JPH02219002A - 回析格子およびその製造方法 - Google Patents

回析格子およびその製造方法

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JPH02219002A
JPH02219002A JP1040500A JP4050089A JPH02219002A JP H02219002 A JPH02219002 A JP H02219002A JP 1040500 A JP1040500 A JP 1040500A JP 4050089 A JP4050089 A JP 4050089A JP H02219002 A JPH02219002 A JP H02219002A
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Masanori Iida
正憲 飯田
Kiyokazu Hagiwara
萩原 清和
Hiroyuki Asakura
宏之 朝倉
Minoru Nishioka
稔 西岡
Koichi Murase
宏一 村瀬
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は分光機器および光通信機器等に使用する回折格
子とその製造方法に関するものである。
従来の技術 従来、回折格子は光の波長分散素子として主に分光測定
用機器に使用され、ある波長域から所望の波長を選択し
て取り出す用途に用いられている。
しかしながら回折格子は一般に入射する光の波長、偏光
方向、入射角度によって回折される光の強度、即ち回折
効率が著しく影響を受けることが知られている。
以下、従来の回折格子およびその製造方法について説明
する。
例えば、ビー、ブリーフ、アール、プラウイル、エム、
プライドゥン アンド デイ−、メイストゥル:マイク
ロウェーブ ベリフィケイションオブ ア ニューメリ
カル オプティマイゼイション オプ フーリエ グレ
ーティングズ、アプライド フィツクス、24.Nα2
.P、14(1981)  CP、B11ek、R,D
eleuil、M、Breidneand  D、Ma
ystre:Microwave verificat
ion of  anumerical  optim
ization of  Fourior grati
ngs。
Applied Physics、24. Nα2.P
、147 (1981)]では、基本周波数と2次のバ
ーモミツクの組み合わせによってプロファイルを合成す
るフーリエ格子の製造がホログラフィック露光技術によ
って可能であることから、局所的な理論的最適化によっ
てフーリエ格子の効率を、広波長域用のエシェレット格
子の効率より太き(でき、この理論的予言をマイクロ波
領域で実験的に実証している。
ここで、フーリエ格子は一般に格子溝方向と垂直な座標
をx、格子間隔をdとして格子溝形状η(x)は基本周
波数k(=2π/d)と2次のバーモミツク2にの組み
合わせ ’I (x)−h  {sin(kx)+ 1 sin
  (2Kx−φ) )であられされ、h、γ、φが形
状を決めるパラメーターである。
なお、文献で示されている回折格子形状は、この場合、 h=0.42.r=0.286.農−90゜に相当する
次に、製造方法においては従来のコヒーレント光を用い
た三光束干渉露光法が用いられているが、基板上に設け
る感光層の感度特性は、露光量に対して現像後の感光層
の膜厚残存量がほぼ線型な関係の範囲で製造されている
第16図に露光量と現像後の感光層の膜厚残存率の関係
、即ち感度曲線を表した図を示す、ここでは感光層にポ
ジ型感光材、即ち露光されたところが現像により除去さ
れるような感光材について示している。16aは露光干
渉縞の強度分布、16bは現像後の格子の断面形状、1
6cは感度曲線である。
これによれば、感度曲線は線型であるためもし仮にフー
リエ格子を形成するなら、例えばエム。
プライドゥン、ニス、ジ町ハンソン、エルーイーニルソ
ン アンド エイチ、アーレン:プレーズド ホログラ
フィック グレーティングズ、オプティカ アクタ、2
6.述11.P、1427(1979)  (M、Br
eidne、S、Johansson、L−E Ni1
sson and H,Ahlen:Blazed h
olographic gratings。
0ptica Acta、26. kll、P、142
