JPH0222499A

JPH0222499A - メッキ装置

Info

Publication number: JPH0222499A
Application number: JP17292388A
Authority: JP
Inventors: Takayoshi Yamamura; 山村　孝義; Yorihisa Endo; 遠藤　順久; Akira Niimura; 新村　晃
Original assignee: Yamaha Corp
Current assignee: Yamaha Corp
Priority date: 1988-07-12
Filing date: 1988-07-12
Publication date: 1990-01-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「産業上の利用分野」この発明は特に高速メッキするのに好適なメッキ装置に
関し、メッキ処理に用いる複数の処理槽を円弧状に配置
すると共に、被メッキ物を搬送する搬送機構を前記円弧
の中心を回動中心として回動しかつ上下動するように構
成することにより、メッキ装置をコンパクト化できるよ
うにしたものである。

「従来の技術」メッキ液と被メッキ物との間に相対運動を与え、被メッ
キ物の表面のイオン拡散層を破壊して、低電圧で大電流
を流すことにより、メッキを高速に行う高速メッキ法が
提案されている。

第２０図は、そのような高速メッキ法を実施する従来の
メッキ装置を示すものである。第２０図中符号ｌはメッ
キ室ユニットである。このメッキ室ユニットＩの前後に
は、萌処理室ユニット２と後処理室ユニット３が設けら
れている。そしてこれらｉｔ１処理室ユニット２とメッ
キ室ユニット１と後処理室ユニット３は、順次直線状に
配置されている。そ１．て第２１図に示すように、披メ
ッキ物４はｉＦ！処理室ｌの投入口５から投入され、搬
送装置６・・によ−）で構成される搬送機構により各処
理槽７・・・内を順次移送される。こうｊ７てメッギ室
ユニシト１ζ４：送られノニ披メッキ物４は、第２２図
に示十ように、同軸的に設けられたホルダー９，１０に
よ、）でその両端から挟まれた状態でメッキ浴室＋ｉ内
？、二収容される。そ（７てメッキ浴室１１内周に設け
られ）こＴ１極１２とホルダー９あるいは１０＋こ通電
すると共に、メッキ浴室１１に図中矢印ａで示すように
、メッキ液を高速で流動させることによって、披−メッ
キ物４にメッキを施す。ついで、このように、メッキ処
理された披メッキ物４は、後処理室ユニット３に設＋、
＋られた搬送装置６・・・によって後処理室ユニット３
の各処理槽８・・を順次移送されて後処理されたあと、
排出０１３から取り出される。

［発明が解決しようとする課題−ｊこのメッキ装置によれば、生産加工ラインのピッ千タイ
ムに同期した高速メッキ処理が可能なので、生産加工ラ
イン内に設置できる利点がある。

ところで生産加工ライン内に設置される装置は、より−
層のコンパクト化と生産性の向上が要求される。

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、よりコンパ
クトで、生産性の高いメッキ装置を提供することを目的
とする。

］−課題を解決するための手段」本発明のメッキ装置では、複数の処理槽を円弧状に配置
し、被メッキ物を搬送する搬送機構を前記円弧の中心を
回動中心として回動しかつ−Ｌ下動するように構成Ｌ７
、さらに被メッキ物を供給する供給機構と、メッキ処理
された被メッキ物を搬送機構から取り出す取外し機構を
設けることによって、前記目的を達成した。

前記処理槽の水手断面形状を台形状にすると、処理槽を
最も無駄無く配置できる。

またこれら各処理槽には処理剤供給装置を連設して、処
理剤を供給することか望ましい。

さらに、メッキ時に被メッキ物に通電する回路は、６１
１記搬送機構を介１．て構成されることが望ましい。

［−作用　」このような構成のメッキ装置ｌこあっては、まず供給機
構から送られてきた被メッキ物を搬送機構で保持する。

搬送機構は、被メッキ物を保持した状態で、下動して第
１の処理槽に被メッキ物を浸漬オる。第１の処理槽で披
メッキ物の処理が終了すると、搬送機構は−１−動して
被メッキ物を第１の処理槽から引き」二げる。このあと
搬送機構は所定角度回動１．て、第２の処理槽−にに被
メッキ物を移動させる。ついで搬送機構は、下動して被
メッキ物を第２の処理槽に浸漬する。第２の処理槽での
処理が終了すると、搬送機構は再び上動して第２処理槽
から被メッキ物を引き上げる。

