JPH02196026A

JPH02196026A - 高分子スズ錯体

Info

Publication number: JPH02196026A
Application number: JP1198489A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Sugii; 杉井　篤; Morio Nakayama; 守雄中山
Original assignee: Fujifilm RI Pharma Co Ltd
Current assignee: Fujifilm RI Pharma Co Ltd
Priority date: 1989-01-23
Filing date: 1989-01-23
Publication date: 1990-08-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】イ５発明の目的〔産業上の利用分野〕化学領域における重要な化学反応の一つとして酸化・還
元反応を利用した化合物の調製が、−船釣に行われるが
、本発明は還元反応を利用して化合物を調製する場合に
用いる還元力が強く安定性に優れた還元剤含有複合体に
関するものであり、特に放射性医薬品である１■Ｔｃ標
識化合物を調製するための還元力が強く安定性に優れた
還元剤含有複合体を提供するものである。

〔従来の技術〕

還元反応を利用した化合物の製造において用いられる還
元剤としては、塩化第一スズ、アスコルビン酸、次亜硫
酸ナトリウム等があげられるが、放射性医薬品としての
１’Ｔｅ標識化合物の調製には通常還元力の強い塩化第
一スズが広く使用されている。塩化第一スズは還元力が
非常に強い反面その安定性には種々雛点があり、例えば
溶液の状態で扱う場合には加水分解による還元力の失活
を防ぐためにその液性を強酸性下としたうえで、更にこ
れを保存する容器内の空気中の酸素を窒素置換により除
いて保存する必要があるばかりでなく、結晶状態の塩化
第１スズでさえ空気中のＭ素や湿気に対しても非常に不
安定でありその取り扱いには十分な注意を払わねばなら
ない。従ってこのような塩化第一スズの不安定性を克服
するために塩化第一スズを適当な化合物に結合させて安
定性を保持させたり、またその保存容器内の空気を窒素
置換する等の工夫がなされていた。本発明と非常に関連
性のある先行技術と１７で、陽イオン交換樹Ｂ’ａ　（
Ｄｏｖｅｘ　５０ＷＸ８，１００　ヘ−２００ｍｅｓｈ
）に塩化第一スズをイオン結合により吸着させた複合体
を利用して″ｓｌ″Ｔｅ標識化合物を調製した報告があ
る。

（Ｔｉｎ−ａｄｓｏｒｂｅｄ　Ｒｅ５ｉｎ　ｆｏｒ　ｔ
ｈｅ　Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ　ｏｆｇ１１１１″Ｔｅ
−ｒａｄｉｏｐｈａｒ＊ａｃｅｕｔｉｃａｌｓ　：　５
ｔａｂｌｅ　Ｃｏｍｐｌｅｘｏｆ　ｌｉｇ”Ｔｃ−ｂ）
−ｅｏｍｙｅｉｎ、、　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　
Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ　Ａｐｐｌ、ｉｅｄ　Ｒａｄｉａｔ
ｉｏｎ　ａｎｄ　ｌ５ｏｔｏｐｅｓ　Ｖｏｌ、３２゜ｐ
ｐ４７−５２．１９８１）〔発明が解決しようとする問題点〕前述のような陽イオン交換樹脂に塩化第一スズをイオン
結合により吸着させた複合体の場合においては、陽イオ
ン交換樹脂と塩化第一スズを大量かつ強力に結合させる
ことが困難であり例えば、Ｄｏｗｅｘ　５０ｘ８やＡｍ
ｂｅｒｌｉｔｅ　ＣＧ１２０に塩化第一スズを吸着させ
たときこれを例えば、０．５Ｍ塩化カリウム溶液等の強
イオン濃度の溶液中に入れると陽イオン交換樹脂に吸着
させた塩化第一スズが鋭部することから、陽イオン交換
樹脂と塩化第一スズとの結合力の強さに問題があった。

さらに放射性医薬品である”’Ｔｅ標識化合物を調製す
る過程では、通常”Ｍ　ｏ　−Ｉｌｇ”Ｔ　ｃジェネＩ
ノーターからミルキングされるｇｌａ″’Ｔｃ（■）は
、過テクネチウム酸ナトリウム（””ＴｅＯ２−）の化
学形で溶出されるので、これをより低い酸化状態へ還元
する操作が不可欠である。現在多くのｓ１ｇ″′ＴＣ標
識・放射性医薬品製剤の調製に還元剤として用いられて
いる塩化第一スズは、その不安定性のために実際に１９
ｍ″Ｔｃ（■）の還元反応に必要な量よりも遥かに多い
量が一般的に使用されている。従って、必要量以」二の
塩化第一スズを用いて調製された９９″″Ｔｃ標識・放
射性医薬品製剤は複雑な化学種を形成することが予想さ
れ、””Ｔｅ標識・放射性医薬品製剤の品質、純度、安
定性に悪い影響を及ぼすことが指摘されている。

