JPH02215766A - 22,23―セコビタミンd若しくはその活性型またはそれらの誘導体の製造方法 - Google Patents

22,23―セコビタミンd若しくはその活性型またはそれらの誘導体の製造方法

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JPH02215766A
JPH02215766A JP1035783A JP3578389A JPH02215766A JP H02215766 A JPH02215766 A JP H02215766A JP 1035783 A JP1035783 A JP 1035783A JP 3578389 A JP3578389 A JP 3578389A JP H02215766 A JPH02215766 A JP H02215766A
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森本 裕司
Shuji Maruyama
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は22.23−セコビタミンDおよび活性型22
.23−セコビタミンDあるいはそれらの誘導体と、こ
れを22.23−セコ−7,8−ジヒドロキシビタミン
Dあるいはそれらの誘導体から製造するための方法に関
する。
(従来の枝術) ビタミンDに関する研究は、現在知られているビタミン
D3の代謝産物のうちでは最も強い活性を有するlα、
25−ジヒドロキシビタミンD3が1971年に発見さ
れて以来(Il、F、De LucaほかrAnn、R
ev、Biochem J第45巻、 P、631.1
97111年;H,F、De Luca 、  rNu
tr、ReyJ第37巻、 P、1131.La79年
)急速な発展を遂げ、多くの分野の協力的研究の成果に
より、活性型ビタミンD3であるlα。
25−ジヒドロキシビタミンD3およびその同族体であ
るlα−ヒドロキシビタミンD3は腎疾患、骨疾患ある
いは副甲状腺機部障害の治療薬とじて発展してきた。
(D、E、Mルawson、  rVitamin D
″’ 、 AcademicPress、Inc、、N
ew York、1978年; A、W、Norsan
 。
Vitamin D” 、 The Ca1cius 
Ho*eostatic 5teroidHorIlo
n 、 Acade+sic Press、Inc、、
 New York  、 1878年)。
最近lα、25−ジヒドロキシビタミンD3の作用する
標的器官として新たに腎臓、膵+i、下垂体、胸腺、副
甲状腺、皮膚、乳111.リンパ球等の多くの組織・器
官が見出され()1.F、De LucaほかrPro
c、Natl、Acad、Sci、USA 、 J +
77巻、P、1149゜1980年)、さらに種々の腫
瘍細胞にもレセプターの存在することが確認されるに至
っている。
(K、Co15tanほかrEndocrinolog
y、J第108巻、 P、 1083 、1981年;
 H,F、Freakeほか。
rBiochem、Bio Ph7g、Res、Com
mun 、、J第101巻。
P、l+31 、1981年; S、C,Manola
gagほか。
rJ、Biol、chem、、 J第255巻、 P、
4414 、11380年;T、5udaほか、  r
Biochem、J、 J第204巻、P、713 。
P、?+3  、1982年)。
特に1α、25−ジヒドロキシビタミンDコは・n・髄
性白血病細胞の増殖を抑制し、分化を促進すること(T
、5udaほか、rProc、Natl、Acad、S
ci。
USA、J第78巻、 P、4990 、1981年)
、あルイlt免疫作用との関連も見出される(E、Ab
e、 rビタミン」第59巻、 P、418  、19
85年)など、ビタミンDの新たな展開が期待されてい
る。
L記のような観点から種々のビタミンn 7J導体が合
成されその生理作用が検討されてきているが(N、Ik
ekawa、 r生化学J第55巻、 P、+297 
、 II383年; T、5udaほか、rBone 
& Mineral Res、 J第4巻、 ed、W
、A、Peck、Pl、 Elsevier、Am5t
erda+s、1986年; E、Mura2amaほ
か、  rChem、Pharm、Bull、J第34
巻、 P、4410 、198E1年; N、 Ike
kawaほか、 rchem 。
Phars、Bull、  J  +533巻、P、 
