JPH02209783A - 光パルス圧縮装置 - Google Patents
光パルス圧縮装置Info
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- JPH02209783A JPH02209783A JP3041189A JP3041189A JPH02209783A JP H02209783 A JPH02209783 A JP H02209783A JP 3041189 A JP3041189 A JP 3041189A JP 3041189 A JP3041189 A JP 3041189A JP H02209783 A JPH02209783 A JP H02209783A
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- Japan
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- light
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- optical pulse
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
ゲインスイッチ動作するレーザダイオードからの出力光
のパルス幅を圧縮する装置に関し光ファイバを用いない
小型かつ安価な光パルス圧縮装置を提供可能とすること
を目的とし。
のパルス幅を圧縮する装置に関し光ファイバを用いない
小型かつ安価な光パルス圧縮装置を提供可能とすること
を目的とし。
ゲインスイッチ動作され１時間とともに波長がλａから
λｂ （但しλ１〈λａ）に連続的に変化する光パルス
を出力するレーザダイオードと、それぞれに対応する波
長λ１．λ２．λ３．・・・・λｎ（但しλａ≦λ１〈
λ２〈λａ〈・・・・くλｎ≦λａ）より短波長の光を
透過し且つ長波長の光を反射する波長選択性を有し、前
記波長λｎに対応するものが該レーザダイオードに最近
接するようにして前記波長λ５．λ２．λ３．・・・λ
ｎの順序で該レーザ光の光路上に互いに所定間隔を隔て
て配置されたｎ個の光反射手段とを具備することにより
構成される。
λｂ （但しλ１〈λａ）に連続的に変化する光パルス
を出力するレーザダイオードと、それぞれに対応する波
長λ１．λ２．λ３．・・・・λｎ（但しλａ≦λ１〈
λ２〈λａ〈・・・・くλｎ≦λａ）より短波長の光を
透過し且つ長波長の光を反射する波長選択性を有し、前
記波長λｎに対応するものが該レーザダイオードに最近
接するようにして前記波長λ５．λ２．λ３．・・・λ
ｎの順序で該レーザ光の光路上に互いに所定間隔を隔て
て配置されたｎ個の光反射手段とを具備することにより
構成される。
（産業上の利用分野〕
本発明は光パルス圧縮装置に係り、詳しくはゲインスイ
ッチ動作するレーザダイオードからの出力光のパルス幅
を圧縮する装置に関する。
ッチ動作するレーザダイオードからの出力光のパルス幅
を圧縮する装置に関する。
近年、レーザダイオードの周波数応答性が向上され、Δ
ｔ・２Ｏｐｓ幅程度の光パルスが得られるようになった
。ところが、ＩＣＣブロー中光計測の分野においては、
さらに狭いサブピコ秒の幅の光パルスが必要とされてい
る。しかしながら１ レーザダイオード単体では、 ２
０ｐｓ以下の幅の光パルスを得ることは原理的に困難で
あるとされている。
ｔ・２Ｏｐｓ幅程度の光パルスが得られるようになった
。ところが、ＩＣＣブロー中光計測の分野においては、
さらに狭いサブピコ秒の幅の光パルスが必要とされてい
