JPH02227424A - 透明性重合体の製造方法 - Google Patents
透明性重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPH02227424A JPH02227424A JP4663989A JP4663989A JPH02227424A JP H02227424 A JPH02227424 A JP H02227424A JP 4663989 A JP4663989 A JP 4663989A JP 4663989 A JP4663989 A JP 4663989A JP H02227424 A JPH02227424 A JP H02227424A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- solvent
- tables
- formulas
- chemical formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 126
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 41
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 20
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 9
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N tetracyclo[6.2.1.1(3,6).0(2,7)]dodec-4-ene Chemical class C1C(C23)C=CC1C3C1CC2CC1 XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 63
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 21
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 14
- WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N (E)-3-dodecene Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CC WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N 0.000 description 13
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- -1 cyclic olefins Chemical class 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 2-heptene Natural products CCCCC=CC OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 3
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- JFNLZVQOOSMTJK-UHFFFAOYSA-N norbornene Chemical class C1C2CCC1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylcyclohexane Chemical compound CC1(C)CCCCC1 QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTTZHAVKAVGASB-HYXAFXHYSA-N 2-Heptene Chemical compound CCCC\C=C/C OTTZHAVKAVGASB-HYXAFXHYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;iodide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[I-] VXWPONVCMVLXBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002848 norbornenes Chemical class 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- SHWZFQPXYGHRKT-FDGPNNRMSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;nickel Chemical compound [Ni].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O SHWZFQPXYGHRKT-FDGPNNRMSA-N 0.000 description 1
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1 -dodecene Natural products CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYCGBAJADAGLLK-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclohepten-1-yl)cycloheptene Chemical class C1CCCCC=C1C1=CCCCCC1 QYCGBAJADAGLLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.OCC(CO)(CO)CO GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICWBBJDMILYKKH-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(carboxymethyl)-2-bicyclo[2.2.1]hept-5-enyl]acetic acid Chemical compound C1C2C(CC(=O)O)C(CC(O)=O)C1C=C2 ICWBBJDMILYKKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSCIDCVEEKEQCR-UHFFFAOYSA-N 2-methylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-3-carbonitrile Chemical compound C1C2C=CC1C(C)C2C#N RSCIDCVEEKEQCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPNSIARSTUPGS-UHFFFAOYSA-N 2-n,4-n,6-n-trichloro-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound ClNC1=NC(NCl)=NC(NCl)=N1 KEPNSIARSTUPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- VLQXWRYOWBDKHZ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl)-1-methylcyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound C1C(C)(C(O)=O)CCCC1C1(C=C2)CC2CC1 VLQXWRYOWBDKHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPIHDDVSYYEKEL-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1(C(C)(C)C)CC2C(O)=O JPIHDDVSYYEKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXAGTBGHRQGFLR-UHFFFAOYSA-N 5-(2-bromoethyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(CCBr)CC1C=C2 YXAGTBGHRQGFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCDJEPZLSGMJSM-UHFFFAOYSA-N 5-(bromomethyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(CBr)CC1C=C2 XCDJEPZLSGMJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRWRVXAXXGJZIO-UHFFFAOYSA-N 5-bicyclo[2.2.1]hept-2-enyl acetate Chemical compound C1C2C(OC(=O)C)CC1C=C2 DRWRVXAXXGJZIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLSRLICOTNISRM-UHFFFAOYSA-N 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carbonitrile Chemical compound C1C2C(C)(C#N)CC1C=C2 YLSRLICOTNISRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 826-62-0 Chemical compound C1C2C3C(=O)OC(=O)C3C1C=C2 KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRGDZWVQEQFCQY-UHFFFAOYSA-N BrC=1C=CC=C(C1)C=1C2(CCC(C1)C2)C(=O)O Chemical compound BrC=1C=CC=C(C1)C=1C2(CCC(C1)C2)C(=O)O XRGDZWVQEQFCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBCAKUGTDNIYRF-UHFFFAOYSA-N C(=O)(O)C=1C=CC=C(C=1)C12C=CC(CC1)C2 Chemical compound C(=O)(O)C=1C=CC=C(C=1)C12C=CC(CC1)C2 PBCAKUGTDNIYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100184657 Caenorhabditis elegans mog-5 gene Proteins 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-2-naphthylamine Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1NC1=CC=CC=C1 KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBICYCZLCAMSBG-UHFFFAOYSA-L [Co+2].CCCCCC=CC([O-])=O.CCCCCC=CC([O-])=O Chemical compound [Co+2].CCCCCC=CC([O-])=O.CCCCCC=CC([O-])=O NBICYCZLCAMSBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007960 acetonitrile Chemical class 0.000 description 1
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMAXQTDMWYDIJX-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carbonitrile Chemical compound C1C2C(C#N)CC1C=C2 BMAXQTDMWYDIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTUUVDYQBLRAAC-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carboxamide Chemical compound C1C2C(C(=O)N)CC1C=C2 ZTUUVDYQBLRAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N cis-undecene Natural products CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,3-diene;dichlorotitanium Chemical compound Cl[Ti]Cl.C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical class [H]C#C* 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;bromide Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Br-] NXPHGHWWQRMDIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIEKYBOPAVTZKW-UHFFFAOYSA-L naphthalene-2-carboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21.C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21 UIEKYBOPAVTZKW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- SQYNKIJPMDEDEG-UHFFFAOYSA-N paraldehyde Chemical compound CC1OC(C)OC(C)O1 SQYNKIJPMDEDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003868 paraldehyde Drugs 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triacetate Chemical compound [Rh+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M rhodium;triphenylphosphane;chloride Chemical compound [Cl-].[Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enoxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OCC=C MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光学特性、耐熱性、耐候性、低吸水性、機械
的性質などの緒特性に優れた透明性重合体の製造方法に
関する。
的性質などの緒特性に優れた透明性重合体の製造方法に
関する。
近年において、透明性重合体は、自動車部品、照明機器
、電気部品、雑貨など通常の透明性が要求される成形材
料として使用される以外に、光学的性質を重要視する光
学材料として利用されてきている。光学材料として用い
られる重合体には、単に透明性のみならず、耐熱性、耐
