JPH02196640A - Manufacture of stamper for optical disk - Google Patents

Manufacture of stamper for optical disk

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JPH02196640A
JPH02196640A JP1678389A JP1678389A JPH02196640A JP H02196640 A JPH02196640 A JP H02196640A JP 1678389 A JP1678389 A JP 1678389A JP 1678389 A JP1678389 A JP 1678389A JP H02196640 A JPH02196640 A JP H02196640A
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JP
Japan
Prior art keywords
photoresist layer
layer
stamper
glass master
manufacturing
Prior art date
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Pending
Application number
JP1678389A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shiro Kaneko
金子 四郎
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP1678389A priority Critical patent/JPH02196640A/en
Publication of JPH02196640A publication Critical patent/JPH02196640A/en
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To manufacture a stamper for an optical disk of superior precision with high yield and without introducing particularly sophisticated process into the manufacturing method heretofore available by ozone treating a matrix surface before coating the surface of a glass matrix with coating fluid for forming photoresist layer. CONSTITUTION:An organic film 12 is formed on the surface after several tens of minutes after washing a glass matrix 11, and then ozone gas is jetted to the surface of glass matrix 11 to remove the organic film 12. Then, coating fluid for photoresist is applied on the surface of ozone treated glass matrix 11 as soon as possible after treatment. The bonding properties of the glass matrix and a photoresist layer is enhanced by the process, and stripping phenomenon such as lowering of thickness precision generated by an electroforming layer released from the glass matrix together with the photoresist layer or foaming generated by infiltration of plating bath into the photoresist layer is scarcely generated. As the formation is carried out on an optical disk matrix 14 in a good manner, grinding on the surface opposite to the side where recesses and projections are formed can be carried out with high precision.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、光ディスク用のスタンパの製造方法に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to a method for manufacturing a stamper for an optical disc.

[発明の技術的背景] 近年において、レーザービーム等の高エネルギー密度の
ビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されて
いる。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ
・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静
止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・
メモリーとして使用されうるものである。
[Technical Background of the Invention] In recent years, information recording media using high energy density beams such as laser beams have been developed and put into practical use. This information recording medium is called an optical disc, and includes video discs, audio discs, large-capacity still image files, and large-capacity computer discs.
It can be used as memory.

光ディスクは、基本構造としてプラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられた記録
層とを有する。記録層が設けられる側の基板表面には、
基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるいは
光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質から
なる下塗層または中間層が設けられていることがある。
The basic structure of an optical disk is a disc-shaped transparent substrate made of plastic, glass, or the like, and a recording layer provided thereon. On the surface of the substrate on which the recording layer is provided,
In order to improve the flatness of the substrate, improve the adhesion to the recording layer, or improve the sensitivity of the optical disc, an undercoat layer or intermediate layer made of a polymeric substance is sometimes provided.

光ディスクには、情報の再生のみを目的とした再生専用
型、情報の書き込みが可能な追記型、そして−旦記録し
た情報の書き換えが可能な書き換え型など各種のタイプ
がある。
There are various types of optical discs, including a read-only type for the sole purpose of reproducing information, a write-once type in which information can be written, and a rewritable type in which previously recorded information can be rewritten.

追記型と書き換え型の光ディスクは、記録層の下側にガ
イドトラックの役割をするグループ(プレグルーブ、溝
)が形成されていることが多い。そして、記録層が形成
される前のグループのみが形成された状態のものは、一
般にレプリカディスクとよばれる。一方、再生専用型の
光ディスクでは、その基板の表面に、デジタル化された
情報に対応する複数のビット(小孔)が予め形成されて
いる。
Write-once and rewritable optical discs often have groups (pre-grooves, grooves) formed below the recording layer that serve as guide tracks. A disk in which only groups are formed before the recording layer is formed is generally called a replica disk. On the other hand, in a read-only optical disc, a plurality of bits (small holes) corresponding to digitized information are formed in advance on the surface of the substrate.

これらのグループが形成されたレプリカディスクやピッ
トが予め形成されている光ディスク基板は、スタンパを
備えた金型を用いて、射出成形法、圧縮成形法または2
2法等により成形される。
A replica disk on which these groups are formed or an optical disk substrate on which pits are preformed can be manufactured by injection molding, compression molding, or two-way molding using a mold equipped with a stamper.
It is molded by two methods.