る。しかしながら１ レーザダイオード単体では、 ２
０ｐｓ以下の幅の光パルスを得ることは原理的に困難で
あるとされている。
〔発明が解決しようとする課題］
光パルス圧縮方法として、光ファイバを利用するものが
ある。（特開昭６３−１０３２１４参照）とくに、レー
ザダイオードをゲインスイッチ動作させたときに出力さ
れるパルス光においては。
ある。（特開昭６３−１０３２１４参照）とくに、レー
ザダイオードをゲインスイッチ動作させたときに出力さ
れるパルス光においては。
パルスの立ち上がりでは短波長であり、立ち下がりでは
長波長であるので３ このパルス光を光フアイバ中を伝
播させ、光ファイバの分散による短波長光の伝播遅れを
利用する光パルス圧縮方法が提案されている。（高田他
、 ＤＦＢ−ＬＤの光パルス圧縮を利用したパルス幅制
御に関する検討、昭和６１年電子通信学会・光・電波部
門全国大会第２分冊。
長波長であるので３ このパルス光を光フアイバ中を伝
播させ、光ファイバの分散による短波長光の伝播遅れを
利用する光パルス圧縮方法が提案されている。（高田他
、 ＤＦＢ−ＬＤの光パルス圧縮を利用したパルス幅制
御に関する検討、昭和６１年電子通信学会・光・電波部
門全国大会第２分冊。
２２９頁）
しかし、上記のごとき光ファイバを用いる方法では、い
ずれも装置が大型化し、かつ、高価になる欠点がある。
ずれも装置が大型化し、かつ、高価になる欠点がある。
ちなみに、上記レーザダイオードの出力光を圧縮する場
合を例にとると、波長の差が１０人の二つの光の間にＬ
ｏｐｓの遅れを与えるためには、数Ｋｍの光フアイバ中
を伝播させなければならない。
合を例にとると、波長の差が１０人の二つの光の間にＬ
ｏｐｓの遅れを与えるためには、数Ｋｍの光フアイバ中
を伝播させなければならない。
したがって１本発明は光ファイバを用いずに光パルス圧
縮を可能とし、小型で安価な光バシレス圧縮装置を提供
することを目的とする。
縮を可能とし、小型で安価な光バシレス圧縮装置を提供
することを目的とする。
上記目的は、ゲインスイッチ動作され１時間とともに波
長がλつからλａ（但しλ３〈λａ）に連続的に変化す
る光パルスを出力するレーザダイオードと それぞれに
対応する波長λ１．ス２．λ３・・・・λａ、（但しλ
ａ≦λ１くλ２くλ３く・・・・くλ１≦λａ）より短
波長の光を透過し且つ長波長の光を反射する波長選択性
を有し、前記波長λｎに対応するものが該レーザダイオ
ードに最近接するようにして前記波長λ１．λ２．λ３
．・・・λｎの順序で該レーザ光の光路上に互いに所定
間隔を隔てて配置されたｎ個の光反射手段とを具備する
ことを特徴とする本発明に係る光パルス圧縮装置によっ
て達成される。
長がλつからλａ（但しλ３〈λａ）に連続的に変化す
る光パルスを出力するレーザダイオードと それぞれに
対応する波長λ１．ス２．λ３・・・・λａ、（但しλ
ａ≦λ１くλ２くλ３く・・・・くλ１≦λａ）より短
波長の光を透過し且つ長波長の光を反射する波長選択性
を有し、前記波長λｎに対応するものが該レーザダイオ
ードに最近接するようにして前記波長λ１．λ２．λ３
．・・・λｎの順序で該レーザ光の光路上に互いに所定
間隔を隔てて配置されたｎ個の光反射手段とを具備する
ことを特徴とする本発明に係る光パルス圧縮装置によっ
て達成される。
第１図は本発明の原理的構成図であって、レーザダイオ
ード１の出力光２を波長選択性を有する複数の光反射手
段３例えば３個の反射鏡旧＋ Ｍ２ｂで反射させる。反
射鏡？Ｉ、は波長λ３より短波長の光を透過し、これよ
り長波長の光を反射する。
ード１の出力光２を波長選択性を有する複数の光反射手