以上の動作を繰り返しながら搬送機構により披メッキ物
を搬送して円弧状に配置された各処理槽での処理が終了
すると、取外し機構により披メッキ物が搬送機構から取
り出されて、メッキ処理が完ｒする。

Ｉ−一実施例１（実施例１）以下、本発明のメッキ装置の一実施例を説明する。

第１図は、このメッキ装置を示す平面図である。

このメッキ装置には、メッキ処理を施すために必要な９
台の処理槽、すなわち電解脱脂槽２＋、水洗槽２２・・
・、酸洗１１Ｆ２３およびメッキ槽２４と、披メッキ物
４を保持（７て搬送する搬送機構２６と、該搬送機構２
６に被メッキ物４を供給する供給機構２８と、メッキ処
理された披メッキ物４を搬送機構から取り出す取外１２
機構２９とによって概略構成されている。

このメッキ装置では、９台の処理槽２１．２２・・・、
２３．２４が電解脱脂槽２１、水洗槽２２，２２、酸洗
槽２３、水洗槽２２，２２、メッキ槽２４、水洗１２２
．２２の順に時計回りに円弧状に配置されている。これ
らの処理槽２１，２２２３．２４は、円弧を１２等分し
た各ブロックに入るように、水平断面はぼ台形状に形成
されており、台形の斜辺か接するように配置されている
。

そ１−２て、前記円弧を１２等分した各ブロックのうち
連続する９ブロツクには前記処理槽２１．２２・・・、
２３．２４が前記の順序で配置され、残る３ブロツクの
部分には後述する供給機構２８と取外１゜機構２９が配
置されている。またこれらの槽２Ｉ２２・・、２３．２
４は、第２図に示すように、支持台２６」二に設置され
ている。

電解脱脂槽２１は、披メッキ物４に前処理である電解脱
脂処理を施す処理槽で、第３図、第４図および第５図に
示１ように、外箱３０とバイブ３１と電極３２によって
概略構成されている。外箱：う０は、水平断面がほぼ台
形の中空直方体状に形成されている。この外箱３０の蓋
板３３には、被メッキ物４を挿入するための挿入口３４
が穿設されている。またこの外箱３０の底板３５には、
排水ｒｌ　３６が穿設されている。この排水口３６は、
後述する脱脂液貯槽３７に回収管を介して接続さイ１て
いる。さらに外箱３０の底板３５には、前記バイブ３１
がｑ設されている。バイブ３１は、その中空部分が外箱
３０の挿入口３４の真下に位置するように配置されてい
る。このバイブ３１の上端と外箱３０の盈板３３との間
は、離間されている。このバイブ３１の中空部の、Ｊ二
部には、前記電極３２が収容されている。この’１１３
２はステンレス調によって形成されている。またバイブ
３１の下部には、後述する脱脂液貯液＄ＩＦ５７からの
処理液供給管を接続するための接続部３８が設けられて
いる。

前記水洗１２２は、前処理あるいは後処理としての水洗
いを行なう槽である。また前記酸洗槽２３は、前処理と
しての酸洗いを行う槽である。これらの１１７２２．２
３は同一の構造であって、第６図、第７図、第８図に示
すように構成されている。

（なおこれら水洗槽２２と酸洗槽２３の構造は、前記１
解脱脂槽２１と類似した構造なので、同一構成部分には
同一の符号を付して説明を簡略化する）。

この水洗槽２２（酸洗槽２３）は、外箱３０とバイブ４
０とによって概略構成されている。バイブ４０は中空部
が大径に形成されており、その下部周壁には逃がし穴４
１．４１が穿設されている。

またバイブ４０の下端には、接続部３８が連設されてい
る。水洗槽２２の場合、この接続部３８は水道管に接続
される。また外箱３０の排水口３６は排水路に接続され
る。他方酸洗槽２３の場合、接続部３８には後述する酸
洗い用薬液貯槽４３からの処理液供給管が接続され、外
箱３０の排水口３６には酸洗い薬液貯槽４３からの回収
管が接続される。

＋ｉｉｊ記メッキ槽２４は、前処理された被メッキ物４
に電解メッキを施す処理槽である。このメッキＷ！２４
は、第９図、第１Ｏ図および第１１図に示す構造となっ
ている。（なおこのメッキ槽２４の構造は、前記電解脱
脂槽２１と類似した構造なので、同一構成部分には同一
の符号を付して説明を簡略化する）。