候性、低吸水性および機械的性質に優れた高度の特性を
有することが要求されている。
、電気部品、雑貨など通常の透明性が要求される成形材
料として使用される以外に、光学的性質を重要視する光
学材料として利用されてきている。光学材料として用い
られる重合体には、単に透明性のみならず、耐熱性、耐
候性、低吸水性および機械的性質に優れた高度の特性を
有することが要求されている。
そして現在までに、好適な光学材料とされる重合体とし
て、テトラシクロドデセン系炭化水素化合物の単独また
はノルボルネン系炭化水素化合物によるメタセンス開通
(共)重合体を水素添加して得られる重合体(特開昭6
0−26024号公報)、ペンタシクロペンタデセンを
メタセンス開通重合して得られる重合体またはその水素
添加重合体(特開昭63−145324号公報)、極性
置換基を有するノルボルネン誘導体および/またはテト
ラシクロドデセン誘導体を重合し水素添加して得られる
(共)重合体(特公昭57−8815号公報、特願昭6
2・−288528号)などが提案されている。
て、テトラシクロドデセン系炭化水素化合物の単独また
はノルボルネン系炭化水素化合物によるメタセンス開通
(共)重合体を水素添加して得られる重合体(特開昭6
0−26024号公報)、ペンタシクロペンタデセンを
メタセンス開通重合して得られる重合体またはその水素
添加重合体(特開昭63−145324号公報)、極性
置換基を有するノルボルネン誘導体および/またはテト
ラシクロドデセン誘導体を重合し水素添加して得られる
(共)重合体(特公昭57−8815号公報、特願昭6
2・−288528号)などが提案されている。
光学材料として用いられる重合体において、透明性に加
えて更に上記のような高度の特性を得るためには、当該
重合体は、金属その他の不純物の含有量および未反応単
量体などの低分子量体の含有量が低いことが必要である
。このため、従来においては、メタセンス開通重合反応
によって得られる重合反応液を大量の貧溶媒中に投入し
て重合体の沈澱を生じさせ、この沈澱を更に同様の貧溶
媒で洗浄することにより金属よりなる触媒成分右よび低
分子量体を除去し、その後乾燥して目的とする重合体を
得るようにしており、必要があるときにはこの重合体を
更に適当な溶媒に溶解して水素添加を行う方法が採られ
ている。
えて更に上記のような高度の特性を得るためには、当該
重合体は、金属その他の不純物の含有量および未反応単
量体などの低分子量体の含有量が低いことが必要である
。このため、従来においては、メタセンス開通重合反応
によって得られる重合反応液を大量の貧溶媒中に投入し
て重合体の沈澱を生じさせ、この沈澱を更に同様の貧溶
媒で洗浄することにより金属よりなる触媒成分右よび低
分子量体を除去し、その後乾燥して目的とする重合体を
得るようにしており、必要があるときにはこの重合体を
更に適当な溶媒に溶解して水素添加を行う方法が採られ
ている。
しかしながら、このような方法においては、重合体の沈
澱および洗浄を行うために、通常、重合反応液の10重
量倍以上もの大量の貧溶媒が必要であり、重合反応液の
濃度は多くの場合に10%前後であるので、実に重合体
に対して100重量倍以上の貧溶媒を使用することが必
要となる。従って、上記の方法の工業的実施においては
、溶媒の回収のための設備が大規模となると共にユーテ
ィリイティー負荷が多大なものとなるという、大きな問
題点を有していた。
澱および洗浄を行うために、通常、重合反応液の10重
量倍以上もの大量の貧溶媒が必要であり、重合反応液の
濃度は多くの場合に10%前後であるので、実に重合体
に対して100重量倍以上の貧溶媒を使用することが必
要となる。従って、上記の方法の工業的実施においては
、溶媒の回収のための設備が大規模となると共にユーテ
ィリイティー負荷が多大なものとなるという、大きな問
題点を有していた。
本発明は、上記の問題について鋭意研究を重ねた結果、
特定の溶媒を用いてメタセンス開通重合反応を行った場
合には、得られる重合反応液にアルコールを加えるとア
ルコール相と重合体溶液相とに分離し、しかも重合反応
液中の触媒成分および未反応単量体などの低分子量体が
アルコール相に高い効率で抽出されるので、それらを実
質的に含有しない重合体溶液を単独に分離することがで
き、また使用するアルコールは少量で十分であることを
見出したこと、並びに上記の特定の溶媒のうちの特にあ
る種の溶媒を用いる場合には、分離した重合体溶液をそ
のまま水素添加反応に供することができることを見出し
たことによって完成されたものである。
特定の溶媒を用いてメタセンス開通重合反応を行った場
合には、得られる重合反応液にアルコールを加えるとア
ルコール相と重合体溶液相とに分離し、しかも重合反応
液中の触媒成分および未反応単量体などの低分子量体が
アルコール相に高い効率で抽出されるので、それらを実
質的に含有しない重合体溶液を単独に分離することがで
き、また使用するアルコールは少量で十分であることを
見出したこと、並びに上記の特定の溶媒のうちの特にあ
る種の溶媒を用いる場合には、分離した重合体溶液をそ
のまま水素添加反応に供することができることを見出し
たことによって完成されたものである。
本発明に係る透明性重合体の製造方法の特徴とするとこ
ろは、下記−故人(1)で表わされる少なくとも1種の
単量体またはこの単量体とこれと共重合可能な他の単量
体とを、下記溶媒Aおよび/または溶媒Bを用いてメタ
センス重合触媒の存注下にメタセンス開環重合させて得
られる重合反応液に、アルコールを加え、これにより、
触媒成分および低分子量体を含有するアルコール相と重
合体溶液相とを分離させ、この重合体溶液相の重合体溶
液から重合体を得ることを特徴とする。
ろは、下記−故人(1)で表わされる少なくとも1種の
単量体またはこの単量体とこれと共重合可能な他の単量
体とを、下記溶媒Aおよび/または溶媒Bを用いてメタ
センス重合触媒の存注下にメタセンス開環重合させて得
られる重合反応液に、アルコールを加え、これにより、
触媒成分および低分子量体を含有するアルコール相と重
合体溶液相とを分離させ、この重合体溶液相の重合体溶
液から重合体を得ることを特徴とする。
一般式(1)
〔式中AおよびBは水素原子または炭素数1〜lOの炭
化水素基であり、 )lよびYは水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、
ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数1〜1
0の炭化水素基、 +cH2)、C0OR’、+CH2)、0COR’、−
(CH,)、OR’、+CH,)1.CN。
化水素基であり、 )lよびYは水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、
ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数1〜1
0の炭化水素基、 +cH2)、C0OR’、+CH2)、0COR’、−
(CH,)、OR’、+CH,)1.CN。
+cH2)、C0NR2R’、+CH2)、C00Z。
+CH2)、0COZS+cH2)、02゜+cH2)
。WまたはXとYから構成されたXおよびYの少なくと
も1つは水素原子および炭化水素基から選ばれる基以外
の基【ここで、R1、R2、R3およびR4は炭素数1
〜20の炭化水素基、Zはハロゲン原子で置換された炭
化水素基、WはSiR’pDs−p(R’は炭素数1−
10の炭化水素基、Dはハロゲン原子、−0COR’ま
たは−OR’(R’は炭素数1〜10の炭化水素基を示
す)、pはθ〜3の整数を示す)、nはO〜lOの整数
を示す。)であり、 mはOまたは1である。〕。
。WまたはXとYから構成されたXおよびYの少なくと
も1つは水素原子および炭化水素基から選ばれる基以外
の基【ここで、R1、R2、R3およびR4は炭素数1
〜20の炭化水素基、Zはハロゲン原子で置換された炭
化水素基、WはSiR’pDs−p(R’は炭素数1−
10の炭化水素基、Dはハロゲン原子、−0COR’ま
たは−OR’(R’は炭素数1〜10の炭化水素基を示
す)、pはθ〜3の整数を示す)、nはO〜lOの整数
を示す。)であり、 mはOまたは1である。〕。
溶媒A:(1)脂環族飽和炭化水素および/または脂肪
族飽和炭化水素と、(2)ジアルキルグリコールエーテ
ルとの混合物 溶媒B:芳香族炭化水素 以下本発明について具体的に説明する。
族飽和炭化水素と、(2)ジアルキルグリコールエーテ
ルとの混合物 溶媒B:芳香族炭化水素 以下本発明について具体的に説明する。
本発明の方法によって得られる重合体は、上記一般式(
1)で表わされる単量体を単独で開通重合させて得られ
る重合体、当該単量体をこれと共重合可能な他の単量体
と共に開環共重合させて得られる共重合体およびこれら
の重合体または共重合体を水素添加して得られる水素添
加重合体である。一般に、これらの重合体の分子量は、
ポリスチレン換算による重量平均分子量で20.000
から700、000、特に30.000から500.0
00である。
1)で表わされる単量体を単独で開通重合させて得られ
る重合体、当該単量体をこれと共重合可能な他の単量体
と共に開環共重合させて得られる共重合体およびこれら
の重合体または共重合体を水素添加して得られる水素添
加重合体である。一般に、これらの重合体の分子量は、
ポリスチレン換算による重量平均分子量で20.000
から700、000、特に30.000から500.0
00である。
上記一般式(1)において、mの値が1であるテトラシ
クロドデセン誘導体の具体例としては、8−カルボキシ
メチルテトラシクロ[4,4,0゜12・5.17・1
°]−3−ドデセン、8−カルボキシエチルテトラシク
ロ[4,4,0゜1?、Il+] 3−ドデセン、 8−カルボキシn−プロピルテトラシクロ[4゜4.0
.1’・5.1’111]−3−ドデセン、8−カルボ
キシイソプロピルテトラシクロ[4゜4.0.1”’、
1””] −]3−ドデセン8−カルボキシn−ブチル
テトラシクロ[4,4゜0.1”’、1””] −3−
)’デセ7.8−カルボキシインブチルテトラシクロ[
4,4゜0.12°’、 1’10] −3−ドデセン
、8−カルボキシ5ec−ブチルテトラシクロ[4゜4
.0.12″%、 Iff、 I@ココ−−ドデセン、
8−カルボキシt−ブチルテトラシクロ[4,4゜0.
12・s、 it、 1°]−3−ドデセン、8−カル
ボキシフェニルテトラシクロ[4,4,0゜18°5.
11・10コー3−ドデセン、8−メチル−8−カルボ
キシメチルテトラシクロ[4,4,0,1”・5.11
・lコーク−ドデセン、8−メチル−8−カルボキシエ
チルテトラシクロ[4,4,0,1”・5.1″1°コ
ー3−ドデセン、8−メチル−8−カルボキシn−プロ
ビルテトラシク0 [4,4,0,1’−’、1”IO
3−3−)’fセン 8−メチル−8−カルボキシイソプロピルテトラシクロ
[4,4,0,1”・5.11・自6]−3−ドデセン
、 8−メチル−8−カルボキシn−プチルテトラシクO[
4,4,0,1”°’、 1” ”] −3−Yy’セ
ン、8−メチル−8−カルボキシ5ec−ブチルテトラ
シクロ[4,4,O,l”−’、 1’1°]−3−ド
デセ8−メチル−8−カルボキシt−プチルテトラシ9
CJ [4,4,0゜1”’、1”lo] −3−ドデ
セン、8−カルボキシブチル−9−7エニルテトラシ9
0 [4,4,0,1”−’、l’・1o] −3−F
fl、8.9−ジカルボキシメチルテトラシクロ[4,
4゜0.12・5.1ff、 1°]−3−ドデセン、
8−カルボキシシクロへキシルテトラシクロ[4,4,
0,1’・’、1’10] −3−ドデセン、8−カル
ボキシ(4°−1−ブチルシクロヘキシル) f )
5 シフo [4,4,0,1”、1’°”]−]3−
ドデセン 8−メチル−8−カルボキシシクロへキシルテトラシク
ロ[4,4,0,1’゛’、 l’1°コー3−ドデセ
ン、 8−メチル−8−カルボキシ(4’−t−ブチルシクロ
ヘキシル)テトラシクロ[4,4,0,1’= ’11
1°] 3−ドデセン、 8−アセトキシテトラシクロ[4,4,0,12゛’1
””−3−ドデセン、 8−シアノテトラシクロ[4,4,0,12°5.11
・′6コー3−ドデセン、 9−メチル−8−シアノテトラシクロ[4,4,0゜1
2°S、 t?1(1] 3−ドデセン、8−メチ
ル−8−シアノテトラシクロ[4,4,0゜12・’、
1””] −]3−ドデセン8.9−ジメチル−8,9
−ジシアノテトラシクロ[4,4゜0.12・’、l”
”] −]3−ドデセン8−カルバモイルテトラシクロ
[4,4,0,1’= ’lff、lO] 3−ド
デセン、 8−N−メチルカルバモイルテトラシクロ[4゜4.0
.1”°5.1ff、1G] 3−ドデセン、8−
N、N−ジエチルカルバモイルテトラシフ0 [4,4
,O,12°5.11°la] 3−ドデセン、N
、 N、 N’、 N’−テトラメチル−8,9−ジカ
ルバモイルテトラシクロ[4,4,0,1’・5.11
・10]−3−ドデセン、 8−クロルテトラシクロ[4,4,0,1’・5.11
・10コー3−ドデセン、 8−メチル−8−クロルテトラシクロ[4,4,0゜1
2・5゜17・”]−]3−ドデセン8−クロロメチル
カルボキシテトラシクロ[4゜4.0.12・5.11
+ 1°]−3−ドデセン、8−ジブロムブロビル力ル
ポキシテトラシクロ[4,4,0,1″、 5.17・
10コー3−ドデセン、8−ジクロルプロピルカルボキ
シテトラシクロ[4,4,0,1”、1” ”] −3
−ドデセン、8−クロロメチルカルボキシテトラシクロ
[4,4,0,1”・5.17・”]−]3−ドデセン
8−モノブロムフェニルカルボキシテトラシクロ[4,
4,0,1”°’、 l’10] −3−ドデセン、8
−トリブロムフェニルカルボキシテトラシフ0 [4,
4,0,1”’、1” 1o] −3−Ff’セン、8
.9−ジクロルテトラシクロ[4,4,O,l’°51
7・”]−]3−ドデセン 8−ブロムテトラシクロ[4,4,0,1”・S、 I
t、 I11]−3−ドデセン、 8−ブロムメチルテトラシクロ[4,4,0,1”11
1・”]−]3−ドデセン 8−トリブロムベンジルテトラシクロ[4,4,0゜1
2・5.17・”]−]3−ドデセンテトラシクロ[4
,4,0,1’°S、l?jlOコー3−ドデセン−8
,9−ジカルボン酸無水物、 8.9−ジメチル−テトラシクロ[4,4,0,1’°
517・1°]−3−ドデセン−8,9−ジカルボン酸
無水物、 テトラシクロ[4,4,0,12°’、 1’10]
−3−ドデセン−8,9−ジカルボン酸イミド、 N−フェニル−5−メチルテトラシクロ[4,4゜0.
12°S、 Iff、 litコー3−ドデセン−8,
9−ジカルボン酸イミド、 5−トリクロルシリルテトラシクロ[4゜4.0912
・5.17・”]−]3−ドデセン5−(ジメチルメト
キシシリル) テトラシクロ[4,4,0,1”1.1
’10コー3−ドデセン、8−(ジメチルアセチルシリ
ル)テトラシクロ[4,4,0,1’・5.11・I1
1]〜3−ドデセン、8−トリメチルシリルテトラシク
ロ[4,4,0゜12°5.17・1lll]−3−ド
デセンなどを挙げることができる。
クロドデセン誘導体の具体例としては、8−カルボキシ
メチルテトラシクロ[4,4,0゜12・5.17・1
°]−3−ドデセン、8−カルボキシエチルテトラシク
ロ[4,4,0゜1?、Il+] 3−ドデセン、 8−カルボキシn−プロピルテトラシクロ[4゜4.0
.1’・5.1’111]−3−ドデセン、8−カルボ
キシイソプロピルテトラシクロ[4゜4.0.1”’、
1””] −]3−ドデセン8−カルボキシn−ブチル
テトラシクロ[4,4゜0.1”’、1””] −3−
)’デセ7.8−カルボキシインブチルテトラシクロ[
4,4゜0.12°’、 1’10] −3−ドデセン
、8−カルボキシ5ec−ブチルテトラシクロ[4゜4
.0.12″%、 Iff、 I@ココ−−ドデセン、
8−カルボキシt−ブチルテトラシクロ[4,4゜0.
12・s、 it、 1°]−3−ドデセン、8−カル
ボキシフェニルテトラシクロ[4,4,0゜18°5.
