で
ある。
ある。
第2図を参照して、1はるつぼである。るつぼ1の外表
面全体に、通電加熱用ヒータ4である導電性材料の膜が
形成されている。この導電性材料の膜は、導電性化合物
ペーストを焼付けて形成するか、あるいは導電性セラミ
ックから形成される。
面全体に、通電加熱用ヒータ4である導電性材料の膜が
形成されている。この導電性材料の膜は、導電性化合物
ペーストを焼付けて形成するか、あるいは導電性セラミ
ックから形成される。
通電加熱用ヒータ4は、るつぼ1の下方中心部に設けら
れた中心孔1a′の内側にまで連なって形成されている
。中心孔1 a Jの内側にまで連なって形成された通
電加熱用ヒータ4の終端に、その先端部2aが接するよ
うに、針状チップ2がるつぼ1内を貫通して設けられて
いる。針状チップ1の先端部2aには、溝2bが形成さ
れており、溝2bを通り、るつぼ1内の金属が流出可能
にされている。通電加熱用ヒータ4は、るつぼ1の上方
で、電極11に接続されている。るつぼ1の上には、る
つぼ蓋6が取付けられており、このるつぼM6の上には
るつぼホルダ12が取付けられている。
れた中心孔1a′の内側にまで連なって形成されている
。中心孔1 a Jの内側にまで連なって形成された通
電加熱用ヒータ4の終端に、その先端部2aが接するよ
うに、針状チップ2がるつぼ1内を貫通して設けられて
いる。針状チップ1の先端部2aには、溝2bが形成さ
れており、溝2bを通り、るつぼ1内の金属が流出可能
にされている。通電加熱用ヒータ4は、るつぼ1の上方
で、電極11に接続されている。るつぼ1の上には、る
つぼ蓋6が取付けられており、このるつぼM6の上には
るつぼホルダ12が取付けられている。
通電加熱用ヒータ4がその表面に設けられたるつぼ1の
まわりを取囲むようにして、るつぼカバー13が設けら
れている。このるつぼカバー13の厚さは、約0.5m
mである。るつぼ1の下方には引出電極3が配置されて
おり、該引出電極3と電極11との間には、引出電源8
が接続されている。また、イオンのエミッタとして働く
針状チップ2と電極11との間には、加熱用電源7が接
続されている。加熱用電源7の一端には、イオンを加速
するための加速電源9が接続されており、該加速電源9
の他方端は接地されている。
まわりを取囲むようにして、るつぼカバー13が設けら
れている。このるつぼカバー13の厚さは、約0.5m
mである。るつぼ1の下方には引出電極3が配置されて
おり、該引出電極3と電極11との間には、引出電源8
が接続されている。また、イオンのエミッタとして働く
針状チップ2と電極11との間には、加熱用電源7が接
続されている。加熱用電源7の一端には、イオンを加速
するための加速電源9が接続されており、該加速電源9
の他方端は接地されている。
るつぼ1は、液体金属と反応しない材質たとえばアルミ
ナ等のセラミックで形成されている。また、エミッタで
ある針状チップ2も、液体金属と反応しないたとえばタ
ングステンで形成されている。通電加熱用ヒータ4とし
ては、たとえばモリブデンやタングステンなどの導電性
化合物のペースを焼結したもの、または導電性セラミッ
クが用いられる。導電性セラミックとしては、SiC。
ナ等のセラミックで形成されている。また、エミッタで
ある針状チップ2も、液体金属と反応しないたとえばタ
ングステンで形成されている。通電加熱用ヒータ4とし
ては、たとえばモリブデンやタングステンなどの導電性
化合物のペースを焼結したもの、または導電性セラミッ
クが用いられる。導電性セラミックとしては、SiC。
S i N、 T i C,T i Nが用いられてい
る。この場合の膜形成には、たとえばプラズマCVD法
が利用される。
る。この場合の膜形成には、たとえばプラズマCVD法
が利用される。
次に、動作について説明する。
るつぼ1内にイオン源金属5を入れる。次いで、加熱用
電源7をONする。すると、針状チップ2の先端部2a
は、中心孔1 a/の内側にまで連なって形成された通
電加熱用ヒータ4の終端と接しているため、加熱用電源
7からの電流は、針状チップ2から通電加熱用ヒータ4
に流れる。通電加熱用ヒータ4の他の端は電極11と接
しているため、通電加熱用ヒータ4を流れる電流は電極
11を通り加熱用電源7に戻る。このようにして、通電
加熱用ヒータ4に電流が流れることになり、るつぼ1内
のイオン源金属5が加熱される。イオン源金属5がたと
えばGa等の金属である場合は約数百度の温度で溶融す
る。液体化した金属は、針状チップ2の先端部2aに形
成された溝2bを通り、流出して、イオン化され、引出
電極3によってイオンビーム10として引出される。
電源7をONする。すると、針状チップ2の先端部2a