メッキ槽２４は、外箱３０とメッキ浴部４５と−Ｌ部電
極４６、下部電極４７とによって概略構成されている。

メッキ浴部４５は、」下パイプ部材４９と下パイプ部材
５０とから形成されている。これらバイブ部材４９．５
０は連設された状態で外箱３０の底板３５に立設されて
いる。上ペイプ部材４９の内周には、上部電極４６が嵌
め込まれている。また下パイプ部材５０の上部内周には
、前記上部電極４６と若干離間して下部電極４７が嵌め
込まれている。そして電極４６．４７に囲まれた空間は
メッキ浴室５１とされている。これら電極４６．４７は
、チタン製の筒体からなるもので、その表面にはメッキ
液による腐食を防止すると共に通電を良くするために電
気抵抗の少ない白金メッキか施されている。これら電極
４６．４７の内径は、メッキ浴室５１に挿入された被メ
ッキ物４との間に生じるスキマが、５．０ｍｍ以下にな
るように設定されている。このスキマが５．Ｏｌを越え
ると、メッキ液の流速が小さくなりメッキ速度が低下す
る不都合がある。これら電極４６．４７は、それぞれリ
ード５２．５３を介して電源の陽極に接続されている。

ｉｔＩ記下パイプ部材５０の下部には接続部３８が連設
されており、この接続部３８には後述するメッキ液貯Ｆ
ｆ１５５からの処理液供給管が接続されている。また底
板３５に設けられた排水口３６．３６は、回収管を介し
てメッキ液貯博５５と接続されている。

前記搬送機構２６は、第１図および第２図に示すように
、駆動装置６０と回動盤６１と保持ユニット６２・・・
とによって概略構成されている。

搬送機構２６の駆動装置６０は、回動盤６１を所定角度
（この例では３０度）づつ回動させると共に上下動せし
めるもので、前記処理槽２１．２２・・・、２３．２４
の配置された円弧の中心にその駆動ｆＩＩＩ６３か位置
するように配置されている。

また前記回動盤６１は、保持ユニット６２を支持するも
ので、駆動装置６０の駆動軸６３に取り付けられている
。またこの回動盤６１は前記処理槽２１．２２・・・、
２３．２４の」ニガに配置されている。

前記保持ユニット６２は、披メッキ物４を保持するもの
で、回動盤６Ｉの外周側に３０度間隔で１２個設けられ
ている。またこれら保持ユニット６２・・・の回転中心
からの距離は、これら保持二ニット６２・・・を結んで
できる円が、前記処理槽２１゜２２・・・、２３．２４
の挿入口３４・・・を結ぶ円弧と合致するように設定さ
れている。

この保持ユニット６２は、第１２図に示すように被メッ
キ物４の一端の内部に緊密に挿入される黄銅製コレット
６５と、このコレット６５が螺合された黄銅製の接続ロ
ッド６６と、この接続ロッド６６が取り付けられた黄銅
製の軸部６７と、この軸部６７の上端に設けられた黄銅
製の受電ブロック６８と、前記接続ロッド６６の下端部
分をメッキされないように覆う、樹脂製のカバー６９と
によって構成されている。前記軸部６７の下端はっは状
に形成されており、前記処理槽２１．２２・・・２３．
２４の挿入口３４を閉止するシール置部７０となってい
る。この保持ユニット６２は、軸部６７に装着された樹
脂製の絶縁筒７Ｉを介して前記回動盤６１に上下に摺動
可能に取り付けられている。またこの保持ユニット６２
は、そのシール蓋部７０と前記絶縁筒７！のフランジと
の間に配置されたスプリング７３によって下方に付勢さ
れている。

前記供給機構２８は、前記搬送機構２６に披メッキ物４
を供給するもので、第１図に示すように前記電解脱脂槽
２１の近傍に配置されている。また１１ｊ記取外し機構
２９は、メッキ処理された被メッキ物４を前記搬送機構
２６から取り出ずもので、円弧状に配置された処理１２
１．２２・・・、２３．２４の終端の水洗槽２２の近傍
に設けられている。

これら供給機構２８と取外し機構２９は、第１３図、第
１４図および第１５図に示すように、水平方向に回転す
る回転ユニット８０と、この回転ユニット８０上に取り
付けられた昇降ユニット８Ｉと、この昇降ユニット８Ｉ
に設けられた進退ユニット８２と、この進退ユニット８
２に設けられた被メッキ物４を把持するクランプアーム
８３とによって概略構成されている。