現在、上記のようなレプリカディスクや光ディスク基板
の成形に用いるスタンパは一般に次のような方法により
製造されている。すなわち、まずガラス板等の支持体の
表面にフォトレジスト塗布液を塗布乾燥することにより
フォトレジスト層を形成し、得られたレジスト原盤のフ
ォトレジスト層にレーザー光を照射した後、現像処理を
行なって、所定の凹凸パターンをフォトレジスト層の表
面に形成する。次いで、凹凸が形成されたフォトレジス
ト層の表面に、スパッタ法、エレクトロン・ビーム法、
抵抗加熱蒸着法などの薄膜形成技術を利用して導電膜を
形成し、さらに、その導電膜を電鋳法により成長させて
電鋳層を形成する。
Currently, stampers used for molding replica disks and optical disk substrates as described above are generally manufactured by the following method. That is, first, a photoresist layer is formed by coating and drying a photoresist coating solution on the surface of a support such as a glass plate, and after irradiating the photoresist layer of the obtained resist master with laser light, a development process is performed. A predetermined uneven pattern is formed on the surface of the photoresist layer. Next, the surface of the photoresist layer on which the unevenness has been formed is subjected to sputtering, electron beam,
A conductive film is formed using a thin film formation technique such as a resistance heating vapor deposition method, and then the conductive film is grown by an electroforming method to form an electroformed layer.

次いで、一体化している導電膜と電鋳層とをフォトレジ
スト層から取り外して表面に凹凸パターンを有する金属
板を得る。この金属板が光ディスク製造用スタンパであ
る。
Next, the integrated conductive film and electroformed layer are removed from the photoresist layer to obtain a metal plate having an uneven pattern on its surface. This metal plate is a stamper for manufacturing optical discs.

上記のような一般的な光ディスク製造用スタンパの製造
工程において、フォトレジスト層を形成したレジスト原
盤にレーザー光を照射し、現像処理を行なう際にレジス
ト膜が剥離し易い、あるいは導電膜を電鋳法により成長
させて電鋳層を形成させる電鋳工程の際、電鋳層がフォ
トレジスト層と共に部分的にガラス原盤から浮いたり、
まためっき液の浸透により発泡が起こったりといった現
象が起き易かった。このような剥離が発生した場合、得
られるスタンパは変形、あるいは精度の低下を示し、不
良品となるため、実用上使用できなくなる。
In the manufacturing process of a general stamper for manufacturing optical discs as described above, a resist master on which a photoresist layer is formed is irradiated with laser light, and during development processing, the resist film may easily peel off or the conductive film may be electroformed. During the electroforming process in which the electroformed layer is grown by a method, the electroformed layer may partially lift off from the glass master along with the photoresist layer.
Further, phenomena such as foaming due to penetration of the plating solution were likely to occur. When such peeling occurs, the obtained stamper exhibits deformation or a decrease in precision, and becomes a defective product, making it unusable for practical use.

上記特に電鋳工程時の剥離の問題を解決するために、導
電膜の形成の前に、ガラス原盤上のフォトレジスト層の
内、記録領域(凹凸パターンを有する領域)以外の領域
のフォトレジスト層を除去しておき、該記録領域のフォ
トレジスト層の上に導電膜を形成する光ディスク製造用
スタンパの製造方法(特開昭62−223838号公報
)、あるいは内周側の非記録領域のフォトレジスト層の
み除去しておき、他の領域のフォトレジスト層の上に導
電膜を形成する光ディスク製造用スタンパの製造方法(
特開昭62−243146号公報)が提案されている。
In order to solve the problem of peeling mentioned above, especially during the electroforming process, before forming the conductive film, the photoresist layer in the area other than the recording area (the area with the uneven pattern) of the photoresist layer on the glass master disk is A method for manufacturing a stamper for manufacturing an optical disc (JP-A-62-223838), in which a conductive film is formed on the photoresist layer in the recording area after removing the photoresist layer in the non-recording area on the inner peripheral side. A method for manufacturing a stamper for manufacturing optical discs in which only the photoresist layer is removed and a conductive film is formed on the photoresist layer in other areas (
JP-A-62-243146) has been proposed.

しかし、これらの方法では、記録領域以外にあるフォト
レジストを取り除く工程が必要となることから、製造工
程が複雑になり、製造コストが高くなるとの問題がある
However, these methods require a step to remove photoresist located outside the recording area, which complicates the manufacturing process and increases manufacturing costs.

