JPH02216604A - Magnetic head and its production - Google Patents
Magnetic head and its productionInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、8ミリVTR,デジタルオーディオチーブレ
コーダ等の磁気記録再生装置に装備される磁気ヘッドに
関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a magnetic head installed in a magnetic recording/reproducing device such as an 8 mm VTR or a digital audio recorder.
(従来の技術)
メタルテープ、蒸着テープ等の高抗磁力の磁気記録媒体
の出現に伴って、従来の酸化物磁性ヘッドに替わり、磁
気ギャップ部近傍に高飽和磁束密度の磁性合金材料、例
えばセンダスト、アモルファス合金等からなる磁性層を
形成した所謂複合型磁気ヘッドが開発されている。(Prior Art) With the advent of magnetic recording media with high coercive force such as metal tapes and vapor-deposited tapes, magnetic alloy materials with high saturation magnetic flux density, such as sendust, are used in place of conventional oxide magnetic heads near the magnetic gap. A so-called composite magnetic head in which a magnetic layer is formed of an amorphous alloy or the like has been developed.
第11図(a) (b)は、8ミリVTR等に用いられ
ている複合型磁気ヘッドを示しており、フェライト等か
らなる一対の酸化物磁性コア(1)(11)の突き合せ
部に、作動ギャップ(4)を挟んで一対の磁性合金層(
3)(31)を配備し、作動ギャップ(4)の両側には
ガラス製のトラック幅規制部(5)(51)を配備して
いる。又、一方の酸化物磁性コア(1)には、電気コイ
ルを巻装する為のコイル窓(6)が開設されている。Figures 11(a) and 11(b) show a composite magnetic head used in 8mm VTRs, etc., in which a pair of oxide magnetic cores (1) and (11) made of ferrite etc. , a pair of magnetic alloy layers (
3) (31), and track width regulating parts (5) (51) made of glass are provided on both sides of the operating gap (4). Moreover, a coil window (6) for winding an electric coil is provided in one of the oxide magnetic cores (1).
上記磁気ヘッドに於いては、構造上、磁気飽和度が高く
ならざるを得ない作動ギャップ近傍の磁路が、飽和磁束
密度の高いセンダスト等によって形成されているから、
磁気飽和の発生が抑制される。In the magnetic head described above, the magnetic path near the working gap, which must have a high degree of magnetic saturation due to its structure, is formed of sendust or the like with a high saturation magnetic flux density.
The occurrence of magnetic saturation is suppressed.
(解決しようとする課題)
従来の複合型磁気ヘッドに於いては、磁性合金層として
、例えば飽和磁束密度Bsが10,000〜11゜0Q
OG auss程度のセンダストが用いられており、従
来は、この程度の飽和磁束密度の磁性合金層を作動ギャ
ップ近傍に形成することが、記録再生性能にとって最適
であると考えられていた。(Problem to be Solved) In conventional composite magnetic heads, the magnetic alloy layer has a saturation magnetic flux density Bs of 10,000 to 11°0Q, for example.
Sendust of approximately OG auss is used, and it was conventionally thought that forming a magnetic alloy layer with a saturation magnetic flux density of this level in the vicinity of the working gap was optimal for recording and reproducing performance.
しかし、後述の如く本発明者が行なった磁気解析によれ
ば、磁性合金層(2) (21)の更に作動ギャップ(
4)の極く近傍で、磁束密度の飽和度が98%以上に達
していることが明らかとなった。However, according to the magnetic analysis conducted by the inventor as described below, the working gap (
It has become clear that the degree of saturation of the magnetic flux density reaches 98% or more in the vicinity of 4).
この様に磁性合金層の一部で磁気飽和度が極めて高くな
ると、センダストの透磁率が急激に低下する結果、起磁
力即ち記録電流を大きくしても、記、録に関与する漏れ
磁束が殆ど増加せず、起磁力に対する磁気テープの記録
強さ(記録磁場)の線形性が崩れて、信号の記録再生波
形に歪が生じることになる。When the degree of magnetic saturation becomes extremely high in a part of the magnetic alloy layer in this way, the magnetic permeability of sendust decreases rapidly.As a result, even if the magnetomotive force, that is, the recording current is increased, the leakage magnetic flux involved in recording is almost negligible. If the magnetic tape does not increase, the linearity of the recording strength (recording magnetic field) of the magnetic tape with respect to the magnetomotive force collapses, and distortion occurs in the recording/reproduction waveform of the signal.
しかしながら、磁性合金層(2)(21)の全体を、例
えば13,0OOG auss以上の極めて飽和磁束密
度の高い資材、例えばFe:94重量%、SL:6重量
%の合金で形成すると、磁気飽和度は低下するが、斯種
超高飽和磁束密度材は一般に透磁率が低いから、特に信
号再生性能の低下を招来する。However, if the entire magnetic alloy layer (2) (21) is made of a material with an extremely high saturation magnetic flux density of 13,0 OOG auss or more, for example, an alloy of Fe: 94% by weight and SL: 6% by weight, the magnetic saturation However, since such ultra-high saturation magnetic flux density materials generally have low magnetic permeability, this particularly causes a deterioration in signal reproduction performance.
本発明の目的は、従来の磁気ヘッドに比べて高い記録再
生性能が得られる磁気ヘッド、及びその製造方法を提供
することである。An object of the present invention is to provide a magnetic head that provides higher recording and reproducing performance than conventional magnetic heads, and a method for manufacturing the same.
(課題を解決する為の手段)
本発明は、作動ギャップ(4)を挟んで一対のヘッド半
体を対向配備し、少なくとも両ヘッド半体の対向部に、
磁性合金部を形成した磁気ヘッドに於いて、前記磁性合
金部は、作動ギャップ(4)の両側に形成した一対の第
1磁性合金層(2)(21)と、該第1磁性合金層の更
に両側に形成した一対の第2磁性合金層(3)(31)
とを具え、第1磁性合金層(2)(21)は第2磁性合
金層(3)(31)よりも飽和磁束密度の高い磁性合金
から形成したことを特徴とする。(Means for Solving the Problems) The present invention provides a pair of head halves facing each other with an operating gap (4) in between, and at least the opposing portions of both head halves.