段３例えば３個の反射鏡旧＋ Ｍ２ｂで反射させる。反
射鏡？Ｉ、は波長λ３より短波長の光を透過し、これよ
り長波長の光を反射する。
また９反射鏡Ｍ２は波長λ２ （λ２くλ３）より短波
長の光を透過し、これより長波長の光を反射する。同様
に１反射鏡Ｍ３は波長λｌ （λ１くλ２）より短波長
の光を透過し、これより長波長の光を反射する。そして
１反射鏡４□１Ｍ□＋ Ｍａｌの相互間には、所定距離
（］、）が設けられている。
長の光を透過し、これより長波長の光を反射する。同様
に１反射鏡Ｍ３は波長λｌ （λ１くλ２）より短波長
の光を透過し、これより長波長の光を反射する。そして
１反射鏡４□１Ｍ□＋ Ｍａｌの相互間には、所定距離
（］、）が設けられている。
ところで、レーザダイオードをゲインスイッチ動作させ
たときに出力される光パルスにおいては。
たときに出力される光パルスにおいては。
パルスの立ち上がりでは短波長であり１立ち下がりでは
長波長である。この様子を第２図（ａ）および（ｂ）に
示す。第２図（ａ）は上記光パルスの波形、第２図［有
］）は波長の時間変化を示す。図示のように、光パルス
の立ち上がり開始時点近傍における波長をλ２．ピーク
近傍における波長をλ２．立ち下がり柊工時点近傍にお
ける波長をλ３で表すと、λ１〈λ２くλ３であり、波
長は時間とともに連続的に変化する。上記波長λ１とλ
３の差は１０人程度であり１光パルスの半値幅△【は２
０ｐｓ程度であり。
長波長である。この様子を第２図（ａ）および（ｂ）に
示す。第２図（ａ）は上記光パルスの波形、第２図［有
］）は波長の時間変化を示す。図示のように、光パルス
の立ち上がり開始時点近傍における波長をλ２．ピーク
近傍における波長をλ２．立ち下がり柊工時点近傍にお
ける波長をλ３で表すと、λ１〈λ２くλ３であり、波
長は時間とともに連続的に変化する。上記波長λ１とλ
３の差は１０人程度であり１光パルスの半値幅△【は２
０ｐｓ程度であり。
構成材料が異なる種々のレーザダイオードについてほぼ
同じである。このような波長の変化は、レーザダイオー
ドの活性領域におけるキャリヤ濃度の変化に起因する共
振器内部の屈折率の変化によるものである。
同じである。このような波長の変化は、レーザダイオー
ドの活性領域におけるキャリヤ濃度の変化に起因する共
振器内部の屈折率の変化によるものである。
上記のように波長が変化するレーザ光パルスを第１図に
示す反射鏡Ｍｌｌ Ｍ２． Ｍ３の系に入射させると１
反射鏡台、で反射された波長λ３の光と反射鏡Ｍ２で反
射された波長λ２の光および反射鏡Ｍ３で反射された波
長λａの光との間には、それぞれ、 ２Ｌ／Ｃおよび４
Ｌ／Ｃの遅れが生じる。但し、Ｃは光速である。その結
果５反射鏡Ｍｌ＋ ＭＺＩ Ｍ３で反射された光を合成
した光パルスは、第３図のごとくなる。
示す反射鏡Ｍｌｌ Ｍ２． Ｍ３の系に入射させると１
反射鏡台、で反射された波長λ３の光と反射鏡Ｍ２で反
射された波長λ２の光および反射鏡Ｍ３で反射された波
長λａの光との間には、それぞれ、 ２Ｌ／Ｃおよび４
Ｌ／Ｃの遅れが生じる。但し、Ｃは光速である。その結
果５反射鏡Ｍｌ＋ ＭＺＩ Ｍ３で反射された光を合成
した光パルスは、第３図のごとくなる。
第３図（ａ）は上記反射された光を合成した光パルスの
波形、第３図（ｂ）はこのパルス光の波長の時間変化を
示す。なお、第３図（ａ）には、比較のために。
波形、第３図（ｂ）はこのパルス光の波長の時間変化を
示す。なお、第３図（ａ）には、比較のために。
レーザダイオード１から射出したままの原光パルスの波
形を点線で示しである。
形を点線で示しである。