また、前記の導電膜剥離の問題を解決する目的で、導電
膜を厚く形成する光ディスク製造用スタンパの製造方法
が提案されている(特開昭62−219251号公報)
。しかし、導電膜を厚く形成した場合においても、導電
膜の内部応力が高くなり、ガラス原盤から、導電膜ある
いはそれを成長させた電鋳層が剥離しゃすくなるとの問
題が依然として残る。
Furthermore, in order to solve the problem of the conductive film peeling off, a method for manufacturing a stamper for manufacturing optical disks has been proposed in which the conductive film is formed thickly (Japanese Patent Laid-Open No. 62-219251).
. However, even when the conductive film is formed thick, the problem still remains that the internal stress of the conductive film becomes high and the conductive film or the electroformed layer on which it is grown is likely to peel off from the glass master disk.

[発明の目的] 本発明は、精度が優れた光ディスク製造用スタンパを、
従来の製造方法に特に複雑な工程を導入することなく、
高い再現性(高い歩留り)で製造する方法を提供するこ
とを目的とする。
[Object of the invention] The present invention provides a highly accurate stamper for manufacturing optical discs.
Without introducing particularly complicated processes to conventional manufacturing methods,
The purpose is to provide a manufacturing method with high reproducibility (high yield).

[発明の要旨] 本発明は、ガラス原盤の表面にフォトレジスト層形成用
塗布液を塗布乾燥した後、該レジスト原盤にレーザー光
を照射し、現像処理を行なうことにより該フォトレジス
ト層の表面に所定の凹凸パターンを形成し、次いで該フ
ォトレジスト層の表面の凹凸パターン上に導電膜を形成
したのち、該導電膜上に電鋳層を一体的に形成し、この
電鋳層をフォトレジスト層から分離することからなる光
ディスク製造用スタンパの製造方法において、ガラス原
盤の表面にフォトレジスト層形成用塗布液を塗布する前
に、該ガラス原盤の表面をオゾン処理することを特徴と
する製造方法にある。
[Summary of the Invention] The present invention provides a coating solution for forming a photoresist layer on the surface of a glass master disk, after drying, irradiating the resist master disk with laser light and performing a development process to form a coating solution on the surface of the photoresist layer. After forming a predetermined uneven pattern and then forming a conductive film on the uneven pattern on the surface of the photoresist layer, an electroformed layer is integrally formed on the conductive film, and this electroformed layer is combined with the photoresist layer. A method of manufacturing a stamper for manufacturing an optical disk, which comprises separating the stamper from a glass master, the surface of the glass master being subjected to ozone treatment before coating the surface of the glass master with a coating liquid for forming a photoresist layer. be.

本発明の光ディスク用スタンパの製造方法の好ましい態
様は下記のとおりである。
Preferred embodiments of the method for manufacturing an optical disk stamper of the present invention are as follows.

1)フォトレジスト層形成用塗布液を塗布するより前3
0分以内に、該ガラス原盤の表面をオゾン処理すること
を特徴とする上記光ディスク用スタンパの製造方法。
1) Before applying the photoresist layer forming coating solution 3
The method for producing a stamper for an optical disc as described above, characterized in that the surface of the glass master is subjected to ozone treatment within 0 minutes.

2)上記オゾン処理が、10〜70g/rr1′の濃度
のオゾンガスを含む酸素を5〜15117分の流速にて
、5〜300秒間噴射する処理であることを特徴とする
上記光ディスク用スタンパの製造方法。
2) Production of the optical disk stamper, wherein the ozone treatment is a treatment in which oxygen containing ozone gas with a concentration of 10 to 70 g/rr1' is injected at a flow rate of 5 to 15117 minutes for 5 to 300 seconds. Method.

[発明の効果] 本発明の光ディスクスタンパの製造方法は、上記のよう
にガラス原盤の表面をオゾン処理した後、フォトレジス
ト層形成用塗布液を塗布乾燥することに特徴を有する。
[Effects of the Invention] The method for manufacturing an optical disk stamper of the present invention is characterized in that after the surface of the glass master disk is treated with ozone as described above, a coating liquid for forming a photoresist layer is applied and dried.

本発明によりば、オゾン処理という、操作および時間の
両方の点からみても極めて簡単な工程を上記製造工程中
に導入することにより、ガラス原盤とフォトレジスト層
との密着性を向上させることができ、従って、現像処理
中のレジスト膜の剥離を防止し、またガラス原盤からフ
ォトレジスト層と一緒に電鋳層が浮いて厚み精度が低下
したり、フォトレジスト層へのめつき液の浸透による発
泡が起こったりという剥離現象を防止することができる
。これにより精度が優れた光ディスク製造用スタンパを
、高い再現性で製造することが可能である。
According to the present invention, the adhesion between the glass master and the photoresist layer can be improved by introducing ozone treatment, which is an extremely simple process in terms of both operation and time, into the manufacturing process. Therefore, it prevents peeling of the resist film during the development process, and also prevents the electroformed layer from floating together with the photoresist layer from the glass master, reducing thickness accuracy, and preventing foaming due to penetration of the plating solution into the photoresist layer. It is possible to prevent the peeling phenomenon that occurs. Thereby, it is possible to manufacture a highly accurate stamper for manufacturing optical discs with high reproducibility.