は、中心孔1 a/の内側にまで連なって形成された通
電加熱用ヒータ4の終端と接しているため、加熱用電源
7からの電流は、針状チップ2から通電加熱用ヒータ4
に流れる。通電加熱用ヒータ4の他の端は電極11と接
しているため、通電加熱用ヒータ4を流れる電流は電極
11を通り加熱用電源7に戻る。このようにして、通電
加熱用ヒータ4に電流が流れることになり、るつぼ1内
のイオン源金属5が加熱される。イオン源金属5がたと
えばGa等の金属である場合は約数百度の温度で溶融す
る。液体化した金属は、針状チップ2の先端部2aに形
成された溝2bを通り、流出して、イオン化され、引出
電極3によってイオンビーム10として引出される。
さて、このとき、イオンビーム10が引出電極3をスパ
ッタすることがあるが、このスパッタ原子が通電加熱用
ヒータ4の表面に付着しないように、るつぼカバー13
がるつぼ1のまわりを囲んでいる。通電加熱用ヒータ4
にスパッタ原子が付着すると、該a型加熱用ヒータ4の
抵抗が低下し、加熱電力が低下し、ひいてはイオンビー
ムの安定性が悪くなる。それゆえ、るつぼカバー13の
必要性は大である。
ッタすることがあるが、このスパッタ原子が通電加熱用
ヒータ4の表面に付着しないように、るつぼカバー13
がるつぼ1のまわりを囲んでいる。通電加熱用ヒータ4
にスパッタ原子が付着すると、該a型加熱用ヒータ4の
抵抗が低下し、加熱電力が低下し、ひいてはイオンビー
ムの安定性が悪くなる。それゆえ、るつぼカバー13の
必要性は大である。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来の装置では、るつぼカバー13が通
電加熱用ヒータ4と接近しているため、るつぼカバー1
3が通電加熱用ヒータ4からの輻射熱を受けて、作動後
、わずか数時間で、高熱を持つようになるという問題点
があった。るつぼカバー13が高熱を持つと、るつぼカ
バー13から熱電子が発生し、その熱電子がるつぼ1を
加熱する結果、るつぼ1内の温度は急上昇し、暴走し、
ひいては安定なイオンビームが得られなくなり、間通で
あった。この問題点を解決する方法として、るつぼ1と
るつぼカバー13との距離を大きくする方法も考えられ
るが、装置が大型化し、問題である。
電加熱用ヒータ4と接近しているため、るつぼカバー1
3が通電加熱用ヒータ4からの輻射熱を受けて、作動後
、わずか数時間で、高熱を持つようになるという問題点
があった。るつぼカバー13が高熱を持つと、るつぼカ
バー13から熱電子が発生し、その熱電子がるつぼ1を
加熱する結果、るつぼ1内の温度は急上昇し、暴走し、
ひいては安定なイオンビームが得られなくなり、間通で
あった。この問題点を解決する方法として、るつぼ1と
るつぼカバー13との距離を大きくする方法も考えられ
るが、装置が大型化し、問題である。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、装置を大型化せずに、安定なイオンビームを
長時間にわたって供給し続けることができる、液体金属
イオン源を提供することをa的とする。
たもので、装置を大型化せずに、安定なイオンビームを
長時間にわたって供給し続けることができる、液体金属
イオン源を提供することをa的とする。
[課題を解決するための手段]
この発明は、イオン化すべき金属を入れる絶縁材料製の
るつぼと、上記るつぼの外表面全体に被覆された導電性
材料製の膜で構成され、上記るつぼ内の金属を加熱する
通電加熱用ヒータと、上記通電加熱用ヒータが設けられ
た上記るつぼのまわりを囲むるつぼカバーと、上記るつ
ぼの下方中心部に形成された中心孔に先端部が位置する
ように設けられ、イオンビームのエミッタとして働く針
状チップと、上記針状チップの先端部からイオンを引出
すための引出Flitと、を備えた液体金属イオン源に
係るものである。
るつぼと、上記るつぼの外表面全体に被覆された導電性
材料製の膜で構成され、上記るつぼ内の金属を加熱する
通電加熱用ヒータと、上記通電加熱用ヒータが設けられ
た上記るつぼのまわりを囲むるつぼカバーと、上記るつ
ぼの下方中心部に形成された中心孔に先端部が位置する
ように設けられ、イオンビームのエミッタとして働く針
状チップと、上記針状チップの先端部からイオンを引出
すための引出Flitと、を備えた液体金属イオン源に
係るものである。
そして、上記問題点を解決するために、上記るつぼカバ
ーに十分な熱容量を持たせ、それによって、上記通電加
熱用ヒータからの輻射熱を逃がせるようにしたことを大
きくする、。
ーに十分な熱容量を持たせ、それによって、上記通電加
熱用ヒータからの輻射熱を逃がせるようにしたことを大
きくする、。
[作用]
るつぼカバーが十分な熱容量を持っているので、通電加
