JPH02200800A - 電気めっき装置 - Google Patents

電気めっき装置

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JPH02200800A
JPH02200800A JP2061989A JP2061989A JPH02200800A JP H02200800 A JPH02200800 A JP H02200800A JP 2061989 A JP2061989 A JP 2061989A JP 2061989 A JP2061989 A JP 2061989A JP H02200800 A JPH02200800 A JP H02200800A
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Yasuhiko Hino
日野 康彦
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気めっきにおけるめっきi厚分布均一化の
為のめっき電流分布調節に関するもので、特に微細パタ
ーン選択電気めっき工法における、複数の個別に電流値
設定可能な小陽極の組機木を用いて行うめっき電流分布
調節方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、電気めっきにおけるめっき膜厚分布の均一化は、
一般に電流が集中する(即ちめっき膜の厚くなる〉めっ
きエリア周囲部分に、電流集中を緩和する補助陰極や遮
蔽板を設ける方法によって行われていた4そして高度に
均一なめっき、投原を必要とするLSI搭載用等の高密
度配線基板を、選択電気めっき工法により製造する場合
においてら、めっきのエリアの周囲部分と中央部分のめ
っき膜厚差の改善を主目的としな、めっきエリア全体を
巨視的に捉えた電流分布調節方法が行われていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の電流分布調節方法は、めっきエリア全体
について巨視的に捉え電流分布を調節しようとしている
ので、年々微細高密度化しさらに大型化するLSI搭載
用等の高密度配線基板を、選択電気めっき法により製造
する場合においては、めっきエリア内の配線パターンの
濃淡(即ちめっきエリアを小面積に区切って見た場合に
、各製品毎に固有の、設計ルールが許す最大限度いっば
いまで高密度に配線が有る部分や、反対にほとんど配線
の無い部分等があること)によって発生する、めっき電
流の局所的分配不f4.(即ちめっき膜厚の不均一)を
解決できないという欠点が有った。また補助陰極や遮蔽
板を、小区分しなめっきエリア毎にS流分布を調節でき
るように改良することは、被めっき物毎にそれらを交換
しなければならない欠点が有り、さらに電流分布を調節
する効果を充分発揮させるために、それらを被めっき物
に極めて接近させなければならず、めっき液の循環不良
によるメツキ析出不良が発生する欠点が有った。
本発明の目的は前記課題を解決した電気めっきの電流分
布調節方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
前記目的を達成するため、本発明の電気めっき電流分布
調節方法は、個々に所望の電流値設定可能な小陽極を少
なくとも2つ以上組み合せ組織した複合陽極を、被めっ
き面に対向して配置し、かつ個々の小陽極の電流を適性
に調節することによって、被めっきエリアのめつき電流
分布を調整するものである。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の電気めっき電流分布調節方
法に用いた複合陽極の正面図である0本実施例では16
個の小陽極1を組み合せ四角形の複合陽極としているが
、本発明の範囲はそれに限定するものでないことは熱論
である0図中、3は陽極フレーム、4は陽極リード線で
ある。
第2図は第1図の縦断面図である。小陽極1は例えば白
金めっきチタンメツシュ等で製作した網状の陽極板であ
る。陽極枠2は例えば耐熱性塩化ビニル等で製作した、
16分割の仕切りを有する蓋及び底のない枠である。小
陽極1は陽極枠2に取り付は固定され、更に電気的に各
々絶縁されている。陽極フレーム3は例えば耐熱性塩化
ビニル等で製作した、陽極枠2をめっき槽等に取り付け
るための支持具である。陽極リード線4は例えば白金め
つきチタンワイヤーに樹脂コーティングした電線であり
、小陽極1個々に接続され陽極フレーム3を貫通し外部
に引き出される。
第3図は本発明の電流分布調節方法を採用した電気めっ
き装置の一実施例の複合陽極作用説明用の縦断面図であ
る。複合111fi5は前記第1図及び第2図で説明し
た本発明による陽極である。めっき電源6は小陽極1の
数に対応したチャネル数を持つめっき電流の供給源であ
る。+給電線7はめつき電源6のプラス側各チャネルを
、小陽極1から各々引き出された陽極リード線4に接続
するリード線である。尚、第3図では緊雑になるので1
本の十給電線7を示し、他は省略した。−給電母線8は
めっき電源6のマイナス側を一括し被めっき基板側に接
続するリード線である。陰極端子っは被めっき基板11
に良好な電気的接触を行うための端子である。被めっき
面10は本発明の電流分布調節方法を用いてめっきする
部分である。被めっき基板11は被めっき面10を有す
る部品である。尚、第4図及び第5図で更に詳細を説明
する。ホルダー12は被めっき基板11を複合陽極5に
対し適正な位置に保持するための治具である。めっき液
13は被めっき面10に所定のめっき膜を析出させるた
めの電解液である。めっき[14はサービスタンク、め
っき液Wi環配管及びめっきチャンバーから成る電気め
っき装置本体である。ポンプ15はめつき液を循環させ
るためのポンプである。
次にその作用を説明する。まず、めっき液の循環経路に
ついて説明する。めっき液13はポンプ15によって循
環配管を矢印の方向に流れ複合陽極5に達する。複合陽
&i5に組み込まれている小陽極1は網状であるので、
めっき液13は小陽極1に接触しながら複合陽極5を通
過しさらに上昇し、被めっき面10に接触する。被めっ
き而10に達しためっき液13は被めっき基板11とホ
ルダー12の隙間から溢れ出て下部のサービスタンクに
戻る4次に、めっき電流の流れを説明する。めっき電源
6から十給電117を通じて各々の小陽極1に送られた
電流は、めっき液13を通じて被めっき而10に送られ
る。さらに陰極端子9に集められ、−給電母線8を通じ
てめっき電源6に戻る0次に電流分布調節方法について
説明する。各々適性に設定された小陽極1に供給された
電流は、はとんど全部が被めっき而10に向かって流れ
出す、ポンプ15側に向かう電流は無視できる。小陽極
1から流れ出た電流は複合陽ai5の内部を進む間、陽
極枠2によってお互いに絶縁されているため、設定値に
保たれている。複合陽極5から出た電流は陽極枠2の仕
切り効果が無くなるため、お互いに混じり合い、被めっ
き而10と複合陽極5とホルダー12とで形成される空
間形状によって決定される電流分布になっていくが、単
一の陽極から放出された電流分布とは違った、良く個々
の小陽極1の電流設定値を反映した電流分布とすること
ができる。従って、本発明の電流分布調節方法にとって
、複合111[i5は上面と被めっき而10の距離は重
要な意味をらち、本実施例では100 m以下の距離で
有効な電流調節の効果が得られた。
第4図は被めっき基板11の説明正面図である。
めっきパターン16は配線として形成するためめっきを
析出させる部分であり、被めっき基板11 、にに(社
)在している。
第5図は被めっき基板11の断面説明図である。
電極薄膜17は例えばスパッタリング等によって形成す
るめ−)き電極となる金属薄膜である。絶縁基板18は
高密度配線基板のベースとなる基板である・スルーホー
ル19は外部出力等のための絶縁基板18を貫通する導
体である。めっきレジスト20は選択めっきを行うため
のコーテイング膜であり、フォトリソグラフィ等により
配線パターンが描かれる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、個々に所望の電流値設定
可能な小陽極を少なくとも2つ以上組み合せ組織した複
合陽極を、被めっき面に対向して配置し、かつ個々の小
陽極の電流を適性に調節することにより、めっき液の循
環不足によるめっき析出不良を発生することなく、しか
も作業の容易な電流値の設定変更によって、小区分した
め−)きエリア毎に電流分布を調節できる効果が有る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の複合陽極の正面図、第2図は第1図の
A−A線断面図、第3図は本発明による複合陽極による
電流分布調節作用説明断面図、第4図は被めっき基板説
明図、第5図は被めっき基板断面の説明図である。 1・・・小陽極 3・・・陽極フレーム 5・・・複合陽極 7・・・十給電線 9 ・・・ # % @  二f− 11・・・被めっき基板 13・・・めっき液 15・・・ボンフ。 17・・・電極薄膜 19・・・スルーホール