よたこのメッキ装置おいては、第１図に示すように、供
給機構２８の側部にコンベアー８５が配置されている。

−支たコンベア８５の供給機構２８に近い端部には、コ
ンベアー８５から送られてきた披メッキ物４を起立させ
るための、起立セット器８６が設けられている。

他方取外し機構２９の側部には、メッキ処理の完了した
被メッキ物４を収容する回収ボックス８８が配置されて
いる。

前記電解脱指槽２１とメッキ漕２４の部分には、第１図
に示すように、給電ユニット９０．９０が設けられてい
る。この給電ユニット９０は、第２図に示すように、上
下動４°ろエアーシリンダ９１と、このエアーシリンダ
ー９１のピストンロッド９２に絶縁材を介して取り付け
られた銅製の給電ブロック９３とによって概略構成され
ている。そして給電ブロック９３は、図示しない電源に
電気的に接続されている。

第１図に示すように、前記９台の処理槽２１゜２２・・
・、２３．２４のうち水洗槽２２には、水道管と排水路
が接続されている。また電解脱指槽２Ｉには、脱脂液貯
槽３７とポンプ９７からなる処理剤供給装置が接続され
ている。この脱脂液貯槽３７は、ｗ４ｍ強化プラスチッ
ク（ＦＲＰ）製の容量２０ρのもので、電解脱脂処理に
必要な処理剤が収容されている。またこの脱脂液貯槽３
７には、電気ヒータと温度計か取り付けられており、収
容された処理剤は約５５±５℃に保たれている。

また酸洗槽２３には、酸洗い薬液貯ｔｌＦ４３とポンプ
９８からなる処理剤供給装置が接縮されている。酸洗い
薬液貯槽４３は、ＦＲＰ製の容量２０Ｑの槽で、酸洗い
に用いられる処理剤が収容されている。またこの酸洗い
薬液貯槽４３には、電気ヒータと温度計か取り付けられ
ており、収容された処理剤は約５５±５℃に保たれてい
る。

Ａｉｊ記メゾキ槽２４には、メッキ液貯槽５５とポンプ
９９とからなる処理剤供給装置が接続されている。メッ
キ液貯槽５５は、ＦＲＰ製の容量４０ａの博で、メッキ
に用いられる処理剤が収容されている。またこのメッキ
液貯槽５５には、ボイラーと温度計が取り付けられてお
り、収容されたメッキ液は約８０±５℃に保たれている
。またこのメッキ貯槽５５には、第１、第２、第３薬液
管理ＩＩ０１．１０２．＋　０３が接続されている。第
１薬液管理槽１０１には、硫酸ニッケル（Ｎ　ｉＳ　Ｏ
、）と塩化ニッケル（ＮｉＣ（Ｌ）とホウ酸（ＨｓＢ　
Ｏ３）の混合液が収容されている。第２薬液管理槽１０
２には、ＰＨ８整に用いる炭酸ニッケル（ＮｉＣＯ３）
が収容されている。第３薬液管理槽１０３には光沢剤が
収容されている。そしてこれら第１ないし第３薬液管理
！１０１，１０２．＋　０３に収容された薬液は、メッ
キ液貯１５５に設けられた積算電流計やＰ　Ｈメータ、
レベル計等によってメッキ液貯槽５５のメッキ液の組成
や液量が所定の管理値から外れたことが検知された場合
に、必要に応じてメッキ貯槽５５に注入されるようにな
っている。

面記脱脂液貯１３７、酸洗い薬液貯１４３、メッキ液貯
ｔ＊５５および第１〜第３薬液管理槽１０１゜１０２．
１０３は、第１図および第２図に示すように、このメッ
キ装置の基台１０５を囲むように配置されている。

つぎに、このメッキ装置の動作を、略円筒状の被メッキ
物４にメッキ処理する場合を例に取って説明する。

第１図１こ示ｔようＩこ、生産加工ラインの前工程から
送られてきた被メッキ物４は、コンベアー８５に載せら
れる。コンベアー８５で搬送されて来た披メッキ物４は
、コンベアー８５の曲端に設置された起立セット器８６
によって起立される。

起立された披メッキ物４は、供給機構２８のクランプア
ーム８３によって把持される。被メッキ物４を把持した
供給機構２８は、第１図中−点鎖線で示４−ように旋回
して、第１６図に示すように搬送機構２６の保持ユニッ
ト６２の下方に披メッキ物４を移動させる。このあと供
給機構２８のクランプアーム８３が上昇せしめられると
、第１２図に示すように、被メッキ物４の中空部分に搬
送機＋Ａｌ２６の保持ユニット６２のコレット６５か嵌
入して、被メッキ物４が保持される。被メッキ物・１が
装着された搬送機構２６は、まず３０度回動したあと下
降して、第３図に示すよう１．：被メッキ物４を電解脱
脂槽２１に挿入する。このとき被メッキ物４は、外箱３
０の挿入口３４からパイプ３１内に挿入される。そして
外箱３０の挿入口３４は、保持ユニット６２のシールＭ
部７０によって閉止される。

