JPH0222326A - ペルフルオロアルキルあるいはペルフルオロクロロアルキル末端基を有する制御された分子量のペルフルオロポリエーテルの製造方法 - Google Patents

ペルフルオロアルキルあるいはペルフルオロクロロアルキル末端基を有する制御された分子量のペルフルオロポリエーテルの製造方法

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JPH0222326A JP1113552A JP11355289A JPH0222326A JP H0222326 A JPH0222326 A JP H0222326A JP 1113552 A JP1113552 A JP 1113552A JP 11355289 A JP11355289 A JP 11355289A JP H0222326 A JPH0222326 A JP H0222326A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、1個または2個の塩素原子を任意に含むこと
のできるペルフルオロアルキル末端基を有−する、中性
のペルフルオロポリエーテルの製造方法に関する。
フルオロオレフィンを光酸化し、それに続いて紫外線照
射の存在の下あるいは不存在の下でフッ素ガスによって
フッ素化し、それによって過酸化物基を除去し、さらに
酸末端基をペルフルオロアルキル基に転化して、ペルフ
ルオロアルキル中性末端基を有するペルフルオロポリエ
ーテルを製造する方法は公知である。
この方法によれば、様々な分子量と非常に広い分子量分
布とを示す製品混合物が一般に得られ、高分子量製品の
割合は一般に無視できなくなる。
この型の方法は、米国特許箱3,442.942号、第
3,665,041号、第3.683゜027号および
欧州特許出願第193,028号に記載されている。
工業的に興味深い多くの応用に対しては、極めて低い分
子量と比較的大きな均一性とを示す製品が利用できるよ
うになることが必要である。それ故に、欧州特許出願第
167.258号および第223.238号に開示され
るところによって、適当な触媒の存在の下で製品を熱接
触分別することに基づく、分子量の低減方法を取入れる
必要があった。
この方法は、工業的見地から非常に重要であるが、それ
は、一般には高い平均分子量を有(ていて、そのま\で
は有効に利用できない光酸化製品を十分に利用できるよ
うにするからである。
一方、比較的低い平均分子量を有する製品を、要求され
る通りに、光合成の粗混合物から分離することは、工業
的規模で実施するには非常に複雑で困難である。さらに
、低分子量を示す有用な製品の収率は非常に低い(約1
0−20%)。
それ故に、分子量が希望する範囲にある製品の非常に高
い収率を、直接に光酸化の方法で、しかもそれに続いて
分子量調整のための何らかの操作段階を必要とすること
なしに提供できる、代りの工業的方法を利用できるよう
にする必要が感じられた。
従って、本発明は式 のペルフルオロポリエーテルの製造方法に関する。
式中、Tは塩素原子を含有することもできるベルハロア
ルキル基であって、特にCF2Y−CFっYCF2−1
YCF2CF、(CF3)YCF (CF3)CF2−
 (Yはフッ素または塩素)であることができ、RとR
′とは、互いに同一または異なるものであって、フッ素
または塩素であり、指数m、nは0〜20の整数であり
、Pは0〜40であり、qは0〜10であって、m−〇
のとき、nは1〜20およびP+qは0,01〜0.5
であり、n−〇のとき、qもまた0であり、かつmは1
〜20、P / mは0.5〜2であり、nおよびmが
0以外の時には、m + nは1〜20であり、P +
 q / m + nは0.01〜0.05である。
上記の製品の製造方法は、以下の必須の操作段階を包含
する。
a) 最初はC3F6および/または、場合によっては
、クロロフルオロ炭化水素溶媒より成る液体反応相の中
で、C1またはB「または1の原子1ないし4個、公的
には1または2個含Hする完全にハロゲン化されたエチ
レンの存在の下、02ガスによって、−20’〜−10
0℃、好適には一50″〜−60℃の温度に保った液体
反応混合物を紫外線(2,000ないし6,000人の
波長)で照射することによってペルフルオロプロペンお
よび/またはテトラフルオロエチレンを光酸化する。完
全にハロゲン化したエチレンを、反応混合物中に02と
同時に、ペルフルオロオレフィン(C3F6および/ま
たはC2F4)に関して50モル%に等しいが、一般に
