JPH02203444A - フレキシブル光ディスクの製造方法及び製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フレキシブル光ディスクの製造方法及びその
製造装置に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、レーザー光を用いた情報の記録、再生を行う光記
録システムは、高密度記録が可能であり、また記録され
た情報の続出時間が短く、更に情報の記録、再生が非接
触で行われる為、記録媒体の耐久性が優れている等の点
から脚光を浴びている。

このような、光記録システムに供される光ディスクは周
知の如（射出成型法等で製造されているが、製造装置が
大型で複雑であり、管理が難しい等の問題がある。キこ
て製造装置の簡略化、更には製造プロセスの簡略化、高
速化の為種々の研究、開発が行われている。例えば、光
ディスクの形態に着目し、現在広く普及している１、０
ｍ／ｍ以上の厚さの剛性体から厚さ０．１ｍ／ｍ程度の
可撓性体にすることにより、原料を巻き取りロールの形
で供給することを可能とし、製造装置の簡略化、製造プ
ロセスの簡略化を図る等である（例えば特開昭５６−５
１０３１号、特開昭５７−１３３５３３号） 〔発明が解決すべき課題〕 しかしながら、このような手法を用いた場合、上記のフ
レキシブル光ディスクの製造においては工程中に平プレ
スを含むために、連続処理とはいえ間欠送りとなり、そ
の結果製造に時間がかかり、装置も複雑化するという問
題点がある。又、フレキシブル光ディスクに対しては光
記録システムとして要求される平面精度が必要であり、
基材フィルム及び凹凸による光学的情報を形成する層の
それぞれの平面精度、更には両者が一体になった時の平
面精度が重要な問題となる。

本発明は上記問題点を解決するためのもので、製造装置
を簡略化すると共に製造時間を短縮し、かつ光記録媒体
に要求される高いディスク平面精度を達成することがで
きるフレキシブル光ディスクの製造方法及び製造装置を
提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記の問題点を解決すべく種々検討の結果、凹凸による
光学的情報を形成する為の樹脂の粘度を常温において２
００ｃｐｓ以下とすることにより、光ディスク原版上に
樹脂を２０μｍ以下の厚みで均一に塗布することを可能
とし上記の問題点を解決しうることを見出して本発明を
完成させたものである。即ち本発明は、凹凸による光学
的情報を形成する為の樹脂の粘度を常温において２００
０ｐｓ以下とすることにより、凹凸による光学的情報形
成層の厚みを２０μｍ以下で均一なものにすることによ
り達成される。

〔作用〕

第１図は本発明により得られるフレキシブル光ディスク
の断面斜視図、第２図は本発明の原理を示す図である。

図中、１は基材フィルム、２は光学的情報形成層、３は
光ディスク原版、４はニップローラー、５は剥離ロール
、６は放射線源である。

第１図において、基材フィルム１の上に凹凸による光学
的情報形成層２が形成され、更にその上にアルミニウム
蒸着膜等の光反射膜とその保護層が設けられる。即ち、
第２図に示すように、スタンバ−、マザー等あらかじめ
光学的情報に対応する凹凸が刻みこまれている光ディス
ク原版３の上に、粘度が常温で２００ｃｐｓ以下の樹脂
を塗布して光学的情報形成層２を形成する。その上から
基材フィルムｌをニップローラ４にて気泡を抱き込まぬ
よう押圧、密着した後、高圧水銀灯等の紫外線あるいは
電子線源等の放射線源６より紫外線、電子線等の放射線
を照射し、光学的情報形成層２を硬化し、剥離ロール５
により基材フィルムｌと光学的情報形成層２の積層物を
光ディスク原版３から剥離し光学的情報のレプリカを得
る。ここで光学的情報形成層２を形成する為の樹脂の粘
度を常温で２ＱＯｃｐｓ以下とすることにより、温調装
置等を必要とすることなく、２０μｍ以下の厚みで均一
に塗布することが容易に達成できる。次いでこの光学的
情報のレプリカにアルミニウム蒸着膜等の光反射膜、そ
の保護層を形成しく図示せず）、所定の大きさに打抜き
あるいは切り抜いてフレキシブル光ディスクを得る。