熱用ヒータから輻射熱を受けても、熱電子が発生する前
に、この熱を、当該るつぼカバーに接続されている電極
等に逃がすことができる。
熱用ヒータから輻射熱を受けても、熱電子が発生する前
に、この熱を、当該るつぼカバーに接続されている電極
等に逃がすことができる。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図は、この発明の一実施例に係る液体金属イオン源
の部分切換断面図である。
の部分切換断面図である。
第1図を参照して、るつぼ1にはその外表面全体に被覆
された導電性の材料の膜で形成された、通電加熱用ヒー
タ4が設けられている。導電性材料の膜は、導電性化合
物ペーストを焼付けて形成するか、あるいは導電性セラ
ミックから形成される。通電加熱用ヒータ4は、るつぼ
1の下方中心部に設けられた中心孔1a′の内側にまで
連なって形成されている。中心孔1a’の内側にまで連
なって形成された通電加熱用ヒータ4の終端に、その先
端部2aを接するようにして針状チップ2がるつぼ1内
を貫通して設けられている。該針状チップ2の先端部2
aには、溝2bが形成されており、該溝2bを通り、る
つぼ1内の金属が流出n1能にされている。通電加熱用
ヒータ4は、るつは1の上方で、電極11に接続されて
いる。るつぼ1の上には、るつぼ蓋6が取付けられてお
り、該るつぼ蓋6の上にはるつぼホルダ12が取付けら
れている。
された導電性の材料の膜で形成された、通電加熱用ヒー
タ4が設けられている。導電性材料の膜は、導電性化合
物ペーストを焼付けて形成するか、あるいは導電性セラ
ミックから形成される。通電加熱用ヒータ4は、るつぼ
1の下方中心部に設けられた中心孔1a′の内側にまで
連なって形成されている。中心孔1a’の内側にまで連
なって形成された通電加熱用ヒータ4の終端に、その先
端部2aを接するようにして針状チップ2がるつぼ1内
を貫通して設けられている。該針状チップ2の先端部2
aには、溝2bが形成されており、該溝2bを通り、る
つぼ1内の金属が流出n1能にされている。通電加熱用
ヒータ4は、るつは1の上方で、電極11に接続されて
いる。るつぼ1の上には、るつぼ蓋6が取付けられてお
り、該るつぼ蓋6の上にはるつぼホルダ12が取付けら
れている。
るつぼ1の下方には引出電極3が配置されており、該引
出電極3と電極11との間には、引出電源8が接続され
ている。また、イオンのエミッタとして働く針状チップ
2と電極11との間には、加熱用電源7が接続されてい
る。加熱用電源7の一端には、イオンを加速するための
加速電源9が接続されており、該加速電源9の他方端は
接地されている。以上の構成は、第2図に示した従来の
液体金属イオン源と全く同一である。本発明に係る液体
金属イオン源が、従来の液体金属イオン源と異なる点は
、通電加熱用ヒータ4が設けられたるつぼ1のまわりを
囲むるつぼカバー13の厚みを厚くする(約数mm)こ
とにより、該るつぼカバー13の熱容量を大きくした点
にある。るつぼカバー13の材質としては、導電性であ
り、十分な熱容量を持つものならば特に制限なく使用さ
れるが、とりわけステンレスなどが好ましい。
出電極3と電極11との間には、引出電源8が接続され
ている。また、イオンのエミッタとして働く針状チップ
2と電極11との間には、加熱用電源7が接続されてい
る。加熱用電源7の一端には、イオンを加速するための
加速電源9が接続されており、該加速電源9の他方端は
接地されている。以上の構成は、第2図に示した従来の
液体金属イオン源と全く同一である。本発明に係る液体
金属イオン源が、従来の液体金属イオン源と異なる点は
、通電加熱用ヒータ4が設けられたるつぼ1のまわりを
囲むるつぼカバー13の厚みを厚くする(約数mm)こ
とにより、該るつぼカバー13の熱容量を大きくした点
にある。るつぼカバー13の材質としては、導電性であ
り、十分な熱容量を持つものならば特に制限なく使用さ
れるが、とりわけステンレスなどが好ましい。
次に、動作について説明する。
るつぼ1内にイオン源金属5を入れる。次いで、加熱用
電源7をONする。すると、針状チップ2の先端部2a
は、中心孔1a’の内側にまで連なって形成されている
通電加熱用ヒータ4の終端と接しているため、加熱用電
源7からの電流は、針状チップ2から通電加熱用ヒータ
4に流れる。通電加熱用ヒータ4の他端は電極11と接
しているため、通電加熱用ヒータ4を流れる電流は電極
11を通り、加熱用電源7に戻る。このようにして、通
電加熱用ヒータ4に電流が流れ、るつぼ1内のイオン源
金属5が加熱される。加熱されたイオン源金属5は、液
体状となり針状チップ2の先端部2aに形成された溝2