は2096を越えない量で導入する。完全にハロゲン化
したエチレンとしては、特にCF2−CFCI、CFC
I−CFCI、CF2−CCl 2、CF2−CFBr
を使用することができる。
b)  a)で得られた粗生成物を、フッ素ガスによっ
てフッ素化合するが、該フッ素化合は、100’〜25
0℃または0″〜120℃の範囲の温度で、紫外線放射
の下で行なわれる。この方法は、公知の操作技法(米国
特許第3.665゜041号および第4,664,76
6号参照)によって行なわれる。フッ素化処理の間に、
酸末端基の中性ペルフルオロアルキル基への転化が起る
外に、もし光酸化生成物中に存在するならば、すべての
臭素とヨウ素との置換が起る。塩素に関しては、置換は
非常に限定されている。さらに、光酸化粗生成物中に含
まれる過酸化物話の分解らまた起る。
本発明の方法によって、完全にフッ素化された製品、あ
るいは末端基だけに塩素を含有する製品を、高収率で得
ることができる。後者の製品は高い耐熱性と高い耐化学
薬品性とを有して、ペルフルオロアルキル末端基を有す
る公知のペルフルオロポリエーテルに実用上十分に匹敵
できることが分った。それ故に、それらの製品は、全般
的な洩れ試験、燃焼試験、および熱衝撃試験のような、
電子製品に対する試験分野で使用される(欧州特許第2
03.348号参照)。
別の1つの応用分野は潤滑グリースの配合の分野である
(米国特許第4,472,290号参照)。
以下の実施例は、本発明を説明するためだけのものであ
って、本発明を限定するものと解釈すべきではない。
実施例I A) 光酸化 内側で同軸の石英の鞘とガス導入用の浸漬管、内部温度
測定用の熱電対を入れた鞘、および−80℃の温度に保
たれた還流冷却器を備えた円筒形のガラス反応器(容積
−1,000m1、光路=2cm)の中に、−60℃の
温度でC3F61.600gを導入した。浸漬管を通し
て、o2271/hとC2F3C131/hとがら成る
ガヌ混合物を、反応器中に泡立たせて導入した。
反応器の外側においた冷凍浴によって、反応液体相の温
度は試験の間中−60℃に保たれた。
石英鞘の中に紫外線灯HANAU  TQ150型(波
長2.000ないし3,000人の紫外線47Wを放射
する)を導入した後、ランプのスイッチを入れ、照射と
反応ガスの供給とを5時間続けた。
5時間照射した後、ランプのスイッチを切り、脱気を行
ない、室温での蒸発によって反応器がら未反応の03F
6を回収した。油状の重合体残留物がかくして得られた
。生成物の収量は1,041gであった。該残留物にヨ
ウ素滴定を行なって活性(過酸化物)酸素含有量を計算
して、それが0.32ffl量%であるという結果を得
、さらにNMRl 9 )’分析を行なって、残留物が
次の型 のポリエーテル鎖より成ることが分った。こ\にCF 
     CF であって、初めの2つの末端基の型が著しく優勢であり
、 で、第2のものが末端基Y′のく5%の量で存在する。
M/N比は非常に低い(<0.05)。
オストワルドーフェンスケ粘度計で20℃で測定した生
成物の粘度は、5.7であった。
赤外分析によって、基 に典型的な吸収帯が示された。
質量分光分析によって、NMR分析で決定された末端基
が存在することと、連鎖中に単位−CFCI CF20
−の存在しないこととの両方が確認された。NMR分析
によって、生成物は0.01のm/n比と960の分子
量とを示した。
塩素分析によって、4.2重量%の塩素含有量が示され
た。
上記した式に表わされているように、生成物は連鎖当り
塩素原子をたv1個だけ含有していると仮定すると、8
40という平均分子量が計算される。
生成物は水を飽和した窒素気流によって加水分解された
。加水分解後、生成物は20℃で31cstの粘度を示
した。加水分解生成物を、次に真空中(20ないし1i
mHg)ボイラ最高温度210℃で蒸留した。
3つの留分が得られた。
第1表 3つの試料について行なったNMR19F分析によって
、次の構造 CF3 CF3 の2つの型が著しく優勢であり、 Y−−CF2COOH であって、分子m (M、 W、 ’)を計算すること
ができた。
得られた値は第1表に示しである。
B) フッ素化 水銀蒸気ランプHANAU  TQ150型を収める石
英の鞘を備え、さらにバブラー、マグネチックスクーラ
ー、CO2トラップ、および反応器と鞘システムとの双
方をF C70oとGALDEN  DOZ■とを使用
して温度調節するシステムを備えた光化学反応器(容積
−100m1)に、実施例1(留分■)に記載したよう