In the magnetic head in which a magnetic alloy portion is formed, the magnetic alloy portion includes a pair of first magnetic alloy layers (2) and (21) formed on both sides of the working gap (4), and a pair of first magnetic alloy layers (2) and (21) formed on both sides of the working gap (4). Furthermore, a pair of second magnetic alloy layers (3) (31) formed on both sides
The first magnetic alloy layer (2) (21) is characterized in that it is formed from a magnetic alloy having a higher saturation magnetic flux density than the second magnetic alloy layer (3) (31).
各第1磁性合金層(2)(21)は例えば0.06μm
以上の厚さに形成される。Each first magnetic alloy layer (2) (21) has a thickness of, for example, 0.06 μm
It is formed to a thickness greater than or equal to that.
又、本発明に係る磁気ヘッドは、作動ギャップ(4)を
挟んで一対のヘッド半体を対向配備し、各ヘッド半体は
、主磁路を形成すべき酸化物磁性コア(1)(It)と
、作動ギャップ(4)と酸化物磁性コア(1)(11)
との間に介装した磁性層とから構成し、前記磁性層は、
酸化物磁性コア(1)(11)側から作動ギャップ(4
)側へ向かってFe含有率が徐々に増大する磁性合金層
によって形成されている。Further, the magnetic head according to the present invention has a pair of head halves facing each other with an operating gap (4) in between, and each head half has an oxide magnetic core (1) (It) that forms a main magnetic path. ), working gap (4) and oxide magnetic core (1) (11)
and a magnetic layer interposed between the
From the oxide magnetic core (1) (11) side to the working gap (4
) is formed of a magnetic alloy layer in which the Fe content gradually increases toward the side.
上記磁気ヘッドの製造方法は、酸化物磁性コア(1)(
11)となる磁性基板の表面に、前記磁性層となる磁性
合金を真空薄膜形成技術にて所定厚さに成膜する過程で
、磁性基板に対し、連続的に或は段階的に絶対値が増大
する負のバイアス電圧を印加することを特徴とする。The method for manufacturing the magnetic head described above includes an oxide magnetic core (1) (
11) In the process of forming the magnetic alloy that will become the magnetic layer to a predetermined thickness on the surface of the magnetic substrate using vacuum thin film formation technology, the absolute value of the magnetic substrate changes continuously or stepwise. It is characterized by applying an increasing negative bias voltage.
(作用及び効果)
上記磁気ヘッドに於いては、作動ギャップ(4)の両側
に配備した第1磁性合金層(2)(21)が、センダス
ト等の第2磁性合金層(3)(31)に比べて飽和磁束
密度が高いから、従来の複合型磁気ヘッドに比べて磁気
飽和度が低く、従って起磁力に対する磁気テープの記録
強さの線形性が良好であり、記録再生性能が改善される
。(Functions and Effects) In the above magnetic head, the first magnetic alloy layers (2) (21) arranged on both sides of the working gap (4) are connected to the second magnetic alloy layers (3) (31) made of sendust or the like. Since the saturation magnetic flux density is higher than that of conventional composite magnetic heads, the degree of magnetic saturation is lower than that of conventional composite magnetic heads.Therefore, the linearity of the recording strength of the magnetic tape with respect to the magnetomotive force is good, and the recording and reproducing performance is improved. .
又、第1磁性合金層(2)(21)の厚さを、後述の如
く最適ギャップ長との関係で適切な値に設定することに
より、信号再生時の記録媒体からの磁束の内、信号とし
て抽出出来る有効な磁束の割合を増大させることが出来
、これによって信号再生性能を改善することが出来る。In addition, by setting the thickness of the first magnetic alloy layer (2) (21) to an appropriate value in relation to the optimum gap length as described later, the magnetic flux from the recording medium during signal reproduction can be It is possible to increase the proportion of effective magnetic flux that can be extracted as a signal, thereby improving signal reproduction performance.
上記の作用効果は、酸化物磁性コア(1)(11)と作
動ギャップ(4)との間の磁性層が、酸化物磁性コア(
1)(11)側から作動ギャップ(4)側へ向かってF
e含有率が徐々に増大する磁性合金層によって形成され
ている磁気ヘッドに於いても同様である。The above effects are such that the magnetic layer between the oxide magnetic cores (1) (11) and the working gap (4)
1) From the (11) side to the operating gap (4) side
The same applies to magnetic heads formed of magnetic alloy layers whose e content gradually increases.
又、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法に於いては、例
えば磁性合金としてセンダストを用いた場合、磁性基板
に印加すべきバイアス電圧を先ず零ボルトに設定して成
膜を施すことにより、従来と同様の組成(Fe:略83
重量%)のセンダスト膜が得られ、その後、例えばバイ
アス電圧を一1OOVに設定することにより、Fe成分
が増大した磁性合金膜(Fe二略85重量%)が得られ
る。尚、バイアス電圧を連続的に変化させれば、Fe成
分を膜表層に向かって徐々に増大させることが出来る。In addition, in the method for manufacturing a magnetic head according to the present invention, for example, when Sendust is used as the magnetic alloy, the bias voltage to be applied to the magnetic substrate is first set to zero volts, and film formation is performed, unlike conventional methods. Same composition as (Fe: approx. 83
After that, by setting the bias voltage to, for example, 100 V, a magnetic alloy film with increased Fe content (approximately 85 wt % Fe) is obtained. Note that by continuously changing the bias voltage, it is possible to gradually increase the Fe component toward the film surface layer.
従って、最終的に完成した磁気ヘッドに於いては、作動
ギャップの両側に、センダストよりも飽和磁束密度の高
い磁性合金層が形成され、記録再生時に上記作用効果が
発揮される。Therefore, in the finally completed magnetic head, magnetic alloy layers having a higher saturation magnetic flux density than Sendust are formed on both sides of the working gap, and the above effects are exhibited during recording and reproduction.