11・10コー3−ドデセン、8−メチル−8−カルボ
キシメチルテトラシクロ[4,4,0,1”・5.11
・lコーク−ドデセン、8−メチル−8−カルボキシエ
チルテトラシクロ[4,4,0,1”・5.1″1°コ
ー3−ドデセン、8−メチル−8−カルボキシn−プロ
ビルテトラシク0 [4,4,0,1’−’、1”IO
3−3−)’fセン 8−メチル−8−カルボキシイソプロピルテトラシクロ
[4,4,0,1”・5.11・自6]−3−ドデセン
、 8−メチル−8−カルボキシn−プチルテトラシクO[
4,4,0,1”°’、 1” ”] −3−Yy’セ
ン、8−メチル−8−カルボキシ5ec−ブチルテトラ
シクロ[4,4,O,l”−’、 1’1°]−3−ド
デセ8−メチル−8−カルボキシt−プチルテトラシ9
CJ [4,4,0゜1”’、1”lo] −3−ドデ
セン、8−カルボキシブチル−9−7エニルテトラシ9
0 [4,4,0,1”−’、l’・1o] −3−F
fl、8.9−ジカルボキシメチルテトラシクロ[4,
4゜0.12・5.1ff、 1°]−3−ドデセン、
8−カルボキシシクロへキシルテトラシクロ[4,4,
0,1’・’、1’10] −3−ドデセン、8−カル
ボキシ(4°−1−ブチルシクロヘキシル) f )
5 シフo [4,4,0,1”、1’°”]−]3−
ドデセン 8−メチル−8−カルボキシシクロへキシルテトラシク
ロ[4,4,0,1’゛’、 l’1°コー3−ドデセ
ン、 8−メチル−8−カルボキシ(4’−t−ブチルシクロ
ヘキシル)テトラシクロ[4,4,0,1’= ’11
1°] 3−ドデセン、 8−アセトキシテトラシクロ[4,4,0,12゛’1
””−3−ドデセン、 8−シアノテトラシクロ[4,4,0,12°5.11
・′6コー3−ドデセン、 9−メチル−8−シアノテトラシクロ[4,4,0゜1
2°S、 t?1(1] 3−ドデセン、8−メチ
ル−8−シアノテトラシクロ[4,4,0゜12・’、
1””] −]3−ドデセン8.9−ジメチル−8,9
−ジシアノテトラシクロ[4,4゜0.12・’、l”
”] −]3−ドデセン8−カルバモイルテトラシクロ
[4,4,0,1’= ’lff、lO] 3−ド
デセン、 8−N−メチルカルバモイルテトラシクロ[4゜4.0
.1”°5.1ff、1G] 3−ドデセン、8−
N、N−ジエチルカルバモイルテトラシフ0 [4,4
,O,12°5.11°la] 3−ドデセン、N
、 N、 N’、 N’−テトラメチル−8,9−ジカ
ルバモイルテトラシクロ[4,4,0,1’・5.11
・10]−3−ドデセン、 8−クロルテトラシクロ[4,4,0,1’・5.11
・10コー3−ドデセン、 8−メチル−8−クロルテトラシクロ[4,4,0゜1
2・5゜17・”]−]3−ドデセン8−クロロメチル
カルボキシテトラシクロ[4゜4.0.12・5.11
+ 1°]−3−ドデセン、8−ジブロムブロビル力ル
ポキシテトラシクロ[4,4,0,1″、 5.17・
10コー3−ドデセン、8−ジクロルプロピルカルボキ
シテトラシクロ[4,4,0,1”、1” ”] −3
−ドデセン、8−クロロメチルカルボキシテトラシクロ
[4,4,0,1”・5.17・”]−]3−ドデセン
8−モノブロムフェニルカルボキシテトラシクロ[4,
4,0,1”°’、 l’10] −3−ドデセン、8
−トリブロムフェニルカルボキシテトラシフ0 [4,
4,0,1”’、1” 1o] −3−Ff’セン、8
.9−ジクロルテトラシクロ[4,4,O,l’°51
7・”]−]3−ドデセン 8−ブロムテトラシクロ[4,4,0,1”・S、 I
t、 I11]−3−ドデセン、 8−ブロムメチルテトラシクロ[4,4,0,1”11
1・”]−]3−ドデセン 8−トリブロムベンジルテトラシクロ[4,4,0゜1
2・5.17・”]−]3−ドデセンテトラシクロ[4
,4,0,1’°S、l?jlOコー3−ドデセン−8
,9−ジカルボン酸無水物、 8.9−ジメチル−テトラシクロ[4,4,0,1’°
517・1°]−3−ドデセン−8,9−ジカルボン酸
無水物、 テトラシクロ[4,4,0,12°’、 1’10]
−3−ドデセン−8,9−ジカルボン酸イミド、 N−フェニル−5−メチルテトラシクロ[4,4゜0.
12°S、 Iff、 litコー3−ドデセン−8,
9−ジカルボン酸イミド、 5−トリクロルシリルテトラシクロ[4゜4.0912
・5.17・”]−]3−ドデセン5−(ジメチルメト
キシシリル) テトラシクロ[4,4,0,1”1.1
’10コー3−ドデセン、8−(ジメチルアセチルシリ
ル)テトラシクロ[4,4,0,1’・5.11・I1
1]〜3−ドデセン、8−トリメチルシリルテトラシク
ロ[4,4,0゜12°5.17・1lll]−3−ド
デセンなどを挙げることができる。
また、上記−故人(1)において、mの値が0であるビ
シクロ[2,2,1] −2−ヘプテン誘導体の具体例
としては、 5−カルボキシメチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘ
プテン、 5−カルボキシエチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘ
プテン、 5−カルボキシn−プロピルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−力ルボキシイソプロビルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−カルボキシn−ブチルビシクロ[2,2,1]−]
2−ヘプテン 5−カルボキシイソブチルビシクロ[2,2,1]−]
2−ヘプテン 5−カルボキシ5eC−ブチルビシクロ[2,2゜1]
−2−ヘプテン、 5−カルボキシt−ブチルビシクロ[2,2,1]−2
−ヘプテン、 5−カルボキシフェニルビシクロ[2,2,1]−2−
ヘプテン、 5−メチル−5−カルボキシメチルビシクロ[2,2,
1コー2−ヘプテン、 5−カルボキシブチル−6−7エニルビシクロ[2,2
,1] −2−ヘプテン、 5.6−ジカルボキシメチルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−カルボキシシクロへキシルビシクロ[2,2゜1]
−2−ヘプテン、 5−カルボキシ−(4°−t−ブチルシクロヘキシル)
ビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、5−メチル−
5−カルボキシシクロへキシルビシクロ[2,2,1]
−2−ヘプテン、5−メチル−5−カルボキシ(4°−
t−ブチルシクロヘキシル)ビシクロ[2,2,1]
−2−ヘプテン、 5−アセトキシビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン
、 5−シアノビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、6
−メチル−5−シアノビシクロ[2,2,1]−2−ヘ
プテン、 5−メチル−5−シアノビシクロ[2,2,1]−2−
ヘプテン 5.6−シメチルー5.6−ジクロルビシクロ[2゜2
.1]−2−ヘプテン、 5−カルバモイルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテ
ン、 5−N−メチルカルバモイルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−N、N−ジエチルカルバモイルビシクロ[2゜2.
1]−2−ヘプテン、 N、 N、 N’、 N’−テトラメチル−5,6−ジ
カルパモイルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、
5−クロルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、5
−メチル−5−クロルビシクロ[2,2,1]]2−ヘ
プテン 5−クロルメチルカルボキシビシクロ[2,R,1]−
2−ヘプテン、 5−ジブロムブロビル力ルポキシビシクロ[2゜2.1
]−2−ヘプテン、 5−ジクロルプロピルカルボキシビシクロ[2゜2.1
]−2−ヘプテン、 5−クロルフェニルカルボキシビシクロ[2,2゜1]
−2−ヘプテン、 5−モノブロムフェニルカルボキシビシクロ[2,2,
1]−2−ヘプテン、 5−トリブロムフェニルカルボキシビシクロ[2,2,
1]−2−ヘプテン、 5.6−ジクロルビシクロ[2゜2.13−2−ヘプテ
ン、 5−ブロムメチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテ
ン、 5−ブロムエチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテ
ン、 5−トリブロムベンジル力ルポキシピシクロ[2,2,
l]−2−ヘプテン、 ビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン−5,6−ジカ
ルボン酸無水物、 5.6−シアノビシクロ[2,2,1] −2−ヘプテ
ン−5,6−ジカルボン酸無水物 ビシクロ[2,2,1]−2−へブテン−5,6−ジカ
ルボン酸イミド、 N−フェニル−5−メチルビシクロ[2,2,1]−2
−ヘプテン−ジカルボン酸イミド、5−トリクロルシリ
ルビシクロ[2,2,l]−2−ヘプテン、 5−(ジメチルメトキシシリル)ビシクロ[2,2゜l
]−2−ヘプテン、 5−(ジメチルアセチルシリル)ビシクロ[2,2゜l
コー2−ヘプテン、 5−トリメチルシリルビシクロ[2,2,13−2−ヘ
プテン などを挙げることができる。
シクロ[2,2,1] −2−ヘプテン誘導体の具体例
としては、 5−カルボキシメチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘ
プテン、 5−カルボキシエチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘ
プテン、 5−カルボキシn−プロピルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−力ルボキシイソプロビルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−カルボキシn−ブチルビシクロ[2,2,1]−]
2−ヘプテン 5−カルボキシイソブチルビシクロ[2,2,1]−]
2−ヘプテン 5−カルボキシ5eC−ブチルビシクロ[2,2゜1]
−2−ヘプテン、 5−カルボキシt−ブチルビシクロ[2,2,1]−2
−ヘプテン、 5−カルボキシフェニルビシクロ[2,2,1]−2−
ヘプテン、 5−メチル−5−カルボキシメチルビシクロ[2,2,
1コー2−ヘプテン、 5−カルボキシブチル−6−7エニルビシクロ[2,2
,1] −2−ヘプテン、 5.6−ジカルボキシメチルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−カルボキシシクロへキシルビシクロ[2,2゜1]
−2−ヘプテン、 5−カルボキシ−(4°−t−ブチルシクロヘキシル)
ビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、5−メチル−
5−カルボキシシクロへキシルビシクロ[2,2,1]
−2−ヘプテン、5−メチル−5−カルボキシ(4°−
t−ブチルシクロヘキシル)ビシクロ[2,2,1]
−2−ヘプテン、 5−アセトキシビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン
、 5−シアノビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、6
−メチル−5−シアノビシクロ[2,2,1]−2−ヘ
プテン、 5−メチル−5−シアノビシクロ[2,2,1]−2−
ヘプテン 5.6−シメチルー5.6−ジクロルビシクロ[2゜2
.1]−2−ヘプテン、 5−カルバモイルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテ
ン、 5−N−メチルカルバモイルビシクロ[2,2,1]−
2−ヘプテン、 5−N、N−ジエチルカルバモイルビシクロ[2゜2.