また、本発明のオゾン処理工程を導入することにより、
ガラス原盤とフォトレジスト層との密着性が確保できる
ことから、どのような生産ラインであっても上記オゾン
処理を利用することができ、また上記オゾン処理を利用
することで生産ラインの設計の自由度が高くなるとの利
点がある。
Furthermore, by introducing the ozone treatment process of the present invention,
Since the adhesion between the glass master disk and the photoresist layer can be ensured, the above ozone treatment can be used on any production line, and the use of the above ozone treatment increases the flexibility in the design of the production line. This has the advantage of being higher.

[発明の詳細な記述] 本発明者は、光ディスク製造用スタンパの製造工程にお
いて、導電膜を電鋳法により成長させて電鋳層を形成す
る工程で発生する電鋳層(および導電膜)およびフォト
レジスト層のガラス原盤からの剥離の原因について検討
を重ねてきた。
[Detailed Description of the Invention] In the manufacturing process of a stamper for manufacturing optical discs, the present inventor has discovered that the electroformed layer (and conductive film) and We have repeatedly investigated the causes of peeling of the photoresist layer from the glass master.

前述した従来技術では、ガラス原盤とフォトレジスト層
との密着性についての改善は行なわれず、導電膜とガラ
ス原盤とをフォトレジスト層の周囲で直接接着させるこ
とにより、あるいは導電膜を厚くすることにより、間接
的にガラス原盤とフォトレジスト層との密着性を改善あ
るいはフォトレジストを保護することが試みられている
。しかしながら、これらの方法を族1ノても、ガラス原
盤とフォトレジスト層との本質的な密着性の改善は行な
われないため、ガラス原盤からフォトレジスト層が浮き
易いという欠点は依然として残っていることから、製造
条件の微妙な差異により、フォトレジスト層と一緒に電
鋳層も浮いて厚み精度が低下したり、またフォトレジス
ト層へのめつき液の浸透により発泡が起こったりという
剥離現象を完全に防止することができないことが分かワ
た。
In the above-mentioned conventional technology, the adhesion between the glass master and the photoresist layer is not improved, and it is not possible to improve the adhesion between the glass master and the photoresist layer by directly adhering the conductive film and the glass master around the photoresist layer or by making the conductive film thicker. Attempts have been made to indirectly improve the adhesion between the glass master and the photoresist layer or to protect the photoresist. However, even if these methods are used in Group 1, the essential adhesion between the glass master and the photoresist layer is not improved, so the drawback that the photoresist layer easily lifts from the glass master still remains. Due to subtle differences in manufacturing conditions, the electroformed layer may float together with the photoresist layer, reducing thickness accuracy, or the plating solution may penetrate into the photoresist layer, causing foaming. I realized that I couldn't prevent it from happening.

そこで、本発明者らは、ガラス原盤とフォトレジスト層
との密着性の改善についてさらに検討した。フォトレジ
ストを塗布する前に一般にガラス原盤は、表面が研磨さ
れ、そして洗浄処理が行なわれる。これらの処理は比較
的長時間を要するため、フォトレジストの塗布は通常そ
の翌日以降に行なわれる。しかしながら、洗浄処理され
たガラス原盤の表面は時間と共に有機被膜で覆われるよ
うになり、そしてこのような有機被膜は、ガラス原盤表
面の初期の活性化された状態を失効させることから、上
記密着性の向上には、ガラス原盤表面からこのような有
機被膜を除去した後フォトレジストの塗布を行なうこと
が必要であることが判明した。さらに、この除去方法と
して、オゾン処理、すなわち例えばオゾンガスをガラス
原盤表面に噴射すること等が極めて有効であることが分
かった。
Therefore, the present inventors further investigated ways to improve the adhesion between the glass master disk and the photoresist layer. Before applying photoresist, the surface of the glass master is generally polished and cleaned. Since these treatments require a relatively long time, the photoresist is usually applied the next day. However, the surface of the cleaned glass master disk becomes covered with an organic film over time, and such an organic film invalidates the initial activated state of the glass master surface. It has been found that it is necessary to remove such an organic film from the surface of the glass master disk and then apply a photoresist to improve the resistance. Furthermore, it has been found that ozone treatment, for example, injecting ozone gas onto the surface of the glass master, is extremely effective as a method for removing this.