(実施例)
以下に述べる実施例は本発明を説明するためのものであ
って、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或いは範
囲を減縮する様に解すべきではない。(Examples) The examples described below are for illustrating the present invention, and should not be construed as limiting the invention described in the claims or reducing its scope.
先ず、本発明完成の過程で行なった従来の磁気ヘッドに
対する磁気解析について説明する。First, magnetic analysis of a conventional magnetic head performed in the process of completing the present invention will be described.
第11図(a)(b)に示す複合型磁気ヘッドをモデル
として、酸化物磁性コア(1)(11)に飽和磁束密度
が5,0OOG aussのフェライト、磁性合金層(
3)(31)に飽和磁束密度が10,0OOG aus
sのセンダストを使用し、該磁性合金層の膜厚を5μm
1ギヤツプ長を0.28μmに設定した。又、ヘッドに
対する起磁力は、酸化物磁性コア(1)(11)と磁性
合金層(3)(31)との境界部で5,000Gaus
sとなる様に設定した。Using the composite magnetic head shown in FIGS. 11(a) and 11(b) as a model, oxide magnetic cores (1) and (11) are made of ferrite with a saturation magnetic flux density of 5,000 G auss, and a magnetic alloy layer (
3) The saturation magnetic flux density in (31) is 10,0OOG aus
S sendust was used, and the film thickness of the magnetic alloy layer was 5 μm.
One gap length was set to 0.28 μm. Furthermore, the magnetomotive force on the head is 5,000 Gauss at the boundary between the oxide magnetic cores (1) (11) and the magnetic alloy layers (3) (31).
It was set to be s.
上記磁気ヘッドモデルに対し、有限要素法を用いた磁気
解析シミュレーションを施した。この際、第4図の如く
要素の大きさは0.02μmX 0.02μmと、従来
行なわれていたよりも更に微小に分割することにより、
第4図中にハツチングを施した幅0.06μm及び深さ
0.08μmの略三角形の領域で、磁束密度が98,0
00Gaussを超え、飽和度が98%以上となること
が、本解析で初めて明らかになった。A magnetic analysis simulation using the finite element method was performed on the above magnetic head model. At this time, as shown in Fig. 4, the size of the element is 0.02 μm x 0.02 μm, which is even smaller than what was conventionally done.
In the approximately triangular area with a width of 0.06 μm and a depth of 0.08 μm hatched in Figure 4, the magnetic flux density is 98.0 μm.
This analysis revealed for the first time that the saturation level exceeds 00 Gauss and saturation is 98% or higher.
この結果、従来の磁気ヘッドに於いては、起磁力に対す
る記録強さの線形性が崩れていたのである。As a result, in the conventional magnetic head, the linearity of the recording strength with respect to the magnetomotive force was broken.
そこで本発明に於いては、少なくとも磁気飽和度が98
%を越えている領域に、センダスト等の高飽和磁束密度
材よりも更に飽和磁束密度の高い超高飽和磁束密度の磁
性合金を形成して、上記問題点を解決したのである。Therefore, in the present invention, the magnetic saturation degree is at least 98.
The above problem was solved by forming a magnetic alloy with an ultra-high saturation magnetic flux density, which has a saturation magnetic flux density even higher than that of a high saturation magnetic flux density material such as Sendust, in the region where the saturation magnetic flux density exceeds %.
本発明の磁気ヘッドは、例えば第1図及び第2図に示す
様に、作動ギャップ(4)を挟んで一対の酸化物磁性コ
ア(1)(11)を対向配備し、酸化物磁性コア(1)
(11)と作動ギャップ(4)との間に介装すべき磁性
合金部は、作動ギャップ(4)の両側に形成した一対の
第1磁性合金層(2)(21)と、該第1磁性合金膜の
更に両側に形成した一対の第2磁性合金層(3)(31
)から構成される。As shown in FIGS. 1 and 2, for example, the magnetic head of the present invention has a pair of oxide magnetic cores (1) and (11) facing each other with an operating gap (4) in between. 1)
(11) and the working gap (4) are a pair of first magnetic alloy layers (2) and (21) formed on both sides of the working gap (4), and the first magnetic alloy layer (21) formed on both sides of the working gap (4). A pair of second magnetic alloy layers (3) (31) formed on both sides of the magnetic alloy film
).
作動ギャップ(4)の両側にはガラス製のトラック幅規
制部(5)(51)が形成され、一方の酸化物磁性コア
(1)にはコイル窓(6)が開設される。Track width regulating parts (5) (51) made of glass are formed on both sides of the working gap (4), and a coil window (6) is opened in one of the oxide magnetic cores (1).
酸化物磁性コア(1)(11)は、飽和磁束密度が5゜
000〜5 、800 G auss程度のMn−Zn
単結晶フェライト或は高密度フェライトから形成される
。The oxide magnetic cores (1) and (11) are made of Mn-Zn with a saturation magnetic flux density of about 5°000 to 5.800 Gauss.
It is formed from single crystal ferrite or high density ferrite.
第2磁性合金層(3)(31)は、従来より使用されて
いるセンダス、例えばFe:84重量%、A1:6重量
%、Si:10重量%からなるセンダストを用いる。For the second magnetic alloy layers (3) and (31), Sendust, which has been used conventionally, is used, for example, Sendust consisting of 84% by weight of Fe, 6% by weight of A1, and 10% by weight of Si.
ここで、Feの一部(3重量%以下)をCrで置換する
ことも可能である。この場合、飽和磁束密度は10.0
00〜11,000Gaussとなる。Here, it is also possible to partially replace Fe (3% by weight or less) with Cr. In this case, the saturation magnetic flux density is 10.0
00 to 11,000 Gauss.