 878.4815.1985年)生理活性種となるた
めの必須条件としてlα−ヒドロキシ体が考えられるた
め、IJj:界中の研究機関が真剣にその合成に取組ん
できている。
しかしながらこれまでの合成の殆どは、各ビタミンDJ
導体についてその都度1α−ヒドロキシ化ステロイドの
合成に始まりこれから対応するlα−ヒドロキシ−5,
7−ジニンステロール誘導体に変換した後、周知の光化
学方法によって目的とするビタミンD?A導体を得ると
いう多段階を要する極めて非能率的な方法となっている
(N、Ikekawa、その他、「有機合成化学」第3
7巻、P、755.1979年; C,Kaneko、
  r有機合成化学J第33巻、P、75 、1975
年; B、Lythgae、 rchevx、sac。
Rev、J第9巻、 P、449.1980年; R,
Pardo、その他、rBull 、De  La  
5ocI:him、Ds  Fr、  J  P、98
.1985年)。
そこでこれらの問題点を改良するため、各種lα−ヒド
ロキシビタミンDFJ導体合成のための共通合成中間体
として22.23−セコ−1α−ヒドロキシビタミンD
誘導体を設定し本化合物の合成ならびに本化合物から各
種lα−ヒドロキシビタミンD?j4導体を合成しよう
という試みがなされるに至った。
(R,H,Hesgeほか、rJ、Org、chem 
、 J第51巻。
P、4819 、19811i年; H,F、De L
ucaほか。
r Tetrahedron Lett、 、J第28
巻、 P、8129 、1987年; H,F、De 
Lucaほか、r J、Org、Che* 、 J第5
3巻。
P、345Q 、 1988年。
しかしながらこれらの報告においては、前者の場合ビタ
ミンD体を−HトランスビタミンD体としたのちc (
i)位のアリール醇化を行ない、再びこれを光反応等に
よりビタミンD体へと交換するものであり、また後者の
報告においてはビタミンD体を一旦3.5−シクロビタ
ミンD体としたのち、  C(1)位のアリール酸化を
行ない、これを再びビタミンD体へと変換するものであ
って、これらいずれの場合にもアリール酸化の収率はあ
まり良くなく、ビタミンD体への変換も満足すべきもの
ではない。
(発明が解決しようとする課題) 上記のように現在代表的とされる合成方法にあっても、
いずれも実用的見地から見て不満足なものであり、より
効率的な合成法の開発が望まれているのであるが、請求
項(1)では従来の化合物に鑑み新規な22.23−セ
コビタミンDおよび活性q22.23−セコビタミンD
あるいはそれらの誘導体に係る非常に有用な化合物を得
ようとするものであり、請求項(2)にあっては、種々
の化学反応、特にc (i)位の7リール酸化に適用可
能なビタミンD体の重要合成中間体の合成方法として効
率的な方法を開発すべく鋭意研究したところ22.23
−セコ−7,8−ジヒドロキシビタミンDまたはそれら
の誘導体を7.8−ジヒドロキシの環状オルトエステル
を経る還元的説雌反応もしくは還元型チタン等の金属に
よる脱離反応により、目的物である22.23−セコビ
タミンDまたは活性型22.23−セコビタミンDある
いはそれらの誘導体を製造するという従来法とは概念的
にも実施面においても根本的に異なる。工業E有効にし
てかつ効率のよい方法を見出そうとするのが、その目的
である。
(課軸を解決するための手段) 本発明では上記の目的を解決するために。
請求項(1)にあっては。
下記式をもつ化合物 (ここで、Xは水素、ヒドロキシもしくはその誘導体で
、RsがベンゾイルでありR2がテトラトビロビラニル
、水素、p−1ルエンスルフオニルを、R1が水素であ
りR2がテトラトビロビラニル、p−トルエンスルフォ
ニル、メチルを、R凰がトリエチルシリルでR2がテト
ラトビロピラニルを、R1が水素原子またはヒドロキシ
保護基でありR2は水素を除く同一もしくは異なるヒド
ロキシ保護基を夫々示す、)を提供しようとしており。
請求項(2)では、 下記(I)式 脱離反応によることを特徴とする 下記(II )式 (ここでR+  、R2、R3およびR4は同一もしく
は異なる水素原子またはヒドロキシ保護基を。
Xは水素、ヒドロキシもしくはその誘導体を示す、) で表わされる22.23−セコ−7,8−ジヒドロキシ
ビタミンDまたはそれらの誘導体を7.8−ジヒドロキ
シの環状オルトエステル体あるいはその同族体を経る還
元的脱離反応もしくは7.8−ジヒドロキシ体の還元型
チタン等の金属による(ここでR1およびR2は同一も
しくは異なる水素原子またはヒドロキシ保護基を、Xは