にして得られた、粘度112.4cstのベルフロオロ
ポリエーテル210.2gを装入した。ランプのスイッ
チを入れてから、31/hのフッ素気流で、装置を90
℃に温度調節してフッ素化を行なった。
6時間後に、生成物は完全に中性になった。
試料について行なったNMR19F分析に、1、って、
次の構造 が確認された。こ\に CF30F3 で、YはFまたはCIであり、 また、Y−CIのついた末端基/完全にペルフルオロ化
された末端基の比は、0.96である。
さらに20時間フッ素化を行なうと、この比は0.53
になり、また生成物(189g)は19cstの粘度を
示した。
実施例1の留分■で得た試料に、上記したと同じ条件で
はあるが、温度は10℃にして行なった光化学フッ素化
によって、10時間後に、完全に中性の生成物が得られ
たが、その20℃における粘度はl、5cstであって
、収量は86%であった。
実施例2 内側で同軸に直径20m■の石英の鞘を偏え、さらにガ
スを導入するための浸漬管と一80℃の温度に保たれた
還流冷却器とを備えた、円筒形のガラス反応器(直径−
8On+m、容積−約600 cc)の中に、A−12
(CF2C12)600c、cを導入した。浸漬管を通
して、酸素、C2F4およびCIC2F3より成るガス
混合物を、反応器の中に泡立たせて導入した。反応器の
外側に設けた冷凍浴によって、反応液体相を試験の間中
第2表に示した操作温度に保った。石英の鞘の中に紫外
線灯HANAU  TQ150型(波長範囲2000な
いし3000への紫外線放射47Wを放出する)を導入
してから、ランプのスイッチを入れ、照射と試薬の供給
とを5時間の間行なった。
反応器を出るガスは、アルカリ洗浄を行なってから除去
した。5時間の照射後、ランプのスイッチを切り、室温
で蒸発させることによって溶媒を反応器から除去した。
油状の重合体残留物が得られた。この残留物にヨウ素滴
定を行なって活性酸素含有量を定量し、さらにNMR1
9F分析を行なって、残留物は次の型 T2O(CF2CF20)n(CF20)m(0)vY
′のポリエーテル鎖より成ることが分った。ニーにCV
) T’−CICF2CF2−  、CIC2F3−−CF
2COF、  −COF である。
m/n比は合成条件(温度)によってきまり、0、5な
いし2の範囲にある。
生成物の粘度は、オストワルドーフェンスケ粘度計によ
って、20℃で測定した。
反応条件および生成した浦の特徴は、第2表で報告した
/ B) フッ素化 実施例IB)に記載したと同じ様な光化学反応器を使用
し、同一の様式に従ったが、60℃の温度を使用して、
実施例2人)(第2表、試験番号4)に記、載した様式
に従って得た過酸化物基を加水分解して熱処理した後の
生成物(収率78%)にフッ素化を行なった。12時間
のフッ素化の後に、回収した生成物(収率−93%)は
、20℃で7cstの粘度を示し、またNMR19F分
析によって、ポリエーテルは次の構造 T−O(CF20F20)n(CF20)m−CF3こ
\にT−YCF2CF2−1YCF2Y−CIまたはF であるものとする、より成ることが明らかになった。
実施例3 実施例1に記載したと同様な光化学反応器に、C3F6
800gを装入して、−64℃の温度で光合成を行なっ
たが、反応に対しては浸漬管を通して、酸素とBrC2
F3とを2.4/1の割合で全体で324J/hの流量
で、ヘリウムで希釈した後に別々に泡立たせて導入した
。5h照射した後、ランプのスイッチを切り、未反応の
C3F 6を回収した。油状の生成物43.1Kが得ら
れた。
ヨウ素滴定によって、活性酸素金白°量は0.43重量
%であることが示された。
生成物は6.95cstの粘度を示し、またNMR19
F分析によって、ポリエーテルは次の型のペルフルオロ
エーテル構造より成ることが示さCF      CF で、初めの2つの型のものが著しく優勢てあり、Y−−
CF2COF、−COF で、第1の型のものが優勢であり、 分子量は800であって、m/n比は0. 005であ
る。
T/Y比は1であった。
臭素分析は8,996の値を示した。
生成物は分子当りたv1個の臭素原料を含有すると仮定
すると、898の分子量が計算される。
B) フッ素化 実施例IB)に使用したと同じ装置の中で、5℃の温度
で、実施例3A)で得た生成物2 Q gと、溶媒とし
て使用した Fe12 (N (C5F11) 3)(ペルフルオロ
トリペンチルアミン)70gとの混合物にフッ素化を行
なった。
フッ素気流(11/h)の導入を19h行なった後、反
応器から混合物85.2gを取り出し、それから蒸留に