第1磁性合金層(2)(21)の資材としては、例えば
Fe−SL合金、F e −A 1合金、F e−A
I−8i合金等が使用可能であって、これらの合金は、
前記センダストの成分に比べてA1やSLを減少させる
ことによって、飽和磁束密度を増加させたものである。Examples of materials for the first magnetic alloy layer (2) (21) include Fe-SL alloy, Fe-A 1 alloy, Fe-A
I-8i alloy etc. can be used, and these alloys are
The saturation magnetic flux density is increased by decreasing A1 and SL compared to the components of the sendust.
例えばFe−A1合金の成分は、Fe:94重量%、S
i:6重量%に設定される。これによって18.000
G auss程度の飽和磁束密度が得られる。For example, the components of Fe-A1 alloy are Fe: 94% by weight, S
i: Set to 6% by weight. This will result in 18.000
A saturation magnetic flux density on the order of Gauss can be obtained.
更に第1磁性合金層(2)(21)の資材としては、F
e、或はFr−Co系の合金に対してCr5Ti。Furthermore, as the material for the first magnetic alloy layer (2) (21), F
e, or Cr5Ti for Fr-Co alloys.
Rh、Pt、V等の各種添加物を加えたものを使用する
ことも可能であって、これによって飽和磁束密度を12
、000〜20 、000 G aussの広範囲で
適切な値に選定することが出来る。It is also possible to use a material with various additives such as Rh, Pt, and V added, which increases the saturation magnetic flux density to 12
, 000 to 20,000 Gauss.
第1磁性合金層(2)(21)の資材の選定に際しては
、飽和磁束密度の値のみならず、透磁率、耐摩耗性等も
考慮される。When selecting materials for the first magnetic alloy layers (2) (21), not only the value of saturation magnetic flux density but also magnetic permeability, wear resistance, etc. are taken into consideration.
各第1磁性合金層(2)(21)の厚さは、0.06〜
1μmの範囲(例えば0.2μm)に形成され、各第2
磁性合金層(3) (31)の厚さは3〜10μmの範
囲(例えば6μff1)に形成される。The thickness of each first magnetic alloy layer (2) (21) is 0.06~
formed in a range of 1 μm (for example 0.2 μm), and each second
The thickness of the magnetic alloy layer (3) (31) is formed in a range of 3 to 10 μm (for example, 6 μff1).
第5図は、上記センダスト及びFe−Si合金の透磁率
の周波数特性を示している。この様に、略3MHz以下
でFe−Si合金の透磁率はセンダストのそれよりも低
い値となっている。従って、第1磁性合金層(2)(2
1)を極端に厚く形成すると、磁気ヘッドの信号再生性
能に低下を来す。FIG. 5 shows the frequency characteristics of magnetic permeability of the Sendust and Fe-Si alloys. In this way, the magnetic permeability of the Fe-Si alloy is lower than that of Sendust at frequencies below approximately 3 MHz. Therefore, the first magnetic alloy layer (2) (2
If 1) is formed extremely thick, the signal reproduction performance of the magnetic head will deteriorate.
第3図は、信号再生時に於いて、第1磁性合金層(2)
(21)及び第2磁性合金層(3)(31)上の磁気テ
ープ(7)の磁化方向と、これによって発生する磁気ヘ
ッド内の磁束の状態を示している。ここで、第1磁性合
金層(2)(21)の厚さが、tl<0.06μmと薄
いときは、上述の如く作動ギャップ(4)近傍の磁気飽
和度が98%を越え、又、t、 > 0.06μmであ
っても薄きに過ぎる場合は、図中に破線で示す無効磁束
が増える。一方、第1磁性合金層(2)(21)の厚さ
が例えばt、〉1μmと厚きに過ぎると、図中に実線で
示す有効磁束の磁気抵抗が増大することになる。Figure 3 shows the first magnetic alloy layer (2) during signal reproduction.
(21) and the magnetization direction of the magnetic tape (7) on the second magnetic alloy layer (3) (31), and the state of the magnetic flux within the magnetic head generated thereby. Here, when the thickness of the first magnetic alloy layer (2) (21) is as thin as tl<0.06 μm, the magnetic saturation near the working gap (4) exceeds 98% as described above, and Even if t, > 0.06 μm, if it is too thin, the invalid magnetic flux shown by the broken line in the figure increases. On the other hand, if the thickness of the first magnetic alloy layer (2) (21) is too thick, for example, t, >1 μm, the magnetic resistance of the effective magnetic flux shown by the solid line in the figure increases.
そこで、本発明に於いては次の様に第1磁性合金層(2
)(21)を厚さを規定した。Therefore, in the present invention, the first magnetic alloy layer (2
) (21) was used to define the thickness.
一般に磁気ヘッドに於いては、記録信号の周波数Fと、
信号の記録波長λと、磁気ヘッドに対する磁気テープ速
度Vとの間に、V=FXλの関係が成立する。Generally, in a magnetic head, the frequency F of the recording signal,
The relationship V=FXλ holds between the recording wavelength λ of the signal and the magnetic tape speed V with respect to the magnetic head.
又、ギャップ長は、一般に記録波長λの1/2〜1/3
の値が最適値とされる(例えば松本光功著「磁気ヘッド
と磁気記録」総合電子出版第99頁参照)。In addition, the gap length is generally 1/2 to 1/3 of the recording wavelength λ.
The value of is considered to be the optimum value (see, for example, "Magnetic Head and Magnetic Recording" by Mitsukoshi Matsumoto, General Electronic Publishing, p. 99).
ここでギャップ長の最適値g0をλの1/2に選定し、
F = 3 M Hz、 V = 3.75m/ se
cとすると、上記関係式から、最適ギャップ長g0#0
.62μmが得られる。Here, the optimal value g0 of the gap length is selected as 1/2 of λ,
F = 3 MHz, V = 3.75 m/se
c, then from the above relational expression, the optimal gap length g0#0
.. 62 μm is obtained.
本発明の磁気ヘッドに於いては、第3図の如く両箱1磁
性合金層(2)(21)の全幅を前記最適ギャップ長g
0に設定することによって、上述の如く記録再生性能を
改善することが可能である。従って、前記例に於いて、
実際のギャップ長g、を03μmとすると、各第1磁性
合金層(2)(21)の最適幅t0は略0.16μmと
なる。In the magnetic head of the present invention, as shown in FIG.