7(1979) )のように2回の露光工程と精密な位
置あわせが必要であった。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、この文献で示されている局所的最適化は
分光機器で用いられることを念頭において、回折格子に
入射する角度と1次回折光が反射される角度の差が17
°という条件でなされている。これは、例えばλ/d=
1で、リトロ−角より8.5°離れた角度から光を入射
させたことと同じことを意味する。
光通信用に回折格子を使用する場合にはりドロー配置付
近で用いることが多く、17°の角度差を維持したまま
で使用することはない。従って、この場合に対しての局
所最適化によるフーリエ格子の優位性は定量的には述べ
られていない。これが第1の問題点である。
事た、マイクロ波領域で理論的予見の実証を行っている
が実際に行った回折格子の格子形状が局所最適化された
形状とかなりの相違がある。一般に光通信においては使
用する波長域がマイクロ波領域に比べかなり短い0.8
μmから1.55μm帯といった波長域になる。これよ
り、局所最適化された格子形状の優位性がマイクロ波領
域での実証のみですべての波長域で実証されたと結論づ
けることはできない。これが第2の問題点である。
さらに、計算によって得られた格子形状は反射面が完全
導体としており、反射表面の誘電率を考慮していない。
偏光については、格子溝方向と垂直な偏光方向をTM波
、平行な偏光方向をTE波とすると、エム ジー、モハ
ラム アンド ティーケー ゲイロード:リガラス カ
ップルドウェーブ アナリシス オブ メタリック サ
ーフイス レリーフ グレーティングズ、ジャーナルオ
ブ オプティカル ソサイアティ オブ アメリカ ニ
ー、31階、LIP、1780(1986)  CM、
G、Moharaa and γ、に、Gaylord
:Rigorous coupled−@ave an
alysis of metallicsurface
−relief gratings、Journal 
of Optical5ociety of A+ee
rica A、3.  Na11. P、1780(1
986))によれば格子形状が方形波状であるものの、
回折格子表面の金属の持つ誘電率により、入射角による
効率の変化は完全導体の時に比べ、特に波長域が数μm
以下の領域でTM波の効率の変化がTE波のそれよりも
急激であると述べている。これが第3の問題点である。
また、フーリエ格子を実際に製造する際には、上記した
ように大規模な装置で2回の露光工程と精密な位置合わ
せをせねばならないという問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、光通信に用いるために、特
にリトロ−配置で回折効率が高く、入射光の偏光方向に
よる効率の差異が小さくなる格子溝形状を有する回折格
子とこの回折格子を製造する方法を提供するものである
課題を解決するだめの手段 上記目的を達成するために本発明の回折格子は基板と基
板上に設けた感光層と感光層の上に設ける反射膜とを有
し、格子溝方向と垂直な座標をx、格子間隔をd、k=
2π/dとして、格子゛溝形状η(x)が η(x) −h (sln(Kx)+ysin (2K
x−90” ) )で表されるとき、パラメーターh、
γ、φが0.05≦γ≦0.32 0.26≦2 h/d≦0.52 の範囲を満たし、使用する波長域を格子間隔で規格化し
て 0.67≦λ/d≦1.15 とし、使用する配置が、回折格子への入射角をθL1次
のりドロー角がθLとして θ −5° ≦θ≦θL+5゜ し を満たすものである。
好ましくはr、2h/d、  λ/4がそれぞれ0.1
≦γ≦0.25 0.35≦2h/d≦0.45 0.70≦λ/d≦1.1 を満たすものであればよい。
製造方法としては感光層が露光量と現像後の感光層の膜
厚残存率を表す曲線の2次微分値が正値で、かつ3次の
変曲点が存在しない感度特性を持つ範囲で干渉露光すれ
ばよい。
露光強度分布をI (x)、露光する範囲での感度曲線
を2次曲線近似して2次および1次の係数をそれぞれa
、bとすると、 1(x)=io+I、s In (kx)として 2h/d”l、l b+2a l0 7=a II /2 l b+2 a I。
の関係式が成り立っていればよい。
