JPH0221303A - 適応制御装置 - Google Patents

適応制御装置

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Publication number
JPH0221303A
JPH0221303A JP17068788A JP17068788A JPH0221303A JP H0221303 A JPH0221303 A JP H0221303A JP 17068788 A JP17068788 A JP 17068788A JP 17068788 A JP17068788 A JP 17068788A JP H0221303 A JPH0221303 A JP H0221303A
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JP
Japan
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control
signal
adaptive
constant
section
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Application number
JP17068788A
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English (en)
Inventor
Masae Kanda
神田 雅江
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、プロセス状態を監視制御するプロセス計装シ
ステム全般に利用する適応制御装置に係わり、特に所望
とする仕様を満足する適切な制御を実行する適応制御装
置に関する。
(従来の技術) 従来からオートチューニング方式、セルフチューニング
方式等を用いた適応制御あるいは最適制御の技術が数多
く提案されている。例えば特開昭62−210503号
公報が上げられる。しかし、これらオートチューニング
方式やセルフチュニング方式は何れもプロセスから出力
する制御量の変化から最適なP!またはPID制御定数
を算出してPIDmfm部に設定しプロセスの制御動作
を実行する構成である。
(発明が解決しようとする課題) ところで、この種の制御系においては、例えばセンサ、
操作弁等の入出力装置の精度に関する観測ノイズ、ある
いは周囲環境の変化や操業条件の変化等による負荷の変
動、さらには複数の制御系を有する場合の相互干渉等に
よる外乱が生ずる。
また、PHプロセス制御系では入出力間に非線形要素を
持っている場合が多い。
従って、以上述べたように種々の制御系では外乱や非線
形性を有しているにも拘らず、従来の適応制御装置はオ
ートチューニングあるいはセルフチューニングを実現す
る手段のみに限定されており、上記構成要素から発生す
る外乱や非線形プロセスに対する考慮が充分に払われて
いない。その結果、実際のプラントの実状に適切に対応
することが難しく、プロセス計装システムの稼働後に所
望とする制御仕様を長期にわたって安定に維持すること
ができない。
本発明は以上のような実情に鑑みてなされたもので、実
際のプロセスの実状にそくして所望とする制御仕様を充
分に満足させうる適応制御装置を提供することを目的と
する。
[発明の構成コ (課題を解決するための手段) 本発明による適応制御装置は上記目的を達成するために
、目標値とプロセスから出力された制御量との一差信号
を受け、この一差信号を制御定数に基づいて調節演算を
行って操作量を求めて前記プロセスに印加する適応制御
装置において、前記操作量に同定信号を印加して得られ
た信号と前記制御量とをサンプリングし、このサンプリ
ングデータから前記プロセスの動特性を推定し、この動
特性推定モデルを周波数領域に変換して前記制御定数を
取得する適応部をパッケージ化した構成である。
(作用) 従って、本発明は以上のような手段を講じたことにより
、前記PID調節部から出力する操作量に同定信号を印
加して得られた信号と前記制御量とをサンプリングし、
このサンプリングデータから前記プロセスの動特性を推
定し、この動特性推定モデルを周波数領域に変換し例え
ば周波数領域における部分マツチングというアルゴリズ
ムに基づいてプロセスの最適な制御定数を得るので、外
乱を生ずる系や非線形性を持つ系であっても容易に最適
制御を実施でき、かつ、適応部をバッケジ化することに
より簡単に適用可能とするものである。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第1図は適応制御装置の基本的な構成を示す図であっ
て、温度、圧力、流量等の伝達系等で構成されたプロセ
ス10と、このプロセス10を制御するパッケージ化(
ブロック化)可能な適応部11から成り、この適応部1
1には適応制御を実施するために必要な複数の信号が入
力されている。この信号とは例えば目標値Sv、制御量
P■、同定開始信号S1.MV初期化要求信号S2.M
V初期値信号S3およびMV変化量補正値信号84等が
上げられる。この適応部11は上記各種の信号を用いて
