JPH022108A - シンクロトロン放射光露光装置 - Google Patents
シンクロトロン放射光露光装置Info
- Publication number
- JPH022108A JPH022108A JP63145915A JP14591588A JPH022108A JP H022108 A JPH022108 A JP H022108A JP 63145915 A JP63145915 A JP 63145915A JP 14591588 A JP14591588 A JP 14591588A JP H022108 A JPH022108 A JP H022108A
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- JP
- Japan
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- synchrotron radiation
- synchrotron
- equipment
- radiation
- rays
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- Pending
Links
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 title claims abstract description 27
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 title abstract 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008775 paternal effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は、シンクロトロン放射光源から放射されるシン
クロトロン欣射光を利用したシンクロトロンｈＩ１則光
露光装置に関する。
クロトロン欣射光を利用したシンクロトロンｈＩ１則光
露光装置に関する。
［従来の技術］
近年、シンクロトロン放射光を利用した露光技術の研究
開発か急速に広がってぎている。第２図は、従来の技術
によるシンクロトロン放射光露光装置の構成図であり、
同様の構成図は、例えば１９８４年に発行された用行物
である［精密機械１第５０巻、１１号、５１〜５６真に
示されている。即ら、シンク（４）トロン成用光源であ
るストレイシリング１から放射されるシンクロトロン放
銅光２は、ビームライン３を通して露光装置４に導かれ
る。ストレイシリング１のすぐ外側には欣則光″ａ蔽壁
５が設けられている。
開発か急速に広がってぎている。第２図は、従来の技術
によるシンクロトロン放射光露光装置の構成図であり、
同様の構成図は、例えば１９８４年に発行された用行物
である［精密機械１第５０巻、１１号、５１〜５６真に
示されている。即ら、シンク（４）トロン成用光源であ
るストレイシリング１から放射されるシンクロトロン放
銅光２は、ビームライン３を通して露光装置４に導かれ
る。ストレイシリング１のすぐ外側には欣則光″ａ蔽壁
５が設けられている。
［発明か解決しようとりる課題］
第２図の構成において、放射光遮蔽壁５は、ストレイシ
リング１内を蓄積電子流か安定に周回している場合であ
っても、ストレイシリング１の外側にＸ線、γ線等の漏
洩かあり、人体にとって危険であるため、これらか漏洩
するのを防ぐために設けられており、通常、教メ〜トル
厚以内のコンクリート壁が用いられる。
リング１内を蓄積電子流か安定に周回している場合であ
っても、ストレイシリング１の外側にＸ線、γ線等の漏
洩かあり、人体にとって危険であるため、これらか漏洩
するのを防ぐために設けられており、通常、教メ〜トル
厚以内のコンクリート壁が用いられる。
しかしながら、特に、ストレイシリングに高エネルギー
の電子流を蓄積するときには、ストレイシリングの外に
漏洩するＸ線、γ線等は放射光遮蔽壁があっても、壁を
通して漏れてくる可能性かあり、人体にとって危険であ
る。このような電子流蓄積の場合は、第２図の構成全体
を含む施設外に退避することか多い。また、突然電子流
かグラン（止まる）したときは、遮蔽壁を通して、甲の
近傍では、Ｘ線、γ線が漏れる凸Ｊ能性も高い。このよ
うにビームラインの近傍はＸ線、γ線漏洩の可能↑４が
あり、危険である。
の電子流を蓄積するときには、ストレイシリングの外に
漏洩するＸ線、γ線等は放射光遮蔽壁があっても、壁を
通して漏れてくる可能性かあり、人体にとって危険であ
