JPH0222272A - 光学活性化合物の製造法 - Google Patents
光学活性化合物の製造法Info
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- JPH0222272A JPH0222272A JP63170810A JP17081088A JPH0222272A JP H0222272 A JPH0222272 A JP H0222272A JP 63170810 A JP63170810 A JP 63170810A JP 17081088 A JP17081088 A JP 17081088A JP H0222272 A JPH0222272 A JP H0222272A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、3,4−ジヒドロー3.8−ジヒドロキシ−
2H−1−ベンゾビラン(1)の光学異性体である(3
R)異性体(以下(1)−R体と略称する)及び(3S
)異性体(以下(1) − 8体と略称する)の新規な
製造法に関する。
2H−1−ベンゾビラン(1)の光学異性体である(3
R)異性体(以下(1)−R体と略称する)及び(3S
)異性体(以下(1) − 8体と略称する)の新規な
製造法に関する。
x−351は次式で示され、ベンゾビラン環の第6位及
び側鎖の第2位に不斉炭素原子があるため、4種の光学
異性体が存在する。
び側鎖の第2位に不斉炭素原子があるため、4種の光学
異性体が存在する。
H
すなわち、K−351には、(2’S)、(38)、(
2’R) #(6R)、(2’S)、(i)及び(2’
R)、(38)である4種の光学異性体が存在する。こ
れらの光学異性体のうち、(2’R)、(3R)である
化合物(以下R−R−に−351と略称する)及び(2
’S)、(3R)である化合物(以下S −R−K−3
51と略称する)の2種の異性体が特に優れた薬効を有
していることが認められている(前記明細書参照)。
2’R) #(6R)、(2’S)、(i)及び(2’
R)、(38)である4種の光学異性体が存在する。こ
れらの光学異性体のうち、(2’R)、(3R)である
化合物(以下R−R−に−351と略称する)及び(2
’S)、(3R)である化合物(以下S −R−K−3
51と略称する)の2種の異性体が特に優れた薬効を有
していることが認められている(前記明細書参照)。
これらの異性体を立体特異的に製造する方法は前記明細
書中に記載されている。すなわち、3.4−ジヒドロ−
8−ヒドロ=’l−シー5−二トロキシ−2H−1−ベ
ンゾビラン(ラセミ体)に光学活性のアミノ酸又はその
反応性誘導体、例えばN−メシル−L−フェニルアラニ
ンヲ作用させてエステルとし、(3R)である化合物を
分取し、これを加水分解して(3R) −3,4−ジヒ
ドロ−8−ヒドロキシ−6−ニトロキシ−2H−1−ベ
ンゾビラン(■)を得、これに(2R)−又は(28)
−2,3−エポキシプロパノールのスルホニルエステ
ルを、次いでイソプロピルアミンを作用させて目的の(
2’R)、(3R)であるに−351及び(2’R)
、 (3S )であるに−351を得る。
書中に記載されている。すなわち、3.4−ジヒドロ−
8−ヒドロ=’l−シー5−二トロキシ−2H−1−ベ
ンゾビラン(ラセミ体)に光学活性のアミノ酸又はその
反応性誘導体、例えばN−メシル−L−フェニルアラニ
ンヲ作用させてエステルとし、(3R)である化合物を
分取し、これを加水分解して(3R) −3,4−ジヒ
ドロ−8−ヒドロキシ−6−ニトロキシ−2H−1−ベ
ンゾビラン(■)を得、これに(2R)−又は(28)
−2,3−エポキシプロパノールのスルホニルエステ
ルを、次いでイソプロピルアミンを作用させて目的の(
2’R)、(3R)であるに−351及び(2’R)
、 (3S )であるに−351を得る。
しかしこの方法では(6R)及び(3S)のエステルを
分割して(6R)エステルのみを分取するため、この工
程の収率を50%以上に上げることは不可能である。ま
た、この2種の異性体の薄層クロマトグラフィにおける
Rf値が非常に近似しているため、分割方法としてクロ
マトグラフィを用いることは好ましくなく、工業的に不
利な再結晶法を行わなければならないという欠点がある
。
分割して(6R)エステルのみを分取するため、この工
程の収率を50%以上に上げることは不可能である。ま
た、この2種の異性体の薄層クロマトグラフィにおける
Rf値が非常に近似しているため、分割方法としてクロ
マトグラフィを用いることは好ましくなく、工業的に不
利な再結晶法を行わなければならないという欠点がある
。
本発明者らは、前記の欠点を克服すべく、検討した結果
、6位がR配置であるR−R−に−551及び5−R−
に−351を製造するための重要な化合物である(SR
) −3,4−ジヒドa −f3−ヒドロキシ−6−二
トロキシー2H−1−ベンゾビラン(It)に特異的に
転換させることができる(1)−R体及び(1)−8体
の新規かつ工業的に有用な製造法を見出した。
、6位がR配置であるR−R−に−551及び5−R−
に−351を製造するための重要な化合物である(SR
) −3,4−ジヒドa −f3−ヒドロキシ−6−二
トロキシー2H−1−ベンゾビラン(It)に特異的に
転換させることができる(1)−R体及び(1)−8体
の新規かつ工業的に有用な製造法を見出した。
(1)一般式
本発明は、一般式
O7゜
(式中Aは光学活性なアミノ酸より導かれるアシル基、
Zは水素原子又は水酸基の保護基を示す)で表わされる
化合物をカラムクロマトグラフィに付して、6位の配置
がRである化合物とSである化合物を各々分取し、次い
でこれらの化合物のアシル基及び水酸基の保護基を任意
の頭注で脱離することを特徴とする、(6R)−又は(
3S) −!1,4−ジヒドロ−6,8−ジヒドロキシ
−2H−1−ベンゾビランの製造法である。
Zは水素原子又は水酸基の保護基を示す)で表わされる
化合物をカラムクロマトグラフィに付して、6位の配置
がRである化合物とSである化合物を各々分取し、次い
でこれらの化合物のアシル基及び水酸基の保護基を任意
の頭注で脱離することを特徴とする、(6R)−又は(
3S) −!1,4−ジヒドロ−6,8−ジヒドロキシ
−2H−1−ベンゾビランの製造法である。
式環の化合物は、下記の2種の方法で製造することがで
きる。
きる。
(式中Zは前記の意味を有する)で表わされる化合物に
一般式(V) * A −OH(V) (式中人は前記の意味を有する)で表わされる化合物又
はそのカルボキシル基における反応性誘導体を作用させ
る。
一般式(V) * A −OH(V) (式中人は前記の意味を有する)で表わされる化合物又
はそのカルボキシル基における反応性誘導体を作用させ
る。
(2)一般式
(式中Zは前記の意味を有する)で表わされる化合物に
式■の化合物を作用させて一般式(式中の各記号は前記
の意味を有する)で表わされる化合物とし、これに過酸
を作用させて、一般式 じ、水酸基の保護基を脱離することによる、(1)−8
体の製造法である。
式■の化合物を作用させて一般式(式中の各記号は前記
の意味を有する)で表わされる化合物とし、これに過酸
を作用させて、一般式 じ、水酸基の保護基を脱離することによる、(1)−8
体の製造法である。