適応制御を実行し、得られた例えば調節後の制御定数あ
るいは操作QMV等の少なくとも1つの信号をプロセス
10に印加する。
次に、第2図はプロセス10を含んだ適応部11の具体
的構成を示す図である。この適応部11は、第3図に示
す如くプロセス10の制御と制御定数(演算定数)の設
計を行う部分であって、具体的には設定値Svとプロセ
ス10から出力する制御量PVとの一差信号′をPIま
たはPID制御定数に基づいてPIまたはPID調節演
算を行ってプロセス10に印加する操作ffiMVを取
得するPID調節部21のほか、前記PIまたはPID
制御定数の最適値を求めるために、同定信号発生部22
.同定部23.変換部24および設計部25等が備えら
れている。なお、PID5;!]節部21には前記MV
初期化要求信号S2.MV初期値信号S3およびMV変
化量補正値信号84等が人力される。
この同定信号発生部22は、前記同定開始信号S2を受
けてプロセス10を同定するための同定信号を発生して
前記PID調節部21の出力に加えて操作量としてプロ
セス10に印加する。なお、この同定信号は、平均値が
0で、分散が1であるM系列信号のほか、通常のステッ
プ信号等が用いられる。前記同定部23は操作iMVと
制御量pvとから例えば逐次形最小2乗法を用いてプロ
セス10の動特性モデルとしてのパルス伝達関数を同定
(推定)する。この同定部23で得られたパルス伝゛違
関数は変換部24に送られ、ここで周波数特性モデルと
しての周波数伝達関数に変換した後設計部25へ送出す
る。この設計部25では人力された周波数伝達関数から
プロセス10に最適なP演算定数、■演算定数およびD
演算定数。
つまり制御定数を算出し前記PID調節部21へ設定す
る機能を持っている。
次に、本発明装置の動作を説明する。第4図は本発明装
置の動作フローであって、目標値Svとプロセス10の
制御QPvとに基づいて操作量MVを算出するが(ステ
ップS1)、この閉ループ制御を実行しながら適応動作
によってプロセス10の動特性に応じた最適な制御定数
を設計しくステップS2)、以上の動作を繰返し実行し
ながらプロセス10を適切な状態で制御する。
上記適応動作は、第5図に示す如<PID調節部21の
出力に同定信号発生部22から同定信号を加えてプロセ
ス10に印加し、そのときのプロセス入力端の操作11
 M Vとプロセス出力側の制御量Pvとを同定部23
でサンプリングする(ステップ511)。そこで、この
同定部23では前記操作QMVおよび制御RPVのサン
プリングデータから逐次形赦小2乗法あるいはUD分解
フィルタ等を用いてプラント10の動特性モデルである
パルス伝達関数G(z’)を推定する(ステップ512
)。
しかる後、以上のようにして求めたパルス伝達関数を変
換部24に導入する。この変換部24ではステップS1
3において動特性推定モデルであるパルス伝達関数を周
波数領域の表現G(jω)に変換した後に設計部25に
送出する。この設計部24においては変換部24での変
換モデルに対して“周波数領域における部分的モデルマ
ツチングという手法を適用しプラント10の最適な制御
定数を求める(ステップ514)。
従って、以上のような実施例の構成によれば、前記PI
D調節部から出力する操作量に同定信号を印加して得ら
れた信号と前記制御量とをサンプリングし、このサンプ
リングデータから前記プロセスの動特性を推定し、この
動特性推定モデルを周波数領域に変換し例えば周波数領
域における部分マツチングというアルゴリズムに基づい
てプロセスの最適な制御定数を得るので、従来のオート
チューニング方式やセルフチューニング方式と異なり外
乱を生ずる制御系や非線形性を持つ制御系であってもそ
の制御系に充分対処して簡単に最適制御を実施でき、ひ
いては所望とする制御仕様を満足する制御系を実現でき
る。
次に、第6図は適応制御部30を流量制御系に適用した
例を示す概略構成図であって、この適応制御部30は流
量計31と操作弁32との間に設けられている。この適
応制御部30は具体的には第7図に示すように制御量P
vを開平演算する開平演算部33と、前記適応部11と
、弁開度補正部34等からなっている。この適応部11
には開平演算部33の出力および目標@Svのほか、同
定開始信号Slとしてディジタル信号DI、が入力され
、MV初期化要求信号S2としてディジタル信号D12
が人力される。また、MV初期値S3には5096が設
定され、MY変化量補正値を用いないのでここでは0.
0%となっている。
また、本発明装置は第8図はカスケード制御にも適用で
きる。すなわち、このカスケード制御系は、燃料41を
流量計42および流量調節弁43を通して炉44内に供
給し燃焼動作を行うと共にこの燃焼動作時の炉内温度を
温度検出器45で検出する。そして、この温度検出器4
5の検出温度を温度制御部46に導入し、ここで検出温
度と目標値との一差信号を、制御定数を用いてPIまた
はPID調節演算を行って操作量を得、この操作量を目
標値として流量制御部47に供給する。この流量制御部
47では目標値と流量計43からの検出流量との偏差を
、同様に制御定数を用いてPIまたはPID調節演算を
実行し、流量調節弁43を操作する操作量を得る構成で
