JPH02214169A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH02214169A
JPH02214169A JP1033539A JP3353989A JPH02214169A JP H02214169 A JPH02214169 A JP H02214169A JP 1033539 A JP1033539 A JP 1033539A JP 3353989 A JP3353989 A JP 3353989A JP H02214169 A JPH02214169 A JP H02214169A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoelectric conversion
conversion element
wiring board
image sensor
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP1033539A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Tamura
宏 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP1033539A priority Critical patent/JPH02214169A/ja
Publication of JPH02214169A publication Critical patent/JPH02214169A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/80Constructional details of image sensors
    • H10F39/804Containers or encapsulations

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体装置のうち特にイメージセンサ−、フ
ォトトランジスタアレイ、フォトダイオードアレイの如
き複数ビットの光電変換作用を有する光半導体I層像デ
バイスに関し、更に詳しくはこの種の半導体装置に好適
なパッケージ構造に関する。
[従来の技術] ビデオカメラ等の各種映像機器の普及に伴い、光半導体
撮像デバイスのうち特にCCD型、MOS型等のイメー
ジセンサ−の需要が増大している。
従来のイメージセンサ−は、一般に耐湿性;こ優れたセ
ラミックを用いてパッケージされていた。
しかし、前記のように需要が増大するにつれて、イメー
ジセンサ−の使用形態も多岐にわたるようになり、小型
軽量化の要望が大になってきた。
そこで、前記要望に応えるため、更にコスト面の要請か
ら、セラミックパッケージに代えてプラスチックパッケ
ージ化する傾向にある。
しかし、イメージセンサ−の如き、受光部の面積が大き
い光半導体撮像デバイスについてプラスチックパッケー
ジ化を図る場合は、−ICの半導体装置と異なった特有
の問題を解決する必要がある。
[発明が解決しようとする課題] 即ち、イメージセンサ−1或はフォトトランジスタアレ
イ、フォトダイオードアレイ等の光半導体撮像デバイス
は、入射光に基づいて光電変換するものであるから、受
光部は透明、もしくは所望波長に合わせた光を透過し得
るようにパッケージされている。
また、前記受光部以外は、光電変換素子の底部も含めて
プラスチックにて一体にパッケージされたものがあるが
、該パッケージは金型を用いて行うことが多かった。
前記パッケージ構造及び製造方法は、同一構造の光半導
体撮像デバイスを大量に生産する際に好都合であるが、
高価な金型が必要であるため、生産コストが大になる一
因になっていた。。
ところで、光半導体撮像デバイスは、増幅回路や比較回
路等の民生用の半導体装置に比較して使用量が少ない。
しかも、解像度等の性能向上、更に小型軽量化にともな
って使用形態も多種に及ぶようになってきた。
イメージセンサ−を例に述べると、ビデオカメラのみで
なく、電子内視鏡等の医療機器、更に軍事用にも使用さ
れるようになっている。
このような技術的動向を考慮すると、イメージセンサ−
の機能はちとよ′す、その外形、更にパッケージ構造に
ついても、用途に合わせたものが要求されることは容易
に理解できる。
換言すれば、イメージセンサ−については、用途に合わ
せた小量多品種生産が好ましい、といった側面がある。
しかし、従来構造のイメージセンサ−及びその製造方法
では、高価な金型を使用するので、小量多品種の製造に
は不向きであった。
また、イメージセンサ−は、1最像および撮像信号の読
み出し等のために各種クロックパルスを必要とし、解像
度等の機能向上を追求すると、クロックパルスの供給や
撮像信号の読み出しのために外部接続端子数が増大する
ことになる。
従来構造のイメージセンサ−は、パンケージの外側面に
外部接続端子を配置する構造であり、端子数が増大した