By setting it to 0, it is possible to improve the recording and reproducing performance as described above. Therefore, in the above example,
If the actual gap length g is 03 μm, the optimum width t0 of each first magnetic alloy layer (2) (21) is approximately 0.16 μm.
尚、第1磁性合金層(2)(21)の幅は、前記最適幅
から多少ずれたとしても、従来の磁気ヘッドに比べて良
好な記録再生性能が得られるのは勿論である。Incidentally, even if the width of the first magnetic alloy layer (2) (21) deviates somewhat from the above-mentioned optimum width, it is of course possible to obtain better recording and reproducing performance than the conventional magnetic head.
次に本発明の磁気ヘッドによって記録或は再生すべき磁
気テープについて考察する。Next, the magnetic tape to be recorded or reproduced by the magnetic head of the present invention will be considered.
第6図のグラフは、図中に示す様に飽和磁束密度が10
、000 G aussの第2磁性合金層(3)(3
1)の内側に、厚さが0.224m、飽和磁束密度が1
8,000Gaussの第1磁性合金層(2)(21)
を具え、ギャップ長が0.28μmである本発明の磁気
ヘッドに於いて、第1磁性合金層(2)(21)の部分
にセンダストを形成した従来の磁気ヘッドと比較した場
合に、テープ対接面から高さhの位置で磁束密度がどれ
だけ増加したかを示している。The graph in Figure 6 shows that the saturation magnetic flux density is 10 as shown in the figure.
, 000 Gauss second magnetic alloy layer (3) (3
1) with a thickness of 0.224 m and a saturation magnetic flux density of 1
8,000 Gauss first magnetic alloy layer (2) (21)
In the magnetic head of the present invention, which is equipped with It shows how much the magnetic flux density increases at the height h from the contact surface.
このグラフから明らかな様に、テープ対接面からの高さ
hが0.15μm以下で特に高い磁束密度の増加がみら
れる。As is clear from this graph, a particularly high increase in magnetic flux density is observed when the height h from the tape contact surface is 0.15 μm or less.
ところで、近年、高抗磁力を有する記録媒体として注目
を浴びている蒸着テープ或は蒸着ディスクに於いては、
磁性層として、0.15μm前後の極めて薄い厚さの強
磁性金属薄膜が形成されている。By the way, regarding vapor-deposited tapes and vapor-deposited disks, which have recently attracted attention as recording media with high coercive force,
A ferromagnetic metal thin film with an extremely thin thickness of about 0.15 μm is formed as the magnetic layer.
従って、蒸着テープに対する記録再生ヘッドとして、テ
ープ対接面から0.15μmまでの高さ範囲で高い磁束
密度を発生せしめる本発明の磁気ヘッドを採用すること
により、蒸着テープの性能を十分に引き出すことが出来
る。Therefore, by employing the magnetic head of the present invention, which generates a high magnetic flux density in a height range of up to 0.15 μm from the tape contact surface, as a recording/reproducing head for vapor-deposited tape, the performance of the vapor-deposited tape can be fully brought out. I can do it.
尚、第1図に示す酸化物磁性コア(1)(11)及び第
2磁性合金層(3)(31)の全体をセンダストで形成
し、前記の如く第1磁性合金層(2)(21)をセンダ
ストよりも更に高い飽和磁束密度の磁性合金で形成する
ことも可能であって、該磁気ヘッドに於いても、上記同
様の効果が得られるのは勿論である。Incidentally, the oxide magnetic cores (1) (11) and the second magnetic alloy layers (3) (31) shown in FIG. ) can be made of a magnetic alloy with a saturation magnetic flux density even higher than that of Sendust, and it goes without saying that the same effect as described above can be obtained in the magnetic head.
次に、本発明に係る磁気ヘッドの第1磁性合金層(2)
(21)及び第2磁性合金層(3)(31)をスパッタ
リング等の真空薄膜形成技術によって成膜する方法につ
いて述べる。Next, the first magnetic alloy layer (2) of the magnetic head according to the present invention
A method for forming (21) and the second magnetic alloy layers (3) and (31) using a vacuum thin film forming technique such as sputtering will be described.
第10図(a)〜(d)は第1図に示す磁気ヘッドの製
造工程の全体的な流れを示しており、第10図(a)に
示す薄膜形成工程を除いて、従来の製造工程と同じであ
る。10(a) to (d) show the overall flow of the manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. 1, and except for the thin film forming process shown in FIG. 10(a), the conventional manufacturing process is is the same as
第10図(a)に示す如く一対のフェライトウェハ(1
2)(13)の表面に、後述の如く直流バイアス・スパ
ッタ法により、先ず第2磁性合金層となるセンダスト膜
(32)(33)を形成し、その後、その表面に第1磁
性合金層となるF e−A I−8i膜(22) (2
3)を形成する。As shown in FIG. 10(a), a pair of ferrite wafers (1
2) First, sendust films (32) and (33), which will become the second magnetic alloy layer, are formed on the surface of (13) by DC bias sputtering as described later, and then the first magnetic alloy layer is formed on the surface. Fe-A I-8i film (22) (2
3) Form.
更にその表面に、ギャップスペーサとしてのSiO2膜
(図示省略)を形成する。Furthermore, a SiO2 film (not shown) is formed on the surface as a gap spacer.
次に同図(b)に示す様に、一方のフェライトウェハ(
12)の膜表面に対して複数条のトラック幅規制溝(5
2)を凹設すると共に、他方のフェライトウェハ(13
)の膜表面に対しては、複数条のトラック幅規制溝(5
3)と、これに直交する方向に伸びる複数条のコイル溝
(61)及び接合溝(62)を凹設する。Next, as shown in the same figure (b), one of the ferrite wafers (
A plurality of track width regulating grooves (5) are formed on the film surface of 12).