式■の化合物は、例えば特開昭59−29681号明細
書に記載の方法に従って0−バニリンをアクリロニトリ
ルを用いて閉環し、次いでシアノ基を加水分解して、一
般式 (式中の各記号は前記の意味を有する)で表わされる化
合物とし、この化合物帽にノ・ロゲノアルカリ又は四級
アンモニウムノ為ライドな作用させる。
書に記載の方法に従って0−バニリンをアクリロニトリ
ルを用いて閉環し、次いでシアノ基を加水分解して、一
般式 (式中の各記号は前記の意味を有する)で表わされる化
合物とし、この化合物帽にノ・ロゲノアルカリ又は四級
アンモニウムノ為ライドな作用させる。
本発明はさらに、一般式
(式中Zは前記の意味を有する)で表わされる化合物と
し、これをアジド化したのち加水分解することによって
製造することができる。
し、これをアジド化したのち加水分解することによって
製造することができる。
式Xの化合物のアジド化を、一般式
A1に−OH(Xll
(式中Alkは低級アルキル基を示す)で表わされる化
合物の存在下で行い、一般式 (式中Zは前記の意味を有する)で表わされる化合物を
酵母を用いて還元し、次いで必要に応(式中の各記号は
前記の意味を有する)で表わされる転移化合物を単離し
たのち、加水分解することによって高収率で製造するこ
ともできる。
合物の存在下で行い、一般式 (式中Zは前記の意味を有する)で表わされる化合物を
酵母を用いて還元し、次いで必要に応(式中の各記号は
前記の意味を有する)で表わされる転移化合物を単離し
たのち、加水分解することによって高収率で製造するこ
ともできる。
本発明方法は次の反応式で示される。
弐■、■、■及び■の化合物のAを導く光学活性のアミ
ノ酸としては、L−アラニン、L −フェニルアラニン
などが挙げられ、これらアミノ酸のアミン基は保護して
おくことが好ましい。
ノ酸としては、L−アラニン、L −フェニルアラニン
などが挙げられ、これらアミノ酸のアミン基は保護して
おくことが好ましい。
アミン基の保護基としては、ペプチド合成の分野で通常
用いられているものが利用できるが、アセチル基、グロ
ビオニル基、ベンゾイル基、p−ニトロベンゾイル基等
のアシル基、メシル基、ベンゼンスルホニル基、トシル
基等のスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、シ
クロアルキルオキシカルボニル基、アルアルキルオキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基などを用い
ることが好ましい。
用いられているものが利用できるが、アセチル基、グロ
ビオニル基、ベンゾイル基、p−ニトロベンゾイル基等
のアシル基、メシル基、ベンゼンスルホニル基、トシル
基等のスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、シ
クロアルキルオキシカルボニル基、アルアルキルオキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基などを用い
ることが好ましい。
弐■、■及び■〜刈の化合物の2のための水酸基の保護
基としては、低級アルキル基、アリール基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アシル基、ハロアシル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げら
れる。
基としては、低級アルキル基、アリール基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アシル基、ハロアシル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げら
れる。
次に各工程の反応につき説明する。
(1)化合物(転)に式■の光学活性なアミノ酸を作用
させると、化合物(I[Dが得られる。
させると、化合物(I[Dが得られる。
反応は化合物(転)に光学活性なアミノ酸の遊離酸を脱
水剤あるいは縮合剤の存在下に作用させるか、化合物(
IV)に光学活性なアミノ酸の反応性誘導体を作用させ
ることによって行われる。この反応で用いられる脱水剤
としては、例えばN。
水剤あるいは縮合剤の存在下に作用させるか、化合物(
IV)に光学活性なアミノ酸の反応性誘導体を作用させ
ることによって行われる。この反応で用いられる脱水剤
としては、例えばN。
シージシクロカルボジイミド、縮合剤としては、例えば
クロル炭酸エステル類、亜リン酸エステル類などが挙げ
られる。アミノ酸の反応性誘導体としては、例えば酸塩
化物、アジド、酸無水物、混合酸無水物、活性エステル
例えばフェニルエステル、シアノメチルエステル、N−
オキシコハク酸イミドエステル、N−オキシフタル酸イ
ミドエステルなどの他ペプチド合成において使用されて
いるものを利用できる。
クロル炭酸エステル類、亜リン酸エステル類などが挙げ
られる。アミノ酸の反応性誘導体としては、例えば酸塩
化物、アジド、酸無水物、混合酸無水物、活性エステル
例えばフェニルエステル、シアノメチルエステル、N−
オキシコハク酸イミドエステル、N−オキシフタル酸イ
ミドエステルなどの他ペプチド合成において使用されて
いるものを利用できる。
縮合反応は化合物QV)、光学活性なアミノ酸及び脱水
剤又は縮合剤、もしくは式■の化合物及び光学活性なア
ミノ酸の反応性誘導体を溶媒中で塩基の存在下又は不在
下に0〜100℃で1〜30時間反応させることによっ
て行われる。
剤又は縮合剤、もしくは式■の化合物及び光学活性なア
ミノ酸の反応性誘導体を溶媒中で塩基の存在下又は不在
下に0〜100℃で1〜30時間反応させることによっ
て行われる。
溶媒としては、例えばクロロホルム、塩化メチレン等の
ハロゲン化炭化水素、n−へキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の炭化水素、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類、ピリジン、酢酸エチルなど、塩
基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルア
ミノピリジンなどが挙げられる。
ハロゲン化炭化水素、n−へキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の炭化水素、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類、ピリジン、酢酸エチルなど、塩
基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルア
ミノピリジンなどが挙げられる。
こうして得られるエステル([[DはRf値の相違によ
りカラムクロマトグラフィによって容易に8体と8体に
分離することができる。カラムに用いる担体としては、
シリカゲル、シラナイズドシリカゲル、アルミナなどが
挙げられる。溶出溶媒トシテハ、ベンゼン、トルエン、
n−ヘキサン等の炭化水素、メタノール、エタノール等
のアルコール、酢酸エチル、アセトン、クロロホルム、
アセトニトリル、水などを単独又は組み合せて利用する
ことができる。溶出方法は通常の方法を採用することが
でき、例えばベンゼン−酢eエチル又はヘキサン−酢酸