場合は、パッケージを大型にしないと端子間隔が挟まり
、信号漏洩、短絡、半田付時の実装ミス等の不所望な事
故が発生しやすい。
しかも、イメージセンサ−に限らず、半導体装置につい
ては、パッケージ構造の如何に係わらず良好な耐湿性が
要求される。
本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、その
目的は低コストかつ使用条件に合わせて生産し得る半導
体装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するために本発明は、所望の大きさに形
成された配線基板上に光電変換素子を固定するとともに
、前記光電変換素子の周囲に例えば合成樹脂からなる枠
体を固定し、更に前記光電変換素子の受光面に対応する
位置を光透過材を用いて密閉するように構成したもので
ある。
[作用] このような構成を有する本発明にあっては、光電変換素
子のパッケージが配線基板、合成樹脂及び金属等を加工
した枠体、光透過部材によって構成されることになり、
高価な金型を多数用いることなくパッケージを構成する
ことができる。
依って、パンケージ形成時の作業工数を削減することも
でき、セラミック用金型不要と相まって生産コストの低
減を図ることができる。
しかも、前記配線基板や枠体の大きさは、半導体装置の
実装状況、機能に合わせて簡単かつ安価に規格変更でき
るので、小量多品種の生産が容易になる。
また、配、vI基板の表面に皮膜を形成することにより
、耐湿性を向上させることができる。
[実施例] 以下、図面を参照して本発明を適用した半導体装置の一
実施例を説明する。
尚、第1図は半導体装置の外観構造を示す斜視図、第2
図及び第3図は半導体装置の内部構造を示す断面図であ
る。
実施例の説明にあたっては、イメージセンサ−1の外観
構造及び内部構造について説明し、次いで耐湿性向上の
ための工夫等について説明する。
イメージセンサ−1の外観は、当業者間においてDIP
型と称されている形状になされている。
先ず、イメージセンサ−1の外観について説明すると、
ガラスエポキシからなる配線基板2のほぼ中央部に固定
された枠体3、更に枠体3の上部開口部を覆うように設
けられたガラス板4等からなる。
そして、配線基板2の長手方向の端部には、イメージセ
ンサ−1の外部接続端子5が所定間隔で設けられている
次に、イメージセンサ−1の内部構造について説明する
と、光電変換素子6は配線基板2のほぼ中央部に固定さ
れ、該光電変換素子6のポンディングパッド(図示せず
)と配線基板2上に形成された回路パターン7とが、ボ
ンディングワイヤー8によって接続されている。
そして、回路パターン7はそれぞれ所定の外部接続端子
5に接続されているので、このイメージセンサ−1が実
装される装置との信号授受が可能になる。
なお、光電変換素子6は回路パターン上に導電可能に固
定され、該回路パターンに接続した外部接続端子5を接
地、或は所定電位に接続することにより、光電変換動作
の安定化が図られている。
一方、枠体3は光電変換素子6の周囲を囲繞するような
形状に合成樹脂及び金属等を用いて形成されたものであ
り、その底面がエポキシ樹脂等の耐湿性と接着性に優れ
た接着剤により配線基板2に接着されている。
従って、光電変換素子6は、配線基板2の一部と枠体3
とによって構成された箱体に囲まれたようになる。
枠体3の上部開口部には段差部11が形成され、該段差
部11に光透過材であるガラス板4が嵌合されている。
但し、前記ガラス板4は単に嵌合されているのみでなく
、エポキシ樹脂等の耐湿性にすぐれた接着剤により接着
されている。
従って、光電変換素子6の上面に形成された受光面(図
示せず)には、ガラス板4によって光透過可能な受光部
が形成され、受光部から入射する光に対応した光電変換
動作を行うようになる。
なお、配線基板2はガラスエポキシを使用しているもの
の、その一部が光電変換素子6のパッケージとして兼用
されているので、耐湿性をより一層向上させた方がよい
そこで、本実施例では、配線基板2の全体を第3図に示
すように耐水性の皮膜10で覆い、配線基板2はもとよ
り、イメージセンサ−1全体の耐湿性を向上し得るよう
に配慮している。
また、前記イメージセンサ−1は、外部接続端子5の間
隔を大にすることができるので、端子間の信号漏洩、実
装時の短縮等を低減することができる。
また、前記イメージセンサ−1は、前記外部接続端子5
を基板内側・\増設することにより、PGA(ビングリ
ッド・アレイ)等の様に、ビン間隔を大にしたまま多ビ
ン化が可能である。
次に、イメージセンサ−1を構成する各部材のたもので
あり、回路パターン7については銅、或は銅と他の導電
体との合金、更に銅にニッケル等を薄く皮膜したもの等
が使用できる。更に、銅の表面に半田鍍金を施してもよ
い。
外部接続端子5については、燐青銅等を用いてもよく、
その表面にスズ等を鍍金してものであってよい。