2) and the other ferrite wafer (13
), multiple track width regulating grooves (5
3), and a plurality of coil grooves (61) and joining grooves (62) extending in a direction perpendicular to this are recessed.
これらの溝加工は、例えばセンダスト膜等の膜部分につ
いては化学エツチング等によって、フェライト部分につ
いてはダイヤモンド砥石等による機械加工によって行な
うことが出来る。These grooves can be formed, for example, by chemical etching for the sendust film or the like, and by machining using a diamond grindstone or the like for the ferrite portion.
次に、前記工程を経た一対のフェライトウェハ(12)
(13)を同図(c)の如く重ね合わせ、周知のガラス
接合法を用いて、両ウェハを互いに接合固定すると共に
、トラック幅規制溝(52)(53)にガラス(54)
を充填する。Next, a pair of ferrite wafers (12) that have undergone the above steps
The wafers (13) are superimposed as shown in FIG.
Fill it with.
最後に、前記工程を経て得られたヘッドブロックを図中
の破線に沿ってスライスし、これにょって得られたヘッ
ドチップに必要な整形加工を施して、第1図の磁気ヘッ
ドが完成する。Finally, the head block obtained through the above steps is sliced along the broken lines in the figure, and the head chip thus obtained is subjected to necessary shaping processing to complete the magnetic head shown in Fig. 1. .
前記センダスト膜及びF e−A I−8i膜の形成に
際しては、夫々の膜の組成に応じた磁性合金を用いて、
従来同様のスパッター法を2回繰り返すことによって、
容易に行なうことが出来るが、本実施例では所謂バイア
ス・スパッター法を用いることにより、前記2種類の薄
膜を連続的に形成する方法を開発し、採用した。When forming the sendust film and the Fe-A I-8i film, a magnetic alloy is used depending on the composition of each film,
By repeating the conventional sputtering method twice,
Although this can be done easily, in this example, a method was developed and adopted in which the two types of thin films mentioned above are continuously formed by using a so-called bias sputtering method.
第7図及び第8図はセンダスト膜及びF e−A l−
3i膜の形成に使用する直流バイアス・スパッター装置
の概略構成を示している。FIG. 7 and FIG. 8 show Sendust film and F e-A l-
3 shows a schematic configuration of a DC bias sputtering device used to form a 3i film.
該装置は一般に対向ターゲット式スパッター装置と呼ば
れるものであって、第7図の如く真空容器(8)内に、
一対のターゲット(81)(82)を対向配備し、更に
両ターゲット間の空間に面して配備した電気絶縁板(8
5)上に、固定金具(84)を具えた金属製の基板ホル
ダー(83)を取り付けている。基板ホルダー(83)
には、電圧調整の可能なバイアス電源(86)が接続さ
れる。This device is generally called a facing target type sputtering device, and as shown in FIG. 7, in a vacuum container (8),
A pair of targets (81) (82) are arranged facing each other, and an electrically insulating plate (82) is arranged facing the space between both targets.
5) A metal substrate holder (83) equipped with a fixing fitting (84) is attached on top. Board holder (83)
A bias power supply (86) whose voltage can be adjusted is connected to.
第8図の如くホルダー(83)上のフェライトウェハ(
12)を載置して、これを固定金具(84)によって固
定した状態で、ターゲットに対して略−800■の電圧
を印加すると共に、前記バイアス電源の電圧値を後記の
如く変化させつつ、スパッタリングを行なう。As shown in Figure 8, the ferrite wafer (
12) is mounted and fixed with the fixing metal fittings (84), a voltage of approximately -800 cm is applied to the target, and while changing the voltage value of the bias power supply as described below, Perform sputtering.
本実施例では、ターゲット(81) (82)としてF
e:84重量%、A1:6重量%、S i:10重量%
の合金を使用し、先ずバイアス電圧をOvに設定して所
定時間だけスパッタリングを行ない、その後、バイアス
電圧を一100■に設定して所定時間だけスパッタリン
グを行なう。In this example, F is used as the target (81) (82).
e: 84% by weight, A1: 6% by weight, Si: 10% by weight
First, the bias voltage is set to Ov and sputtering is performed for a predetermined time, and then the bias voltage is set to -100V and sputtering is performed for a predetermined time.
下記衣1は、上記装置に於いて、バイアス電圧を0■、
−50■、−100Vに変化させてスパッタリングを行
なった場合に得られる合金膜の組成及び飽和磁束密度を
示すものである。For the following clothing 1, in the above device, the bias voltage is set to 0,
The graph shows the composition and saturation magnetic flux density of alloy films obtained when sputtering is performed at voltages of -50V and -100V.
(以下余白)
表1
又、第9図はこれらの3種類の合金膜の比透磁率の周波
数特性を示している。(Left below) Table 1 FIG. 9 shows the frequency characteristics of the relative magnetic permeability of these three types of alloy films.
従って、上記の如く先ずバイアス電圧をOvに設定して
スパッタリングを行なうことによって、通常の透磁率の
高いセンダスト膜(例えば厚さ5.8μm)が得られ、
バイアス電圧を一100Vに設定することにより、飽和
磁束密度の高い磁性合金膜(例えば厚さ0.2μm)が
得られ、更に第10図に示す工程を経ることによって、
前記センダスト膜が第1図の第2磁性合金層(3)(3
1)となり、前記磁性合金膜が第1図の第1磁性合金層
(2)(21)となって、第1図の磁気ヘッドが完成す
ることになる。Therefore, by first performing sputtering with the bias voltage set to Ov as described above, a normal sendust film (for example, 5.8 μm thick) with high magnetic permeability can be obtained.
By setting the bias voltage to -100 V, a magnetic alloy film with a high saturation magnetic flux density (for example, 0.2 μm thick) can be obtained, and by further performing the steps shown in FIG. 10,
The sendust film forms the second magnetic alloy layer (3) (3) in FIG.
1), the magnetic alloy film becomes the first magnetic alloy layer (2) (21) of FIG. 1, and the magnetic head of FIG. 1 is completed.