このように被メッキ物４が挿入された電解脱脂１’ｌ’
！２１には、電解脱脂液貯＄ｗ３７から脱脂液が供給さ
れる。供給された脱脂液は電解脱脂槽２１のパイプ３１
内を噴流状態で上昇して、ついでパイプ３１の上端開口
から外箱３０内に流下し、排水口３６から電解脱脂液貯
ＷＩ３７に返送される。

このように電解脱脂槽２１に脱脂液を供給したあと、電
解脱脂＄１１２１の電極３２と被メッキ物４に通電する
。被メッキ物４への通電は、搬送機構２６の保持ユニッ
ト６２を介して行なわれる。すなイつち、第１図に示す
ように電解脱脂槽２１上に配置された給電ユニット９０
の給電ブロック９３を下降させて、第２図に示すように
保持ユニット６２の受電ブロック６８に当接さ什る。す
ると保持ユニット６２は黄銅製なので、披メッキ物４に
通電することができる。

以−Ｌのようにして披メッキ物４の電解脱脂処理が終了
した後、搬送機構２６の回動盤６１を−Ｌ動させる。す
ると披メッキ物４が電解脱脂槽２１から引３キにげられ
る。ついで搬送機構２６の回動盤６１を３０度回動させ
ろ。すると保持されている被メッキ物４は、電解脱指槽
２１に隣接する水洗槽２２上に移動される。このあと搬
送機構２６の回動盤６１を再び下動さＵ”る。すると第
６図に示すよ・うに、被メッキ物４が水洗槽２２のバイ
ブ４０内に挿入される。被メッキ物４が挿入されると、
水洗槽２２のバイブ４０には、水道管から洗浄水が噴流
状態となるように供給される。供給された洗浄水はバイ
ブ４０の上端から、外箱３０内に流下１．て排水Ｌ１３
６から排水路に排出される。

水洗処理が終了すると、水洗槽２２のバイブ４０への洗
浄水の供給が停止される。すると、パイプ４０内の水は
バイブ４０のＦ部に穿設された逃が１７穴４１から流出
し、パイプ４０内の水位が低下して、披メッキ物４の水
切りが行なわれる。

このようにして水切りされた被メッキ物・１は、搬送機
構２６の回動盤６１を上動させることによって水洗槽２
２から引き出される。このあと搬送機槽２６の回動盤６
１を再び３０度回動させ、ついで下動さｌ゛ることによ
って、被メッキ物４は前記水洗槽２２に隣接する第２の
水洗槽２２に送られ、より完全な水洗処理が施される。

この第２の水洗槽２２での処理が完了すると、披メッキ
物４は、搬送機構２６によって隣接する酸洗１２３に送
られる。

酸洗槽２３では、酸洗い薬液貯槽４３からバイブ４０に
供給される処理剤によって酸洗い処理が行なイつれる。

この工程は、面記水洗槽２２での水洗処理と同様に行な
われるので、説明を省略する。

酸洗槽２３での処理が完了すると、被メッキ物４は搬送
機構２６によって隣接する第３の水洗槽２２、第４の水
洗槽２２に順次送られる。

第４の水洗槽２２で水洗処理された被メッキ物４は、搬
送装置２６の回動盤６Ｉを上動、３０度回動、下動さ廿
ることによって、第９図に示すように、メッキ槽２４の
メッキ浴室５Ｉに収容される。披メッキ物４がメッキ浴
室５１に収容されると、保持ユニット６２の軸部６７の
シール蓋部７０によって外箱３ｏの挿入口３４が閉止さ
れる。

ついで披メッキ物４が挿入されたメッキｌｆｆ２４のメ
ッキ浴室５１には、メッキ液貯槽５５からメッキ液が噴
流状態となるように供給される。供給されたメッキ液は
メッキ浴部４５の上部からオーバーフローして、外箱３
ｏ内に流下しついで排水口３６からメッキ液貯槽５５に
返送される。メッキ端２１１に注入されるメッキ液は、
所定温度（７０°Ｃ以」二）に加温されていることが望
ましい。