ある。
しかして、以上のようなカスケード制御系は、本発明装
置との関係では第9図に示すような構成となる。図中、
11Aは温度制御部44に係わる適応部、11Bは流量
制御部47に係わる適応部である。
従って、このカスケード制御系においてもそれぞれの制
御部56.47に適応部11A、IIBを適用すれば、
それぞれの温度変化、流量変化にも係わらず最適な制御
定数を求めて適応制御を実施することができる。
[発明の効果] 以上詳記したように本発明によれば、各種の制御系にお
けるプロセスの実状にそくして最適な制御定数を設計し
、その制御定数を用いて調節動作を実行するので、所望
とする制gaft様を充分に満足させ得、かつ、適応部
をパッケージ化することにより種々の制御系に容易に適
用できる適応制御装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第5図は本発明に係わる適応制御装置の一
実施例を説明するために示したもので、第1図は本発明
装置の基本的な構成図、第2図は第1図に示す適応部の
具体的な構成図、第3図は適応部の基本的な機能図、第
4図は本発明装置の基本動作流れ図、第5図は適応動作
の動作流れ図、第6図および第7図は流量制御系に本発
明装置を適用した図、第8図および第9図はカスケード
制御系に本発明装置を適用した構成図である。 10・・・プロセス、11,1.1A、IIB・・・適
応部、21・・・PID調節部、22・・・同定信号発
生部、23・・・同定部、24・・・変換部、25・・
・設計部、30・・・適応制御部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 PV Sz  54 第1 図 第3図 第6図 第7図 第8図 第9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 目標値とプロセスから出力された制御量との一差信号を
    受け、この偏差信号を制御定数に基づいて調節演算を行
    って操作量を求めて前記プロセスに印加する適応制御装
    置において、 前記操作量に同定信号を印加して得られた信号と前記制
    御量とをサンプリングし、このサンプリングデータから
    前記プロセスの動特性を推定し、この動特性推定モデル
    を周波数領域に変換して前記制御定数を取得する適応部
    をパッケージ構成としたことを特徴とする適応制御装置
JP17068788A 1988-07-08 1988-07-08 適応制御装置 Pending JPH0221303A (ja)

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JP17068788A JPH0221303A (ja) 1988-07-08 1988-07-08 適応制御装置

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JP17068788A JPH0221303A (ja) 1988-07-08 1988-07-08 適応制御装置

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JPH0221303A true JPH0221303A (ja) 1990-01-24

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ID=15909532

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JP17068788A Pending JPH0221303A (ja) 1988-07-08 1988-07-08 適応制御装置

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JP (1) JPH0221303A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0704776A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-03 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Parametrierung eines PI- oder PID-Reglers
JP2010229968A (ja) * 2009-03-30 2010-10-14 Daihatsu Motor Co Ltd 制御装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0704776A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-03 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Parametrierung eines PI- oder PID-Reglers
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