1]−2−ヘプテン、 N、 N、 N’、 N’−テトラメチル−5,6−ジ
カルパモイルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、
5−クロルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン、5
−メチル−5−クロルビシクロ[2,2,1]]2−ヘ
プテン 5−クロルメチルカルボキシビシクロ[2,R,1]−
2−ヘプテン、 5−ジブロムブロビル力ルポキシビシクロ[2゜2.1
]−2−ヘプテン、 5−ジクロルプロピルカルボキシビシクロ[2゜2.1
]−2−ヘプテン、 5−クロルフェニルカルボキシビシクロ[2,2゜1]
−2−ヘプテン、 5−モノブロムフェニルカルボキシビシクロ[2,2,
1]−2−ヘプテン、 5−トリブロムフェニルカルボキシビシクロ[2,2,
1]−2−ヘプテン、 5.6−ジクロルビシクロ[2゜2.13−2−ヘプテ
ン、 5−ブロムメチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテ
ン、 5−ブロムエチルビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテ
ン、 5−トリブロムベンジル力ルポキシピシクロ[2,2,
l]−2−ヘプテン、 ビシクロ[2,2,1]−2−ヘプテン−5,6−ジカ
ルボン酸無水物、 5.6−シアノビシクロ[2,2,1] −2−ヘプテ
ン−5,6−ジカルボン酸無水物 ビシクロ[2,2,1]−2−へブテン−5,6−ジカ
ルボン酸イミド、 N−フェニル−5−メチルビシクロ[2,2,1]−2
−ヘプテン−ジカルボン酸イミド、5−トリクロルシリ
ルビシクロ[2,2,l]−2−ヘプテン、 5−(ジメチルメトキシシリル)ビシクロ[2,2゜l
]−2−ヘプテン、 5−(ジメチルアセチルシリル)ビシクロ[2,2゜l
コー2−ヘプテン、 5−トリメチルシリルビシクロ[2,2,13−2−ヘ
プテン などを挙げることができる。
これらの単量体は、その1種のみでな(,2種以上を用
いることもできる。
いることもできる。
更に、これらのテトラシクロドデセン誘導体および/ま
たはビシクロヘプテン誘導体と共重合可能な他の単量体
としては、メタセンス重合触媒によって重合し得るノル
ボルネン系化合物や環状オレフィン右よび重合体の主鎖
に炭素−炭素二重結合を有する単量体を挙げることがで
きる。
たはビシクロヘプテン誘導体と共重合可能な他の単量体
としては、メタセンス重合触媒によって重合し得るノル
ボルネン系化合物や環状オレフィン右よび重合体の主鎖
に炭素−炭素二重結合を有する単量体を挙げることがで
きる。
斯かる共重合可能な他の単量体の具体例としては、例え
ばシクロペンテン、シクロオクテン、1゜5−シクロオ
クタジエン、1.5.9−シクロオクタジエンなどのシ
クロオレフィン類;ビシクロ[2゜2.1]−2−ヘプ
テン、トリシクロ[5,2,1,0” ’コー8−デセ
ン、トリシクロ[5,2,1,0” ’] −3−デセ
ン、トリシクロ[5,2,1,0’−’] −3,8−
デカジエン、トリシクロ[6,2゜1.0’1]−9−
ウンデセン、トリシクロ[6,2,1,0’°0]−4
−ウンデセン、テトラシクロ[4,4,0,1″、1.
1t16] −3−ドデセン、ペンタシクロ[6,5,
1,1”・1.0′・1.03・13コー4−ペンタデ
セン、ペンタシクロ[6,5,1,1”°602・1゜
O”−’]−4,11−ペンタデカジエン、ベンタシク
o [6,6,1,1”、0”’、0’ 14] −4
−ヘキサデセン、ペンタシクロ[6,5,1,1’・6
.02・7.0″・lコー11−ヘンタデセンなどのポ
リシクロアルケン類などを挙げることができる。
ばシクロペンテン、シクロオクテン、1゜5−シクロオ
クタジエン、1.5.9−シクロオクタジエンなどのシ
クロオレフィン類;ビシクロ[2゜2.1]−2−ヘプ
テン、トリシクロ[5,2,1,0” ’コー8−デセ
ン、トリシクロ[5,2,1,0” ’] −3−デセ
ン、トリシクロ[5,2,1,0’−’] −3,8−
デカジエン、トリシクロ[6,2゜1.0’1]−9−
ウンデセン、トリシクロ[6,2,1,0’°0]−4
−ウンデセン、テトラシクロ[4,4,0,1″、1.
1t16] −3−ドデセン、ペンタシクロ[6,5,
1,1”・1.0′・1.03・13コー4−ペンタデ
セン、ペンタシクロ[6,5,1,1”°602・1゜
O”−’]−4,11−ペンタデカジエン、ベンタシク
o [6,6,1,1”、0”’、0’ 14] −4
−ヘキサデセン、ペンタシクロ[6,5,1,1’・6
.02・7.0″・lコー11−ヘンタデセンなどのポ
リシクロアルケン類などを挙げることができる。
これらの共重合可能な他の単量体は、その1種のみでな
く、2種以上を用いることもできる。
く、2種以上を用いることもできる。
以上の原料単量体のメタセンス開環重合反応は、後述す
る特定の溶媒中において、メタセンス重合触媒の存在下
に、通常、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性雰囲
気において行われる。
る特定の溶媒中において、メタセンス重合触媒の存在下
に、通常、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性雰囲
気において行われる。
このメクセシス開通重合反応の温度は、通常、−30〜
200℃、好ましくは0−150℃、更に好ましくは3
0〜IQQtの範囲とされる。
200℃、好ましくは0−150℃、更に好ましくは3
0〜IQQtの範囲とされる。
上記メタセンス重合触媒とは、通常、次の(a)成分と
(b)成分との組合せからなる触媒であるが、触媒活性
を高めるために更に後述する活性化剤が添加されること
がある。
(b)成分との組合せからなる触媒であるが、触媒活性
を高めるために更に後述する活性化剤が添加されること
がある。
(a)成分:W、MoおよびReの化合物から選ばれた
少なくとも1種 (へ)成分;デミングの周期律表のIA、!IA、!I
B。
少なくとも1種 (へ)成分;デミングの周期律表のIA、!IA、!I
B。
11[A、 IVAあるいはIVB族元素の化合物であ
って少なくとも1つの当該元素−炭素結合あるいは当該
元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも1
種 上記(a)成分として適当なWSMOあるいはReの化
合物は、これらのハロゲン化物、オキシノ10ゲン化物
、アルコキシハロゲン化物、アルコキシド、カルボン酸
塩、(オキシ)アセチルアセトネート、カルボニル錯体
、アセトニトリル錯体、ヒドリド錯体およびその誘導体
、あるいはこれらの組合せであるが、WおよびMOの化
合物、特にこれらのハロゲン化物、オキシハロゲン化物
およびアルコキシハロゲン化物が、重合活性の高さおよ
び実用性の点から好ましい。また反応によって上記の化
合物を生成する2種以上の化合物の混合物を用いてもよ
い。これらの化合物は適当な錯化剤、例えばP(CsH
s)s、Cs Hs Nなどによって錯化されていても
よい。
って少なくとも1つの当該元素−炭素結合あるいは当該
元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも1
種 上記(a)成分として適当なWSMOあるいはReの化
合物は、これらのハロゲン化物、オキシノ10ゲン化物
、アルコキシハロゲン化物、アルコキシド、カルボン酸
塩、(オキシ)アセチルアセトネート、カルボニル錯体
、アセトニトリル錯体、ヒドリド錯体およびその誘導体
、あるいはこれらの組合せであるが、WおよびMOの化
合物、特にこれらのハロゲン化物、オキシハロゲン化物
およびアルコキシハロゲン化物が、重合活性の高さおよ
び実用性の点から好ましい。また反応によって上記の化
合物を生成する2種以上の化合物の混合物を用いてもよ
い。これらの化合物は適当な錯化剤、例えばP(CsH
s)s、Cs Hs Nなどによって錯化されていても
よい。
好ましく用いられる(a)成分の具体例としては、例え
ばW cjs、W cJ!s、wcl、、W B r
@ 、 W F s、W I a、M o Cj s、
M o Cj 、、M o C1’ s、Ra CJ
s、WOCla 、Mo0c1s 、Red(−It3
、ReOBr3、W(OCsHi)s、W(J*(OC
aHs)4、MO(OCaHs)*Cja 、Mo(O
C2Hs>s、Mo O2(acac) t、W(OC
OR)s、W(Co)、、MO(Co)i 、Re2.
(COLo 。
ばW cjs、W cJ!s、wcl、、W B r
@ 、 W F s、W I a、M o Cj s、
M o Cj 、、M o C1’ s、Ra CJ
s、WOCla 、Mo0c1s 、Red(−It3
、ReOBr3、W(OCsHi)s、W(J*(OC
aHs)4、MO(OCaHs)*Cja 、Mo(O
C2Hs>s、Mo O2(acac) t、W(OC
OR)s、W(Co)、、MO(Co)i 、Re2.
(COLo 。
Re0Bra’P(CiHs)a 、WCj’s”P(
CsHa)s 、WCl、−C%H%N、 W(Co
)s−P(CsHs)3 、W(Co)3・(CH,C
N)、などを挙げることができる。これらのうち特に好
ましい化合物としては、MoG5 、 Mo(OC
aHs)2(Js 、 W(Ja 、W(OCl
H,)にhなどを挙げることができる。
CsHa)s 、WCl、−C%H%N、 W(Co
)s−P(CsHs)3 、W(Co)3・(CH,C
N)、などを挙げることができる。これらのうち特に好
ましい化合物としては、MoG5 、 Mo(OC
aHs)2(Js 、 W(Ja 、W(OCl
H,)にhなどを挙げることができる。
(ハ)成分として適当なものの具体例としては、例えば
n C4Hs L ! Sn Cs H+ t N
a 、 C* Hs N a 。
n C4Hs L ! Sn Cs H+ t N
a 、 C* Hs N a 。
CH3MgI SCaHsMgBr、CH3MgBr、
n CzHtMgCJ、(CsHs)aAI。
n CzHtMgCJ、(CsHs)aAI。
t CH3MgIロ% CHa=CHCH2MgCI
’−(Cal(s)zZn、(Ca)Is)zcdSC
aZn(CtHsL、(CHl)sB、(C18%)3
B、(n−C4Hs)sB。
’−(Cal(s)zZn、(Ca)Is)zcdSC
aZn(CtHsL、(CHl)sB、(C18%)3
B、(n−C4Hs)sB。
(CHs)aAI−(CHsLAl(J、(CH3)!