水素、ヒドロキシ基あるいはその誘導体を示す、)で表
わされる22.23−セコビタミンDまたは活性型22
.23−セコビタミンDあるいはそれらの誘導体の製造
方法を提供するものである。
(実 施 例) 反応混合物からの目的物の単離は極めて簡便で例えば2
2.23−セコ−7,8−ジヒドロキシビタミンDある
いはその活性同族体を過剰量のオルトエチルホルメート
とノζに触媒量のピリジニウムパラトルエンスルホネー
トの存在下トルエン溶媒中Dean−9tark装置下
加熱還流を行い、反応混合物から溶媒を留去して得られ
る残渣をカラムクロマトグラフィー等の手段で精製する
ことを目的とする。22.23−セコビタミンDあるい
はそれらの活性同族体が高収率で得られる。
このようにして合成される前記(II )式の同族体で
ある20−ホルミル体(R+ =1−ブチルジメチルシ
リル;X=α−t−ブチルジメチルシリルオキシ)は(
24R) −1α、25−ジヒドロキシビタミ7D2(
7)(前出)1.F、De Lucaほかの文献)、ま
た( II )式において(R1=)リエチルシリル;
Rz =パラトルエンスルホニル;x;α−トリエチル
シリルオキシ)の誘導体はlα、25−ジヒドロキシビ
タミンD3の(前出R,H,)Iess6ほかの文献)
合成中間体となっており、本願発明によって合成される
( II )式の化合物は非常に有用な化合物というこ
とができる。
以下具体的な実施例につき記述するが、その全工程説明
図にあって()内に各実施例工程例の番号を示している
実施工程例(1) 3β、7.8− )ジー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−tα−ヒドロキシ−20(S)−テトラヒドロ
ピラニルオキシメチル−3,10−セコプレグナ−5(
Z) 、 10(19)−−ジエン300mg 、テト
ラ−n−ブチルアンモニウムフルオライドトリーハイド
レート2gおよび活性モレキュラーシーブス4AIgの
アセトニトリル30IlfLの懸濁液を撹拌下20時間
加熱還流する。
反応液はセライ)i!!過後溶媒を留去する。
得られた残渣は酢酸エチルエステルに溶解し、水洗後硫
酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣、をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー〔シリカゲルIg、溶媒;酢酸エチルエ
ステル〕に付し、lα、3β、7.8−テトラヒドロキ
シ−20(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−
9,10−セコプレグナ−5(Z) 。
10(19)−ジエン120mgを得る。
1Rスペクトル pmax (GHGI:+ )cm−
1:340ONMRスペクトル(CDCJI 3)δ:
 4.50(IH,brs) 。
4.90(IH,brs) 、5.30(+8.brs
) 、5.70(IH,d、J=10Hz) マススペクトル(FD)m/e;447(Mr−17)
 、44G(M”−18) 。
410.409,296,295,283プレグナ−5
(Z) 、10(19)−ジエン200■8、ピリジン
1騰見および触媒量のジメチルアミノピリジンを含む塩
化メチレン2〇−文溶液に水冷下、ベンゾイルクロリド
150tagを撹拌下滴下する。
反応液は室温にて1時間撹拌したのち塩化メチレンにて
希釈し、水、10%塩酸、水、飽和重炭酸ナトリウム水
、水にて順次洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル1g、溶媒; n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(10:5マ/マ)〕に付し、l
α、3β−ジ−ベンゾイルオキシ−7,8−ジヒドロキ
シ−20(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−
9,lO−セコプレグナ−5(Z) 。
10(19)−ジエン222mgを得る。
実施工程例(2) lα、3β、7.8−テトラヒドロキシ−20(S) 
−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,10−セコ
IRスペクトJl/  ymax (GHGI3)cm
−”:3500,170ONMRスペクトル(CC14
) δ: 0.BO(3H,S) 、 4.48(28
,brs)、4.53(IH,d、J−101(z) 