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)個々に所望の電流値設定可能な小陽極を少なくと
    も2つ以上組み合せ組織した複合陽極を、被めっき面に
    対向して配置し、かつ個々の小陽極の電流を適性に調節
    することによって、被めっきエリアのめっき電流分布を
    調整することを特徴とする電気めっきの電流分布調節方
    法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0499899A (ja) * 1990-08-15 1992-03-31 Arumetsukusu:Kk メッキ装置
JP2008019501A (ja) * 2006-06-14 2008-01-31 Electroplating Eng Of Japan Co ウェハーめっき方法
US7794573B2 (en) 2003-12-05 2010-09-14 Semitool, Inc. Systems and methods for electrochemically processing microfeature workpieces
JP2017115221A (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 住友電工プリントサーキット株式会社 プリント配線板用めっき装置及びプリント配線板の製造方法
WO2025057488A1 (ja) * 2023-09-14 2025-03-20 株式会社Screenホールディングス めっき装置およびめっき方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235029U (ja) * 1985-08-20 1987-03-02
JPS63259098A (ja) * 1987-04-15 1988-10-26 Sumitomo Metal Ind Ltd 連続電気メツキ設備のメツキ電流制御方法
JPH0270099A (ja) * 1988-09-05 1990-03-08 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気めっき方法及び装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235029U (ja) * 1985-08-20 1987-03-02
JPS63259098A (ja) * 1987-04-15 1988-10-26 Sumitomo Metal Ind Ltd 連続電気メツキ設備のメツキ電流制御方法
JPH0270099A (ja) * 1988-09-05 1990-03-08 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気めっき方法及び装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0499899A (ja) * 1990-08-15 1992-03-31 Arumetsukusu:Kk メッキ装置
US7794573B2 (en) 2003-12-05 2010-09-14 Semitool, Inc. Systems and methods for electrochemically processing microfeature workpieces
JP2008019501A (ja) * 2006-06-14 2008-01-31 Electroplating Eng Of Japan Co ウェハーめっき方法
JP2017115221A (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 住友電工プリントサーキット株式会社 プリント配線板用めっき装置及びプリント配線板の製造方法
WO2025057488A1 (ja) * 2023-09-14 2025-03-20 株式会社Screenホールディングス めっき装置およびめっき方法
JP2025042227A (ja) * 2023-09-14 2025-03-27 株式会社Screenホールディングス めっき装置およびめっき方法

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