AlIC4’3、CHsAICja、(CaHs)aA
I%LiA1(CaHs)*、(CiHs)sAl0(
CaHs)i、(CiHsLaAICI!、CaHsA
I(jt、(CtHa)iAIH。
AlIC4’3、CHsAICja、(CaHs)aA
I%LiA1(CaHs)*、(CiHs)sAl0(
CaHs)i、(CiHsLaAICI!、CaHsA
I(jt、(CtHa)iAIH。
(iso−CmHs)tAIH,(CtHshAIOC
aHs。
aHs。
(iso CaHs)sAl 、(CiHs)zAI
icJa、(CHs)*Ga−(CH,)ssn、(n
−CnH,)4Sn。
icJa、(CHs)*Ga−(CH,)ssn、(n
−CnH,)4Sn。
(CaHs)ssiHs (n C6H13)3A
+、(n C*H+t)sAl 、LiH,Na)
lXB*)(s、N 1k B H4、A I Ha、
L i A I H4およびTiHmなどを挙げること
ができる。また、反応によってこれらの化合物を生成す
る2種以上の化合物の混合物を用いることもできる。
+、(n C*H+t)sAl 、LiH,Na)
lXB*)(s、N 1k B H4、A I Ha、
L i A I H4およびTiHmなどを挙げること
ができる。また、反応によってこれらの化合物を生成す
る2種以上の化合物の混合物を用いることもできる。
上記のうち、特に好ましい化合物としては、(CH3)
3Al、(CH3)tAlc!’、(CHa)sAI*
(Ja、CH3A I cla、(C2Hs)sAl、
(CaHs)tA1c!’。
3Al、(CH3)tAlc!’、(CHa)sAI*
(Ja、CH3A I cla、(C2Hs)sAl、
(CaHs)tA1c!’。
(CtHl)3AIa(Ja 、CaHsAI(Jz、
(CsHs)*AIH,(CaHs)aAIOCsHs
−(CaHs)tAICN、(CsHt)aAI、(i
so−CnH,*)sAl 、 (iso−CaHsL
aAIHs(C8H17)AL (CsHtvLAI
、(CsHs)3A1などを挙げることができる。
(CsHs)*AIH,(CaHs)aAIOCsHs
−(CaHs)tAICN、(CsHt)aAI、(i
so−CnH,*)sAl 、 (iso−CaHsL
aAIHs(C8H17)AL (CsHtvLAI
、(CsHs)3A1などを挙げることができる。
上記(a)成分と(ハ)成分との量的関係は、金属原子
比で(a) : (b)がl:1〜1:20、好ましく
は1:2〜1:10の範囲とされる。
比で(a) : (b)がl:1〜1:20、好ましく
は1:2〜1:10の範囲とされる。
上記(a)成分と(b)成分とから調製されたメタセン
ス重合触媒は、通常、上記の本発明において用いられる
原料単量体のメタセンス開環重合反応において高い触媒
活性を有するが、更に次に挙げるような(C)成分より
なる活性化剤を添加することによって、−層高い活性を
有する触媒として使用することができる。
ス重合触媒は、通常、上記の本発明において用いられる
原料単量体のメタセンス開環重合反応において高い触媒
活性を有するが、更に次に挙げるような(C)成分より
なる活性化剤を添加することによって、−層高い活性を
有する触媒として使用することができる。
斯かる(C)成分としては各種の化合物を使用すること
ができるが、特に好適に使用される化合物には次のもの
が含まれる。
ができるが、特に好適に使用される化合物には次のもの
が含まれる。
(1)単体ホウ素、BF3、B(j、、B(On C
nHs)s 、BFsO(CHsh、B F、0(Cs
Hs)s、BF30(n CaHs)a、BF3・2
csHsOH,BF3・2CH3COOH。
nHs)s 、BFsO(CHsh、B F、0(Cs
Hs)s、BF30(n CaHs)a、BF3・2
csHsOH,BF3・2CH3COOH。
B F s・尿素、BF3・トリエタノールアミン、B
Fs”ピペリジン、B F a ・Ca Hs N H
2、B、03、Hs B Osなどのホウ素化合物、5
i(OCiHs)*、S i (J 4などのケイ素化
合物、(2)アルコール類、ヒドロパーオキシド類およ
びパーオキシド類、 (3)水、 (4)!II素、 (5)アルデヒドおよびケトンなどのカルボニル化合物
ふよびそのオリゴマーまたは重合物、(6)エチレンオ
キシド、エピクロルヒドリン、オキセタンなどの環状エ
ーテル類、 (7)N、N−ジエチルホルムアミド、N、N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類、アニリン、モルホリン
、ピペリジンなどのアミン類およびアゾベンゼンなどの
アゾ化合物、 (8) N−ニドロンジメチルアイン、N−ニトロンジ
フェニルアミンなどのN−二トロン化合物、(9)トリ
クロルメラミン、N−クロルサクシノイミド、フェニル
スルフ其ニルクロリドなどのS−a基またはN−α基を
含む化合物 また、(a)成分と(C)成分との量的関係は、添加す
る(C)成分の種類によってきわめて多様に変化するた
め一律に規定することはできないが、多くの場合(C)
/ (a) (% ル比)の値が0.005〜10、
好ましくは0.05〜3.0の範囲で用いられる。
Fs”ピペリジン、B F a ・Ca Hs N H
2、B、03、Hs B Osなどのホウ素化合物、5
i(OCiHs)*、S i (J 4などのケイ素化
合物、(2)アルコール類、ヒドロパーオキシド類およ
びパーオキシド類、 (3)水、 (4)!II素、 (5)アルデヒドおよびケトンなどのカルボニル化合物
ふよびそのオリゴマーまたは重合物、(6)エチレンオ
キシド、エピクロルヒドリン、オキセタンなどの環状エ
ーテル類、 (7)N、N−ジエチルホルムアミド、N、N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類、アニリン、モルホリン
、ピペリジンなどのアミン類およびアゾベンゼンなどの
アゾ化合物、 (8) N−ニドロンジメチルアイン、N−ニトロンジ
フェニルアミンなどのN−二トロン化合物、(9)トリ
クロルメラミン、N−クロルサクシノイミド、フェニル
スルフ其ニルクロリドなどのS−a基またはN−α基を
含む化合物 また、(a)成分と(C)成分との量的関係は、添加す
る(C)成分の種類によってきわめて多様に変化するた
め一律に規定することはできないが、多くの場合(C)
/ (a) (% ル比)の値が0.005〜10、
好ましくは0.05〜3.0の範囲で用いられる。
メタセンス開環重合反応においては、メタセンス重合触
媒の種類や濃度、重合温度、溶媒の種類や量並びに単量
体濃度などの反応条件を変えることにより、得られる重
合体の分子量を調節することができるが、通常は適宜の
分子量調整剤の適当量を重合反応系に添加することによ
って開環重合体の分子量を調節することが好ましい。斯
かる分子量調整剤としては、α−オレフィン類、α、ω
−ジオレフィン類またはアセチレン類などの分子内に少
なくとも1つの炭素間二重結合または炭素間三重結合を
有する化合物、あるいは塩化アリル、酢酸アリル、トリ
メチルアリロキシシランなどの極性アリル化合物を挙げ
ることができる。
媒の種類や濃度、重合温度、溶媒の種類や量並びに単量
体濃度などの反応条件を変えることにより、得られる重
合体の分子量を調節することができるが、通常は適宜の
分子量調整剤の適当量を重合反応系に添加することによ
って開環重合体の分子量を調節することが好ましい。斯
かる分子量調整剤としては、α−オレフィン類、α、ω
−ジオレフィン類またはアセチレン類などの分子内に少
なくとも1つの炭素間二重結合または炭素間三重結合を
有する化合物、あるいは塩化アリル、酢酸アリル、トリ
メチルアリロキシシランなどの極性アリル化合物を挙げ
ることができる。
本発明においては、上記のメタセンス重合反応のための
溶媒として、次の溶媒A若しくは溶媒Bまたはこれらの
混合物が用いられる。
溶媒として、次の溶媒A若しくは溶媒Bまたはこれらの
混合物が用いられる。
溶媒Aは、溶媒成分(1)と溶媒成分(2)との混合物
よりなるものである。
よりなるものである。
溶媒成分(1)としては、炭素数が10以下、好ましく
は5〜8の脂環族飽和炭化水素および/lたは脂肪族飽
和炭化水素が用いられる。ここに、脂環族飽和炭化水素
の具体例としては、シクロペンタン、メチルシクロベン
クン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチ
ルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロヘプ
タン、デカリンなどを挙げることができ、また脂肪族飽
和炭化水素の具体例としては、n−ペンタン、イソペン
クン、n−ヘキサン、n−へブタン、n−オクタンなど
を挙げることができる。
は5〜8の脂環族飽和炭化水素および/lたは脂肪族飽
和炭化水素が用いられる。ここに、脂環族飽和炭化水素
の具体例としては、シクロペンタン、メチルシクロベン
クン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチ
ルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロヘプ
タン、デカリンなどを挙げることができ、また脂肪族飽
和炭化水素の具体例としては、n−ペンタン、イソペン
クン、n−ヘキサン、n−へブタン、n−オクタンなど
を挙げることができる。
溶媒成分(2)としてはジアルキルグリコールエーテル
が用いられる。その具体例としては、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエー
テル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエー
テル、トリエチレングリコールジメチルエーテルなどを
挙げることができる。
が用いられる。その具体例としては、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエー
テル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエー
テル、トリエチレングリコールジメチルエーテルなどを
挙げることができる。
溶媒へにおける溶媒成分(1)と溶媒成分(2)の混合
比は、通常、重量比で95:5〜30ニア0.好ましく
は90 : 10〜40:60とされる。溶媒成分(1
)の割合が過大である場合には溶媒Aの生成重合体に対
する溶解度が不十分となり、一方、この割合が過小であ
る場合には、メタセンス開環重合反応の反応活性が低く
なって高い重合度の重合体を得ることができない。
比は、通常、重量比で95:5〜30ニア0.好ましく
は90 : 10〜40:60とされる。溶媒成分(1
)の割合が過大である場合には溶媒Aの生成重合体に対
する溶解度が不十分となり、一方、この割合が過小であ
る場合には、メタセンス開環重合反応の反応活性が低く
なって高い重合度の重合体を得ることができない。
溶媒Bは、炭素数が6〜10の芳香族炭化水素よりなる
ものである。その具体例としては、ベンゼン、トルエン
、キシレン、エチルベンゼンなどを挙げることができる
。この芳香族炭化水素は1種のみでなく、2種以上を用
いることもできる。
ものである。その具体例としては、ベンゼン、トルエン
、キシレン、エチルベンゼンなどを挙げることができる
。この芳香族炭化水素は1種のみでなく、2種以上を用
いることもできる。
上記の溶媒によって行われるメタセンス開通重合反応に
おいて、モノマー濃度は、通常10〜40重量%とされ
る。
おいて、モノマー濃度は、通常10〜40重量%とされ
る。
このメタセンス開通重合反応の終了後であって後述する
アルコールによる抽出分離操作を行う前に、得られた重
合反応液に脱触媒剤を添加することが好ましい。これに
より、分離する重合体溶液における触媒成分の含有量を
低減することができるので、触媒成分の含有量の低い重
合体を得ることができる。
アルコールによる抽出分離操作を行う前に、得られた重
合反応液に脱触媒剤を添加することが好ましい。これに
より、分離する重合体溶液における触媒成分の含有量を
低減することができるので、触媒成分の含有量の低い重
合体を得ることができる。
斯かる脱触媒剤としては、トリエタノールアミン、ジェ
タノールアミン、モノエタノールアミン、トリエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、ジブチルアミン、エチレンジアミン、ヘキサ
メ子レンジアミン、ポリエチレンジアミン、ピリジン、
テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アミ
ン類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウムなどの無機アルカリ類などを挙げることができる。
タノールアミン、モノエタノールアミン、トリエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、ジブチルアミン、エチレンジアミン、ヘキサ
メ子レンジアミン、ポリエチレンジアミン、ピリジン、
テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アミ
ン類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウムなどの無機アルカリ類などを挙げることができる。
脱触媒剤の添加量はその種類によっても異なるが、通常
、使用されたメタセンス重合触媒1モルに対して1〜1
000モル、好ましくは5〜100モルである。
、使用されたメタセンス重合触媒1モルに対して1〜1
000モル、好ましくは5〜100モルである。
本発明においては、以上のようにして得られる重合反応
液にアルコールを加え、これによって抽出分離を行う。
液にアルコールを加え、これによって抽出分離を行う。
すなわち、重合反応液にアルコールを添加して撹拌し、
その後静置することにより、上相のアルコール相と下相
の重合体溶液相とに分離させる。
その後静置することにより、上相のアルコール相と下相
の重合体溶液相とに分離させる。
ここにアルコ−、ルとしては、メタノール、エタノール
、インプロパツール、ブタノールなどの炭素数1〜10
.好ましくは1〜4のアルコールが用いられる。このア
ルコールは1種のみではなく、2種以上を用いることも
できる。
、インプロパツール、ブタノールなどの炭素数1〜10
.好ましくは1〜4のアルコールが用いられる。このア
ルコールは1種のみではなく、2種以上を用いることも
できる。
添加すべきアルコールの量は、使用した溶媒の種類、添
加されるアルコールの種類および重合反応液の濃度、添
加する際の重合体溶液の温度によっても異なるが、1回
の抽出分離操作に用いられるアルコールの使用量は、こ
の液−液2相分離を好適に達成し得る点から、通常、使
用した溶媒に対して0.1〜5重量倍であり、好ましく
は0.2〜2重量倍である。このアルコールの使用量が
0.1重量倍より少ないと所期の分離が行われないおそ