第３図に示されるように１反射鏡Ｍｌ＋ Ｍａｌ Ｍ３
で反射された光を合成した光パルスは３原光パルスに比
べて立ち上がり領域はど遅れが大きくなっており１幅の
狭い光パルスとなっている。すなわち反射＆ｔｔ Ｍ
＋ １Ｍ ｚ １Ｍ ３で反射させたのち合成すること
により、原光パルスが圧縮されたことになる。
で反射された光を合成した光パルスは３原光パルスに比
べて立ち上がり領域はど遅れが大きくなっており１幅の
狭い光パルスとなっている。すなわち反射＆ｔｔ Ｍ
＋ １Ｍ ｚ １Ｍ ３で反射させたのち合成すること
により、原光パルスが圧縮されたことになる。
上記において、λ３とλａの間に２０ｐｓの遅れを与え
るためには、４Ｌ／Ｃ＝ ２０ｐｓであるから１反射鏡
Ｉ’ｌｌ、 ＭＺＩ Ｍ、相互間の距ＭＬは１．５ｍｍ
となる。このように、光パルス圧縮のためにレーザダイ
オードに組合わされる部分は極めて小さく、従来の光フ
ァイバを用いる場合に比べて小型かつ安価な光パルス圧
縮装置を提供可能となる。
るためには、４Ｌ／Ｃ＝ ２０ｐｓであるから１反射鏡
Ｉ’ｌｌ、 ＭＺＩ Ｍ、相互間の距ＭＬは１．５ｍｍ
となる。このように、光パルス圧縮のためにレーザダイ
オードに組合わされる部分は極めて小さく、従来の光フ
ァイバを用いる場合に比べて小型かつ安価な光パルス圧
縮装置を提供可能となる。
以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。
本発明では、第１図で説明した波長選択性を有する反射
鏡ＭＩ＋ ＭＺＩ Ｍ３を、特殊な回折格子で構成する
例を開示する。すなわち、第４図に示すように、レーザ
光入射端５側に最も長波長の光を反射する回折格子Ｄ１
を１以下、より短波長の光を反射する回折格子Ｄ２およ
びＤ：ｌを順次配列する。回折格子り、、 Ｄ２． Ｄ
３の波長選択性は、各々の格子周ル１Δをブラッグ条件
を満足するように選ぶことにより。
鏡ＭＩ＋ ＭＺＩ Ｍ３を、特殊な回折格子で構成する
例を開示する。すなわち、第４図に示すように、レーザ
光入射端５側に最も長波長の光を反射する回折格子Ｄ１
を１以下、より短波長の光を反射する回折格子Ｄ２およ
びＤ：ｌを順次配列する。回折格子り、、 Ｄ２． Ｄ
３の波長選択性は、各々の格子周ル１Δをブラッグ条件
を満足するように選ぶことにより。
また、波長の異なる光の相互間の遅れは１回折格子り、
、 ＤＺ＋ ０３間の相互位置を調節することにより与
えられる。
、 ＤＺ＋ ０３間の相互位置を調節することにより与
えられる。
上記回折格子Ｄ１、Ｄ２． ｏ３は、 ＤＦＩＩ（分布
フィードバック）レーザにおける回折格子と同様にして
構成することができる。すなわち、第４図において。
フィードバック）レーザにおける回折格子と同様にして
構成することができる。すなわち、第４図において。
例えばＩｎＰ基板６（屈折率ｎ・３．２）の−表面を周
知のフォトリソグラフ技術によりエツチングして上記周
期Δを有する深さ約１０００人の凹凸状の回折格子ＤＩ
＋ Ｄｚ、 Ｄ：＋を形成したのち、 ｆｎＧａＡｓＰ
層７（屈折率ｎ＝ ３．４）を成長させ、さらに、 Ｔ
ｎＧａＡｓＰ層７上にＩｎＰ層８を成長させる。
知のフォトリソグラフ技術によりエツチングして上記周
期Δを有する深さ約１０００人の凹凸状の回折格子ＤＩ
＋ Ｄｚ、 Ｄ：＋を形成したのち、 ｆｎＧａＡｓＰ
層７（屈折率ｎ＝ ３．４）を成長させ、さらに、 Ｔ
ｎＧａＡｓＰ層７上にＩｎＰ層８を成長させる。
そして、 ＩｎＧａＡｓＰ層７の端面５１にレーザ光を
入射する。ＩｎＧａＡｓＰ層７は屈折率の低いＩｎＰ基
板６および８により挟まれた構造となっているため。