好ましくは例えばポジ型感光材では、 1、−tl、 < l b/2a また、ネガ型感光材では、b<oで、 10+l、>lb/2a を満たしていればよい。
作用 本発明は上記構成により回折格子の格子形状を特殊なも
のにして、リトロ−配置において無偏光での回折効率が
85%以上あり、入射光の偏光方向による回折効率の差
異が10%以内の回折格子を得ることができ、また、1
回の露光でこの様な回折格子を製造できる。
実施例 以下本発明の一実施例の回折格子およびその製造方法に
ついて図面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の一実施例における回折格子の格子断面
図を示すものである。第1図においてlaは基板、1b
は感光層、ICは反射膜である。
基板la上に感光層1bを設け、ホログラフィック露光
によって感光層lb上に周期的溝を刻印する。その後、
感光層1bに刻印された形状を損なわない程度の薄い反
射膜ICを設け1回折格子を構成する。
第2図は回折格子の斜視図である。21は基板、22は
感光層、23は反射膜である。図では基板が平面で四角
であるが、基板の形状はこれに限定されるものではない
第3図は本発明の一実施例の回折格子の製造方法の概念
図を示したものである。第3図において、31は露光す
る干渉光の強度分布、32はポジ型の感光層、即ち露光
された感光層の部分が現像後に除去されるような感光層
の感度曲線、33は現像後の格子形状である。
感光層上にホログラフィック露光される光の強度分布は
コヒーレント光の二光束干渉露光法の場合、一般に三角
関数となっておりこれをそのまま感光層に転写すれば正
弦波形状となるため、感光層の感度特性に非線形性を持
たせることにより現像後の格子形状を正弦波状から歪ん
だ形状とすることができる。図ではフーリエ格子におい
てT=0.2,2h/d=0.435を実現するための
実施例の一つで、強度分布を 1(x)=I。+I、s in (kx)として l0=2.32mJ、I、=1.74mJ。
d=0.348μm また、露光する範囲での感光層の膜厚残存率1/10を
示す感度曲線を2次近似した曲線を1/l。=aE2+
bE+c として a=1.0.  b−−0,899,c”0.25であ
る条件のものを示している。露光する範囲で2次曲線に
近似できれば3次の変曲点は持っていないことになる。
干渉光の強度分布31は三角関数になっており、また感
度曲線32は2次の微分係数が露光する範囲で常に正の
値であるような感度特性となっていることから、露光量
が多くなるにつれてそれに対する感光層の膜厚残存率の
変化は小さくなっている。従って、強度分布31で露光
すると現像後の格子形状33は、格子溝の山の部分が細
く、谷の部分が丸(なるような正弦波からは歪んだ形状
となる。そして、この感光層上に格子形状を損なわない
程度に薄い反射膜を設けて回折格子を構成することがで
きる。上に示した実施例はポジ型の感光材について述べ
たが、ネガ型の感光材、即ち露光されなかった感光層が
現像後に除去されるような感光材についても同様のこと
が言えることは容易に類推できる。従って上に示した数
値例はこれに限定されるものではない。
第4図は本発明の第1の実施例の回折格子の回折効率を
示したものである。第4図において形状はγ=0.05
.  λ/d=0.7である。実験で示した曲線41は
TE波成分に対する回折効率であり、−点鎖線で示した
曲線42はTM波成分に対する回折効率である。破線で
示した曲線43は無偏光な光が入射したときの回折効率
である。回折格子はりドロー配置の条件で、数値計算は
 ワイ、オクノ アンド ティー、マツダ:エフィシェ
ントテクニーク フォーサ ニューメリカル ソリュー
ション オブ デイフラクション バイ アフーリエ 
グレーティング、ジャーナル オブオブティ力ル ソサ
イアティ オブ アメリカニー、4.Nn3.P、46
5 (19B?)(Y。
okuno and γ、Matsuda:Effic
ient technique forthe nu+
weflcal 5olution of diffr
action by aFoqrier graLln
g、Journal of 0pLical 5oci
etyof America A、 4.P、465(
1987) )に記載されている手法を用い、回折格子
表面は完全導体としている。
以上のようにすれば、無偏光での回折効率43が85%