5.00〜13.10(5H,s)、7.10〜7.6
0(6H9鳳)、7.80〜8.Et5(4H,m)マ
ススペクト/lz(FD)m/eH655(M −17
)、837,550゜515.377.295 ジメチル−3,lO−セコプレグナ−5(Z) 、10
(19)−ジエン200■g、トリエチルオルトフォル
メート200腸gおよび触媒量のピリジニウムパラトル
エンスルホネートのトルエン20tJL溶液を、 De
an −5tprk装置下20分間加熱還流する。
反応後溶媒を留去して得られる残液をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー〔シリカゲル1g、溶媒; n−ヘ
キサン−酢酸エチルエステル(100: 2マ/マ)〕
に付し、lα、3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S
)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,IQ−セ
コプレグナ−5(Z) 、7.(E) 、 IQ(19
) −)ジエン150mgを得る。
実施工程例(3) 工α、3β−ジーベンゾイルオキシ−7,8−ジヒドロ
キシ−20(S)−テトラヒドロビラニルオキIRスペ
クトル v ffiaw (CHCI 1)cm−” 
:171ONMRスペクトル(CC文4)δ: 0.3
0(38,S) 、 4.47(IH,brs) 、 
5.10 (i)I、brs)、5.47(IH,br
s)、5.20〜8.20(3)1.m) 。
8.43(IH,d、J=l’QHz) 、7.2Q 
〜7.60(8H,s) 、 7.80〜8.20(4
H,m)マススペクトル(FD)m/e;638(M”
)、554,518; n−ヘキサン−酢酸エチルエス
テル(100:20マ/マ)〕にHし、lα、3β−ジ
−ベンゾイルオキシ−20(S)−ヒドロキシメチル−
9,10−セコプレグナ−5(Z)、7(E)、10(
19)−)リエンl loIIIgを得る。
実施工程例(4) lα、3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S) −テ
トラヒドロピラニルオキシメチル−9,10−セコプレ
グ+−5(Z)、?(E)、10(19) −トIJ 
zン120+sg オよび触媒量のパラトルエンスルホ
ン酸を含むメタノール5m文および塩化メチレンIO磨
交の混液を室温にて30分間撹拌する。
反応後型化メチレンにて希釈し、飽和型TX酸ナトリウ
ムにて洗浄後、硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル500eg 、溶媒IRスペ
クトル ymax (CHCA、* )c+s  :3
E100,172ONMRスペクトル(CG見4)δ:
 0.30(3H,S) 、 5.11(IH,brs
)、5.48(IH,brg)、5.IO〜Ei。
10(2H,層)、5.93(18,d、J=lOHz
)。
6.43(IH,d 、JlllQHz) 、7.20
〜7.70(138,m)、7.80〜8.30(4+
1.m)マススペクトル(FD)m/e ;554 (
M)) 、 49[1、484、432実施工程例(5
) lα、3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S) −テ
トラヒドロピラニルオキシメチル−9,lO−セコプレ
グナ−5(Z)、?(E)、10(19)−)リエン4
5011gの塩化メチレン5m+見溶液にlθ%メタノ
ール性苛性ソーダ溶液10層文を加え30分間撹拌下加
熱還流する。
反応後反応液は水洗し、硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残液をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒; n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(3:2マノマ)〕に例し、lα
、3β−ジヒドロキシ−20(S)−テトラヒドロピラ
ニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z)
、7(E)、10(19)−トリエン30hgを得る。
IRスペクトル pmax (にHG見3 )CI−”
 :3θ0ONMRスペクトル(CC44) δ: 0
.5B(3H,S) 、 0.97(3H,d、JI−
8Hz)、3.20〜3.83(4H,m) 、 3.