従って、本発明は、ガラス原盤の表面をオゾン処理した
後、フォトレジスト層形成用塗布液を塗布乾燥し、以下
現像処理、導電膜の形成、該導電膜上に電鋳層の形成、
そしてこの電鋳層の分離を行なうことを特徴とする。
Therefore, in the present invention, after the surface of the glass master is treated with ozone, a coating solution for forming a photoresist layer is applied and dried, followed by development treatment, formation of a conductive film, formation of an electroformed layer on the conductive film, and the like.
The method is characterized in that this electroformed layer is separated.

これにより、オゾン処理という、操作および時間の両面
からみても極めて簡単な工程を上記製造工程中に導入す
ることにより、ガラス原盤とフォトレジスト層との密着
性が向上し、従って、現像処理を行なう際のレジスト膜
の剥離を防止し、またガラス原盤からフォトレジスト層
と一緒に電鋳層が浮いて厚み精度が低下したり、フォト
レジスト層へのめっき液の浸透による発泡が起こワたっ
という剥離現象を防止することができる。これにより精
度が優れた光ディスク製造用スタンパを、高い再現性で
製造することが可能である。
By introducing ozone treatment, which is an extremely simple process in terms of both operation and time, into the above manufacturing process, the adhesion between the glass master and the photoresist layer is improved, and therefore development processing is performed. It also prevents the electroformed layer from floating together with the photoresist layer from the glass master disk, reducing thickness accuracy, and preventing the plating solution from penetrating into the photoresist layer, causing foaming and peeling. This phenomenon can be prevented. Thereby, it is possible to manufacture a highly accurate stamper for manufacturing optical discs with high reproducibility.

また、本発明のオゾン処理工程を導入することにより、
ガラス原盤とフォトレジスト層との密着性が確保できる
ことから、どのような生産ラインであっても上記オゾン
処理を利用することができ、また上記オゾン処理を利用
することで生産ラインの設計の自由度が高くなるとの利
点がある。
Furthermore, by introducing the ozone treatment process of the present invention,
Since the adhesion between the glass master disk and the photoresist layer can be ensured, the above ozone treatment can be used on any production line, and the use of the above ozone treatment increases the flexibility in the design of the production line. This has the advantage of being higher.

本発明の光ディスク製造用のスタンパの製造方法を、代
表的な態様を添付した第1−A図〜第1−G図を参照し
ながら詳しく説明する。
The method for manufacturing a stamper for manufacturing an optical disk according to the present invention will be explained in detail with reference to FIGS. 1-A to 1-G, which illustrate typical embodiments.

第1−A図は、ガラス原盤11を洗浄した後、数十分以
上経過して表面に有機被膜12が形成されたガラス原盤
11の断面図である。ガラス原盤の洗浄は、例えば研磨
材を除去した後、アルカリ洗浄、酸洗浄、超音波洗浄、
そして有機溶剤による洗浄を単独または適宜組合わせて
行ない、イソプロピルアルコールやフレオン蒸気等によ
って乾燥が行なわれることからなる。
FIG. 1-A is a sectional view of the glass master 11 on which an organic coating 12 has been formed on the surface several tens of minutes or more after the glass master 11 has been cleaned. For example, after removing the abrasive material, glass master disks can be cleaned using alkaline cleaning, acid cleaning, ultrasonic cleaning,
Then, cleaning with an organic solvent is performed alone or in an appropriate combination, and drying is performed with isopropyl alcohol, Freon vapor, or the like.

第1−B図は、第1−A図のガラス原盤11の表面にオ
ゾンガスが噴射されて有機被膜12が除去されたガラス
原盤11の断面図である。このオゾン処理されたガラス
原盤11の表面に、処理後できるだけ早くフォトレジス
ト用塗布液を塗布することが好ましい。さらに好ましく
は処理後30分以内に、特に好ましくは処理直後に塗布
することである。このオゾン処理によりガラス原盤とフ
ォトレジストとの密着性が向上する。これは、上記オゾ
ン処理により有機被膜12が酸化分解され、例えば水、
炭酸ガスとなって除去されて、親水性のガラス表面が現
われるためと推察される。
FIG. 1-B is a cross-sectional view of the glass master 11 shown in FIG. 1-A after the organic film 12 has been removed by injecting ozone gas onto the surface of the glass master 11. It is preferable to apply a photoresist coating liquid to the surface of the ozone-treated glass master 11 as soon as possible after the treatment. More preferably, the coating is applied within 30 minutes after the treatment, particularly preferably immediately after the treatment. This ozone treatment improves the adhesion between the glass master and the photoresist. This is because the organic film 12 is oxidized and decomposed by the ozone treatment, and for example, water,
This is presumed to be because it is removed as carbon dioxide gas and a hydrophilic glass surface appears.