入射する。ＩｎＧａＡｓＰ層７は屈折率の低いＩｎＰ基
板６および８により挟まれた構造となっているため。
入射したレーザ光はＩｎＧａＡｓＰ層７の内部を進行す
る。このとき１回折格子ＤＩ＋ Ｄ２． Ｄ：ｌのブラ
ッグ波長と等しい波長のレーザ光が端面５１側に反射さ
れる。回折格子り、、 Ｄ２． Ｄ３における格子周期
Δとブラング波長λ８の関係は、 ＩｎにａＡｓＰ層７
の屈折率をαとして、Δ・ λＢ／２αである。回折格
子Ｄ２のフ゛ラング波長λａ２・λ２ ＝ １．５５
ｕ ｍ （＝１５５００人）とすると△２ζ２２８０人
である。他の回折格子り、およびＤ３の格子周期Δ１お
よびΔ３についてもλ１、・λ１・１５５００−５人、
λＲ３・λ３・１５５００ ＋ ５人として決めれば゛
よい。なお１回折格子＋３．．Ｄ２Ｄ３の光路方向の長
さは１０μｍ程度とすれば充分である。また、各々の回
折格子ＤＩｌ Ｄ２．０３間には圧縮後における所望の
パルス幅（Δｔ）に応じて決められる前記距離りを設け
る。
る。このとき１回折格子ＤＩ＋ Ｄ２． Ｄ：ｌのブラ
ッグ波長と等しい波長のレーザ光が端面５１側に反射さ
れる。回折格子り、、 Ｄ２． Ｄ３における格子周期
Δとブラング波長λ８の関係は、 ＩｎにａＡｓＰ層７
の屈折率をαとして、Δ・ λＢ／２αである。回折格
子Ｄ２のフ゛ラング波長λａ２・λ２ ＝ １．５５
ｕ ｍ （＝１５５００人）とすると△２ζ２２８０人
である。他の回折格子り、およびＤ３の格子周期Δ１お
よびΔ３についてもλ１、・λ１・１５５００−５人、
λＲ３・λ３・１５５００ ＋ ５人として決めれば゛
よい。なお１回折格子＋３．．Ｄ２Ｄ３の光路方向の長
さは１０μｍ程度とすれば充分である。また、各々の回
折格子ＤＩｌ Ｄ２．０３間には圧縮後における所望の
パルス幅（Δｔ）に応じて決められる前記距離りを設け
る。
上記回折格子は３個に限らず、さらに多くの異なるブラ
ッグ波長を有するものを設けてもよい。
ッグ波長を有するものを設けてもよい。
上記のように、各回折格子の長さはＩＯμｍ程度であり
、また、前記のように、パルス幅Δｔ・２０ｐｓの光パ
ルスをＩＱｐｓに圧縮する場合における各回折格子間の
距離りは約１゜５ｍｍであるから、さらに多くの回折格
子を配列することには容易に可能である。
、また、前記のように、パルス幅Δｔ・２０ｐｓの光パ
ルスをＩＱｐｓに圧縮する場合における各回折格子間の
距離りは約１゜５ｍｍであるから、さらに多くの回折格
子を配列することには容易に可能である。
第５図は１本発明の光パルス圧縮装置を用いたシステム
構成例を示す。すなわち、ゲインスイッチ動作するＤＦ
Ｂ レーザダイオード１１からの出力光パルスはレンズ
１２で集束され、アイソレータ１３およびビームスプリ
ッタ１４を通過し、レンズ１５で集束されたのち、第４
図で説明したごとき回折格子り、、 Ｄ２．０３群から
成る光反射手段１６（チャーブト回折格子）に入射し、
ここで異なる波長の光の間に遅れが与えられたのち、再
びレンズ１５を経てビームスプリッタ１４に入射し、こ
こで偏向されて光路外に取り出される。
構成例を示す。すなわち、ゲインスイッチ動作するＤＦ
Ｂ レーザダイオード１１からの出力光パルスはレンズ
１２で集束され、アイソレータ１３およびビームスプリ
ッタ１４を通過し、レンズ１５で集束されたのち、第４
図で説明したごとき回折格子り、、 Ｄ２．０３群から
成る光反射手段１６（チャーブト回折格子）に入射し、
ここで異なる波長の光の間に遅れが与えられたのち、再
びレンズ１５を経てビームスプリッタ１４に入射し、こ
こで偏向されて光路外に取り出される。