尚、ターゲットの組成は、センダストに限らずCoZr
等のアモルファス合金、Fe5iGaLu合金等を使用
することも可能である。The composition of the target is not limited to sendust but also CoZr.
It is also possible to use amorphous alloys such as Fe5iGaLu alloys, etc.
使用出来る薄膜形成技術は直流バイアス・スパッター法
のみならず、成膜法としては、周知の2極スパツター法
、3極スパツター法、真空蒸着法等が使用可能であり、
バイアス法としては、周知の交流バイアス法、イオンガ
ン法等が使用可能である。Thin film formation techniques that can be used include not only the DC bias sputtering method, but also the well-known two-pole sputtering method, three-pole sputtering method, vacuum evaporation method, etc.
As the bias method, well-known alternating current bias method, ion gun method, etc. can be used.
又、上記薄膜形成工程に於いては、バイアス電圧を2段
階に切り換えているが、前記第1表及び第9図に示す如
く3段階、或は4以上の段階で変化させることも可能で
あって、これによって飽和磁束密度及び透磁率の異なる
多層構造の磁性膜を得ることが出来る。Furthermore, in the thin film forming process described above, the bias voltage is switched in two stages, but it is also possible to change it in three stages, or four or more stages as shown in Table 1 and FIG. Thus, it is possible to obtain a multilayered magnetic film having different saturation magnetic flux densities and magnetic permeabilities.
更に又、バイアス電圧をOvから一100vまで連続的
に変化させて、第1図の磁気ヘッドと同様の効果が得ら
れる磁気ヘッドを製造することも可能である。即ち、該
磁気ヘッドに於いては、作動ギャップ(4)と酸化物磁
性コア(1)(11)との間の磁性層が、酸化物磁性コ
ア(1)(11)側から作動ギャップ(4)側へ向かっ
てFe含有率が徐々に増大する磁性合金層によって形成
されることになる。Furthermore, it is also possible to manufacture a magnetic head that achieves the same effect as the magnetic head shown in FIG. 1 by continuously changing the bias voltage from Ov to -100V. That is, in the magnetic head, the magnetic layer between the working gap (4) and the oxide magnetic cores (1) and (11) extends from the working gap (4) from the oxide magnetic core (1) and (11) side. ) is formed by a magnetic alloy layer in which the Fe content gradually increases toward the side.
図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するための
ものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、
或は範囲を減縮する様に解すべきではない。The drawings and the description of the above embodiments are for illustrating the present invention, and do not limit the invention described in the claims.
Nor should it be construed as limiting the scope.
又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。Further, it goes without saying that the configuration of each part of the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various modifications can be made within the technical scope of the claims.
例えば、第1図の磁気ヘッドに於いては、酸化物磁性コ
ア(1)(11)と第2磁性合金層(3)(31)との
境界面が、作動ギャップ(4)の形成面と平行に形成さ
れているが、第12図乃至第15図の如く、前記境界面
の一部或は全体が、ギャップ形成面と非平行な磁気ヘッ
ドにも応用出来るのは勿論である。For example, in the magnetic head shown in FIG. 1, the interface between the oxide magnetic core (1) (11) and the second magnetic alloy layer (3) (31) is the formation surface of the working gap (4). Although they are formed in parallel, it is of course applicable to a magnetic head in which part or all of the boundary surfaces are non-parallel to the gap forming surface, as shown in FIGS. 12 to 15.
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る磁気ヘッドの要部を示す拡大平面
図、第2図は該磁気ヘッドの斜面図、第3図は該磁気ヘ
ッド内の磁束の状態を説明する図、第4図は磁気解析の
結果を説明する図、第5図は透磁率の周波数特性を示す
グラフ、第6図はテープ対接面からの高さと磁束密度増
加量との関係を示すグラフ、第7図は直流バイアス・ス
パッター装置の構成図、第8図はホルダー上に固定され
たフェライトウェハの斜面図、第9図はバイアス電圧と
比透磁率との関係を表わすグラフ、第10図(a) (
b) (c)は磁気ヘッドの製造工程を示す斜面図、第
11図(a)は従来の磁気ヘッドの斜面図、第11図(
b)は該磁気ヘッドの要部を示す平面図、第12図乃至
第15図は夫々本発明の他の実施例を示す第1図同様の
平面図である。
(1)(11)・・・酸化物磁性コア
(2)(21)・・・第1磁性合金層
(3)(31)・・・第2磁性合金層
(4)・・・作動ギャップ
(a)
第8図
周波数(MHz)
第9図
(C)
知
、7″
第10図
手続補正書(自発)
平成元年4月22日
1、事件の表示
2、発明の名称
特願平1−39090
磁気ヘッド及びその製造方法
(2)明細書第10頁5行目
r98,0OOJを
j9,800Jに補正。
(3)明細書第11頁10行目
「センダス」を
「センダスト」に補正。
補正をする者
事件との関係 特許出願人
(188)三洋電機株式会社
補正の対象
図面、明細書の発明の詳細な説明の欄
補正の内容[Brief Description of the Drawings] Fig. 1 is an enlarged plan view showing the main parts of the magnetic head according to the present invention, Fig. 2 is an oblique view of the magnetic head, and Fig. 3 shows the state of magnetic flux within the magnetic head. Figure 4 is a diagram explaining the results of magnetic analysis, Figure 5 is a graph showing the frequency characteristics of magnetic permeability, and Figure 6 is a graph showing the relationship between the height from the tape contact surface and the increase in magnetic flux density. 7 is a configuration diagram of the DC bias sputtering device, FIG. 8 is a perspective view of a ferrite wafer fixed on a holder, and FIG. 9 is a graph showing the relationship between bias voltage and relative magnetic permeability. Figure 10(a) (
b) (c) is a perspective view showing the manufacturing process of a magnetic head, FIG. 11(a) is a perspective view of a conventional magnetic head, and FIG.