bを通り、流出し、イオン化され、引出電極3によって
イオンビーム10として引出される。
電源7をONする。すると、針状チップ2の先端部2a
は、中心孔1a’の内側にまで連なって形成されている
通電加熱用ヒータ4の終端と接しているため、加熱用電
源7からの電流は、針状チップ2から通電加熱用ヒータ
4に流れる。通電加熱用ヒータ4の他端は電極11と接
しているため、通電加熱用ヒータ4を流れる電流は電極
11を通り、加熱用電源7に戻る。このようにして、通
電加熱用ヒータ4に電流が流れ、るつぼ1内のイオン源
金属5が加熱される。加熱されたイオン源金属5は、液
体状となり針状チップ2の先端部2aに形成された溝2
bを通り、流出し、イオン化され、引出電極3によって
イオンビーム10として引出される。
このとき、イオンビーム10が引出電極3等をスパッタ
することがあるが、スパッタ原子はるつぼカバー13に
よって遮られて、通電加熱用ヒータ4の表面には付着し
ない。これにより、通電加熱用ヒータ4の抵抗は低下し
なくなり、ひいては加熱電力は低下しなくなる。
することがあるが、スパッタ原子はるつぼカバー13に
よって遮られて、通電加熱用ヒータ4の表面には付着し
ない。これにより、通電加熱用ヒータ4の抵抗は低下し
なくなり、ひいては加熱電力は低下しなくなる。
また、るつぼカバー13が熱容量の大きい材質で形成さ
れ、その厚さも厚くされているので、通電加熱用ヒータ
4からの輻射熱を受けても、熱電子が発生する前に、こ
の熱を、るつぼカバー13に接続されている電極11等
に逃がすことができる。それゆえ、るつぼカバー13が
高熱になることがなくなり、ひいてはq熱電子が発生し
、るつぼ1内の温度を急上昇させるという、従来の問題
点は解決され、安定なイオンビームが長時間にわたって
得られる。
れ、その厚さも厚くされているので、通電加熱用ヒータ
4からの輻射熱を受けても、熱電子が発生する前に、こ
の熱を、るつぼカバー13に接続されている電極11等
に逃がすことができる。それゆえ、るつぼカバー13が
高熱になることがなくなり、ひいてはq熱電子が発生し
、るつぼ1内の温度を急上昇させるという、従来の問題
点は解決され、安定なイオンビームが長時間にわたって
得られる。
なお、上記実施例では、るつぼ蓋6が設けられているた
め、高飽和蒸気圧のイオン源金属にもこの発明を応用す
ることができる。しかしながら、この発明では必ずしも
るつぼ蓋を取付ける必要はない。
め、高飽和蒸気圧のイオン源金属にもこの発明を応用す
ることができる。しかしながら、この発明では必ずしも
るつぼ蓋を取付ける必要はない。
また、るつぼおよび針状チップの材質を金属と反応しに
くいものとすることにより、反応性のイオン源金属にも
応用し得るイオン源とすることができる。
くいものとすることにより、反応性のイオン源金属にも
応用し得るイオン源とすることができる。
以上、具体的な実施例を挙げてこの発明の液体金属イオ
ン源を説明したが、この発明はこの実施例に限定される
ものではない。
ン源を説明したが、この発明はこの実施例に限定される
ものではない。
[発明の効果]
以上説明したとおり、この発明によれば、るつぼカバー
に十分な熱容量を持たせているので、通電加熱用ヒータ
から輻射熱を受けても、熱電子が発生する前に、この熱
を、るつぼカバーに接続されている電極等に逃がすこと
ができる。それゆえ、るつぼカバーが高熱になることが
なくなり、ひいてはるつぼ内の温度を急上昇させるとい
う、従来の問題点は解決され、安定なイオンビームが長
時間にわたって得られるという効果を奏する。
に十分な熱容量を持たせているので、通電加熱用ヒータ
から輻射熱を受けても、熱電子が発生する前に、この熱
を、るつぼカバーに接続されている電極等に逃がすこと
ができる。それゆえ、るつぼカバーが高熱になることが
なくなり、ひいてはるつぼ内の温度を急上昇させるとい
う、従来の問題点は解決され、安定なイオンビームが長
時間にわたって得られるという効果を奏する。
第1図はこの発明の一実施例の部分切欠断面図である。
第2図は従来の液体金属イオン源の部分切欠断面図であ
る。 図において、1はるつぼ、1a′は中心孔、2は針状チ
ップ、2aは針状チップの先端部、2bは溝、3は引出
電極、4は通電加熱用ヒータ、5はイオン源金属、10
はイオンビーム、11は電極、13はるつぼカバーであ
る。 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 写 硝orつ 戒
る。 図において、1はるつぼ、1a′は中心孔、2は針状チ
ップ、2aは針状チップの先端部、2bは溝、3は引出
電極、4は通電加熱用ヒータ、5はイオン源金属、10
はイオンビーム、11は電極、13はるつぼカバーであ