第３図は本発明のフレキシブル光ディスクの製造装置の
一例を示す図で、第１図、第２図と同一番号は同一内容
を示している。なお、６−１．６−２は高圧水銀灯、７
は原反ロール、８はしわとりロール、９はテンションロ
ール、ｌＯは巻き取りロール、１１は版胴用モータ、１
２は巻き取りロール用モータ、１３はニップロール用シ
リンダ、１４はニップロール用フレーム固定軸、１５は
樹脂パン、１６は樹脂かき上げ用金属ロール、１７はコ
ーティング用ゴムロール、１８はコーティングユニット
用フレーム、１９はコーティングユニット用エアシリン
ダ、２０はコーティングユニット用フレーム固定軸であ
る。

図において、原反ロール７から供給された基材フィルム
１はしわ取りロール８を経てニップロール４にて表面に
光ディスク原版が巻きつけられた版銅３　（複製シリン
ダ）に光学的情報層を形成する為の樹脂を介して押圧、
密着される。その後、基材フィルム１／光学的情報層を
形成する為の樹脂／版銅３の王者が密着したままの状態
で高圧水銀灯６−１の下を通過し、光学的情報層を形成
する為の樹脂を硬化させ、剥離ロール５により基材フィ
ルムと光学的情報形成層の積層物を版！４３より剥離し
た後、テンションロール９を経て巻き取りロールｌＯに
巻き取られる。この際、高圧水銀灯６−１だけで樹脂の
硬化が不十分な場合はテンションロール９の近傍に高圧
水銀灯６−２を設けても良い。以上において版銅３、巻
き取りロール１０はそれぞれモーター１１．１２により
矢印ａ１ｂの方向に回転する。又、ニップロール４、コ
ーティングロール１７はそれぞれエアシリンダ１３．１
９によりそれぞれのフレーム固定軸１４．２０を支点と
して押圧される。ここでニップロール４のニップ圧は適
宜決定すれば良いが、線圧で１０ｋｇｆ／Ｃｍを越える
と樹脂に必要以上の圧力がかかり、その結果樹脂が原反
幅以上に展延され光学的情報形成層の厚さ精度が損なわ
れるほか、樹脂がしごき出される為に光学的情報形成層
の形成されない部分が生じる等の問題が発生するので注
意を要する。又、巻き取りスピードは用いる放射線源の
容量及び用いる樹脂の硬化速度を考慮して適宜決定され
る。

次ぎに、コーティングロール部分について更に説明する
。第４図はコーティングロール近辺の拡大図で、２１は
版銅用ギア、２２はゴムロール用ギア、２３は金属ロー
ル用ギア、２４はドクターである。

樹脂溜め１５から掻き上げロール１６にて掻き上げられ
た樹脂はドクター２４でその量を規定され、コーティン
グロール１７を介して版銅３に転写される。ここで樹脂
はその粘度が常温で２００Ｃｐｓ以下の為、温調装置等
を必要とすることなく２０μｍ以下で均一に版銅３にコ
ーティングすることが可能となる。こうして得られたフ
レキシブル光ディスクレプリカの巻き取りは、この後ア
ルミニウム蒸着膜等の光反射膜、その保護膜を設けられ
更に打抜き等の工程を経てフレキシブル光ディスクとし
て完成される。

〔実施例〕

上記の本発明について、以下に実施例を挙げて更に詳し
く説明する。

〔実施例１〕 第３図において原反として易接着処理済みで１００μｍ
の厚さを有するポリエチレンテレフタレートフィルム、
紫外線硬化性の樹脂として以下に示すアクリルモノマー
類の混合液を用いた。

ヒドロキシエチルアクリレート　　４０重量部ネオペン
チルグリコールジアクリレート４０重量部 ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール
ジアクリレート　　　　　　２７重量部イルガキコア６
５１　　　　　　　１重量部イルガキコア１８４　　　
　　　０．５重量部この混合液の粘度は常温で５０ｃｐ
ｓ以下であった。版銅３には４００μｍの厚さを有する
ポリカーボネイト上に光学的情報に対応する凹凸を変性
ウレタンアクリレート樹脂にて作成した樹脂板を市販両
面フィルムにてはりつけた。紫外線光源としては高圧水
銀灯（Ｉ　ＫＷ、　　４０　Ｗ／ｃｍ）を用いた。ニッ
プロール４のニップ圧Ｉ〜５ｋｇｆ／ｃｍ、巻き取りス
ピード１〜３ｍ／ｍｉｎで光学的情報に対応する凹凸の
複製が可能であった。又この時の光学的情報形成層の厚
さは３±１μｍであった。以上で得られたフレキシブル
光ディスクレプリカの巻き取りに、この後アルミニウム
蒸着膜、その保護膜を設け、更に所定寸法に打ち抜いて
フレキシブル光ディスクとして完成した。