以上ある範囲は、 0.26≦2 h/d≦0.46 である。偏光方向による回折効率の違いは特に、0.2
6≦2 h/d≦0.44 において10%以内で偏光依存性が小さい。第5図に数
値計算を行った回折格子の格子形状を示した。51が格
子形状である。図では 2 h/d=0.383での形状に相当する。
2次のハーモニックが加わっている分、わずかに正弦波
溝形状よりも歪んだ形状となっている。
第6図は本発明の第2の実施例の回折格子の回折効率を
示したものである。第6図において形状はγ−0,32
,λ/ d =0.9である。
この場合、無偏光での回折効率63が85%以上ある範
囲は、 0.31≦2 h/d≦0.46 である、この範囲では偏光方向による回折効率の差異は
8%以内である。第7図は数値計算を行った回折格子の
格子形状を示す0図で71は2 h/d =0.40で
の形状に相当する。正弦波形状からの歪みが大きくなっ
ていくに従い回折効率が高い範囲は2 h/dの大きい
ほうへとシフトしている。
第8図は第3の実施例を示したものである。第8図にお
いて形状はr =0.1 、  λ/d=0.67であ
る。
この場合、無偏光での回折効率83が85%以上ある範
囲は、 0.26≦2 h/d≦0.43 である。この範囲では偏光方向による回折効率の差異は
5%以内で偏光依存性が特に小さい、第9図に数値計算
を行った回折格子の格子形状を示す。
図で91は2 h/d −0,35での形状に相当する
第10図は第4の実施例を示したものである。
第10図において形状はγ−0.2.λ/d=0.8で
ある。
この場合、無偏光での回折効率10cが85%以上ある
範囲は、 0.29≦2/hd≦0.48 とかなり広範囲の2h/dで維持している。この範囲で
は偏光方向による回折効率の差異も10%以内である。
第11図は第1O図において2 h/d =0.47に
おける波長依存性を表したグラフである。
このような場合では無偏光での回折効率11cが85%
以上ある範囲は、 0.78≦λ/d≦1.15 であるが、 0.88≦λ/d≦1.0 の範囲では両偏光での回折効率の差異が大きくなってい
る。第12図に数値計算を行った回折格子の格子形状を
示す。図で12aは2h/d=0.47での形状に相当
する。
第13図は第10図において両偏光での回折効率が等し
い2 h/d=0.435における波長依存性を表した
グラフである。
この場合は無偏光での回折効率13cが85%以上ある
範囲は、 0.70≦λ/d≦1.15 である、特に、 0.73λ/d≦1.07 を満たす広い波長範囲で偏光方向による回折効率の差異
は10%以内である。
第14図は実際にガラス基板上に感光層を設は一回のホ
ログラフィック露光で製作した回折格子を用いて入射角
依存性を測定した結果である。格子溝間隔は1.3μm
表面は反射率が99%以上あ、る金を蒸着しており測定
光は1.3μm帯の半導体レーザー光を用いている0図
で入射角30°がリトロ−角に相当する。曲線14aが
TE波、曲線14bがTMI、曲線14cが無偏光での
回折効率で、Δおよび口印はそれぞれTE波成分14a
TM波成分14bの測定点である。
一般にλ/d=1の条件では1次のりドロー配置で回折
効率は高くなり、入射角がりドロー角から離れるに従い
低くなる。図においても両偏光とも回折効率が最大にな
っているのはりドロー配置のときで無偏光で95%と高
い回折効率を有している。その時の回折効率は第13図
での計算値とほぼ一敗している。図かられかるようにリ
トロ−角から5°の範囲内での入射角に対しては回折効
率は無偏光で85%以上を維持しており、また偏光によ
る効率の差異も10%以内と小さい。リトロ−角から5
゛ずれた場合の入射角と1次回折光の反射角との角度差
は10°に相当し、これより離れた角度から入射させる
とTM波成分の回折効率14bが回折格子表面の誘電率
により、E波成分14aに比べ急激に低くなることが図
かられかる1例えば、リトロ−角から10°離れた角度
では両偏光の回折効率は20%以上の差異が生まれ、従
って無偏光での回折効率14cも低くなる。第15図は
、測定して回折格子の格子断面形状を、SEMを使用し
て撮影したものである。格子形状はこの場合、r =0
.2 、λ/d=1.0,2 h/d=0.435に相
当する形状を有している。なおパラメーター2 h/d
、  γ、λ/dの組み合わせを変えることにより多く
の形状が考えられるので、これまで上げた実施例に限定