このようにメッキ槽２４にメッキ液を供給した後２〜３
秒遅れて、前記電解脱脂槽２１の場合と同様第２図に示
すように、給電ユニット９ｏの給１ブロック９３を下降
させて保持ユニット６２の受電ブロック６８に当接させ
て、保持された被メッキ物４に通電する。またこの際メ
ッキ槽２４の上部電極４６と下部電極４７の両方に通電
するが、上部電極４６のみに通電するかは、被メッキ物
４の長さに応じて決定される。すなわち被メッキ物４が
短い場合には上部電極４６のみに通電し、被メッキ物１
１が長く上部電極４６より下方に達す場合には下部電極
４７にも通電する。

このようにしてメッキ処理が完了すると、給電ユニット
９０の給電ブロック９３を一ヒ昇させたのち、搬送機構
２６の回動盤６１を上昇させて、披メッキ物４をメッキ
槽２４から引き」二げる。

被メッキ物４が引き上げられたのち、搬送機構２６の回
動盤６１を再び３０度回動させついで下動させることに
よって、披メッキ物４はメッキ槽２４に隣接する第５の
水洗槽２２に送られて水洗処理され、ついで第６の水洗
槽２２に送られて再び水洗処理され、メッキ処理が完了
する。

第６の水洗槽２２から引き上げられた披メッキ物４は、
搬送機構２６の回動盤６１か３０度回動されることによ
って、取り外し位置に移動される。

取り外し位置では、被メッキ物４が取外し機構２９のク
ランプアーム８３によって把持される。

そして、第１６図に示すようにクランプアーム８３か昇
降ユニット８１によって下動されると、被メッキ物４が
保持ユニット６２のコレット６５から外される。外され
た披メッキ物４は、回収ボックス８８に収容される。

以上の説明では、１箇所の保持ユニット６２に保持され
た被メッキ物４に施される処理を順に説明１．たが、こ
のメッキ装置では各保持ユニット６２・・・に順次被メ
ッキ物４・・・が取り付１ｊられ、同時に多数の被メッ
キ物４・・・が処理される。

このメッキ装置においては、複数の処理槽２１゜２２・
・・、２３．２４が円弧状に配置されているので、狭い
スペースに多数の槽を配置することができ、装置をコン
パクト化することができる。特にこのメッキ装置では、
処理槽２１．２２・・・、２３．２４がほぼ台形状に形
成されているので、処理槽２１゜２２・・・、２３．２
４を無駄無く配置することができ大幅なコンパクト化を
達成することができた。

またこのメッキ装置においては、搬送機構２６の回動盤
６１が前記円弧の中心を回動中心として回動すると共に
上下動するように構成され、これによりｉＦＩ記複数の
処理槽２＋、２２・・・、２３．２４に披メッキ物４を
順次搬送することとしたので、処理槽２１．２２・・・
、２３．２４に囲まれた箇所に、搬送機構２６を収める
ことかでき、これによってｔ、装置のコンパクト化を図
６ることかできた。

土たこのメッキ装置には、被メッキ物４を搬送機構２６
に供給する供給機構２８と、゛メッキ処理された披メッ
キ物４を搬送機構２６から取り出す取外し機構２９が設
けられているので、生産加工ラインの前工程とドキング
（７て、ライン内に設置することができろ。

またこのメッキ装置においては、各処理槽２１゜２３．
２４に、貯槽３７，４３．５５などからなる処理剤供給
装置を連設して、必要に応じて処理剤を供給するように
したので、処理槽２＋、２３．２４をより小型化できた
。

またこのメッキ装置では、電解脱脂槽２１のパイプ３１
、酸洗槽２３のバイブ４０、メッキｌ１ｉｖ２４のバイ
ブ部材４９．５０と各貯槽３７，４３．５５とが接続さ
れており、各パイプ部材３１，４０゜４９．５０に内に
貯槽３７，４３．５５から処理剤を供給Ｌ　’７Ｃオー
バーフローさせながら被メッキ物４の処理を行うことと
したので、少量の処理剤で各処理を実施できる。従って
このメッキ装置においては、貯槽３７．４３．５５を小
型化でき、大幅なコンパクト化を達成できた。加えて処
理剤の更新９（を大幅に減らすことができ、メッキ処理
コストを低減することができた。

さらにこのメ・ツキ装置では、メッキ処理の際、搬送機
構２６の保持ユニット６２を介して被メッキ物４に通電
されるので、通電回路が簡素な構造となる利点がある。

またこのメッキ装置では、水洗槽２２（酸洗槽２３）を
構成するバイブ４０の下部に逃がし穴４１が設けられて
いるので、バイブ４０への処理水の供給か停止二されろ
と、パイプ４０内の処理水がバイブ４０の逃がし穴４夏
から流出して、バイブ４０内の水位が即座に低下する。