る。このような電子流蓄積の場合は、第２図の構成全体
を含む施設外に退避することか多い。また、突然電子流
かグラン（止まる）したときは、遮蔽壁を通して、甲の
近傍では、Ｘ線、γ線が漏れる凸Ｊ能性も高い。このよ
うにビームラインの近傍はＸ線、γ線漏洩の可能↑４が
あり、危険である。
シンクロトロン放射光露光装置をＬＳＩ等の生産のため
に用いようとする場合、第２図のような従来の構成の装
置では上記の事項からはなはだ不都合であることか理解
される。即ら、露光装置の場所においては作業者が１０
０％安全な状態で常に作業できる環境で゛なければなら
ない。ぞのためには、２４時間態勢で敢則線の被爆を全
く受ける心配なく動ける環境でないと、生産の効率化は
達成できず、大量生産によるコスト低減のメリットを１
ワることはできない。
に用いようとする場合、第２図のような従来の構成の装
置では上記の事項からはなはだ不都合であることか理解
される。即ら、露光装置の場所においては作業者が１０
０％安全な状態で常に作業できる環境で゛なければなら
ない。ぞのためには、２４時間態勢で敢則線の被爆を全
く受ける心配なく動ける環境でないと、生産の効率化は
達成できず、大量生産によるコスト低減のメリットを１
ワることはできない。
特に近年においては、ストレイシリング自体か小さく、
かつビームラインも小型化すると共に、ｈり割光りＷ光
操作においては作業者かビームライン近傍にいなく−（
も、遠隔操作に′″ＣＣ敢ｑ光露光を行うことかＯ■能
になりつつある。従ってストレイシリング近傍のＸ線、
γ線等を強力に受ける部分に敢０４光遮蔽壁を配置する
従来の構造は、Ｘ線等の漏洩の危険・２１か大きく、教
則光露光の作業をビームラインから離れた場所で行うこ
とか可能な作業者にとっ−（も危険なことである。
かつビームラインも小型化すると共に、ｈり割光りＷ光
操作においては作業者かビームライン近傍にいなく−（
も、遠隔操作に′″ＣＣ敢ｑ光露光を行うことかＯ■能
になりつつある。従ってストレイシリング近傍のＸ線、
γ線等を強力に受ける部分に敢０４光遮蔽壁を配置する
従来の構造は、Ｘ線等の漏洩の危険・２１か大きく、教
則光露光の作業をビームラインから離れた場所で行うこ
とか可能な作業者にとっ−（も危険なことである。
本発明の［］的は、このような従来の問題点を除去して
、作業者に１００％の安全性を保障し、生産効率を「Ｉ
ＩめることのｐＪ能なシンクロトロン放Ｉ＝１光露光装
置を提供することにある。
、作業者に１００％の安全性を保障し、生産効率を「Ｉ
ＩめることのｐＪ能なシンクロトロン放Ｉ＝１光露光装
置を提供することにある。
［課題を解決するだめの手段］
本発明は、シンクロトロン放射光源と、該シンクロトロ
ン放射光源からの放射光を用いる露光装置と、該シンク
ロトロン放射光の光路を形成するビームラインとから構
成され、シンクロトロンｂ父則光源、ビームラインおよ
び露光装置のすべてを内包する放射光遮蔽壁を備えてな
ることを特徴と覆るシンクロトロン放射光露光装置であ
る。
ン放射光源からの放射光を用いる露光装置と、該シンク
ロトロン放射光の光路を形成するビームラインとから構
成され、シンクロトロンｂ父則光源、ビームラインおよ
び露光装置のすべてを内包する放射光遮蔽壁を備えてな
ることを特徴と覆るシンクロトロン放射光露光装置であ
る。
［作用］
本発明においては、従来ストレイシリングの外周壁の１
ぐ外側に配設されていた放射光遮蔽壁を、ビームライン
および露光装置をも含めて囲うようにして配設する。
ぐ外側に配設されていた放射光遮蔽壁を、ビームライン
および露光装置をも含めて囲うようにして配設する。
このため放射光遮蔽壁はストレイシリングから離れて、
Ｘ線等が従来よりも弱められた場所に配設されることと
なり、該遮蔽壁の外側は１００％に近い安全性か確保さ
れる。従って、露光装置の作業者はＸ線、γ線等の被爆
の心配がなく、常時生産態勢を維持することかできる。
Ｘ線等が従来よりも弱められた場所に配設されることと
なり、該遮蔽壁の外側は１００％に近い安全性か確保さ
れる。従って、露光装置の作業者はＸ線、γ線等の被爆
の心配がなく、常時生産態勢を維持することかできる。
［実施例］
以下本発明の実施例について、図面を参照しなから説明
覆る。
覆る。
第１図は本発明の一実施例におけるシンクロトロン放射
光露光装置の構成図である。シンクロトロン放射光源で
あるストレイシリング１から放削されるシンクロトロン
放射光２は、ストレイシリング１に多数接続されたビー
ムライン３を通して露光装置４に導かれる。本発明にお
いては、露光ｇｉｉ ４のタト側に、ストレイシリング