されるものではない。
発明の効果 以上のように本発明は基板と基板上に設けた惑光層と感
光層の上に設ける反射膜とを有し、格子溝間隔をd、k
=2π/d、格子溝方向と垂直な座標をXとして、格子
溝形状η(x)が、η(x)=h 1sin(にx)+
 y sin (2にに一90’ ) )で表されると
き、パラメーターh、r、  φが、0.26≦2 h
/d≦0.52 0.05≦γ≦0.32 の範囲を満たす形状を有し、使用する波長域を格子間隔
d”il’規格化して、 0.67≦λ/d≦1.15 とし、さらに使用する配置を、入射角をθL1次のリト
ロ−角をθLとして、 θ −5′ ≦θ≦θL+5゜ を満たす範囲で行うことにより、無偏光での回折効率が
85%以上あり、入射光の偏光方向による回折効率の差
異が10%以内にすることができる。
また、感光層が、露光量と現像後の感光層の膜厚残存率
を表す曲線の2次微分値が正値で、かつ3次の変曲点が
存在しない感度特性を持ち、露光する干渉縞の方向と垂
直な座標をx、縞間隔をd、k−2π/dとして、露光
強度分布r (x)を、1(x)=。4+11 s i
n (kx)感光層の感度特性の曲線を露光する強度範
囲内で2次曲線近似した際の2次の係数および1次の係
数をそれぞれa、bとして、 2h/d=I、|b+2al。
r−a 11 /2 l b+2 a、Ioを満たすよ
うにして製造することにより同様の効果を有する回折格
子を一回の露光により実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における回折格子の断面形状
図、第2図は第1図の回折格子の斜視図、第3図はポジ
型の感光層での感度曲線とそれによってできる回折格子
の格子形状を表す概念図、第4図は本発明の第1の実施
例における回折格子のr=0.05.r/d=0.67
、リトロ−配置での2 h/dに対する回折効率の計算
図、第5図はr=0.05. 2 h/d=0.383
での格子形状図、第6図は本発明の第2の実施例におけ
る回折格子のγ=0.32.  γ/d−0,9、リト
ロ−配置での2 h/dに対する回折効率の計算図、第
7図はγ−0.32,2h/d=0.40での格子形状
図、第8図は本発明の第3の実施例における回折格子の
r =0.1 、  λ/ d −0,7、リトロ−配
置での2 h/dに対する回折効率の計算図、第9図は
r=0.1,2 h/d=0.35での格子形状図、第
10図は本発明の第4の実施例における回折格子の7=
0.32.  λ/d=0.8、リトロ−配置での2 
h/d対にする回折効率の計算図、第11図はr=0.
2,2h/d=0.47、リトロ−配置でのλ/4に対
する回折効率の計算図、第12図はγ−0.2,2h/
d=0.47での格子形状図、第13図はγ=0.2,
2h/d=0.435、リトロ−配置でのλ/4に対す
る回折効率の計算図、第14図はγ−〇、2.λ/d=
1.0,2h/d=0.435、に相当する形状を持つ
回折格子の回折効率の入射角依存性の測定図、第15図
は測定回折格子のSEM写真図、第16図は従来の回折
格子の製造方法のポジ型の感光層での感度曲線とそれに
よってできる回折格子の格子形状を表す概念図である。 la、21・・・・・・基板、lb、22・・・・・・
感光層、lc、23・・・・・・反射膜、31・・・・
・・露光干渉縞の強度分布、32・・・・・・感度曲線
、33・・・・・・現像後の格子形状、41,61,8
1.lOa、11a、13a。 14a・・・・・・TE波成分の回折効率、42,62
゜82、lob、llb、13b、14b・・・・・・
TM波成分の回折効率、43,63,83 10c11
c、13c、14c・・・・・・無偏光での回折効率。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名嘉 図 富 図 13−及射煩 2h/l:l 第 図 第 図 、91−−− 千 t=1りL−;C:、のヨ「111ノ111ル)%Ω−
F1a才の格子形状 乙1 2h/cl 第 図 2h/d 第10図 2A /d 回 幻 咲 釡 +4−−− TEiff成分の回折効牟 4c− wfif&*、での回折カ卓 第14図 第15図 λ 射 内 θ (de+3]

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)基板と前記基板上に設けた感光層と前記感光層の