上記オゾン処理の条件は、ガラス原盤を加熱(好ましく
は200〜300℃)した後、該ガラス原盤に10〜7
0g/m″の濃度のオゾンガスを含む酸素を・5〜15
iL/分の流速にて、5〜300秒間噴射することが好
ましい。
The conditions for the above ozone treatment are such that after heating the glass master (preferably 200 to 300°C),
Oxygen containing ozone gas at a concentration of 0g/m''.
Preferably, the injection is performed for 5 to 300 seconds at a flow rate of iL/min.

第1−C図は、レジスト原盤10の断面図である。レジ
スト原盤10は、支持体としてのガラス板11の表面に
、例えばポジタイプのフォトレジスト層13が形成され
ている。このレジスト原盤IOのフォトレジスト層に、
記録対象の情報信号により変調されたレーザー光を照射
させた後、現像処理(一般にアルカリ性の水溶液が使用
される)を行なうことにより、所定の凹凸パターンが形
成された第1−D図の構成を有する光ディスク原盤14
が得られる。
FIG. 1-C is a sectional view of the resist master 10. FIG. The resist master 10 has, for example, a positive type photoresist layer 13 formed on the surface of a glass plate 11 serving as a support. In the photoresist layer of this resist master IO,
After being irradiated with a laser beam modulated by the information signal to be recorded, a development process (generally an alkaline aqueous solution is used) forms the structure shown in Figure 1-D in which a predetermined uneven pattern is formed. Optical disc master 14 having
is obtained.

本発明のレジスト原盤10は、フォトレジスト層とガラ
ス原盤表面との間の密着性が極めて優れているため、所
定の凹凸パターンが形成するための現像処理の際にレジ
スト膜の剥離はほとんど発生することはない。従って、
得られる光ディスク原盤14は、ガラス原盤上に所定の
凹凸パターンが正確に形成されたものであるということ
ができる。
Since the resist master 10 of the present invention has extremely excellent adhesion between the photoresist layer and the surface of the glass master, peeling of the resist film almost never occurs during the development process to form a predetermined uneven pattern. Never. Therefore,
The resulting optical disk master 14 can be said to have a predetermined concavo-convex pattern accurately formed on a glass master.

次に、第1−D図の光ディスク原盤14の凹凸が形成さ
れた側の表面にスパッタリング等の方法により導電膜に
ッケルなどの導電性の高い金属の薄膜)15を形成し、
第1−E図の導電膜15を有する光ディスク原盤が得ら
れる。この際、導電層は、フォトレジスト層13が外界
との接触しないように、フォトレジスト層13の表面の
みならず、その側面13aを越えて、支持体の側面11
aにまで行なうことが好ましい(第1−E′図)。すな
わち、フォトレジスト層と支持体との界面を越える位置
まで導電膜を形成させることにより、フォトレジスト層
の電鋳工程に招ける電鋳液との接触を防止するに特に有
効である。
Next, a thin film 15 of a highly conductive metal such as nickel is formed as a conductive film on the surface of the optical disc master 14 shown in FIG. 1D on the side where the irregularities are formed by a method such as sputtering.
An optical disk master having the conductive film 15 shown in FIG. 1-E is obtained. At this time, the conductive layer is applied not only to the surface of the photoresist layer 13 but also beyond the side surface 13a of the support body so that the photoresist layer 13 does not come into contact with the outside world.
It is preferable to carry out the process up to point a (Fig. 1-E'). That is, by forming the conductive film to a position beyond the interface between the photoresist layer and the support, it is particularly effective to prevent the photoresist layer from coming into contact with the electroforming solution that may occur during the electroforming process.