従ってこのメッキ装置では、被メッキ物４を上昇させな
くとも水洗処理（酸洗い処理）を終了させて水切りを行
うことができる。よって、処理水の供給を早期に停止す
ることにより、水切りをより完全に？）っで処理液の持
ち出しを減らずことかできる。また、水洗処理（酸洗い
処理）の時間を、メッキ処理時間に影響を与えることな
く短縮することができるので、装置の運転制御が容易と
なる。

さらにこのメッキ装置では、メッキ槽２４に上部電極４
６と下部電極４７を設けたので、被メッキ物４の長さに
応じて通電範囲を変更できる。従ってこのメッキ装置は
、長さの異なる被メッキ物４・を処理できる融通性のあ
るらのとなる。

またさらにこのメッキ装置では保持ユニット６２のコレ
ット６５に被メッキ物４の一端を嵌め込んで、披メッキ
物４を保持するようにしたので、被メッキ物４の外周面
全体をもメッキ液と接触させることができる。従って、
このメッキ装置によれば被メッキ物４の外面全体にメッ
キすることができる。

また、この例のメッキ装置では、メッキ槽２４のメッキ
浴室５Ｉにメッキ液の供給を開始した後、若干遅れて給
電ユニット９０を下降させて披メッキ物４に通電するの
で、メッキ液の流動状態が安定したところでメッキを開
始できる。従って、このメッキ装置によれば良好なメッ
キを行うことができる。

（実施例２）第１７図ないし第１９図は、本発明のメッキ装置に設置
されろメッキ＄１２４の他の例を示すものである。

このメッキ槽２４は、前記実施例１で用いた装置とメッ
キ浴部４５の構造が異なっている。このメッキｆ！２４
のメッキ浴部４５は、外客１１５０と網筒電極１５＋と
多数の金属粒子１５２・・・によって構成されており、
網筒電極１５１の内側はメッキ浴室５Ｉとなっている。

前記外容器＋５０は内径の大きな筒状のもので、チタン
によって形成されている。前記網筒電極１５１は、チタ
ン製の網によって形成された円筒状のものである。この
網筒電極１５１は、その中心軸線が下パイプ部材５０の
中心軸線の延長線上に重なるように、１Ｉ７１記外容ｔ
ｊ　１５０内に配置されている。そして、この網筒電極
１５１と前記外容器１５０との間には前記金属粒子１５
２・・・か充填されている。この金属粒子１５２には、
メッキ金属によって形成されたものが用いられている。

例えば披メッキ物４にニッケルメッキを施す場合には、
純ニッケルによって形成された金属粒子＋５２が用いら
れる。この金属粒子１５２・・・には、直径５ｍｍ−１
０ｎｕｓ程度のものが好適に用いられる。そして、前記
網筒電極１５１とこの金属粒子１５２とは、メッキ作業
時に陽極を構成する。

このメッキＩ！２４のメッキ浴室５１の下部には、網筒
電極１５１の下端部を覆うようにマスク板Ｉ５４が配置
されている。このマスク板１５４は、被メッキ物４が短
い場合に利用されるもので、披メッキ物４が長い場合に
は取り外される。

次ぎに、このメッキ槽２４の作用を説明する。

まずこのメッキ槽２４では、搬送機構２６の保持ユニッ
ト６２に保持された被メッキ物４がこのメッキ槽２４の
メッキ浴室５１に収容されると、メッキ液貯槽５５から
メッキ液が供給される。

すると、メッキ液が金属粒子１５２・・・間に流入する
。この状態で網筒電極＋５１に通電すると金属粒子１５
２・・・自体ら陽極となる。

次ぎに電源の陰極に接続された給電ユニット９０の給電
ブロック”９３を下降させ、保持ユニット６２を介して
披メッキ物４に通電すると、陽極を構成する前記金属粒
子＋５２・・・は金属イオンとなって溶解し、網筒電極
１５１を通過して被メッキ物７１に到達して、被メッキ
物４の表面にメッキされる。