れがあり、一方5重量倍より多いと重合体が沈澱しやす
くなって好適な抽出分離を達成することができない。
加されるアルコールの種類および重合反応液の濃度、添
加する際の重合体溶液の温度によっても異なるが、1回
の抽出分離操作に用いられるアルコールの使用量は、こ
の液−液2相分離を好適に達成し得る点から、通常、使
用した溶媒に対して0.1〜5重量倍であり、好ましく
は0.2〜2重量倍である。このアルコールの使用量が
0.1重量倍より少ないと所期の分離が行われないおそ
れがあり、一方5重量倍より多いと重合体が沈澱しやす
くなって好適な抽出分離を達成することができない。
ただし、少量の沈澱が生じた場合であっても、重合体溶
液相の流動性が保たれているならば本発明の効果は損な
われず、従って本発明の範囲外と理解されるべきではな
い。
液相の流動性が保たれているならば本発明の効果は損な
われず、従って本発明の範囲外と理解されるべきではな
い。
また、アルコールの添加による抽出分離操作は1回に限
られるものではなく、繰り返し行うのが好ましい。この
場合においては、重合体溶液からアルコール相に移行し
た溶媒AまたはBの相当量を、その都度、重合体溶液に
補充することが好ましい。
られるものではなく、繰り返し行うのが好ましい。この
場合においては、重合体溶液からアルコール相に移行し
た溶媒AまたはBの相当量を、その都度、重合体溶液に
補充することが好ましい。
アルコールを添加する際の重合反応液の温度に特に制限
はないが、その温度によって分離状態が変化することが
あるため、通常は10〜80℃で行うことが好ましい。
はないが、その温度によって分離状態が変化することが
あるため、通常は10〜80℃で行うことが好ましい。
以上のアルコールによる抽出分離操作により、重合反応
液中の触媒成分および未反応単量体などの低分子量重合
体は高い分離効率でアルコール相に抽出され、その結果
、分離した重合体溶液相の重合体溶液は、触媒成分およ
び低分子量体の含装置がきわめて低いものとなり、結局
、それらの不純物を実質的に含有しない重合体溶液が単
独に得られることとなる。
液中の触媒成分および未反応単量体などの低分子量重合
体は高い分離効率でアルコール相に抽出され、その結果
、分離した重合体溶液相の重合体溶液は、触媒成分およ
び低分子量体の含装置がきわめて低いものとなり、結局
、それらの不純物を実質的に含有しない重合体溶液が単
独に得られることとなる。
この重合体溶液から、通常の方法、例えばスチームスト
リッピングなどの方法によって溶媒を除去し更に必要に
応じて乾燥することにより、重合体を得ることができる
。ここに得られる重合体は、触媒成分および低分子量体
の含有量がきわめて低いものであるので、例えば光学材
料としてきわめて好適なものである。
リッピングなどの方法によって溶媒を除去し更に必要に
応じて乾燥することにより、重合体を得ることができる
。ここに得られる重合体は、触媒成分および低分子量体
の含有量がきわめて低いものであるので、例えば光学材
料としてきわめて好適なものである。
一方、生成重合体に対して水素添加を行うことにより、
−層優れた特性を有する水素添加重合体を得ることがで
きる。この水素添加の方法は、メタセンス開通重合反応
において使用した溶媒の種類によって、次のように行う
ことが好ましい。
−層優れた特性を有する水素添加重合体を得ることがで
きる。この水素添加の方法は、メタセンス開通重合反応
において使用した溶媒の種類によって、次のように行う
ことが好ましい。
イ)溶媒Aのみを用いた場合
溶媒Aは、水素添加反応においても変化を受けることが
なり、シかも水素添加反応の反応活性を損なうものでも
ないので、それ自体が好適な水素添加反応用溶媒となり
得るものである。従って、上記アルコールによる抽出分
離操作によって得られる重合体溶液を、そのまま水素添
加反応に供することができる。そして、この方法によれ
ば、重合体溶液から重合体を凝固させて回収することお
よびその重合体を水素添加用溶媒に溶解することが不要
となり、従ってきわめて有利に水素添加重合体を製造す
ることができる。
なり、シかも水素添加反応の反応活性を損なうものでも
ないので、それ自体が好適な水素添加反応用溶媒となり
得るものである。従って、上記アルコールによる抽出分
離操作によって得られる重合体溶液を、そのまま水素添
加反応に供することができる。そして、この方法によれ
ば、重合体溶液から重合体を凝固させて回収することお
よびその重合体を水素添加用溶媒に溶解することが不要
となり、従ってきわめて有利に水素添加重合体を製造す
ることができる。
■)溶媒Bを用いた場合
溶媒Bは芳香族炭化水素であり、その芳香環の二重結合
が水素添加を受けるため、上記アルコールによる抽出分
離操作によって得られる重合体溶液をそのまま水素添加
反応に供することはできない。従って、当該重合体溶液
から溶媒Bを除去して重合体を回収し、これを水素添加
反応に適した他の溶媒に溶解させて水素添加反応を行う
。
が水素添加を受けるため、上記アルコールによる抽出分
離操作によって得られる重合体溶液をそのまま水素添加
反応に供することはできない。従って、当該重合体溶液
から溶媒Bを除去して重合体を回収し、これを水素添加
反応に適した他の溶媒に溶解させて水素添加反応を行う
。
水素添加反応は、重合体溶液に水素添加触媒を添加し、
これに常圧〜300気圧、好ましくは2〜150気圧の
水素ガスを0〜200℃、好ましくは20〜180℃で
作用させることによって行なわれる。
これに常圧〜300気圧、好ましくは2〜150気圧の
水素ガスを0〜200℃、好ましくは20〜180℃で
作用させることによって行なわれる。
水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水
素添加反応に用いられるものを使用することができる。
素添加反応に用いられるものを使用することができる。
この水素添加触媒としては、不均一系触媒および拘−系
触媒が公知である。
触媒が公知である。
不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、
ロジウム、ルテニウムなどの触媒m1wcカーボン、シ
リカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体
触媒などを挙げることができる。また、均一系触媒とし
ては、ナフテン酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、
ニッケルアセチルアセトナート/トリエチルアルミニウ
ム、オクテン酸コバルト/n−ブチルリチウム、チタノ
センジクロリド/ジエチルアルミニウムモノクロリド、
酢酸ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン
)ロジウムなどのロジウムなどを挙げることができる。
ロジウム、ルテニウムなどの触媒m1wcカーボン、シ
リカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体
触媒などを挙げることができる。また、均一系触媒とし
ては、ナフテン酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、
ニッケルアセチルアセトナート/トリエチルアルミニウ
ム、オクテン酸コバルト/n−ブチルリチウム、チタノ
センジクロリド/ジエチルアルミニウムモノクロリド、
酢酸ロジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン
)ロジウムなどのロジウムなどを挙げることができる。
水素添加反応は、得られる水素添加重合体にふける水素
添加率が50%以上、好ましくは70%以上、さらに好
ましくは80%以上となるように行われることが好まし
い。これは、一般に水素添加率が高いもの程、高い熱安
定性および耐候性を有するものとなるからである。例え
ば水素添加率が50%未満の水素添加重合体は、熱安定
性や耐候性の面で実用性に欠けるおそれがあり、一方、
用途によっては水素添加率が100%の水素添加重合体
であることが必要な場合がある。
添加率が50%以上、好ましくは70%以上、さらに好
ましくは80%以上となるように行われることが好まし
い。これは、一般に水素添加率が高いもの程、高い熱安
定性および耐候性を有するものとなるからである。例え
ば水素添加率が50%未満の水素添加重合体は、熱安定
性や耐候性の面で実用性に欠けるおそれがあり、一方、
用途によっては水素添加率が100%の水素添加重合体
であることが必要な場合がある。
水素添加反応を行った重合体溶液は、その触媒の種類に
応じた後処理がなされるが、固体触媒が用いられた場合
には濾過などによって触媒を除去した後、濃縮器、蒸発
器、ベントルーダ−などの装置によって溶媒を除去する
ことにより水素添加重合体が得られる。またスチームス
トリッピングおよび通常の貧溶媒中で凝固させる方法に
よっても水素添加重合体を得ることができる。
応じた後処理がなされるが、固体触媒が用いられた場合
には濾過などによって触媒を除去した後、濃縮器、蒸発
器、ベントルーダ−などの装置によって溶媒を除去する
ことにより水素添加重合体が得られる。またスチームス
トリッピングおよび通常の貧溶媒中で凝固させる方法に
よっても水素添加重合体を得ることができる。
本発明の方法においては、メタセンス開通重合反応の終
了後あるいは水素添加反応の終了後に、必要に応じて種
々の添加剤、例えば酸化防止剤を添加することができる
。この酸化防止剤の例としては、例えば2.6−ジーt
−ブチル−4−メチルフェノール、2.2°−ジオキシ
−3,3°−ジ−t−ブチルー5.5”−ジメチルジフ
ェニルメタン、フェニル−β−ナフチルアミン、ペンタ
エリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4ヒドロキシフエニル) プロピオネ−トコ、ト
リス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト
、ビス−(2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどを挙げる
ことができる。
了後あるいは水素添加反応の終了後に、必要に応じて種
々の添加剤、例えば酸化防止剤を添加することができる
。この酸化防止剤の例としては、例えば2.6−ジーt
−ブチル−4−メチルフェノール、2.2°−ジオキシ
−3,3°−ジ−t−ブチルー5.5”−ジメチルジフ
ェニルメタン、フェニル−β−ナフチルアミン、ペンタ
エリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4ヒドロキシフエニル) プロピオネ−トコ、ト
リス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト
、ビス−(2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどを挙げる
ことができる。
本発明の方法によれば、特定の環状単量体のメタセンス
開通重合反応を特定の溶媒を用いて行うため、得られる
重合体溶液にアルコールを添加することにより、重合体
溶液相から分離するアルコール相に触媒成分および低分
子量体が高い効率で抽出され、その結果、それらを実質
的に含有しない重合体溶液を単独に分離して回収するこ
とができ、しかも抽出に使用するアルコールは少量でよ
く、従って所期の透明性重合体をきわめて有利に製造す
ることができる。
開通重合反応を特定の溶媒を用いて行うため、得られる
重合体溶液にアルコールを添加することにより、重合体
溶液相から分離するアルコール相に触媒成分および低分
子量体が高い効率で抽出され、その結果、それらを実質
的に含有しない重合体溶液を単独に分離して回収するこ
とができ、しかも抽出に使用するアルコールは少量でよ
く、従って所期の透明性重合体をきわめて有利に製造す
ることができる。
また、特にメタセンス開通重合反応の溶媒として、上記
の特定の溶媒のうちの特にある種のものを使用した場合
には、分離された重合体溶液に対してそのまま水素添加
反応を行って水素添加重合体を製造することができ、従
って工業的にきわめて有利である。
の特定の溶媒のうちの特にある種のものを使用した場合
には、分離された重合体溶液に対してそのまま水素添加
反応を行って水素添加重合体を製造することができ、従
って工業的にきわめて有利である。
本発明の方法によって製造される透明性重合体はきわめ
て高純度であるので、特に光学特性、耐熱性、耐候性、
機械的性質等の緒特性に優れ、これらの特性を利用する
一般成形材料の他、光学式ビデオディスク、オーディオ
ディスク、文書ファイル用ディスク、メモリディスク、
カメラ用レンズ、レーザビーム用レンズなどの光学材料
として好適に使用することができる。
て高純度であるので、特に光学特性、耐熱性、耐候性、
機械的性質等の緒特性に優れ、これらの特性を利用する
一般成形材料の他、光学式ビデオディスク、オーディオ
ディスク、文書ファイル用ディスク、メモリディスク、
カメラ用レンズ、レーザビーム用レンズなどの光学材料
として好適に使用することができる。
また本発明によって製造された重合体は、既知の樹脂材
料、例えばスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リフェニレンオキサイド樹脂、ポリフェニレンスルファ
イド1llL=ttlJエーテルスルホン樹脂、ポリス
ルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブタジェン系樹脂、
ABS樹脂、ABS樹脂などとブレンドし、個々の樹脂
では不十分な特性を得ることができる。
料、例えばスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リフェニレンオキサイド樹脂、ポリフェニレンスルファ
イド1llL=ttlJエーテルスルホン樹脂、ポリス
ルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブタジェン系樹脂、
ABS樹脂、ABS樹脂などとブレンドし、個々の樹脂
では不十分な特性を得ることができる。
〔実施例1〕
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明がこ
れらによって制限されるものではない。
れらによって制限されるものではない。
実施例1
構造式
で表わされる単量体(8−メチル−8−カルボキシメチ
ルテトラシクロ[4,4,0,1’・5.17・”]−
]3−ドデセン8.0にg(34,5モル)と、水分を
除去したシクロヘキサンとエチレングリコールジメチル
エーテルとを重量比で8=2の割合で混合してなる溶媒
(以下「溶媒A■」という)24.0にgと、分子量調
節剤である1−ヘキセン580 g (6,9モル)と
を、窒素ガス置換した容量501の反応器に仕込み、こ
れにメタセンス重合触媒として濃度0.05モル/1の
六塩化タングステンのクロロベンゼン溶液137gと、
濃度0.96モル/lのジエチルアルミニウムクロライ