〔実施例２〕 第３図において原反として易接着処理済みで１００μｍ
の厚さを有するポリエチレンテレフタレートフィルム、
紫外線硬化性樹脂として以下に示すアクリルモノマー類
の混合液を用いた。

ヒドロキシエチルアクリレート　　２５重量部ネオペン
チルグリコールジアクリレート２５重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー （三菱レーヨン■製：ダイヤビーム　ＵＫ−６０３５＞
　　　　　　　　　　　４０重量部イルカギュア６５１
　　　　　　０．８重量部イルカギュア１８４　　　　
　　０．４重量部この混合液の粘度は１００ｃｐｓ以下
であった。

版銅３には４００μｍの厚さを有するポリカーボネイト
上に光学的情報に対応する凹凸を変性ウレタンアクリレ
ート樹脂にて作成した樹脂板を市販両面フィルムにては
りつけた。紫外線光源としては高圧水銀灯（Ｉ　ＫＷ、
、　４０　Ｗ／ｃｍ）を用いた。

ニップロール４のニップ圧１〜５　ｋ　ｇ　ｆ　／ＣＩ
％巻き取りスピード１〜２ｍ／ｍｉｎで光学的情報に対
応する凹凸複製が可能であった。又この時の光学的情報
形成層の厚さは５±２μｍであった。以上で得られたフ
レキシブル光ディスクレプリカの巻き取りに、この後ア
ルミニウム蒸着後、その保護膜を設け、更に所定寸法に
打ち抜い、てフレキシブル光ディスクとして完成した。

〔実施例３〕 第３図において原反として易接着処理済みで１００μｍ
の厚さを有するポリエチレンテレフタレートフィルム、
紫外線硬化性の樹脂として以下に示すアクリルモノマー
類の混合液を用いた。

ヒドロキシエチルアクリレ−）　　　　５重ｔｆｆｌＳ
ネオペンチルグリコールジアクリレート１０重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー （三菱レーヨン■製：ダイヤビーム　ＵＫ−６１５重量
部 ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール
ジアクリレート　　　　　　２０重量部イルガキュア６
５１　　　　　　０．５重量部イルガキュア１８４　　
　　　　０．４重量部この混合液の粘度は常温で１５０
ｃｐｓ以下であった。版Ｗ４３には４００μｍの厚さを
有するポリカーボネイト上に光学的情報に対応する凹凸
を変性ウレタンアクリレート樹脂にて作成した樹脂板を
市販両面フィルムにてはりつけた。紫外線光源としては
高圧水銀灯（Ｉ　ＫＷ、　　４０　Ｗ／ｃｍ）を用いた
。ニップロール４のニップ圧１〜５ｋｇｆ／ａｍ、巻き
取りスピード１〜２ｍ／ａ＋ｉｎで光学的情報に対応す
る凹凸の複製が可能であった。又この時の光学的情報形
成層の厚さは５±２μｍであった。以上で得られたフレ
キシブル光ディスクレプリカの巻き取りに、この後アル
ミニウム蒸着膜、その保護膜を設け、更に所定寸法に打
ち抜いてフレキシブル光ディスクとして完成した。

〔実施例４〕 第３図において原反として易接着処理済みで１００μｍ
の厚さを有するポリエチレンテレフタレートフィルム、
紫外線硬化性の樹脂として以下に示すアクリルモノマー
類の混合液を用いた。

ヒドロキシエチルアクリレート　　　５重量部ネオペン
チルグリコールジアクリレート１０重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー （三菱レーヨン■製：ダイヤビーム　ＵＫ−６１５重量
部 イルガキュア６５１　　　　　’０．５重量部イルガキ
ュア１８４　　　　　　０．４重量部この混合液の粘度
は常温でＬ５０ｃｐｓ以下であった。版銅３には４００
μｍの厚さを有するポリカーボネイト上に光学的情報に
対応する凹凸を変性ウレタンアクリレート樹脂にて作成
した樹脂板を市販両面フィルムにてはりつけた。紫外線
光源としては高圧水銀灯（Ｉ　ＫＷ、　、４０　Ｗ／ｃ
ｍ）を用イタ。ニップロール４のニップ圧１〜５ｋｇｆ
／ＣＩＩ＋、巻き取りスピード１〜２ｍ／ｍｉｎで光学
的情報に対応する凹凸の複製が可能であった。又この時
の光学的情報形成層の厚さは１０±２μｍであった。以
上で得られたフレキシブル光ディスクレプリカの巻き取
りに、この後アルミニウム蒸着膜、その保護膜を設け、
更に所定寸法に打ち抜いてフレキシブル光ディスクとし
て完成した。