94〜4.45(2H,m)、4.50(1)1.br
s) 、 4.93(IH,brs) 、 5.30(
IH,brs)、  8.00(IH,d、J諺10H
z)。
8.33(IH,d、J−IIOHz)マススペクトル
(F[1)s/e;430(M’)、412,394,
328’。
310.295 実施工程例(8) lα、3β−ジヒドロキシ−20(S)−テトラヒドロ
ピラニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(
Z)、、7(E)、10(19)−トリエン200mg
およびイミダソ゛−ル200鳳gの乾燥ジメチルフォル
J・アミド5tQ溶液にトリエチルシリルクロリド30
0■gを加え室温にて3時間撹拌する。
反応後1反応液はエーテルにて昂釈後10%jl酸、水
、飽和重炭酸ナトリウム水、水にて順次洗浄後硫酸ナト
リウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル4g、溶媒; n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(100: Iマ/マ)〕に付し
、1α、3β−ジ−トリエチルシリルオキシ−20(S
)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−8,10−セ
コプレグナ−5(Z)、7(E)、10(19)−)リ
エン200mgを得る。
NMRスペクト/l/ CCC1a )δ: 0.53
(3H,S) 、 3.20〜3.90(4)1.m)
 、 4.00〜4.43(2H。
m)、4.50(IH,brs)、4.87(IH,b
rs)。
5.20(lH,brs)、 8.00(l)I、d、
J−10Hz)、8.27(lH,d、J糎101(z
)マススペクトル(FD)m/e;859(M)−1)
 、658(M”) 、394 。
393.392,344 実施工程例(7) lα、3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S) −ヒ
ドロキシメチル−9,10−セコプレグナー5(Z) 
7(E) 、10(19)−トリエン110+*g 、
  ピリジンis文および触媒量のジメチルアミノピリ
ジンの塩化メチレン溶液 10層文にバラ−トルエンス
ルフォニルクロ9180層gを加え室温にて1時間撹拌
する。
反J5?&は塩化メチレンにて希釈後、 10%塙醸、
飽和重炭酸ナトリウムおよび水にて順次洗浄後硫酸ナト
リウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル2g、溶61;  n−ヘキ
サン−酢酸エチルエステル(1,0: i v/マ)〕
に付し、lα、3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S
)−パラ−トルエンスルフォニルオキシメチル−9,1
0−セコプレグナ−5(Z) 、7(E) 、10(1
9)−トリエン100+egを得る。
!Rスペクトル ν1冨CCHC1x )c層 :17
1ONMRスペクトル(C:C14)δ: 0.33(
3H,S) 、 2.50(3)1.S) 、 3.E
i8〜4.03(2H,+a) 、 5.14(IH,
brs) 、 5.50(IH,brs) 、 5.9
0(IH,d、J=10Hz)、5.30〜6.00(
2)1゜a+) 、 8.43(IH,d、J−10H
z)、7.20〜8.30(14H,腸) マススペクトル(FD)m/e;708(M”) 、5
88.484,364実施工程例(8) lα13β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S) −パ
ラ−トルエンスルフォニルオキシメチル−9,10−セ
コプレグナ−5(Z)、7(E)、10(19)−トリ
エン60mgの塩化メチレン20i+ 1溶液に10%
メタノール性苛性ソーダ溶液lO1文を加え室温にて1
3時間撹拌する。
反応後溶媒を留去し、残渣を塩化メチレンに溶解後水洗
し硫最ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去してe)られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー〔シリカゲル1g、溶媒; n−ヘキサ
ン−酢酸エチルエステル(3:2マ/マ)〕に付し、第
一フラクションより1α、3β−ジヒドロキシ−20(
S)−メトキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(
Z)、7(E)、10(19)−トリエン21mgを得
る。
IRスペクトル ymax (CHCrfLz )c+
g  :360ONMRスペクトル(00文4)δ: 
0.43(3H,S) 、 0.90(3H,d、J−
GHz) 、 3.13(3H,S) 、 3.70〜
4.40(2B、m) 、 4.80(IH,brs)
 。
5.17(I)I、brg) 、 5.83(IH,d
、JIlloHz)、6.+5(1)1.d、J−10
)1z)マススペクトJしくFD)m/e;360.3
58,342,324,281゜287.250,22
4 第二フラクションよりlα、3β−ジヒドロキシ−20
(S)−パラ−トルエンスルフォニルオキシメチル−9
,10−セコプレグナ−5(Z)、?(E)、10(1
9)−トリエン15mgを得る。
IRスペクトル p mat (CHCI y )am
−’ :3Ef0ONMRスペクトル(000文3)δ
: 0.47(3)1.S) 、 0.94(38,d
、J=6)1z) 、 2.44(38,S) 、 3
.70〜4.10(2H,m) 、 4.90(l)!