第1−F図は、第1−E図で示した電鋳層16を、電鋳
法によりさらに成長させた状態を示す断面図である。本
発明においては、ガラス原盤とフォトレジスト層との密
着性が向上しているので、ガラス原盤からフォトレジス
ト層と一緒に電鋳層が浮いて厚み精度が低下したり、フ
ォトレジスト層へのめっき液の浸透により発泡が起こっ
たりという剥離現象がほとんど発生しない。
FIG. 1-F is a sectional view showing a state in which the electroformed layer 16 shown in FIG. 1-E is further grown by electroforming. In the present invention, since the adhesion between the glass master and the photoresist layer is improved, the electroformed layer may float together with the photoresist layer from the glass master, resulting in a decrease in thickness accuracy and the plating on the photoresist layer. Peeling phenomena such as foaming due to liquid penetration hardly occur.

従って、電鋳層16は、上記の第1−A図〜第1−F図
の工程により光ディスク原盤14上に、良好に形成され
ているため、凹凸が形成された側の反対側表面での研磨
を高い精度で行なうことができる。そして、内外周にお
いて打ち抜き加工が施されてスタンパが得られる。上記
研磨には、例えばアルミナ、硝酸アルミナ等の研磨材が
使用される。
Therefore, since the electroformed layer 16 is well formed on the optical disc master 14 through the steps shown in FIGS. Polishing can be performed with high precision. Then, punching is performed on the inner and outer peripheries to obtain a stamper. For the above polishing, an abrasive such as alumina or alumina nitrate is used.

第1−G図は、光ディスク原盤14に形成された電鋳層
16が研磨され、光ディスク原盤14から分離され、次
いで、内径側および外径側で打ち抜き加工が施されてス
タンパ17として製造された状態を示す断面図である。
FIG. 1-G shows that the electroformed layer 16 formed on the optical disc master 14 is polished and separated from the optical disc master 14, and then punched on the inner and outer diameter sides to produce a stamper 17. It is a sectional view showing a state.

第1−A図〜第1−G図において説明した光ディスク製
造用のスタンパの製造方法は、本発明の製造方法のうち
の好ましいものを述べたものであり、本発明は、上記の
ような構成に限定されるものではない。たとえば、導電
膜および電鋳層をニッケルの他の金属を用いて形成して
もよい。
The method for manufacturing a stamper for manufacturing an optical disc explained in FIGS. 1-A to 1-G is a preferable method of manufacturing the present invention, and the present invention is directed to the above-described structure. It is not limited to. For example, the conductive film and the electroformed layer may be formed using a metal other than nickel.

本発明の光ディスク製造用のスタンパの製造方法におい
て使用される材料について簡単に説明する。
The materials used in the method for manufacturing a stamper for manufacturing an optical disk according to the present invention will be briefly described.

ガラス原盤の材料としては、ソーダライム、ノンアルカ
リガラス、光学ガラスおよびパイレックス等を挙げるこ
とができる。好ましくは、価格の点からソーダライムガ
ラスである。
Examples of the material for the glass master disc include soda lime, non-alkali glass, optical glass, and Pyrex. Soda lime glass is preferred from the viewpoint of price.

フォトレジストの材料は、レーザー光の照射により現像
可能なものであれば何でもよく、例えば、ポジ型の材料
としてはAXシリーズ(ヘキスト社) 、Micro 
Po5itシリーズ(シブレー社)、0FPRシリーズ
(東京応化■)およびにMPRシリーズ(コダック社)
等を挙げることができる。また、ネガ型の材料としては
、例えばキノンアジド系化合物や光分解剤とフェノール
ノボラックの併用などを利用することができる。
The photoresist material may be any material as long as it can be developed by irradiation with laser light. For example, positive type materials include AX series (Hoechst), Micro
Po5it series (Sibley), 0FPR series (Tokyo Ohka), and MPR series (Kodak)
etc. can be mentioned. Further, as a negative type material, for example, a quinone azide compound or a combination of a photodegrading agent and a phenol novolac can be used.

次の本発明の実施例および比較例を記載する。The following examples and comparative examples of the present invention will be described.

但し、これらの各側は本発明を制限するものではない。However, each of these aspects does not limit the present invention.