ドのトルエン溶液143gと、濃度0.2モル/1のパ
ラアルデヒドのトルエン溶液34gとを加え、80℃で
3時間重合反応させた。
ルテトラシクロ[4,4,0,1’・5.17・”]−
]3−ドデセン8.0にg(34,5モル)と、水分を
除去したシクロヘキサンとエチレングリコールジメチル
エーテルとを重量比で8=2の割合で混合してなる溶媒
(以下「溶媒A■」という)24.0にgと、分子量調
節剤である1−ヘキセン580 g (6,9モル)と
を、窒素ガス置換した容量501の反応器に仕込み、こ
れにメタセンス重合触媒として濃度0.05モル/1の
六塩化タングステンのクロロベンゼン溶液137gと、
濃度0.96モル/lのジエチルアルミニウムクロライ
ドのトルエン溶液143gと、濃度0.2モル/1のパ
ラアルデヒドのトルエン溶液34gとを加え、80℃で
3時間重合反応させた。
この重合反応における単量体の転化率は、得ろれた重合
反応液のガスクロマトグラフィー分析から、97.5%
であった。
反応液のガスクロマトグラフィー分析から、97.5%
であった。
以上のようにして得られた重合反応液を40℃に冷却し
て容量2001の容器に移し、これにトリエタノールア
ミン2にgを加えて30分間撹拌し、更に溶媒A■16
Kgを加えて希釈し、この状態でメタノール20にgを
添加して撹拌し、その後30分間静置したところ、上下
二層に分離した。
て容量2001の容器に移し、これにトリエタノールア
ミン2にgを加えて30分間撹拌し、更に溶媒A■16
Kgを加えて希釈し、この状態でメタノール20にgを
添加して撹拌し、その後30分間静置したところ、上下
二層に分離した。
下相から重合体溶液39にgを回収して別の容器に移し
、これに溶媒A■20にgとメタノールIOにgとを加
えて2回目の抽出分離を行い、下相から重合体溶液42
にgを回収し、これに更に溶媒へ〇18にgとメタノー
ル9にgとを加えて3回目の抽出分離を行い、下相から
重合体溶液40にgを回収した。
、これに溶媒A■20にgとメタノールIOにgとを加
えて2回目の抽出分離を行い、下相から重合体溶液42
にgを回収し、これに更に溶媒へ〇18にgとメタノー
ル9にgとを加えて3回目の抽出分離を行い、下相から
重合体溶液40にgを回収した。
ここに得られた重合体溶液の一部を採取し、これをTS
C法、ガスクロマトグラフィー法、蛍光X線法、原子吸
光法などにより分析した結果、当該重合体溶液中の重合
体の量は6.4にgに相当すること、残存する未反応の
単量体は重合体に対して0.1重量%以下であること、
タングステンの含有量およびアルミニウムの含有量はい
ずれも5 ppm以下であることが認められた。この重
合体の状態は、実質的に触媒成分右よび未反応単量体が
含まれていない状態である。
C法、ガスクロマトグラフィー法、蛍光X線法、原子吸
光法などにより分析した結果、当該重合体溶液中の重合
体の量は6.4にgに相当すること、残存する未反応の
単量体は重合体に対して0.1重量%以下であること、
タングステンの含有量およびアルミニウムの含有量はい
ずれも5 ppm以下であることが認められた。この重
合体の状態は、実質的に触媒成分右よび未反応単量体が
含まれていない状態である。
なお、以上の3回の抽出に使用したメタノールの合計量
は、仕込みの単量体に対し4,9重量倍であった。
は、仕込みの単量体に対し4,9重量倍であった。
以上の全3回の抽出分離操作によって得られた重合体溶
液に溶媒A■24にg加えて重合体濃度が10重量%の
重合体溶液を得、この重合体溶液と、水素添加触媒であ
る5%パラジウム/アルミナ触媒1.28Kgと共に窒
素置換した容量1001のオートクレーブに仕込み、水
素ガス圧100にg/cIIlfの条件下において16
5℃に昇温して4時間水素添加反応させた。その後反応
液を冷却し、水素添加触媒を1mのフィルターおよび0
.2mmのカー) 17フジフイルターで濾別して除去
し、スチームストリッピングを行って溶媒を留去し、更
に真空乾燥して純白の水素添加重合体6.3に8を得た
。
液に溶媒A■24にg加えて重合体濃度が10重量%の
重合体溶液を得、この重合体溶液と、水素添加触媒であ
る5%パラジウム/アルミナ触媒1.28Kgと共に窒
素置換した容量1001のオートクレーブに仕込み、水
素ガス圧100にg/cIIlfの条件下において16
5℃に昇温して4時間水素添加反応させた。その後反応
液を冷却し、水素添加触媒を1mのフィルターおよび0
.2mmのカー) 17フジフイルターで濾別して除去
し、スチームストリッピングを行って溶媒を留去し、更
に真空乾燥して純白の水素添加重合体6.3に8を得た
。
この水素添加重合体をゲルバーミエイシ日ンクロフトグ
ラフィーにより分析して得られたポリスチレン換算によ
る重量平均分子量は155.000であり、H−NMR
より分析した水素添加率は99%以上であった。
ラフィーにより分析して得られたポリスチレン換算によ
る重量平均分子量は155.000であり、H−NMR
より分析した水素添加率は99%以上であった。
この水素添加重合体は光学材料用の透明性重合体として
非常に好適なものであった。
非常に好適なものであった。
実施例、2
実施例1で用いた単量体8−メチル−8−カルボキシメ
チルテトラシクロ[4,4,0,1”・5.17・′。
チルテトラシクロ[4,4,0,1”・5.17・′。
]−3−ドデセン6.4にgと、
構造式
で表わされる単量体5−メチル−5−カルボキシメチル
ビシクロ[2,2,11−2−ヘプテン1.6にgとを
実施例1の単量体の代わりに用いた他は実施例1と同様
にして、メタセンス開通重合反応、メタノールによる合
計3回の抽出分離操作および水素添加反応を行って純白
の水素添加重合体6.1にgを得た。
ビシクロ[2,2,11−2−ヘプテン1.6にgとを
実施例1の単量体の代わりに用いた他は実施例1と同様
にして、メタセンス開通重合反応、メタノールによる合
計3回の抽出分離操作および水素添加反応を行って純白
の水素添加重合体6.1にgを得た。
最終的に分離された重合体溶液の分析の結果、重合体中
に残存する単量体は0.1重量%以下、タングステンの
含有量およびアルミニウム含有量は共に5 ppm以下
であった。また、水素添加重合体の重量平均分子量は1
45.000、水素添加率は99%以上であった。
に残存する単量体は0.1重量%以下、タングステンの
含有量およびアルミニウム含有量は共に5 ppm以下
であった。また、水素添加重合体の重量平均分子量は1
45.000、水素添加率は99%以上であった。
実施例3
実施例1で用いた単量体8−メチル−8−カルボキシl
チルf ) 5 シクロ[4,4,0,)”’、1””
]−3−ドデセン6、4Kgと、トリシクロ[5,2,
1,0”。
チルf ) 5 シクロ[4,4,0,)”’、1””
]−3−ドデセン6、4Kgと、トリシクロ[5,2,
1,0”。
“] −3,8−デカジエン(ジシクロペンタジェン)
1.6Kgを実施例1の単量体の代わりに用いた他は実
施例1と同様にして、メタセンス開通重合反応、メタノ
ールによる合計3回の抽出分離操作および水素添加反応
を行って純白の水素添加重合体6.0にgを得た。
1.6Kgを実施例1の単量体の代わりに用いた他は実
施例1と同様にして、メタセンス開通重合反応、メタノ
ールによる合計3回の抽出分離操作および水素添加反応
を行って純白の水素添加重合体6.0にgを得た。
最終的に分離された重合体溶液の分析の結果、重合体中
に残存する単量体は0.1重量%以下、タングステンの
含有量およびアルミニウム含有量は共に5 ppm以下
であった。また、水素添加重合体の重量平均分子量は1
60,000.水素添加率は99%以上であった。
に残存する単量体は0.1重量%以下、タングステンの
含有量およびアルミニウム含有量は共に5 ppm以下
であった。また、水素添加重合体の重量平均分子量は1
60,000.水素添加率は99%以上であった。
実施例4
実施例1において、溶媒A■の代わりにトルエンを用い
た他は実施例1と同様にして、メタセンス開通重合反応
を行った。得られた重合反応液の分析から、単量体の転
化率は98.5%であることが認められた。
た他は実施例1と同様にして、メタセンス開通重合反応
を行った。得られた重合反応液の分析から、単量体の転
化率は98.5%であることが認められた。
ここに得られた重合反応液にトリエタノールアミン2に
gを加えて撹拌し、更にトルエン16Kgを加えて希釈
し、メタノール30にgを添加して抽出分離を行ったと
ころ、上下二層に分離した。
gを加えて撹拌し、更にトルエン16Kgを加えて希釈
し、メタノール30にgを添加して抽出分離を行ったと
ころ、上下二層に分離した。
下相から重合体溶液42にgを回収し、これにトルエン
20にgとメタノール20にgとを加えて2回目の抽出
分離を行い、下相から重合体溶液45にgを回収し、こ
れにトルエン18にgとメタノール18Kgとを加えて
3回目の抽出分離を行い、下相から重合体溶液44K[
iを回収した。
20にgとメタノール20にgとを加えて2回目の抽出
分離を行い、下相から重合体溶液45にgを回収し、こ
れにトルエン18にgとメタノール18Kgとを加えて
3回目の抽出分離を行い、下相から重合体溶液44K[
iを回収した。
この重合体溶液の分析の結果、重合体中に残存する単量
体は0.1重量%以下、タングステンの含有量およびア
ルミニウム含有量は共に5 ppm以下であった。
体は0.1重量%以下、タングステンの含有量およびア
ルミニウム含有量は共に5 ppm以下であった。
なお、以上の3回の抽出に使用したメタノールの合計量
は、仕込みの単量体に対し、8.5重量倍であった。
は、仕込みの単量体に対し、8.5重量倍であった。
得られた重合体溶液に対し、スチームストリフピングと
真空乾燥を行って重合体6.8Kgを得た。
真空乾燥を行って重合体6.8Kgを得た。
この重合体を溶媒Δ■61Kgに溶解し、5%パラジウ
ム/アルミナよりなる水素添加触媒を1.36にg加え
て実施例1と同様にして水素添加反応を行って純白の水
素添加重合体6.7に&を得た。
ム/アルミナよりなる水素添加触媒を1.36にg加え
て実施例1と同様にして水素添加反応を行って純白の水
素添加重合体6.7に&を得た。
ここに得られた水素添加重合体の重量平均分子量1i−
160,000、水素添加率は99%以上であった。
160,000、水素添加率は99%以上であった。
比較例1
実施例4と同様にしてトルエンを溶媒として用いてメタ
センス開通重合反応を行い、得られた重合反応液にトリ
エタノールアミン2Kgを加えて撹拌した後、トルエン
47Kgを加えて重合体濃度を10%に調整し、これを
メタノール800にg中に注いで重合体を凝固させた。
センス開通重合反応を行い、得られた重合反応液にトリ
エタノールアミン2Kgを加えて撹拌した後、トルエン
47Kgを加えて重合体濃度を10%に調整し、これを
メタノール800にg中に注いで重合体を凝固させた。
ここに得られたスラリー液を200メツシユの金網で濾
過処理した後、メタノール200Kgを用いて重合体粉
末を洗浄し、真空乾燥して重合体7.0にgを得た。
過処理した後、メタノール200Kgを用いて重合体粉
末を洗浄し、真空乾燥して重合体7.0にgを得た。
この重合体を分析したところ、残存する単量体は0.2
6重量%、タングステンの含有量は18ρPmsアルミ
ニウム含有量は15ppmであった。
6重量%、タングステンの含有量は18ρPmsアルミ
ニウム含有量は15ppmであった。
なふ、この比較例1において使用したメタノールの合計
量は、仕込みの単量体に対し、125重量倍であった。
量は、仕込みの単量体に対し、125重量倍であった。
この比較例1と各実施例とを比較することにより、本発
明の方法によれば、メタセンス開環重合反応の重合体溶
液に対してアルコールによる抽出分離操作が行われるた
め、得られる重合体に存在する触媒成分および低分子量
体の量が非常に僅かであること、並びにアルコールの使
用量が少量であることが明らかである。
明の方法によれば、メタセンス開環重合反応の重合体溶
液に対してアルコールによる抽出分離操作が行われるた
め、得られる重合体に存在する触媒成分および低分子量
体の量が非常に僅かであること、並びにアルコールの使
用量が少量であることが明らかである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記一般式( I )で表わされる少なくとも1種の
単量体またはこの単量体とこれと共重合可能な他の単量
体とを、下記溶媒Aおよび/または溶媒Bを用いてメタ
センス重合触媒の存在下にメタセンス開環重合させて得
られる重合反応液に、アルコールを加え、これにより、
触媒成分および低分子量体を含有するアルコール相と重
合体溶液相とを分離させ、この重合体溶液相の重合体溶
液から重合体を得ることを特徴とする透明性重合体の製
造方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中AおよびBは水素原子または炭素数1〜10の炭
化水素基であり、 XおよびYは水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、
ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数1〜1
0の炭化水素基、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼またはXとYから構
成された ▲数式、化学式、表等があります▼若しくは▲数式、化
学式、表等があります▼を示し、 XおよびYの少なくとも1つは水素原子および炭化水素
基から選ばれる基以外の基(ここで、R^1、R^2、
R^3およびR^4は炭素数1〜20の炭化水素基、Z
はハロゲン原子で置換された炭化水素基、WはSiR^
5_pD_3_−_p(R^5は炭素数1〜10の炭化
水素基、Dはハロゲン原子、−OCOR^6または−O
R^6(R^6は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)
、pは0〜3の整数を示す)、nは0〜10の整数を示
す。)であり、 mは0または1である。〕。 溶媒A:(1)脂環族飽和炭化水素および/または脂肪
族飽和炭化水素と、(2)ジアルキル グリコールエーテルとの混合物 溶媒B:芳香族炭化水素 2)メタセンス開環重合反応の溶媒として溶媒Aのみを
用い、分離した重合体溶液をそのまま水素添加反応に供
することにより水素添加重合体を得ることを特徴とする
請求項1に記載の透明性重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4663989A JPH02227424A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 透明性重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4663989A JPH02227424A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 透明性重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02227424A true JPH02227424A (ja) | 1990-09-10 |