なお、アイソレータ１３は、光反射手段１６からの反射
光がビームスプリッタ１４を洩れてレーザダイオード１
１に再入射するのを防止するために設けられる。
光がビームスプリッタ１４を洩れてレーザダイオード１
１に再入射するのを防止するために設けられる。
光反射手段１６における回折格子間の距離りを１５ｍｍ
程度にすることは容易に可能であるから、光反射手段１
６による遅れをｌｐｓ程度にすることも可能である。す
なわら３本発明によれば、半値幅２０ｐｓのレーザ光パ
ルスを半値幅１ｐｓに圧縮することが可能となる。
程度にすることは容易に可能であるから、光反射手段１
６による遅れをｌｐｓ程度にすることも可能である。す
なわら３本発明によれば、半値幅２０ｐｓのレーザ光パ
ルスを半値幅１ｐｓに圧縮することが可能となる。
上記本発明の光パルス圧縮装置における光反射手段１６
は、従来の光パルス圧縮装置における光ファイバに相当
するものであり、その大きさは高々１０数ｍｍ程度であ
る。アイソレータ１３およびビームスプリッタエ４を含
めても従来の光パルス圧縮装置に比べて格段に小型かつ
安価である。
は、従来の光パルス圧縮装置における光ファイバに相当
するものであり、その大きさは高々１０数ｍｍ程度であ
る。アイソレータ１３およびビームスプリッタエ４を含
めても従来の光パルス圧縮装置に比べて格段に小型かつ
安価である。
本発明によれば１通常の半導体技術を用いて波長選択性
を有する回折格子のような光反射手段を作製し、これを
レーザダイオードと組合せることにより、小型かつ安価
な光パルス圧縮装置を提供可能となり、サブピコ秒程度
の幅を存する光パルスを必要とするｔＣプローバや光計
測技術の開発に寄与するところ大である。
を有する回折格子のような光反射手段を作製し、これを
レーザダイオードと組合せることにより、小型かつ安価
な光パルス圧縮装置を提供可能となり、サブピコ秒程度
の幅を存する光パルスを必要とするｔＣプローバや光計
測技術の開発に寄与するところ大である。
第１図は本発明の原理的構成図。
第２図（ａ）および（ｂ）はレーザダイオードの出力光
パルスの波形および波長の時間変化を示すグラフ。 第３図は本発明の光パルス圧縮装置により圧縮された光
パルスの波形および波長の時間変化を示すグラフ。 第４図は本発明おいて用いられる回折格子から成る光反
射手段の構造例を示す模式的断面図。 第５図は本発明の光パルス圧縮装置を用いたシステム構
成例を示す図 である。 図において。 １と１１はレーザダイオード。 ２は出力光。 ５はレーザ光入射端。 ６はＩｎＰ基板。 ７はＩｎＧａＡｓＰ層 ８はＩｎＰ層。 １２と１５は集束レンズ。 １３はアイソレータ。 １４はビームスプリッタ。 １６は光反射手段。 ５１は端面。 Ｄ、、 Ｄ２． Ｄ３は回折格子 Ｍｌ＋台２．阿、は反射鏡 である。 苓憎多日月のノ〒工￥匂ジズ船式ぴヨ 裏 １ ■ 回狩焉寺ｂ゛う成２）尤叉射牛段のＸ転艷図業 午 ■ 矛 已 斗Ｖ Ａ早戸ＪＩ浄化（ｂ） 早 ３ ■
パルスの波形および波長の時間変化を示すグラフ。 第３図は本発明の光パルス圧縮装置により圧縮された光
パルスの波形および波長の時間変化を示すグラフ。 第４図は本発明おいて用いられる回折格子から成る光反
射手段の構造例を示す模式的断面図。 第５図は本発明の光パルス圧縮装置を用いたシステム構
成例を示す図 である。 図において。 １と１１はレーザダイオード。 ２は出力光。 ５はレーザ光入射端。 ６はＩｎＰ基板。 ７はＩｎＧａＡｓＰ層 ８はＩｎＰ層。 １２と１５は集束レンズ。 １３はアイソレータ。 １４はビームスプリッタ。 １６は光反射手段。 ５１は端面。 Ｄ、、 Ｄ２． Ｄ３は回折格子 Ｍｌ＋台２．阿、は反射鏡 である。 苓憎多日月のノ〒工￥匂ジズ船式ぴヨ 裏 １ ■ 回狩焉寺ｂ゛う成２）尤叉射牛段のＸ転艷図業 午 ■ 矛 已 斗Ｖ Ａ早戸ＪＩ浄化（ｂ） 早 ３ ■