[実施例1] 外径240mm、厚さ6mmの鏡面に研磨されたソーダ
ライムガラス原盤を、アルカリ洗浄性ない、−8後、ガ
ラス原盤表面に20g/rn’のオゾンガスな含む酸素
を81/分の流速にて20秒間噴射してオゾン処理を行
ない、すぐにその表面にネガ型のフォトレジスト塗布液
をスピンコーターにて塗布し、乾燥することによりi 
ooo又の層厚のフォトレジスト層を設けた。得られた
レジスト原盤にレーザー光を露光(カッティング)し、
アルカリ水溶液にて現像処理を行ない表面にパターンを
形成した。次いでその表面のパターン上にNiをスパッ
タリングにより厚さ125o又のNi導電膜を形成した
のち、該導電膜上にNiメツキを行なうことにより30
0μmの電鋳層を一体的に形成し、その後電鋳層の裏面
を研磨材としてセロックスを使用して鏡面に研磨し、こ
の電鋳層をフォトレジスト層から分離してスタンパを作
成した。
[Example 1] A soda-lime glass master polished to a mirror surface with an outer diameter of 240 mm and a thickness of 6 mm was cleaned with alkali. After -8, the surface of the glass master was heated with 20 g/rn' of oxygen containing ozone gas at 81/min. Ozone treatment is carried out by spraying at a flow rate of
A photoresist layer with a thickness of 100 mm was provided. The resulting resist master is exposed (cut) to laser light,
A pattern was formed on the surface by developing with an alkaline aqueous solution. Next, a Ni conductive film with a thickness of 125° was formed on the pattern on the surface by sputtering Ni, and then Ni plating was performed on the conductive film to form a 30° thick Ni conductive film.
An electroformed layer of 0 μm was integrally formed, and then the back surface of the electroformed layer was polished to a mirror surface using Cerox as an abrasive, and this electroformed layer was separated from the photoresist layer to create a stamper.

[比較例1] 実施例1において、オゾン処理を行なわなかった以外は
実施例1と同様にしてスタンパを作成した。
[Comparative Example 1] A stamper was produced in the same manner as in Example 1 except that the ozone treatment was not performed.

1)電鋳層の浮き 2)電鋳層の剥離 3)裏面研磨時の研磨材の浸透 上記三点について、Ni導電膜形成後、電鋳時にあける
発生の有無を観察した。
1) Lifting of the electroformed layer 2) Peeling of the electroformed layer 3) Penetration of abrasive during backside polishing Regarding the above three points, after forming the Ni conductive film, the presence or absence of cracks during electroforming was observed.

その結果、実施例1では上記浮き、剥離等の発生はなか
ったが、比較例1では多数発生した。そして、その剥離
界面がガラス原盤とフォトレジストとの間であることも
観察した。
As a result, in Example 1, the above-mentioned lifting, peeling, etc. did not occur, but in Comparative Example 1, many occurred. It was also observed that the peeling interface was between the glass master and the photoresist.

従フて、本発明のオゾン処理が浮き、剥離等の発生の防
止に有効であることが分かる。
Therefore, it can be seen that the ozone treatment of the present invention is effective in preventing the occurrence of floating, peeling, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1−A図〜第1−G図は、本発明の光ディスク製造用
スタンパの製造方法を説明するための模式図である。 10 : 11 : 1a 12 : 13 = 3a 14 : 15 : 16 = 17二 レジスト原盤 ガラス原盤 ニガラス原盤側面 有機被膜 フォトレジスト層 :フォトレジスト層側面 光ディスク原盤 導電膜層 電鋳層 スタンパ
1-A to 1-G are schematic diagrams for explaining the method of manufacturing a stamper for manufacturing an optical disk according to the present invention. 10: 11: 1a 12: 13 = 3a 14: 15: 16 = 17 Two-resist master Glass master Two Glass master Side organic coating Photoresist layer: Photoresist layer Side Optical disk master Conductive film layer Electroformed layer Stamper

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1。ガラス原盤の表面にフォトレジスト層形成用塗布液
を塗布乾燥した後、該レジスト原盤にレーザー光を照射
し、現像処理を行なうことにより該フォトレジスト層の
表面に所定の凹凸パターンを形成し、次いで該フォトレ
ジスト層の表面の凹凸パターン上に導電膜を形成したの
ち、該導電膜上に電鋳層を一体的に形成し、この電鋳層
をフォトレジスト層から分離することからなる光ディス
ク用スタンパの製造方法において、 ガラス原盤の表面にフォトレジスト層形成用塗布液を塗
布する前に、該ガラス原盤の表面をオゾン処理すること
を特徴とする製造方法。
[Claims] 1. After applying and drying a coating liquid for forming a photoresist layer on the surface of a glass master disk, the resist master disk is irradiated with laser light and developed to form a predetermined uneven pattern on the surface of the photoresist layer. A stamper for an optical disc, which comprises forming a conductive film on the uneven pattern on the surface of the photoresist layer, integrally forming an electroformed layer on the conductive film, and separating the electroformed layer from the photoresist layer. A manufacturing method characterized in that the surface of the glass master is subjected to ozone treatment before applying the photoresist layer forming coating liquid to the surface of the glass master.
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