ニーF−/I/の混合溶媒で溶出する場合は8体が先に
、次いで8体が溶出される。溶出液より、通常の方法に
よって目的物を分離、精製することができる。
りカラムクロマトグラフィによって容易に8体と8体に
分離することができる。カラムに用いる担体としては、
シリカゲル、シラナイズドシリカゲル、アルミナなどが
挙げられる。溶出溶媒トシテハ、ベンゼン、トルエン、
n−ヘキサン等の炭化水素、メタノール、エタノール等
のアルコール、酢酸エチル、アセトン、クロロホルム、
アセトニトリル、水などを単独又は組み合せて利用する
ことができる。溶出方法は通常の方法を採用することが
でき、例えばベンゼン−酢eエチル又はヘキサン−酢酸
ニーF−/I/の混合溶媒で溶出する場合は8体が先に
、次いで8体が溶出される。溶出液より、通常の方法に
よって目的物を分離、精製することができる。
(2)化合物(I[[)の8体又は8体を加水分解し、
次いで水酸基の保護基を脱離すると、目的の(1) −
8体又は([)−8体が得られる。
次いで水酸基の保護基を脱離すると、目的の(1) −
8体又は([)−8体が得られる。
加水分解としてはアルカリ加水分解が好ましい。加水分
解に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウム等の水酸化アルカリ土類金属類、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属類な
どが挙げられる。反応は、化合物(DDと塩基を溶媒中
で0〜100℃で数分間ないし数時間攪拌することによ
って行われる。溶媒としては、メタノール、エタノール
、プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル、アセトン、アセトニトリルな
どを利用できる。
解に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウム等の水酸化アルカリ土類金属類、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属類な
どが挙げられる。反応は、化合物(DDと塩基を溶媒中
で0〜100℃で数分間ないし数時間攪拌することによ
って行われる。溶媒としては、メタノール、エタノール
、プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル、アセトン、アセトニトリルな
どを利用できる。
水酸基の保護基の脱離は、用いる保護基によって反応条
件が異なるが、例えば低級アルキル基によって保護した
場合には、ハロゲン化水素、例えば臭化水素を用いて脱
離することができる。
件が異なるが、例えば低級アルキル基によって保護した
場合には、ハロゲン化水素、例えば臭化水素を用いて脱
離することができる。
反応は、例えば臭化水素の水溶液に加水分解した([[
D−8体又は([[D−8体を加え、室温ないし200
℃で、数分間ないし数時間で進行する。
D−8体又は([[D−8体を加え、室温ないし200
℃で、数分間ないし数時間で進行する。
上記の加水分解反応及び脱離反応は、いずれを先に行っ
てもよ(、また同時に両反応を行うこともできる。
てもよ(、また同時に両反応を行うこともできる。
(3) 化合物(ロ)に光学活性なアミノ酸(V)を
作用させると、化合物■が得られる。
作用させると、化合物■が得られる。
反応は前記(1)と同様の方法で行うことができる。
(4)化合物(4)に過酸を作用させると、化合物−が
得られる。
得られる。
過酸としては、過酸化水素、過酢酸、過安息香酸、メタ
クロル過安息香酸などが用いられる。
クロル過安息香酸などが用いられる。
反応は溶媒中で化合物■と過酸を0〜100℃で1〜4
0時間攪拌することによって進行する。
0時間攪拌することによって進行する。
溶媒としては、例えばクロロホルム、塩化メチレン等の
ハロゲン化炭化水素、n−へキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の炭化水素、ジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類が用いられる。
ハロゲン化炭化水素、n−へキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の炭化水素、ジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類が用いられる。
(5) 化合物(至)にノ・ロゲノアルカリ又は四級
アンモニウムハライドを作用させると、化合物(I[D
が得られる。
アンモニウムハライドを作用させると、化合物(I[D
が得られる。
ハロゲノアルカリとしては、例えば沃化ナトリウム、沃
化カリウム、臭化カリウムなどが用いられ、四級アンモ
ニウムハライドとしては、例えばテトラ−n−ブチルア
ンモニウムプロミド、テトラ−1−ブチルアンモニウム
クロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムアイオダ
イドなどが用いられる。
化カリウム、臭化カリウムなどが用いられ、四級アンモ
ニウムハライドとしては、例えばテトラ−n−ブチルア
ンモニウムプロミド、テトラ−1−ブチルアンモニウム
クロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムアイオダ
イドなどが用いられる。
反応は溶媒中、室温ないし200℃で0.5〜10時間
攪拌することによって進行する。溶媒としては、例えば
アセトン、ジメチルホルムアミド、インプロビルアルコ
ール、t−ブチルアルコール、ピリジン、トルエンなど
が用いられる。
攪拌することによって進行する。溶媒としては、例えば
アセトン、ジメチルホルムアミド、インプロビルアルコ
ール、t−ブチルアルコール、ピリジン、トルエンなど
が用いられる。
こうして得られる化合物(I[I)は前記の方法によっ
て(I)−R体又は(1)−8体に・導(ことができる
。
て(I)−R体又は(1)−8体に・導(ことができる
。
(6)化合物(X)を化合物−の存在下にアジド化する
と、化合物(XII)が得られる。アジド化剤としては
、ジフェニルリン酸アジドなどが用いられる。また化合
物(X)の活性アシル誘導体、例えば塩基の存在下にク
ロル炭酸エチルを作用して得られる混合酸無水物に溶媒
中アジ化ナトリウムを作用させて酸アジド体としたのち
、化合物(至)の存在下加熱することによっても化合物
(XU)が得られる。反応は溶媒中、塩基の存在下又は
不存在下に0〜200℃、0.5〜10時間で進行する
。溶媒としては種々のものを用いることができるが、式
(至)のアルコールを過剰に用いて溶媒を兼ねることも
できる。塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリ
ジン、ジメチルアミノピリジンなどを用いることができ
る。
と、化合物(XII)が得られる。アジド化剤としては
、ジフェニルリン酸アジドなどが用いられる。また化合
物(X)の活性アシル誘導体、例えば塩基の存在下にク
ロル炭酸エチルを作用して得られる混合酸無水物に溶媒
中アジ化ナトリウムを作用させて酸アジド体としたのち
、化合物(至)の存在下加熱することによっても化合物