Claims (3)
- （１）ゲインスイッチ動作され、時間とともに波長がλ
＿ａからλ＿ｂ（但しλ＿ａ＜λ＿ｂ）に連続的に変化
する光パルスを出力するレーザダイオードと、それぞれ
に対応する波長λ＿１、λ＿２、λ＿３、・・・・λ＿
ｎ（但しλ＿ａ≦λ＿１＜λ＿２＜λ＿３＜・・・・＜
λ＿ｎ≦λ＿ｂ）より短波長の光を透過し且つ長波長の
光を反射する波長選択性を有し、前記波長λ＿ｎに対応
するものが該レーザダイオードに最近接するようにして
前記波長λ＿１、λ＿２、λ＿３、・・・λ＿ｎの順序
で該レーザ光の光路上に互いに所定間隔を隔てて配置さ
れたｎ個の光反射手段 とを具備することを特徴とする光パルス圧縮装置。 - （２）該レーザダイオードと該光反射手段の間の該光路
上に、該レーザダイオードの出力光パルスを該光反射手
段に入射させ、該光反射手段によって反射された光パル
スを該光路外に偏向する光偏向手段が設けられているこ
とを特徴とする請求項１の光パルス圧縮装置。 - （３）各々の該光反射手段は、それぞれに対応する前記
波長λ＿１、λ＿２、λ＿３、・・・・λ＿ｎをブラッ
グ波長とする回折格子であることを特徴とする請求項１
もしくは２の光パルス圧縮装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3041189A JPH02209783A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | 光パルス圧縮装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3041189A JPH02209783A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | 光パルス圧縮装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02209783A true JPH02209783A (ja) | 1990-08-21 |
Family
ID=12303206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3041189A Pending JPH02209783A (ja) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | 光パルス圧縮装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02209783A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017148829A (ja) * | 2016-02-24 | 2017-08-31 | サイバーレーザー株式会社 | 超短パルスレーザー加工装置 |
-
1989
- 1989-02-09 JP JP3041189A patent/JPH02209783A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017148829A (ja) * | 2016-02-24 | 2017-08-31 | サイバーレーザー株式会社 | 超短パルスレーザー加工装置 |
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