口０発明の構成〔問題点を解決するための手段〕本発明者らは前記の問題点を解決できると共に１”Ｔｅ
標識・放射性医薬品製剤の調製に適用可能な塩化第一ス
ズ複合体を開発する目的で、高分子上にスズを＋２価の
状態で多量かつ強固に結合するための方策に関して鋭意
研究を重ねた。即ち、＋２価のスズと高い錯形成能力を
有する官能基を導入したキレート形成樹脂に塩化第一ス
ズを配位結合させることが本問題を解決するために非常
に有効であるとの見地から種々検討を重ねた結果、スズ
を＋２価の状態で強固に配位結合できスズの加水分解を
抑えるために酸性溶液から迅速にスズを結合する能力を
有するキレート形成樹脂としてリン酸型、イミノ二酢酸
型、アミノホスホン酸型、ジチオカルバミン酸型、チオ
ール型、アミドギシム型、アミン型、ピリジン型から成
るキレート樹脂が高いスズ結合性を有すると共に高塩濃
度、水分、空気酸化等の影響が殆どなく放射性医薬品の
製剤化にも適すると共に、非常に安定な高分子スズ錯体
を形成することを見いだし本発明を完成するに至った。

以下に実施例をあげて詳細に説明する。

〔実施例〕

１、高分子スズ錯体の合成（１）できるだけ粒度のそろったキレート樹脂（リン酸
型、イミノ二酢酸型、アミノホスホン酸型、ジチオカル
バミン酸型、チオール型、アミドキシム型、アミン型、
ピリジン型）を通常のイオン交換樹脂の洗浄の時に行わ
れる一般的な方法と同様に酸と塩基を用いて洗浄し最終
的には塩酸で洗浄後充分水洗し乾燥した。洗浄行程中必
要に応じて有機物の除去の目的でエタノール等によるツ
クスレー抽出を行った。

（２）前記の予備洗浄後、空気中で乾燥したキレート樹
脂を恒温乾燥話中で３０〜５０゛Ｃで１２〜２４時間乾
燥した。

（３）前記のキレート樹脂を０．１ｇ秤取し、三角フラ
スコ番こ入れ０．１Ｍ塩酸３０ｍ１を加え、１２時間以
上放置し、キレート樹脂を充分湿潤させた。

（４）湿潤後のキレート樹脂は、減圧下で脱気操作を行
い細孔内の空気を完全に追い出した後、窒素置換を充分
に行い、直前に調製した０、１Ｍ塩酸酸性の４　Ｘ　１
０−２Ｍの塩化第一スズ溶液１０ｍ１を加えすばやく密
閉した。（０，１Ｍ塩酸酸性の４　Ｘ　１０−”Ｍの塩
化第一スズ溶液の調製は、充分に窒素置換を行った０、
ＩＫ塩酸溶液を用いて、重金属測定用、元素分析用等の
高純度で新鮮な５ｎＣ１□・２Ｈ２０の結晶を溶解して
行った。）（５）直ちに激しく振盪を開始し、２０〜３０″Ｃで１
時間振盪を続けた。

（６）振盪終了後、キレート樹脂へのスズ結合量を測定
するために上澄液を少量採取し、日立偏光ゼーマン原子
吸光分光光度計ｚ−ａｏｏを用いてスズ結合量の分析を
行った。

振盪終了後のキレート樹脂は、吸引濾過により濾別し、
０．１Ｍ塩酸溶液で２〜３回洗浄した後、エタノールで
充分洗浄して塩酸を除き減圧乾燥することにより高分子
スズ錯体を合成した。

（））日立偏光ゼーマン原子吸光分光光度計ｚ−ａｏ。

を用いた分析の結果、リン酸型、イミノ二酢酸型、アミ
ノホスホン酸型、ジチオカルバミン酸型、チオール型、
アミドキシム型、アミン型、ピリジン型のキレート樹脂
を用いて合成した高分子スズ錯体の＋２価のスズ結合量
は、リン酸型、アミノホスホン酸型が最も高（２，０〜
２．６　ｍｗｏｌ／ｇ−ｒｅｓｉｎであった。