(XU)が得られる。反応は溶媒中、塩基の存在下又は
不存在下に0〜200℃、0.5〜10時間で進行する
。溶媒としては種々のものを用いることができるが、式
(至)のアルコールを過剰に用いて溶媒を兼ねることも
できる。塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリ
ジン、ジメチルアミノピリジンなどを用いることができ
る。
(7)化合物(Xll)を加水分解すると、化合物((
社)が得られる。
社)が得られる。
加水分解は酸又はアルカリを用いて行われるが、酸によ
る加水分解が好ましい。酸としては、塩酸、硫酸などの
鉱酸を用いることが好ましい。
る加水分解が好ましい。酸としては、塩酸、硫酸などの
鉱酸を用いることが好ましい。
反応は溶媒中、0〜100℃で0.5〜10時間で終了
する。溶媒としては、例えばクロロホルム、塩化メチレ
ン等のハロゲン化炭化水素、n−ヘキサン、ベンゼン、
トルエン等ノ炭化水素、エーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類などが用いられる。
する。溶媒としては、例えばクロロホルム、塩化メチレ
ン等のハロゲン化炭化水素、n−ヘキサン、ベンゼン、
トルエン等ノ炭化水素、エーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類などが用いられる。
(8)化合物■を酵母によって還元すると、6位がR配
置の化合物(X[[l)が得られる。この時に用いる酵
母としては、サツカロミセス属に属する酵母が好ましく
、特にパン酵母〔サツカロミセス・セルビシエ(Sac
charomyces cervisiae)]が好ま
しい。その他、ケトン体をアルコールに還元する工程で
通常用いられている微生物も使用することもできる。本
反応は水性媒体中で化合物■と、2重量倍以上の酵母を
、0〜60℃、好ましくは室温付近で、0.5〜20時
間反応させることによって終了する。本反応系には、グ
ルコース、蔗糖等の糖類の他乳化剤、アルコール類、ア
セトンなど、本反応の進行を促進する物質を添加するこ
ともできる。
置の化合物(X[[l)が得られる。この時に用いる酵
母としては、サツカロミセス属に属する酵母が好ましく
、特にパン酵母〔サツカロミセス・セルビシエ(Sac
charomyces cervisiae)]が好ま
しい。その他、ケトン体をアルコールに還元する工程で
通常用いられている微生物も使用することもできる。本
反応は水性媒体中で化合物■と、2重量倍以上の酵母を
、0〜60℃、好ましくは室温付近で、0.5〜20時
間反応させることによって終了する。本反応系には、グ
ルコース、蔗糖等の糖類の他乳化剤、アルコール類、ア
セトンなど、本反応の進行を促進する物質を添加するこ
ともできる。
(9)化合物(X[II)の水酸基の保護基を脱離する
と目的の(1)−R体が得られる。
と目的の(1)−R体が得られる。
反応は前記(2)と同様にして行うことができる。
本発明により得られた(1)−R体は、8位の水酸基を
保護したのち、硝酸アセチルを作用させ、次いで水酸基
の保護基を脱離することによって化合物(■)に導くこ
とができる(特公昭6o−54617号明細書参照)。
保護したのち、硝酸アセチルを作用させ、次いで水酸基
の保護基を脱離することによって化合物(■)に導くこ
とができる(特公昭6o−54617号明細書参照)。
また、他方の目的化合物である(1)−8体は、好まし
くは8位の水酸基を保護したのち、6位の水酸基をスル
ホン酸エステル化し、次いで有機四級アンモニウムの硝
酸塩と反応させ、必要に応じて水酸基の保護基を脱離す
ることによって化合物(II)に導くことができる(特
開昭61−15847号明細書参照)。
くは8位の水酸基を保護したのち、6位の水酸基をスル
ホン酸エステル化し、次いで有機四級アンモニウムの硝
酸塩と反応させ、必要に応じて水酸基の保護基を脱離す
ることによって化合物(II)に導くことができる(特
開昭61−15847号明細書参照)。
従って、本発明によって有利に製造できる化合物(1)
−R体及び(1)−8体は何れも化合物(II)に導く
ことができるので、本発明方法は従来法のように中間の
工程で生成物を約5o%廃棄する必要がなく、全てを利
用することができ、工業的にきわめて有利な方法である
。
−R体及び(1)−8体は何れも化合物(II)に導く
ことができるので、本発明方法は従来法のように中間の
工程で生成物を約5o%廃棄する必要がなく、全てを利
用することができ、工業的にきわめて有利な方法である
。
実施例1
(a) 3.4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−8−メ
トキシ−2H−1−ベンゾピラン0.95 gをピリジ
ン7 mlに溶解し、冷却攪拌下にN−メシル−L−フ
ェニルアラニルクロリド1.80.111Dえて室温で
20時間攪拌した。反応液に水0.7mlを加えて室温
でさらに20分間攪拌したのち、ピリジンを減圧下に留
去した。残査にクロロホルム及び2N−塩酸を加え、ク
ロロホルム層を分取し、飽和炭酸水素す) IJウム水
溶液及び水で洗浄したのち、乾燥してクロロホルムを留
去した。得られた油状物をシリカゲルカラムに付し、ベ
ンゼン−酢酸エチル(5:1)の混合溶媒で溶出し、常
法により処理すると、先の溶出液より(3S ) −5
,4−ジヒドロ−3−(N−メシル−L−フェニルアラ
ニルオキシ) −8−メトキシ−2H−1−ベンゾピラ
ン0.97.!i+(収率45.3%)が得られ、後の
溶出液より(6R)−3,4−ジヒドロ−3−(N−メ
シル−L−フェニルアラニルオキシ)−8−メトキシ−
2H−1−ベンゾピラン0.99 g(収率46.6%
)が得られた。
トキシ−2H−1−ベンゾピラン0.95 gをピリジ
ン7 mlに溶解し、冷却攪拌下にN−メシル−L−フ
ェニルアラニルクロリド1.80.111Dえて室温で
20時間攪拌した。反応液に水0.7mlを加えて室温
でさらに20分間攪拌したのち、ピリジンを減圧下に留
去した。残査にクロロホルム及び2N−塩酸を加え、ク
ロロホルム層を分取し、飽和炭酸水素す) IJウム水
溶液及び水で洗浄したのち、乾燥してクロロホルムを留
去した。得られた油状物をシリカゲルカラムに付し、ベ
ンゼン−酢酸エチル(5:1)の混合溶媒で溶出し、常
法により処理すると、先の溶出液より(3S ) −5
,4−ジヒドロ−3−(N−メシル−L−フェニルアラ
ニルオキシ) −8−メトキシ−2H−1−ベンゾピラ
ン0.97.!i+(収率45.3%)が得られ、後の
溶出液より(6R)−3,4−ジヒドロ−3−(N−メ
シル−L−フェニルアラニルオキシ)−8−メトキシ−
2H−1−ベンゾピラン0.99 g(収率46.6%
)が得られた。
(8体)
無色ガラス状物質
比旋光度:〔α)D−36,8°(C=3.65、CH
Cl、 )IR値ニジCHCIscm−’ aX 1767.1329.1149 ” H−NMR値:δCDCl5、ppm2.62 (
3H%S、 cH8so、−)2.78〜5.26 (
4H,m、 −0H2−Ar及びC4−2H)3.88
(5H,s、 CH30−)4− OB〜4−44
(3H−ml、−C旦−NH及びC2−2H)4.82
(H,d、J=9Hz、 −NH−)5.26〜5.