Family
ID=12752874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4663989A Pending JPH02227424A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 透明性重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02227424A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5300417A (en) * | 1991-06-25 | 1994-04-05 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing stress absorbing protective layer |
| US5310439A (en) * | 1991-12-18 | 1994-05-10 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Process for bonding a molded article of a thermoplastic saturated norbornene resin |
| WO1994016965A1 (fr) * | 1993-01-29 | 1994-08-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Emballage realise par compression |
| US5543948A (en) * | 1991-06-25 | 1996-08-06 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Thermoplastic saturated norbornene resin phase plate |
| EP0780847A2 (en) | 1995-11-22 | 1997-06-25 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition and articles made therefrom |
| US5783639A (en) * | 1994-03-14 | 1998-07-21 | Nipon Zeon Co., Ltd. | Composition of epoxy group-containing cycloolefin resin |
| WO2000059722A1 (en) | 1999-04-02 | 2000-10-12 | Yupo Corporation | Multilayered stretched resin film |
| US6310160B1 (en) | 1996-09-30 | 2001-10-30 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Norbornene polymer and process for preparing the same |
| US6472082B2 (en) | 1996-10-29 | 2002-10-29 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Modified thermoplastic norbornene polymer and process for the production thereof |
| US6492443B1 (en) | 1996-10-09 | 2002-12-10 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Norbornene polymer composition |
| US6613855B1 (en) | 1997-04-09 | 2003-09-02 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Polymerizable resin, and cured resins, insulators, components of electrical appliances, and electrical appliances made by using the same |
| JP2007227070A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Toyota Motor Corp | 燃料電池用電解質材料 |
| US7281491B2 (en) | 2002-06-11 | 2007-10-16 | Konica Corporation | Dielectric-coated electrode, plasma discharge treatment apparatus and method for forming thin film |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58120630A (ja) * | 1982-01-06 | 1983-07-18 | ザ・ビ−・エフ・グツドリツチ・カンパニ− | 高分子量シクロオレフインの非溶剤予備濃縮方法 |
-
1989
- 1989-03-01 JP JP4663989A patent/JPH02227424A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58120630A (ja) * | 1982-01-06 | 1983-07-18 | ザ・ビ−・エフ・グツドリツチ・カンパニ− | 高分子量シクロオレフインの非溶剤予備濃縮方法 |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5300417A (en) * | 1991-06-25 | 1994-04-05 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing stress absorbing protective layer |
| US5543948A (en) * | 1991-06-25 | 1996-08-06 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Thermoplastic saturated norbornene resin phase plate |
| US5310439A (en) * | 1991-12-18 | 1994-05-10 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Process for bonding a molded article of a thermoplastic saturated norbornene resin |
| WO1994016965A1 (fr) * | 1993-01-29 | 1994-08-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Emballage realise par compression |
| US5783639A (en) * | 1994-03-14 | 1998-07-21 | Nipon Zeon Co., Ltd. | Composition of epoxy group-containing cycloolefin resin |
| US5895800A (en) * | 1994-03-14 | 1999-04-20 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Composition of epoxy group-containing cycloolefin resin |
| US6001488A (en) * | 1994-03-14 | 1999-12-14 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Composition of epoxy group-containing cycloolefin resin |
| DE19509173B4 (de) * | 1994-03-14 | 2005-06-16 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Masse aus einem Epoxygruppen enthaltenden thermoplastischen Norbornenharz und ihre Verwendung |
| EP0780847A2 (en) | 1995-11-22 | 1997-06-25 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition and articles made therefrom |
| US6310160B1 (en) | 1996-09-30 | 2001-10-30 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Norbornene polymer and process for preparing the same |
| US6492443B1 (en) | 1996-10-09 | 2002-12-10 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Norbornene polymer composition |
| US6472082B2 (en) | 1996-10-29 | 2002-10-29 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Modified thermoplastic norbornene polymer and process for the production thereof |
| US6613855B1 (en) | 1997-04-09 | 2003-09-02 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Polymerizable resin, and cured resins, insulators, components of electrical appliances, and electrical appliances made by using the same |
| WO2000059722A1 (en) | 1999-04-02 | 2000-10-12 | Yupo Corporation | Multilayered stretched resin film |
| US7281491B2 (en) | 2002-06-11 | 2007-10-16 | Konica Corporation | Dielectric-coated electrode, plasma discharge treatment apparatus and method for forming thin film |
| JP2007227070A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Toyota Motor Corp | 燃料電池用電解質材料 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5202388A (en) | Process for producing hydrogenation product of ring-opening polymer | |
| KR970002522B1 (ko) | 투명 수지 재료 | |
| US6486264B1 (en) | Process for producing hydrogenated ring-opening polymerization polymer of cycloolefin | |
| KR100929966B1 (ko) | 노르보르넨 유도체 및 그의 노르보르넨계 개환 중합체 | |
| JP2825157B2 (ja) | 重合体の製造方法 | |
| KR101157275B1 (ko) | 환상 올레핀계 부가 중합체의 제조 방법 | |
| US5164469A (en) | Transparent resin material | |
| EP1657259A1 (en) | Process for producing cycloolefin addition polymer | |
| JPH072929A (ja) | 開環重合体水素化物の製造方法 | |
| JP3106811B2 (ja) | 環状オレフィン系開環重合体の精製方法 | |
| JPH0366725A (ja) | 重合体の製造方法 | |
| JPH0826124B2 (ja) | 光学材料 | |
| JPH01311120A (ja) | 水素添加重合体の製造方法 | |
| CN117510796A (zh) | 一种环烯烃开环聚合物氢化物及其制备方法和应用 | |
| WO2004044029A1 (ja) | ノルボルネン系開環重合体 | |
| JPH07149823A (ja) | 開環重合体水素化物の製造方法 | |
| JPH01158029A (ja) | 開環重合体水素添加物およびその製造方法 | |
| EP1884519B1 (en) | Metal hydride complex, method of hydrogenating ring-opening polymerization polymer of cycloolefin, and process for producing product of hydrogenation of ring-opening polymerization polymer of cycloolefin | |
| JPH0673168A (ja) | 開環重合体の製造法 | |
| JPH07196779A (ja) | ノルボルネン重合体およびその製造方法 | |
| CN117586452A (zh) | 一种环烯烃组合物及光学树脂材料 | |
| JP2953531B2 (ja) | 環状オレフィン系ランダム共重合体の製造方法 | |
| JPH06256477A (ja) | 重合体の製造法 | |
| CN121736232A (zh) | 一种氢化聚环烯烃材料的制备方法与应用 | |
| JPH01197460A (ja) | 環式不飽和カルボン酸エステルおよびその製造法並びに重合体およびその製造法 |