る。 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 写 硝orつ 戒
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)イオン化すべき金属を入れる絶縁材料製のるつぼ
と、 前記るつぼの外表面全体に被覆された導電性材料製の膜
で構成され、前記るつぼ内の金属を加熱する通電加熱用
ヒータと、 前記通電加熱用ヒータが設けられた前記るつぼのまわり
を囲むるつぼカバーと、 前記るつぼの下方中心部に形成された中心孔に先端部が
位置するように設けられ、イオンビームのエミッタとし
て働く針状チップと、 前記針状チップの先端部からイオンを引出すための引出
電極と、 を備えた液体金属イオン源において、 前記るつぼカバーに十分な熱容量を持たせ、それによっ
て前記通電加熱用ヒータからの輻射熱を逃がせるように
したことを特徴とする、液体金属イオン源。 (2)前記るつぼカバーの厚みを厚くすることにより、
該るつぼカバーの熱容量を大きくする、特許請求の範囲
第1項に記載の液体金属イオン源。 (3)前記導電性材料が導電性化合物ペーストの焼結体
から形成されている特許請求の範囲第1項記載の液体金
属イオン源。 (4)前記導電性化合物がモリブデンまたはタングステ
ンである特許請求の範囲第3項記載の液体金属イオン源
。 (5)前記導電性材料が導電性セラミックから形成され
ている特許請求の範囲第1項記載の液体金属イオン源。 (6)前記導電性セラミックがSiC、SiN、TiC
およびTiNからなる群より選ばれたものである特許請
求の範囲第5項記載の液体金属イオン源。 (7)前記るつぼがセラミックから形成されている特許
請求の範囲第1〜6項のいずれか1項に記載の液体金属
イオン源。 (8)前記セラミックがアルミナである特許請求の範囲
第7項記載の液体金属イオン源。(9)前記針状チップ
の先端部が、前記るつぼの中心孔の内側にまで延びて形
成された通電加熱用ヒータに接するように設けられてい
る特許請求の範囲第1〜8項のいずれか1項に記載の液
体金属イオン源。 (10)前記針状チップの先端部に、溶融した金属が通
るための溝が形成されている特許請求の範囲第1〜9項
のいずれか1項に記載の液体金属イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63167449A JPH0218837A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 液体金属イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63167449A JPH0218837A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 液体金属イオン源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0218837A true JPH0218837A (ja) | 1990-01-23 |
Family
ID=15849906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63167449A Pending JPH0218837A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 液体金属イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0218837A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6509570B1 (en) * | 1999-01-07 | 2003-01-21 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Gallium ion source |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP63167449A patent/JPH0218837A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6509570B1 (en) * | 1999-01-07 | 2003-01-21 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Gallium ion source |
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