34(H,出、C,−H)6、62〜6.80 (2H
lm、 Ca H及びC,−H)6.88 (H,t
、 J=8Hz%C6−H)714〜7.40(5H,
m、芳香族H)マススペクトル値: m/z 405(
M”)(8体) 無色針状晶 融点126.0〜1275°G 、 KBr IR値、ν 1.−1 ax 3212.1743.1321.1166″H−肌伝値
:δCDCよ8、ppm 2.65 (3H,s、 CH35O2−)2.74〜
3.24 (4H,m、 −CH2−Ar及びC,−2
H)3.88 (3H,s、 CH,0−)4、12〜
4.48 (5H,m、 )C旦NH及びC,−2H)
4.82 (I H%d、 J =9Hz、 −NH−
)5.24〜5.64 (I H,m、C1−H)6.
62〜6.80 (2H,m、 C,−H及びC)−H
)6.88 (I H,t、 J==8Hz、 c、
H)マススペクトル値: m / z 405 (M
+)元素分析値:C7゜馬、No、8としてCHN 計算値(餉 59.25 5.72 5.45実測値(
餉 59.89 5.81 3.48(t)) (a
)で得られた(3S)−エステル化合物864rn9を
メタノール10mjに溶解し、室温で攪拌下に2N−水
酸化ナトリウム水溶液2.2 mlを加えて1時間攪拌
した。反応液に4N−塩酸を加えて中性としたのち、メ
タノールを留去した。
Cl、 )IR値ニジCHCIscm−’ aX 1767.1329.1149 ” H−NMR値:δCDCl5、ppm2.62 (
3H%S、 cH8so、−)2.78〜5.26 (
4H,m、 −0H2−Ar及びC4−2H)3.88
(5H,s、 CH30−)4− OB〜4−44
(3H−ml、−C旦−NH及びC2−2H)4.82
(H,d、J=9Hz、 −NH−)5.26〜5.
34(H,出、C,−H)6、62〜6.80 (2H
lm、 Ca H及びC,−H)6.88 (H,t
、 J=8Hz%C6−H)714〜7.40(5H,
m、芳香族H)マススペクトル値: m/z 405(
M”)(8体) 無色針状晶 融点126.0〜1275°G 、 KBr IR値、ν 1.−1 ax 3212.1743.1321.1166″H−肌伝値
:δCDCよ8、ppm 2.65 (3H,s、 CH35O2−)2.74〜
3.24 (4H,m、 −CH2−Ar及びC,−2
H)3.88 (3H,s、 CH,0−)4、12〜
4.48 (5H,m、 )C旦NH及びC,−2H)
4.82 (I H%d、 J =9Hz、 −NH−
)5.24〜5.64 (I H,m、C1−H)6.
62〜6.80 (2H,m、 C,−H及びC)−H
)6.88 (I H,t、 J==8Hz、 c、
H)マススペクトル値: m / z 405 (M
+)元素分析値:C7゜馬、No、8としてCHN 計算値(餉 59.25 5.72 5.45実測値(
餉 59.89 5.81 3.48(t)) (a
)で得られた(3S)−エステル化合物864rn9を
メタノール10mjに溶解し、室温で攪拌下に2N−水
酸化ナトリウム水溶液2.2 mlを加えて1時間攪拌
した。反応液に4N−塩酸を加えて中性としたのち、メ
タノールを留去した。
残査にクロロホルム及び水を加えクロロホルム層を分取
し、水洗後乾燥してクロロホルムを留去した。残査をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ〔溶出液:酢酸エチル
−n−ヘキサン(1:1)〕で精製し、酢酸エチル−n
−ヘキサンから再結晶すると、融点102〜103.5
℃の(SF3)−5,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−
8−メトキシ−2H−1−ベンゾピラン366my (
収率95.3%)が得られた。
し、水洗後乾燥してクロロホルムを留去した。残査をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ〔溶出液:酢酸エチル
−n−ヘキサン(1:1)〕で精製し、酢酸エチル−n
−ヘキサンから再結晶すると、融点102〜103.5
℃の(SF3)−5,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−
8−メトキシ−2H−1−ベンゾピラン366my (
収率95.3%)が得られた。
、 KBr
IR値、ν 1.−1
ax
゛H−団JR値:δ。わ。、3、ppm2.10 (I
H%d、 J=8Hz、 −OH)2.74〜5.1
6 (2H,m5C42H)3.88 (6H,s 、
CH30−)4.14〜4.22 (2H,m、 C
2−2H)4.2(]〜4.32 (I H,mSC,
−H)6.64〜6.78 (2H,m、 C5−H及
びC7−H)6.86 (I H,t、 J =8Hz
%Co H)元素分析値: C+oH+tOsとして
CH 計算値%) 66.65 6.71実測値((6
) 66.70 6.60(c)47%臭化水素水
溶液4.3 mlに(b)で得られたC58)−8−メ
トキシ化合物712m9を加え、浴温115℃で70分
間反応させた。反応混合物を氷水で冷却し、攪拌下に水
酸化ナトリウム水溶液を加えてpH2としたのち酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄したのち乾
燥して溶媒を留去した。残査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ(溶出液:クロロホルム−アセトン(1:1
)]で精製し、アセトン−n−ヘキサンから再結晶する
と、融点154〜156.5℃の(38)−3,4−ジ
ヒドロ−3,8−ジヒドロキシ−2H−1−べ/ソヒラ
ン592ダ(収率90.2%)が得られた。
H%d、 J=8Hz、 −OH)2.74〜5.1
6 (2H,m5C42H)3.88 (6H,s 、
CH30−)4.14〜4.22 (2H,m、 C
2−2H)4.2(]〜4.32 (I H,mSC,
−H)6.64〜6.78 (2H,m、 C5−H及
びC7−H)6.86 (I H,t、 J =8Hz
%Co H)元素分析値: C+oH+tOsとして
CH 計算値%) 66.65 6.71実測値((6
) 66.70 6.60(c)47%臭化水素水
溶液4.3 mlに(b)で得られたC58)−8−メ
トキシ化合物712m9を加え、浴温115℃で70分
間反応させた。反応混合物を氷水で冷却し、攪拌下に水
酸化ナトリウム水溶液を加えてpH2としたのち酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄したのち乾
燥して溶媒を留去した。残査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ(溶出液:クロロホルム−アセトン(1:1
)]で精製し、アセトン−n−ヘキサンから再結晶する
と、融点154〜156.5℃の(38)−3,4−ジ
ヒドロ−3,8−ジヒドロキシ−2H−1−べ/ソヒラ
ン592ダ(収率90.2%)が得られた。
IR値ニジKBr、 −・
aπ
ax
3560(OH)
’H−NMR値:δCD、OD、 ppm2.52〜5
.18 (2H,m、C4−2H)5.80〜4.28
(3H,m、C,−2H及びC,−H)6.44〜6.