、brs) 。
5.25(IH,brg)、5.93(l)l、d、J
−10Hz)、8.30(+1(、d、J=10)1z
)、7.30(2H。
d、J−18Hz) 、 7.78(2H,d、J−8
Hz)マススペクトル(FD)@/e;500(Mr)
、482(M’−18) 。
4138.482 反応液は塩化メチレンにて希釈#に10%塩酸。
水、飽和重炭酸ナトリウム水、水にて順次洗浄後、硫酸
ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残液をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル500mg 、溶媒; n−
ヘキサン−酢酸エチルエステル(loo:tマlマ)〕
に付し、lα、3β−ジ−t−ブチルジメチルシリルオ
キシ−20(S)−パラ−トルエンスルフォニルオキシ
メチル−9,10−セコプレグナ−5(Z) 、?(E
) 、 10(19) −)リエン13mgを得る。
実施工程例(9) lα、3β−ジヒドロキシ−20(S) −p−トルエ
ンスルフォニルオキシメチル−9,lO−セコプレグナ
−5(Z) 、?(E) 、10(19)−トリエン1
2mg、イミダゾール20mgおよび触媒量のジメチル
アミノピリジンの乾燥ジメチルフォルムアミド2■又溶
液に1−ブチルジメチルシリルクロリド20■gを加え
室温にて1時間撹拌する。
本節の各種機器データはDe Lucaらのもの(rJ
、org、chem、 J 53,3450(1988
) )と完全に一致したことによりその構造を確認した
(発明の効果) 本発明は、従来にない有用な22.23−セコ−7,8
−ジヒドロキシビタミンDまたはそれらの誘導体を得た
ものであり、かつこれを7.8−ジヒドロキシの環状オ
ルトエステルを経る還元的脱離反応もしくは還元型チタ
ン等の金属による脱離反応により製造し得るようにした
ものであり、このことによって、従来法に比し画期的な
効率のよい方法を提供することができるに至った。
【図面の簡単な説明】
図は、本願に係る請求項(2)に係る方法の全体工程説
明図である。 代理人 弁理士  斎 藤 義 雄 手糸売:?′in 正 書(方式) 事件の表示 特願平1−35783 発明の名称 22 、23−セコビタミンDおよび活性型22.23
−セコビタミンDあるいはそれらの誘導体とその製造方
法 補正をする者 事件との関係 特許出願人 株式会社  は く さん 大〒100 東京都千代田区有楽町1丁目6番6号小谷ビル補正命令
の日付 (平成 1年 5月30日) 補正の対象 明細書の1図面の簡単な説明」の欄と図面。 7 補正の内容 1)明細書第31頁14行目の1図は、」を「第1図は
、」 と補正

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記式をもつ化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、Xは水素、ヒドロキシもしくはその誘導体で
    、R_1がベンゾイルでありR_2がテトラトビロピラ
    ニル、水素、p−トルエンスルフォニルを、R_1が水
    素でありR_2がテトラトビロピラニル、p−トルエン
    スルフォニル、メチルを、R_1がトリエチルシリルで
    R_2がテトラトビロピラニルを、R_1が水素原子ま
    たはヒドロキシ保護基でありR_2は水素を除く同一も
    しくは異なるヒドロキシ保護基を夫々示す。)
  2. (2)下記〔 I 〕式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
    〕 (ここでR_1、R_2、R_3およびR_4は同一も
    しくは異なり、水素原子またはヒドロキシ保護基を、X
    は水素、ヒドロキシもしくはその誘導体を示す。) で表わされる22,23−セコ−7,8−ジヒドロキシ
    ビタミンDまたはその誘導体を7,8−ジヒドロキシの
    環状オルトエステル或いはその同族体を経る還元的脱離
    反応もしくは7,8−ジヒドロキシ体の還元型チタン等
    の金属による脱離反応によることを特徴とする 下記〔II〕式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔II〕 (ここでR_1およびR_2は同一もしくは異なり、水
    素原子またはヒドロキシ保護基を、Xは水素、ヒドロキ
    シもしくはその誘導体を示す。)で表わされる22,2
    3−セコビタミンDおよび活性型22,23−セコビタ
    ミンDあるいはそれらの誘導体の製造方法。
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