JPH0220032Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 【考案の属する技術分野】

本考案は、例えばアモルフアスシリコン膜生成
装置のような爆発性（燃焼性）ガスを用いる
CVD装置の排ガス処理を行う装置に関する。

【従来技術とその問題点】

CVD装置の排ガスを環境中へそのまま放出し
ないための処理装置として第２図に示すようにガ
スを水に溶解させて処理する装置が知られてい
る。第２図において、気密容器１の内部には上部
に穴明き板３の上に置かれたフイルタ２、その下
に数段にメツシユ４が配置され最上部のシヤワー
５および中間の噴出口６からバルブ７によつて水
量を調節される水が供給される。排ガス８は下部
の導入口９から導入され、メツシユ４の上に溜る
水１０あるいはフイルタ２の中を流れ落ちる水と
接触して水に溶解され、無害となつたガスが上部
の排気口１１から排出される。水は底板１６の上
に溜り、管１２から水槽１３に入る。水槽１３か
ら溢れた水は排水口１４から出て必要により化学
処理を行つた後放水される。また水槽１３の中の
水はポンプ１５により循環使用される。しかし、
例えばアモルフアスシリコン生成のためのCVD
装置のように反応ガスとしてシランガスに水素を
混合して用いる場合、容器１に漏れが生ずると酸
素が容器内に入り、未反応シランおよび水素と反
応して燃焼ないし爆発が起こる危険性が存在し
た。

【考案の目的】

本考案は、上述の問題に対処して排ガス中に燃
焼ないし爆発の危険性のあるガスを含む場合にも
安全が保証される排ガス処理装置を提供すること
を目的とする。

【考案の要点】

本考案による排ガス処理装置は、内側容器を外
側容器で覆う二重構造の容器からなり、両容器の
間に存在する空間の一端には窒素供給口、他端に
は窒素排出口が開口し、内側容器の上端には排気
口、上部には給水口、下部には排ガス導入口、下
端には排水口がそれぞれ開口し、給水口と排水口
の間には水の自由な落下を阻害する手段を有する
ことによつて上記の目的を達成する。

【考案の実施例】 第１図は本考案の一実施例を示し、第２図と共
通の部分には同一の符号が付されている。この排
ガス処理装置は二重構造で、第２図の容器１を包
む外側容器２１が外側に設けられている。容器１
の内部には第２図の場合と同様にシヤワー５およ
び水噴出口６が存在し、フイルタ２、メツシユ４
が配置されている。この場合バルブ７の軸は外側
容器２１を気密シール２２を介して貫通し、容器
外から操作できるようになつている。外側容器２
１の下部には窒素供給口２３がバルブ２４を介し
て開き、内側容器の排気口１１を囲む排出口２５
に至る外側容器２１と内側容器１との間の空間に
窒素を流入させることができる。これにより容器
外の大気から酸素が内側容器１の内側に入つて、
例えば排ガス中の水素と化合し爆発が起きるのを
防ぐ。また排水口１４からの大気の入り込みを防
ぐために、ドレインタンク２６を設けて、排水管
２７をその中に開口させる水シール構造となつて
いる。

【考案の効果】

本考案によれば、排ガスを上部から供給される
水と接触させて水に溶解させる排ガス処理装置の
容器をさらに気密容器で包み込み、両容器の間に
窒素を流すことにより大気からの酸素が処理装置
内に入り込んで燃焼あるいは爆発の生ずる危険性
が低減される。また従来行われていた爆発防止の
ための排ガス中への窒素ガスの混合量も低減でき
あるいは省くことも可能になる効果も生ずる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示す断面図、第２
図は従来例を示す断面図である。 １：内側容器、２：フイルタ、４：メツシユ、
５：シヤワー、６：水噴出口、８：排ガス、９：
導入口、１１：排気口、１３：水槽、１４：排水
口、２１：外側容器、２３：N₂供給口、２５：
N₂排出口。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 内側容器を外側容器で覆う二重構造の容器から
   なり、両容器の間に存在する空間の一端には窒素
   供給口、他端には窒素排出口が開口し、内側容器
   の上端には排気口、上部には給水口、下部には排
   ガス導入口、下端には排水口がそれぞれ開口し、
   給水口と排水口の間には水の自由な落下を阻害す
   る手段を備えたことを特徴とする排ガス処理装
   置。