枠体3については、合成樹脂、金属等を一体成形したも
のであってよく、他に機械加工にて形成したものを用い
てもよい。
また、エポキシについては、マロンMEG−i65を使
用した。
以上に本発明の一実施例を説明したが、本発明は前記に
限定されるものではなく、種々の変形ひく可能である。
例えば、配線基板2の形状は、イ・−ジセンサー1が実
装される装置の形態に合わせて変形してよい。
また、枠体3も前記形状に限定されるものではなく、例
えば平面楕円形等であってもよい。
平面楕円形に形成した場合、ガラス板4から離間した位
置にネジ穴等を設け、イメージセンサ−1自体を例えば
電子カメラのケース等に直接固定し、機械的強度を向上
させることができる。何れにしても、前記実施例に示し
たイメージセンサ−1は、セラミックパッケージに比較
して非常に安価に生産することができ、機械加工により
生産できるので寸法精度が良好になる。
また、配線基板の反り等の変形が少な(、外部接続端子
に燐青銅を使用じていることから、導電抵抗を少なくす
ることができる。
従って、不所望な電圧降下が少なくなり、ノイズ低減、
信号レベルの低下防止等の効果もある。
[発明の効果] 以上に説明したように、本発明に係る半導体装置は、光
電変換素子が固定される配線基板の一部と、該配線基板
に固定される枠体と、更に該枠体に固定されるガラス等
の光透過部材によって光電変換素子のパッケージを構成
したものである。2前記構成によれば、高価な金型を用
いることなく半導体装置のパッケージを構成することが
でき、イメージセンサ−等の半導体装置を生産量の多寡
に係わらず非常に安価に生産することができる。
また、金型がセラミンク用金型で用いる場合に比して少
なく、インジェクション金型より安価に作ることが可能
であることから、小量生産とモデルチェンジが容易にな
り、用途に合わせて小量多品種生産を安価に行うことが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を適用した半導体装置の外観構造を示す
斜視図、第2図および第3図は半導体装置の内部構造を
示す要部の断面図である。 図中の符号 l:イメージセンサ− 2:配線基板 3:枠体 4ニガラス板 5:外部接続端子 6;光電変換素子 7:回路パターン 8:ボンディングワイヤー 10:皮膜 11:段差部。 第  2  図 第3図 手続補正書 平成1年4月2+日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 配線基板上に取り付けられ、受光部に入射する光量に対
    応した光電変換を行う光電変換素子と、前記配線基板に
    一体化され、前記光電変換素子を囲繞する枠体と、前記
    枠体に一体化され、前記光電変換素子の受光部を覆う光
    透過部材とによって構成したことを特徴とする半導体装
    置。
JP1033539A 1989-02-15 1989-02-15 半導体装置 Pending JPH02214169A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1033539A JPH02214169A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP1033539A JPH02214169A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 半導体装置

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Publication Number Publication Date
JPH02214169A true JPH02214169A (ja) 1990-08-27

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ID=12389369

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JP1033539A Pending JPH02214169A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 半導体装置

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JP (1) JPH02214169A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06177271A (ja) * 1992-08-28 1994-06-24 Eastman Kodak Co 集積回路の包囲方法および装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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