    上に設ける反射膜とを有し、格子溝間隔をd、k=2π
    /d、格子溝方向と垂直な座標をxとして、格子溝形状
    η(x)が、 η(x)=h{sin(kx)+γsin(2kx−9
    0゜)}で表されるとき、パラメーターh、γ、φが、
    0.26≦2h/d≦0.52 0.05≦γ≦0.32 の範囲を満たす形状を有し、使用する波長域を格子間隔
    dで規格化して、 0.67≦λ/d≦1.15 とし、さらに使用する配置を、入射角をθ、1次のリト
    ロ−角をθ_Lとして、 θ_L−5゜≦θ≦θ_L+5゜ を満たす範囲で行うことを特徴とする回折格子(2)基
    板と前記基板上に設けた感光層と前記感光層の上に設け
    る反射膜とを有し、格子溝間隔をd、k=2π/d、格
    子溝方向と垂直な座標をxとして、格子溝形状η(x)
    が、 η(x)=h{sin(kx)+γsin(2kx−9
    0゜)}で表されるとき、パラメーターh、γ、φが、
    0.35≦2h/d≦0.45 0.10≦γ≦0.25 の範囲を満たす形状を有し、使用する波長域を格子間隔
    dで規格化して、 0.67≦λ/d≦1.15 とし、さらに使用する配置を、入射角をθ、1次のリト
    ロ−角をθ_Lとして、 θ_L−5゜≦θ≦θ_L+5゜ を満たす範囲で行うことを特徴とする回折格子。 (3)基板と前記基板上に設けた感光層と前記感光層の
    上に設ける反射膜とを有し、前記感光層が、露光量と現
    像後の前記感光層の膜厚残存率を表す曲線の2次微分値
    が正値で、かつ3次の変曲点が存在しない感度特性を持
    つ範囲で干渉露光させることを特徴とする回折格子。 (4)使用する波長λを格子間隔dで規格化して、0.
    67≦λ/d≦1.15 とし、使用する配置を、入射角をθ、1次のリトロー角
    をθ_Lとして、 θ_L−5゜≦θ≦θ_L+5゜ を満たす範囲で行うことを特徴とする請求項(3)記載
    の回折格子。 (5)露光する干渉縞の方向と垂直な座標をx、縞間隔
    をd、k=2π/dとして、露光強度分布I(x)を、 I(x)=I_0+I_1sin(kx) 感光層の感度特性の曲線を露光する強度範囲内で2次曲
    線近似した際の2次の係数および1次の係数をそれぞれ
    a、bとし、回折格子の格子形状η(x)を、 η(x)=h{sin(kx)+γsin(2kx−9
    0゜)}とすると、 2h/dI_1、|b+2aI_0| γ=aI_1/2|b+2aI_0| を満たしていることを特徴とする請求項(3)記載の回
    折格子。 (6)感光層にポジ型感光材を使用し、 I_1+I_0<|b/2a| を満たすことを特徴とする請求項(5)記載の回折格子
    。 (7)感光層にネガ型感光材を使用し、b<0の場合、 I_0+I_1>|b+2a| を満たすことを特徴とする請求項(5)記載の回折格子
    。 (8)基板上に感光層を設け、前記感光層が露光量と現
    像後の前記感光層の膜厚残存率を表す曲線の2次微分値
    が正値で、かつ3次の変曲点が存在しない感度特性を持
    つ範囲で干渉露光させ、その上に反射膜を設けることを
    特徴とする回折格子の製造方法。 (9)露光する干渉縞の方向と垂直な座標をx、縞間隔
    をd、k=2π/dとして、露光強度分布I(x)を、 I(x)=I_0+I_1sin(kx) 感光層の感度特性の曲線を露光する強度範囲内で2次曲
    線近似した際の2次の係数および1次の係数をそれぞれ
    a、bとし、回折格子の格子形状をη(x)を、 η(x)=h{sin(kx)+γsin(2kx−9
    0゜)}とすると、 2h/d=I_1|b+2aI_0| γ=aI_1/2|b+2aI_0| を満たしていることを特徴とする請求項(8)記載の回
    折格子の製造方法。 (10)感光層にポジ型感光材を使用し、 I_0+I_1<|b/2a| を満たすことを特徴とする請求項(9)記載の回折格子
    の製造方法。 (11)感光層にネガ型感光材を使用し、b<0の場合
    、 I_0+I_1>|b/2a| を満たすことを特徴とする請求項(9)記載の回折格子
    の製造方法。
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