この例のメッキ槽２４では、網筒型ｔｆｉ１５１の外周
部に金属粒子＋５２・・が充填されているので、披メッ
キ物４に近接して設ける必要のある陽極の損傷を防止で
きる。ずなイっちこの例のメッキ槽２・１においては、
挿入時に被メッキ物４がずれて網筒電極＋５１に当たっ
ても、金属粒子１５２・・・が浮動して網筒電極１５＋
の変形を吸収する。その結果、網筒電極１５１と金属粒
子＋５２・・・からなる陽極の損傷か防止される。よっ
てこのメッキ槽２４によれば、メッキ品質の安定化を図
ることができると共にトラブルを減らしてメンテナンス
８見とし、ひいてはメッキコストの低減を図ることがで
きる。

またこのメッキ槽２４では、陽極となる金属粒子１５２
・・・にメッキ金属を用いたので、漸次消費されるメッ
キ金属がメッキ液中に自ずと供給される。よってメッキ
液の管理が容易となる。

さらにこの例のメッキ方法では、被メッキ物４が短い場
合にはマスク板１５４をメッキ浴室５１内に収容し、披
メッキ物４か長い場合はマスク板１５４を取り出してメ
ッキを行うので、長さの異なる披メッキ物４を同一のメ
ッキ装置で処理することができる。

「発明の効果」以上説明したように本発明のメッキ装置は、メッキ処理
を施すための複数の処理槽が円弧状に配置され、被メッ
キ物を搬送する搬送機構が前記円弧の中心を回動中心と
して回動すると共に一ヒ下動するように構成され、さら
に披メッキ物を供給する供給機構と、メッキ処理された
披メッキ物を搬送機構から取り出す取外（７機構が設け
られたものなので、挟いスペースに多数の処理槽を配置
買し、その処理槽に囲まれた空間に搬送機構を収めるこ
とができる。従って本発明のメッキ装置は、極めてコン
パクトなものとなる。

また本発明のメッキ装置は、供給機構および取外し機構
か設けられているので、生産加工ラインの前工程とドキ
ングして、ライン内に設置することかで３きる。従って
本発明のメッキ装置は、極めて生産性の良いものとなる
。

また処理槽の水平断面形状が台形状とされたメッキ装置
にあっては、処理槽を最も無駄無く円弧状に配置でき、
大幅なコンパクト化を達成することができる。

またこれら処理槽に処理剤供給装置を連設したメッキ装
置にあっては、処理槽をより小型化して、装置全体をコ
ンパクト化することができる。

さらに搬送機構を介して披メッキ物に通電する回路か構
成されメッキ装置においては、メッキ処理の際、通電回
路を簡素な構造とすることができろ１１点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のメッキ装置の一実施例を示す平面図、第２図は同実施例を示す正面図、第３図ないし第５図は同実施例の電解脱脂槽を示すもの
で、第３図は奥行き方向に沿う縦断面図、第４図は水平
断面図、第５図は幅方向に沿う縦断面図、第６図ないし第８図は同実施例の水洗槽および酸洗槽を
示すもので、第６図は奥行き方向に沿う縦断面図、第７
図は水平断面図、第８図は側面図、第９図ないし第１１
図は同実施例のメッキ槽を示すしので、第９図は奥行き
方向に沿う縦断面図、第１Ｏ図は水平断面図、第１１図
は幅方向に沿う縦断面図、第１２図は第２図中のＡ部を拡大して示す断面図、第１３図ないし第１５図は同実施例の供給機構および取
外し機構を示すしので、第１３図は正面図、第１４図は
上平面図、第１５図は側面図、第１６図は同実施例の要
部を示す側面図第１７図ない１．第１９図は同実施例の
メッキ槽を示すしので、第１７図は奥行き方向に沿う縦
断面図、第１８図は水平断面図、第１９図は幅方向に沿
う縦断面図、第２０図ないし第２２図は従来のメッキ装置を示すらの
で、第２０図は全体を示す斜視図、第２１図はメッキ室
ユニット、面処理室ユニットおよび後処理室ユニットの
概略の構成を示す構成図、第２２図はメッキ室ユニット
の要部を示す断面図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）複数の処理槽と、被メッキ物を保持する搬送機構
と、該搬送機構に被メッキ物を供給する供給機構と、メ
ッキ処理された被メッキ物を搬送機構から取り出す取外
し機構とを備えたメッキ装置であって、前記複数の処理槽が円弧状に配置され、前記搬送機構が
前記円弧の中心を回動中心として回動すると共に上下動
するように構成されたことを特徴とするメッキ装置。
（２）前記処理槽の水平断面形状がほぼ台形とされ、各
処理槽には処理剤供給装置が連設されると共に、メッキ
時に被メッキ物に通電する回路が前記搬送機構を介して
構成されることを特徴とする請求項１記載のメッキ装置
。