78 (!IH,m、芳香族H)元素分析値: CgH
,。O8として CH 計算値((6) 65.05 6.07実測値%)
65.05 6.06 実施例2 (a) 実施例1(a)で得られた(6R)−エステ
ル化合物860叱用いて実施例1(b)と同様に反応、
処理し、酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶すると、
融点102〜10&5℃の(3R)3−ヒドロキシ−8
−メトキシ−3,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾビラ
ン676〜(収率98゜0%)が得られた。
.18 (2H,m、C4−2H)5.80〜4.28
(3H,m、C,−2H及びC,−H)6.44〜6.
78 (!IH,m、芳香族H)元素分析値: CgH
,。O8として CH 計算値((6) 65.05 6.07実測値%)
65.05 6.06 実施例2 (a) 実施例1(a)で得られた(6R)−エステ
ル化合物860叱用いて実施例1(b)と同様に反応、
処理し、酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶すると、
融点102〜10&5℃の(3R)3−ヒドロキシ−8
−メトキシ−3,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾビラ
ン676〜(収率98゜0%)が得られた。
比旋光度[α]23−H6,1°(c=4、CHCIg
)IR値:(38)一体と同じ ’ H−NMR値:(5S)一体と同じ元素分析値:
C+oH+□○、としてCH 計算値(%) 66.65 6.71実測値(%)
66.69 6.77(b) (a)で得られた(
6R)−8−メトキシ化合物780■を用いて実施例1
(c)と同様に反応、処理し、アセトン−n−ヘキサン
から再結晶すると、融点154〜156.5℃の(6R
)−3,4−ジヒドロ−6,8−ジヒドロキシ−2H−
1−ベンゾピラン662〜(収率92.0%)が得られ
た。
)IR値:(38)一体と同じ ’ H−NMR値:(5S)一体と同じ元素分析値:
C+oH+□○、としてCH 計算値(%) 66.65 6.71実測値(%)
66.69 6.77(b) (a)で得られた(
6R)−8−メトキシ化合物780■を用いて実施例1
(c)と同様に反応、処理し、アセトン−n−ヘキサン
から再結晶すると、融点154〜156.5℃の(6R
)−3,4−ジヒドロ−6,8−ジヒドロキシ−2H−
1−ベンゾピラン662〜(収率92.0%)が得られ
た。
比旋光度:〔α) −45,8°(C=3、’I’H
F )IR値=S体と同じ ’ H−NMR値=R体と同じ 元素分析値” co)(to o、としてOH 計算値(燭 65.05 6.07 実測値(%J 65.15 6.05実施例3 (a)2−アリル−6−メドキシフエノール1.67g
をピリジン16m1に溶解し、水冷攪拌下にN−メシル
−L−フェニルアラニルクロリ)” 4゜0gを加えて
、室温で15時間攪拌した。反応液に水2.5 mlを
加え、室温て20分間攪拌したのち、減圧下でピリジン
を留去した。残査をクロロホルムに溶解し、2N−塩酸
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した
のち乾燥してクロロホルムを留去すると、粗結晶3゜8
gが得られた。これをメタノールから再結晶すると、融
点141〜142℃の2−アリル−6−メトキシフェニ
ル−N−メシル−L−フェニルアラニレ−)3.6g(
収率90.8%)が得られた。
F )IR値=S体と同じ ’ H−NMR値=R体と同じ 元素分析値” co)(to o、としてOH 計算値(燭 65.05 6.07 実測値(%J 65.15 6.05実施例3 (a)2−アリル−6−メドキシフエノール1.67g
をピリジン16m1に溶解し、水冷攪拌下にN−メシル
−L−フェニルアラニルクロリ)” 4゜0gを加えて
、室温で15時間攪拌した。反応液に水2.5 mlを
加え、室温て20分間攪拌したのち、減圧下でピリジン
を留去した。残査をクロロホルムに溶解し、2N−塩酸
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した
のち乾燥してクロロホルムを留去すると、粗結晶3゜8
gが得られた。これをメタノールから再結晶すると、融
点141〜142℃の2−アリル−6−メトキシフェニ
ル−N−メシル−L−フェニルアラニレ−)3.6g(
収率90.8%)が得られた。
、 KBr
IR値、ν 1.−1
max
6267.1767.1327.1144’ H−NM
R値:δCDCL、、ppm2.70 (5H,s、
CHsSOz )3.06〜3.46 (2H,m、
−CH2−CH=CH2)5.24 (2H,d、
J =7Hz、−CH2−Ar )3.80 (3H,
s 、 CH30−)4.62〜4−74 (H1m
−y CHNH)4.88〜5.12 (3H,m、
−NH及び−CH=CH,)5.76〜5.96 (H
,m、 −CH=CH1)6.82〜6.92 (2H
,m、 c、−H及びC,−H)7、18 (j H,
t、 J =BHz%C4−H)7.34(5H,s、
芳香族H) 元素分析値: C,oH,3NOsSとしてHN 計算値tA) 61.68 5.95 3.60実測
値(□□□ 61.72 6.00 5.61(b)
(a)で得られたエステル1.8gをクロロホルムj
4mlに溶解し、m−クロル過安息香酸1.4Jを加え
て室温で20時間攪拌した。
R値:δCDCL、、ppm2.70 (5H,s、
CHsSOz )3.06〜3.46 (2H,m、
−CH2−CH=CH2)5.24 (2H,d、
J =7Hz、−CH2−Ar )3.80 (3H,
s 、 CH30−)4.62〜4−74 (H1m
−y CHNH)4.88〜5.12 (3H,m、
−NH及び−CH=CH,)5.76〜5.96 (H
,m、 −CH=CH1)6.82〜6.92 (2H
,m、 c、−H及びC,−H)7、18 (j H,
t、 J =BHz%C4−H)7.34(5H,s、
芳香族H) 元素分析値: C,oH,3NOsSとしてHN 計算値tA) 61.68 5.95 3.60実測
値(□□□ 61.72 6.00 5.61(b)
(a)で得られたエステル1.8gをクロロホルムj
4mlに溶解し、m−クロル過安息香酸1.4Jを加え
て室温で20時間攪拌した。
析出した白色沈殿をクロロホルム20atを加えて溶解
し、亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液次いで水で洗浄したのち、乾燥して溶媒を留
去した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔溶
出液クロロホルム−メタノール(100:1))で精製
スると、融点126〜129℃の無色結晶として、2−
(2,3−エポキシ)プロピル−6−メトキシフェニ
ル−N−メシル−L−フェニルアラニレ−) 1.8.
9 (収率96.0%)が得られた。
し、亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液次いで水で洗浄したのち、乾燥して溶媒を留
去した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔溶
出液クロロホルム−メタノール(100:1))で精製
スると、融点126〜129℃の無色結晶として、2−
(2,3−エポキシ)プロピル−6−メトキシフェニ
ル−N−メシル−L−フェニルアラニレ−) 1.8.