b) is a plan view showing essential parts of the magnetic head, and FIGS. 12 to 15 are plan views similar to FIG. 1 showing other embodiments of the present invention. (1) (11)...Oxide magnetic core (2) (21)...First magnetic alloy layer (3) (31)...Second magnetic alloy layer (4)...Working gap ( a) Figure 8 Frequency (MHz) Figure 9 (C) Chi, 7'' Figure 10 Procedural Amendment (Spontaneous) April 22, 1989 1, Indication of Case 2, Name of Invention Patent Application Hei 1- 39090 Magnetic head and its manufacturing method (2) Corrected r98,0OOJ to j9,800J on page 10, line 5 of the specification. (3) Corrected "Sendas" to "Sendust" on page 11, line 10 of the specification. Relationship with the case of the person making the amendment Patent applicant (188) SANYO Electric Co., Ltd. Drawings to be amended, details of the amendment in the detailed description of the invention column in the specification
Claims (1)
対向配備し、少なくとも両ヘッド半体の対向部に、磁性
合金部を形成した磁気ヘッドに於いて、前記磁性合金部
は、作動ギャップ(4)の両側に形成した一対の第1磁
性合金層(2)(21)と、該第1磁性合金膜の更に両
側に形成した一対の第2磁性合金層(3)(31)とを
具え、第1磁性合金層(2)(21)は第2磁性合金層
(3)(31)よりも飽和磁束密度の高い磁性合金から
形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。 [2]作動ギャップ(4)を挟んで一対のヘッド半体を
対向配備した磁気ヘッドに於いて、各ヘッド半体は、主
磁路を形成すべき酸化物磁性コア(1)(11)と、作
動ギャップ(4)に面して配備した第1磁性合金層(2
)(21)と、酸化物磁性コア(1)(11)と第1磁
性合金層(2)(21)との間に配備した第2磁性合金
層(3)(31)とから夫々構成され、第1磁性合金層
(2)(21)は第2磁性合金層(3)(31)よりも
飽和磁束密度の高い磁性合金から形成されていることを
特徴とする磁気ヘッド。 [3]各第1磁性合金層(2)(21)の厚さは0.0
6μm以上である特許請求の範囲第1項または第2項に
記載の磁気ヘッド。 [4]作動ギャップ(4)を挟んで一対のヘッド半体を
対向配備し、各ヘッド半体は、主磁路を形成すべき酸化
物磁性コア(1)(11)と、作動ギャップ(4)と酸
化物磁性コア(1)(11)との間に介装した磁性層と
から構成される磁気ヘッドに於いて、前記磁性層は、酸
化物磁性コア(1)(11)側から作動ギャップ(4)
側へ向かってFe含有率が徐々に増大する磁性合金層に
よって形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。 [5]作動ギャップ(4)を挟んで一対のヘッド半体を
対向配備し、各ヘッド半体は、主磁路を形成すべき酸化
物磁性コア(1)(11)と、作動ギャップ(4)と酸
化物磁性コア(1)(11)との間に介装した磁性合金
層とから構成される磁気ヘッドの製造方法に於いて、前
記酸化物磁性コア(1)(11)となる磁性基板の表面
に、前記磁性合金層となる磁性合金を真空薄膜形成技術
にて所定厚さに成膜する過程で、磁性基板に対し、連続
的に或は段階的に絶対値が増大する負のバイアス電圧を
印加することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。[Scope of Claims] [1] A magnetic head in which a pair of head halves are disposed facing each other with an operating gap (4) in between, and a magnetic alloy portion is formed at least in the opposing portions of both head halves. The magnetic alloy part includes a pair of first magnetic alloy layers (2) (21) formed on both sides of the working gap (4), and a pair of second magnetic alloy layers (2) formed on both sides of the first magnetic alloy film. 3) (31), and the first magnetic alloy layer (2) (21) is formed from a magnetic alloy having a higher saturation magnetic flux density than the second magnetic alloy layer (3) (31). magnetic head. [2] In a magnetic head in which a pair of head halves are arranged facing each other with an operating gap (4) in between, each head half has an oxide magnetic core (1) (11) and an oxide magnetic core (1) (11) that forms a main magnetic path. , a first magnetic alloy layer (2) disposed facing the working gap (4).
) (21) and second magnetic alloy layers (3) (31) disposed between the oxide magnetic cores (1) (11) and the first magnetic alloy layers (2) (21). , a magnetic head characterized in that the first magnetic alloy layer (2) (21) is formed of a magnetic alloy having a higher saturation magnetic flux density than the second magnetic alloy layer (3) (31). [3] The thickness of each first magnetic alloy layer (2) (21) is 0.0
The magnetic head according to claim 1 or 2, which has a diameter of 6 μm or more. [4] A pair of head halves are arranged facing each other with a working gap (4) in between, and each head half has an oxide magnetic core (1) (11) to form a main magnetic path and a working gap (4). ) and a magnetic layer interposed between the oxide magnetic cores (1) and (11), the magnetic layer is actuated from the oxide magnetic cores (1) and (11) side. Gap (4)
A magnetic head characterized in that it is formed of a magnetic alloy layer in which the Fe content gradually increases toward the side. [5] A pair of head halves are arranged facing each other with a working gap (4) in between, and each head half has an oxide magnetic core (1) (11) that forms a main magnetic path and a working gap (4). ) and a magnetic alloy layer interposed between the oxide magnetic cores (1) and (11). In the process of forming a magnetic alloy, which will become the magnetic alloy layer, on the surface of the substrate to a predetermined thickness using vacuum thin film formation technology, a negative magnetic alloy whose absolute value increases continuously or stepwise is applied to the magnetic substrate. A method of manufacturing a magnetic head, the method comprising applying a bias voltage.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3909089A JPH02216604A (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Magnetic head and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3909089A JPH02216604A (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Magnetic head and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02216604A true JPH02216604A (en) | 1990-08-29 |
Family
ID=12543377
Family Applications (1)
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| JP3909089A Pending JPH02216604A (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Magnetic head and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02216604A (en) |
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