１、ビームライン３、露光装置４を囲うようにして、敢
０＝Ｊ光遮蔽壁６を設ける。
光露光装置の構成図である。シンクロトロン放射光源で
あるストレイシリング１から放削されるシンクロトロン
放射光２は、ストレイシリング１に多数接続されたビー
ムライン３を通して露光装置４に導かれる。本発明にお
いては、露光ｇｉｉ ４のタト側に、ストレイシリング
１、ビームライン３、露光装置４を囲うようにして、敢
０＝Ｊ光遮蔽壁６を設ける。
以上のように構成されたシンクロトロン放射光露光装置
を用いて作業を行うと、作業者にＸ線。
を用いて作業を行うと、作業者にＸ線。
γ線の被爆の可能性は無く、常時生産態勢を維持てきる
効率の良いシンクロトロン放射光露光装置か得られ、本
発明の目的か達成される。
効率の良いシンクロトロン放射光露光装置か得られ、本
発明の目的か達成される。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば生産効率の高いシ
ンクロトロン敢ｑ・１光露光装置が得られ、シンクし」
トロン放射光りソグラノイーの実用化が一層促進される
。
ンクロトロン敢ｑ・１光露光装置が得られ、シンクし」
トロン放射光りソグラノイーの実用化が一層促進される
。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図は従来のシ
ンクロトロン放射光露光装置の構成図である。 １・・・ストレイシリング ２・・・シンクロトロン放射光 ３・・・じ−ムライン ４・・・露光装置 ［ Ｊ 。 ６・・・ｈ父ｑ・１尤遮蔽壁 代 理 人 弁理上 舘 野 千 虫 子 第１図
ンクロトロン放射光露光装置の構成図である。 １・・・ストレイシリング ２・・・シンクロトロン放射光 ３・・・じ−ムライン ４・・・露光装置 ［ Ｊ 。 ６・・・ｈ父ｑ・１尤遮蔽壁 代 理 人 弁理上 舘 野 千 虫 子 第１図
Claims (1)
- （１）シンクロトロン放射光源と、該シンクロトロン放
射光源からの放射光を用いる露光装置と、該シンクロト
ロン放射光の光路を形成するビームラインとから構成さ
れ、シンクロトロン放射光源、ビームラインおよび露光
装置のすべてを内包する放射光遮蔽壁を備えてなること
を特徴とするシンクロトロン放射光露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145915A JPH022108A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | シンクロトロン放射光露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145915A JPH022108A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | シンクロトロン放射光露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH022108A true JPH022108A (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=15396017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63145915A Pending JPH022108A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | シンクロトロン放射光露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH022108A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0471856B1 (en) * | 1990-03-08 | 1995-03-22 | Shionogi & Co., Ltd. | 15-deoxyprostaglandin derivative |
-
1988
- 1988-06-15 JP JP63145915A patent/JPH022108A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0471856B1 (en) * | 1990-03-08 | 1995-03-22 | Shionogi & Co., Ltd. | 15-deoxyprostaglandin derivative |
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