9 (収率96.0%)が得られた。
IR値: I/KBr”
max −儒
3260.1771.1314.1145マススペクト
ル値: m/z 405(M )(C) (b)で得
られたエポキシ化合物1.0gをアセトン5dに溶解し
、沃化ナトリウム0.37 gを加えて浴温55℃で3
時間攪拌した。
ル値: m/z 405(M )(C) (b)で得
られたエポキシ化合物1.0gをアセトン5dに溶解し
、沃化ナトリウム0.37 gを加えて浴温55℃で3
時間攪拌した。
反応液よりアセトンを留去し、残査をクロロホルムに溶
解して水洗後乾燥した。溶媒な留去して得られた油状物
を実施例1(a)と同様にカラムクロマトグラフィで分
離、精製すると、8体473■(収率47.6%)及び
8体476即(収率47.6%)が得られた。
解して水洗後乾燥した。溶媒な留去して得られた油状物
を実施例1(a)と同様にカラムクロマトグラフィで分
離、精製すると、8体473■(収率47.6%)及び
8体476即(収率47.6%)が得られた。
(8体)
比旋光度: 〔a〕 −374°(c=13s、r:H
cl、 )IR値:1(a)で得られた8体と同じ’
H−NMR値:Na)で得られた8体と同じマススペク
トル値: m/z 405(M”)(8体) 融点:125〜127°C 比旋光度:〔α] −1,8°(c=5.33、CH
Cl3)IR値:1(a)で得られた8体と同じ’ H
−NMR値:Na)で得られた8体と同じマススペクト
ル値: m/z 405(M”)実施例4 (a) 3−(8−メトキシ−2H−1−ベンゾピラ
ン)カルボン酸15.0g、ジフェニルリン酸アジド2
0.0 g及びトリエチルアミン7、49をt−ブチル
アルコール170m/に加え、浴温100℃で3時間還
流した。
cl、 )IR値:1(a)で得られた8体と同じ’
H−NMR値:Na)で得られた8体と同じマススペク
トル値: m/z 405(M”)(8体) 融点:125〜127°C 比旋光度:〔α] −1,8°(c=5.33、CH
Cl3)IR値:1(a)で得られた8体と同じ’ H
−NMR値:Na)で得られた8体と同じマススペクト
ル値: m/z 405(M”)実施例4 (a) 3−(8−メトキシ−2H−1−ベンゾピラ
ン)カルボン酸15.0g、ジフェニルリン酸アジド2
0.0 g及びトリエチルアミン7、49をt−ブチル
アルコール170m/に加え、浴温100℃で3時間還
流した。
反応液よりt−ブチルアルコールを減圧下で留去し、残
査をベンゼンに溶解して2N−水酸化ナトリウム水溶液
で2回、次いで飽和食塩水で2回洗浄した。溶媒を留去
し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶出液
:クロロホルム)で精製し、エーテル−n−ヘキサンか
ら再結晶すると、融点164〜136.5℃の6− (
N −t−ブチルオキシカルボニルアミノ)−8−メト
キシ−2H−1−ベンゾピラン15゜2.9(収率75
.3%)が得られた。
査をベンゼンに溶解して2N−水酸化ナトリウム水溶液
で2回、次いで飽和食塩水で2回洗浄した。溶媒を留去
し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶出液
:クロロホルム)で精製し、エーテル−n−ヘキサンか
ら再結晶すると、融点164〜136.5℃の6− (
N −t−ブチルオキシカルボニルアミノ)−8−メト
キシ−2H−1−ベンゾピラン15゜2.9(収率75
.3%)が得られた。
IR値:、塁Br、、cIL−’
3331.1732
’ H−NMR値:δCDCl、、ppm1.50(9
H,s、−c(CH3)!>3.86 (5H,s、
CHIO−)4.80 (2H,s、 C2−2H)6
.02 (I H,br、s 、 −NH−又はC4−
H)6.48 (I H,br、s、 −NH−又はC
4−H)6.58〜6.74 (2H,m、C5=H及
びC,−H)6.84 (I H,t、 J =811
z、 Co H)元素分析値: C15H19NO4と
してCHN 計算値(慢 64.97 6.915.05実測値(3
) 64.94 6.84 5.0!1(bl 仏)
で得られた6−アミン化合物10.4gをテトラヒドロ
フラン45m1に溶解し、室温で6N−塩酸64m1を
加えて4時間攪拌した。
H,s、−c(CH3)!>3.86 (5H,s、
CHIO−)4.80 (2H,s、 C2−2H)6
.02 (I H,br、s 、 −NH−又はC4−
H)6.48 (I H,br、s、 −NH−又はC
4−H)6.58〜6.74 (2H,m、C5=H及
びC,−H)6.84 (I H,t、 J =811
z、 Co H)元素分析値: C15H19NO4と
してCHN 計算値(慢 64.97 6.915.05実測値(3
) 64.94 6.84 5.0!1(bl 仏)
で得られた6−アミン化合物10.4gをテトラヒドロ
フラン45m1に溶解し、室温で6N−塩酸64m1を
加えて4時間攪拌した。
反応後、水冷攪拌下に炭酸水素ナトリウムを少量ずつ加
えてpH7とし、ベンゼンで抽出した。抽出液を水洗し
乾燥したのち溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ〔溶出液:ヘンゼンークロロホルム(2
:1))で精製し、ベンゼン−n−ヘキサンから再結晶
すると融点78〜81°Cの6,4−ジヒドロ−8−メ
トキシ−3−オキソ−2H−1−ベンゾビラン5.1
g(収率76.3%)が得られた。
えてpH7とし、ベンゼンで抽出した。抽出液を水洗し
乾燥したのち溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ〔溶出液:ヘンゼンークロロホルム(2
:1))で精製し、ベンゼン−n−ヘキサンから再結晶
すると融点78〜81°Cの6,4−ジヒドロ−8−メ
トキシ−3−オキソ−2H−1−ベンゾビラン5.1
g(収率76.3%)が得られた。
、 KBr
IR値、ν 、(m−’
aX
’ H−NMR値:δCDCl、、ppm3.62 (
2H,s、 C4−2H)3.92 (3H,s 、
CH30−)4.47 (2H% s、C2−2H)6
.74(IH%d、 J=81’lz、 C,−H又は
C7−H)6.86 (I H,d、 J=8Hz、
C6−H又はC7−H)7、01 (1H,t、 J
=8Hz、 C,−H)元素分析値:clOHl。03
として CH 計算値%) 67.41 5.66実測値((6
) 67.58 5.58(cl (blで得ら
れた3−オキソ化合物3.0 g及び時間攪拌した。
2H,s、 C4−2H)3.92 (3H,s 、
CH30−)4.47 (2H% s、C2−2H)6
.74(IH%d、 J=81’lz、 C,−H又は
C7−H)6.86 (I H,d、 J=8Hz、
C6−H又はC7−H)7、01 (1H,t、 J
=8Hz、 C,−H)元素分析値:clOHl。03
として CH 計算値%) 67.41 5.66実測値((6
) 67.58 5.58(cl (blで得ら
れた3−オキソ化合物3.0 g及び時間攪拌した。
反応液に酢酸エチルを加えて10分間攪拌したのち濾過
し、p液より酢酸エチル層を分取した。この溶液を飽和
食塩水で洗浄したのち乾燥して溶媒を留去した。得られ
た粗結晶なn−ヘキサンで洗浄し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィ〔溶出液:クロロホルム−メタノール(
30: 1 ) )で精製すると、無色結晶2.84g
(収率96.6%)が得られた。これを酢酸エチル−n
−ヘキサンより再結晶すると、融点100〜102℃の
無色針状晶として、(5R) −3−ヒドロキシ−8−
メトキシ−6,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾビラン
2.61g(収率86.0%)が得られた。
し、p液より酢酸エチル層を分取した。この溶液を飽和
食塩水で洗浄したのち乾燥して溶媒を留去した。得られ
た粗結晶なn−ヘキサンで洗浄し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィ〔溶出液:クロロホルム−メタノール(
30: 1 ) )で精製すると、無色結晶2.84g
(収率96.6%)が得られた。これを酢酸エチル−n
−ヘキサンより再結晶すると、融点100〜102℃の
無色針状晶として、(5R) −3−ヒドロキシ−8−
メトキシ−6,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾビラン
2.61g(収率86.0%)が得られた。
比旋光度:〔α]+15.0°(C=4、CHCl、)
IR値:実施例2(a)の化合物と同じ’H−NMR値
:実施例2(a)の化合物と同じ光学純度:88.4%