２、高分子スズ錯体を用いた１１９″”Ｔｃ標識化合物
の調製（１）９９″Ｔｃ・ジメルカプトコハク酸（ＤＭＳＡ）
注射液の調製 ■５ｍｌのバイアルに前記により合成した高分子スズ錯
体５ｍｇを秤取した。

■前記バイアルにジメルカプトコハク＠　（ＤＭＳＡ）
　１．０９ｇ　、　　０．ＩＭ　ＮａＨＣｏ、２！ＩＩ
および過テクネチウム酸ナトリウム（９９″ＴＣＯ４−
）注射液を加えて良く混和した。

■次に０．４５μ■のミリポアフィルタ−で濾過して９
９″Ｔｃ・ジメルカプトコハク酸（ＤＭＳＡ）注射液を
得た。

■前記により得られた””Ｔｃ・ジメルカプトコハク酸
（ＤＭＳＡ）注射液は、ブタノール：酢酸：水＝３：２
：３を展開溶媒としたシリカゲルプレートによる薄層ク
ロマトグラフィーにより純度検定が行われた。その結果
、ｇ＠ｌ″Ｔｃ・ジメルカプトコハク酸（ＤＭＳＡ）注
射液の純度は、９０％以上であることが確認された。

（２）”−Ｔｃ・人血清アルブミン注射液の調製■５ｍ
ｌのバイアルに前記により合成した高分子スズ錯体５ｍ
ｇを秤取した。

■前記バイアルに人血清アルブミン（ＩＳＡ）溶液１ｍ
１（７〜２１ｍｇ）および過テクネチウム酸ナトリウム
（９″１τＣ０４−）注射液を加えて良く混和した。

■次に０．４５μ朧のミリポアフィルタ−で濾過して９
９″″Ｔｃ・人血清アルブミン（ＩＳＡ）注射液を得た
。

■前記により得られたｇｇ″″Ｔｃ・人血清アルブミン
（ＩＳＡ）注射液は、７５χメタノールを展開溶媒とし
たベーパークロマトグラフィーにより純度検定が行われ
た。その結果、””Ｔｃ・人血清アルブミン（ＩＳＡ）
注射液の純度は、９０ｚ以上であることが確認された。

ハ０発明の効果以上のように本発明の高分子スズ錯体は、スズを＋２価
の状態で多量かつ強固に配位結合させることができたの
で、その安定性が非常に優れており、還元反応に用いた
場合に反応系へのスズイオンの逸脱も殆ど無く、化学反
応領域における還元剤として広範囲な用途に使用するこ
とが出来ると共に、特にｇ″ｍＴＣｍＴＣ標識医薬品製
剤中からスズをほぼ完全に除去した状態で還元反応を容
易に進行させることができる極めて優れた性能を発揮す
る還元剤複合体である。従って、本発明の高分子スズ錯
体を用いて””Ｔｅ標識化合物を調製することにより品
質、純度、安定性に優れた９９″″Ｔｅ標識・放射性医
薬品製剤を提供することができるものである。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）高分子上にスズを＋２価の状態で結合させた高分
子スズ錯体。
（２）高分子が、リン酸型、イミノ二酢酸型、アミノホ
スホン酸型、ジチオカルバミン酸型、チオール型、アミ
ドキシム型、アミン型、ピリジン型から成るキレート樹
脂であることを特徴とする請求項（１）記載の高分子ス
ズ錯体。
（３）種々の酸化・還元反応により化合物を合成する時
に還元剤として用いることを特徴とする請求項（１）記
載の高分子スズ錯体。
（４）組織特異性を有する物質と過テクネチウム酸ナト
リウム（▲数式、化学式、表等があります▼）注射液と
を反応させるときの還元剤として前記高分子スズ錯体を
用いることを特徴とする▲数式、化学式、表等がありま
す▼標識化合物の製造方法。
（５）組織特異性を有する物質が、人血清アルブミン、
ジメルカプトコハク酸（ＤＭＳＡ）、ジエチレントリア
ミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、抗体、抗体フラグメント等診
断・治療の目的に適する組織特異性を有する物質である
請求項（４）記載の製造方法。
（６）人血清アルブミン、ジメルカプトコハク酸（ＤＭ
ＳＡ）、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、抗
体、抗体フラグメント等診断・治療の目的に適する組織
特異性を有する物質と前記高分子スズ錯体とを主成分と
して含有する▲数式、化学式、表等があります▼標識化
合物調製用組成物キット。