よってペルフルオロポリエーテル15gを分離した。N
MR19F分析によって、生成したポリエーテルは、次
の型 で、もはや過酸化物基を含有しない構造より成ることが
分った。ニーに CF3CF2CF2− CF3 であるが、ペルフルオロ化された中性末端基と、臭素を
含有する中性末端基との間の比は、3であった。
得られた生成物にもう1度同じ反応器を使用してフッ素
化を行なったが、試験は50℃で行なった(フッ素の流
速は31/h)。40時間の反応後、混合物88.が取
り出され、それからペルフルオロポリエーテルl1gが
分離された。
NMR19F分析によって、生成したペルフルオロポリ
エーテルは次の型 の構造より成ることが分った。こ\に T’ −−CF (CF  )     ・−CF  
CF  CF    −CF32ゝ     2 2 
3ゝ     3であり、また分子量は650であった
この試験では、反応器の出口に一80℃に冷却したトラ
ップを置いて、 反応から生ずる副生物を 採取したが、 それはBrFおよびその複合体の存 在のために黄色を示していた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ペルフルオロアルキルあるいはペルフルオロクロロ
    アルキル末端基を有する一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Tは塩素原子を含むこともできるペルハロアル
    キル基で、特にCF_2Y−、 CF_2YCF_2−、YCF_2CF(CF_3)−
    、TCF(CF_3)CF_2−(Yはフッ素または塩
    素)であることができ、RとR′はたがいに同一であっ
    ても異なっていてもよく、フッ素あるいは塩素であり、
    指数m、nは0〜20の整数であり、Pは0〜40であ
    り、qは0〜10であって、m=0のとき、nは1〜2
    0およびP+qは 0.01〜0.5であり、n=0のとき、qもまた0で
    あり、かつmは1〜20、P/mは0.5〜2であり、
    nおよびmが0以外の時には、m+nは1〜20であり
    、P+q/m+nは0.01〜0.05である)で表わ
    されるペルフルオロポリエーテルの製造方法であって、
    次の操作段階、即ち、 a)ClまたはBrまたはIの原子1ないし4個、好適
    には1ないし2個含有し、フルオロオレフィンに関して
    50モル%までの量で反応混合物に供給される完全にハ
    ロゲン化されたエチレンの存在下、液体反応相中で、場
    合によっては反応溶媒としてクロロフルオロ炭化水素を
    使用し、O_2ガスによって、−20°〜−100℃の
    温度に保った反応混合物を紫外線で照射することによつ
    て、ペルフルオロプロペンおよび/またはテトテフルオ
    ロエチレンを光酸化する工程、およびb)紫外線照射下
    、100〜250℃あるいは0°〜120℃の温度でフ
    ッ素ガスによりフッ素化処理する工程、を包含するペル
    フルオロポリエーテルの製造方法。 2、次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、TはCl原子を含有するペルハロアルキル基で
    あって、特に CF_2Cl−、CF_2ClCF_2−、▲数式、化
    学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼であることができ、RとR′とは互いに同一であ
    っても異なるものであってもよく、フッ素あるいは塩素
    であり、指数m、nは0〜20の整数であり、Pは0〜
    40であり、qは0〜10であって、m=0のとき、n
    は1〜20およびP+qは0.01〜0.5であり、n
    =0のときqもまた0であり、かつmは1〜20、P/
    mは0.5〜2であり、nおよびmが0以外の時には、
    m+nは1〜20であり、P+q/m+nは0.01〜
    0.05である)で表わされるペルフルオロポリエーテ
    ル。
JP01113552A 1988-05-02 1989-05-02 ペルフルオロアルキルあるいはペルフルオロクロロアルキル末端基を有する制御された分子量のペルフルオロポリエーテルの製造方法 Expired - Fee Related JP3135544B2 (ja)

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