ee(5−メシルオキシ化金物に誘導後キラル高速液体
クロ マトグラフィにより測定) 元素分析値:C1゜HI20.として CH 計算値k) 66.65 6.71実測値^)
66.46 6.70この化合物をさらに酢酸エチル
−n−ヘキサンから再結晶すると、回収率90%で光学
純度91.6%eeのものが得られた。
IR値:実施例2(a)の化合物と同じ’H−NMR値
:実施例2(a)の化合物と同じ光学純度:88.4%
ee(5−メシルオキシ化金物に誘導後キラル高速液体
クロ マトグラフィにより測定) 元素分析値:C1゜HI20.として CH 計算値k) 66.65 6.71実測値^)
66.46 6.70この化合物をさらに酢酸エチル
−n−ヘキサンから再結晶すると、回収率90%で光学
純度91.6%eeのものが得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中A^*は光学活性なアミノ酸より導かれるアシル
基、Zは水素原子又は水酸基の保護基を示す)で表わさ
れる化合物をカラムクロマトグラフィに付して、3位の
配置がRである化合物とSである化合物を各々分取し、
次いでこれらの化合物のアシル基及び水酸基の保護基を
任意の順序で脱離することを特徴とする、(3R)−又
は(3S)−3,4−ジヒドロ−3,8−ジヒドロキシ
−2H−1−ベンゾピランの製造法。 2、A^*を導く光学活性なアミノ酸がアミノ基を保護
したL−アラニン又はL−フェニルアラニンである第1
請求項に記載の方法。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中Zは水素原子又は水酸基の保護基を示す)で表わ
される化合物に、一般式 A^*−OH(V) (式中A^*は光学活性なアミノ酸より導かれるアシル
基を示す)で表わされる化合物又はそのカルボキシル基
における反応性誘導体を作用させ、こうして得られた式
IIIの化合物を用いることを特徴とする、第1請求項に
記載の方法。 4、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中Zは水素原子又は水酸基の保護基を示す)で表わ
される化合物に、一般式 A−OH(V) (式中A^*は光学活性なアミノ酸より導かれるアシル
基を示す)で表わされる化合物又はそのカルボキシル基
における反応性誘導体を作用させ、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中の各記号は前記の意味を有する)で表わされる化
合物とし、これに過酸を作用させ、得られた一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中の各記号は前記の意味を有する)で表わされる化
合物に、ハロゲノアルカリ又は四級アンモニウムハライ
ドを作用させ、こうして得られた式IIIの化合物を用い
ることを特徴とする、第1請求項に記載の方法。 5、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (式中Zは水素原子又は水酸基の保護基を示す)で表わ
される化合物を酵母を用いて還元し、次いで必要に応じ
水酸基の保護基を脱離することを特徴とする、(3R)
−3,4−ジヒドロ−3,8−ジヒドロキシ−2H−1
−ベンゾピランの製造法。 6、水性媒体中でパン酵母を用いて還元を行うことを特
徴とする第5請求項に記載の方法。 7、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(X) (式中Zは水素原子又は水酸基の保護基を示す)で表わ
される化合物を酸アジド化合物としたのち、一般式 Alk−OH(X I ) (式中Alkは低級アルキル基を示す)で表わされる化
合物を作用させ、得られた一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) (式中の各記号は前記の意味を有する)で表わされる化
合物を加水分解し、こうして得られた式IXの化合物を用
いることを特徴とする、第5請求項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63170810A JP2802996B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 光学活性化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63170810A JP2802996B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 光学活性化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0222272A true JPH0222272A (ja) | 1990-01-25 |
| JP2802996B2 JP2802996B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=15911758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63170810A Expired - Fee Related JP2802996B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 光学活性化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2802996B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6034256A (en) * | 1997-04-21 | 2000-03-07 | G.D. Searle & Co. | Substituted benzopyran derivatives for the treatment of inflammation |
| US6077850A (en) * | 1997-04-21 | 2000-06-20 | G.D. Searle & Co. | Substituted benzopyran analogs for the treatment of inflammation |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP63170810A patent/JP2802996B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6034256A (en) * | 1997-04-21 | 2000-03-07 | G.D. Searle & Co. | Substituted benzopyran derivatives for the treatment of inflammation |
| US6077850A (en) * | 1997-04-21 | 2000-06-20 | G.D. Searle & Co. | Substituted benzopyran analogs for the treatment of inflammation |
| US6271253B1 (en) | 1997-04-21 | 2001-08-07 | G.D. Searle & Co. | Substituted benzopyran derivatives for the treatment of inflammation |
| US6492390B2 (en) | 1997-04-21 | 2002-12-10 | G.D. Searle & Co. | Substituted benzopyran analogs for the treatment of inflammation |
| US6806288B1 (en) | 1997-04-21 | 2004-10-19 | G.D. Searle & Co. | Substituted benzopyran derivatives for the treatment |
| US7109211B2 (en) | 1997-04-21 | 2006-09-19 | Pharmacia Corporation (Of Pfizer, Inc.) | Substituted benzopyran derivatives for the treatment of inflammation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2802996B2 (ja) | 1998-09-24 |
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