〔比較例〕

第３図において原反として易接着処理済みでｌ００μｍ
の厚さを有するポリエチレンテレフタレートフィルム、
紫外線硬化性の樹脂として常温において粘度が２００〜
３００ｃｐｓの変性ウレタンアクリレート樹脂を用いた
。版銅３には４００μｍの厚さを有するポリカーボネイ
ト上に°光学的情報に対応する凹凸を変性ウレタンアク
リレート樹脂して作成した樹脂板を市販両面フィルムに
てはりつけた。紫外線光源としては高圧水銀灯（ＩＫＷ
、　　４０Ｗ／ｃｍ）を用いた。ニップロール４のニッ
プ圧５〜１０ｋｇｆ／ａＩｌ＋、巻き取りスピード２ｍ
／ｍｉｐ以下で光学的情報形成層の厚さは４０±２０μ
ｍとなり、極めて平面精度が悪く全体として大きなうね
りが発生した。この後アルミニウム蒸着膜、その保護膜
を設け、更に所定寸法に打ち抜いて光ディスク再生装置
にセットし再生を試みたが、フォーカス制御が不可能な
為、再生不可能であった。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、光学的情報を形成する為
の樹脂の粘度を常温に右いて２ＱＯｃｐＳ以下とするこ
とにより、高い平面精度で可撓性光ディスクを得ること
ができ、光ディスクの製造装置を大幅に簡略化すること
が可能となり、その結果、製造原価を下げることもでき
る。又、現在広く普及している光ディスクが剛性体であ
るのに対し、可撓性である為、今までにない流通、販売
経路が予想され、光ディスクの新たな用途が展開できる
。さらに、基材フィルムに１．２報の厚さで光学的に光
ディスクとして使用可能で、巻き取りロールの形のもの
があれば、本発明と全（同じようにして、現在広く普及
している剛性体の光ディスクも製造可能である。又、光
ディスクに限らずフィルムあるいはシート上に微細パタ
ーンを転写し、その装飾性を高めるようなあらゆる分野
に応用可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明により得られるフレキシブル光ディスク
の断面斜視図、第２図は本発明の原理を示す図、第３図
は本発明のフレキシブル光ディスクの製造装置の一例を
示す図、第４図はコーティングロール部分の拡大図であ
る。 １・・・基材フィルム、２・・・光学的情報形成層、３
・・・光ディスク原版、４・・・ニップローラ、５は剥
離ロール、６は放射線源６−１．６−２・・・高圧水銀
灯、７・・・原反ロール、１０・・・巻き取りロール、
１５・・・樹脂パン、１６・・・樹脂かき上げ用金艮Ｐ
−ル、１７・・・コーティング用ゴムロール、２４・・
・ドクタ第１図 出　　願　　人　　大日本印刷株式会社代理人　弁理士
　　蛭　川　昌　信（外５名）第２図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）光透過性で可撓性を有する基材フィルムと光ディ
   スク原版との間に常温において粘度が２００ｃｐｓ以下
   の紫外線又は電子線で硬化する樹脂液を充填し、押圧し
   た後、紫外線又は電子線をフィルムに照射し、樹脂液を
   硬化させ光学的情報の複製を行うことを特徴とするフレ
   キシブル光ディスクの製造方法。
2. （２）ロールに巻回され、光透過性で可撓性を有する基
   材フィルムを供給する基材フィルム供給装置と、表面に
   光ディスク原版が設けられている複製シリンダと、基材
   フィルム供給装置から供給された基材フィルムを光ディ
   スク原版上に押圧するニップローラと、光ディスク原版
   の表面に紫外線又は電子線で硬化する樹脂液を付着させ
   る樹脂液付着ローラと、ニップローラより送り出される
   基材フィルムに紫外線又は電子線を照射する照射手段と
   、照射され硬化された光ディスク形成用フィルムを巻取
   る巻取り装置とを具備したことを特徴とするフレキシブ
   ル光ディスクの製造装置。