JPH0222929B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0222929B2
JPH0222929B2 JP57224381A JP22438182A JPH0222929B2 JP H0222929 B2 JPH0222929 B2 JP H0222929B2 JP 57224381 A JP57224381 A JP 57224381A JP 22438182 A JP22438182 A JP 22438182A JP H0222929 B2 JPH0222929 B2 JP H0222929B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mode
exposure
photometry
liquid crystal
operational amplifier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57224381A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59114522A (en
Inventor
Juichiro Konishi
Tokuichi Tsunekawa
Hiroki Someya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP57224381A priority Critical patent/JPS59114522A/en
Priority to US06/561,641 priority patent/US4534639A/en
Publication of JPS59114522A publication Critical patent/JPS59114522A/en
Publication of JPH0222929B2 publication Critical patent/JPH0222929B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B7/00—Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
    • G03B7/08—Control effected solely on the basis of the response, to the intensity of the light received by the camera, of a built-in light-sensitive device
    • G03B7/081—Analogue circuits

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Control For Cameras (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は露出モード切換に応じて測光切換を行
なう露出モード切換装置を有するカメラに関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a camera having an exposure mode switching device that performs photometry switching in response to exposure mode switching.

従来、露出モード切換装置は絞り優先モード、
シヤツタ優先モード、プログラムモード等を切換
可能にしているものであり、特に最近ではプログ
ラムもシヤツタ優先マジツクモード、絞り優先マ
ジツクモード等と種類も多くなつてきている。
Conventionally, exposure mode switching devices have aperture priority mode,
It is possible to switch between a shutter priority mode, a program mode, etc., and recently there have been an increase in the number of programs such as a shutter priority magic mode, an aperture priority magic mode, etc.

また、測光方式も中央重点測光、平均測光、部
分測光、スポツト測光と撮影者の好みで選択で
き、撮影者にとつて非常に便利になつてきてい
る。
Furthermore, the metering method can be selected from center-weighted metering, average metering, partial metering, and spot metering according to the photographer's preference, which has become very convenient for photographers.

しかしながらこのようにモード切換ができ便利
になつてくる反面、初心者にとつては操作が複雑
になるばかりで、使い方がわからず、誤まつて使
用する場合が多々あつた。
However, while being able to switch modes in this way has become more convenient, the operation has become more complicated for beginners, who often do not know how to use it and end up using it incorrectly.

一方、マニユアル撮影とオート撮影との切換え
に応じて測光センサー自体を切換え、実質的に測
光領域を変えることを、本出願人は特開昭52−
113730号として提案している。
On the other hand, the present applicant proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-11911 that the photometric sensor itself is switched in response to switching between manual shooting and automatic shooting, thereby substantially changing the photometry area.
It is proposed as No. 113730.

本発明は上記実施例に鑑みなされたもので、輝
度に応じて絞り値及びシヤツタ秒時の組合せが決
定される複数のプログラムが切換え可能なカメラ
において、単に測光センサーを切換えるのではな
く、プログラムの切換えに応じて、複数に分割さ
れた各領域での特定の重み付けを変化させて測光
値を演算することにより、選択されたプログラム
での撮影意図に応じた測光値を得ることができ
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned embodiments, and in a camera capable of switching between multiple programs in which the combination of aperture value and shutter speed is determined according to brightness, the present invention does not simply switch the photometric sensor; By changing the specific weighting in each of the plurality of divided areas in accordance with the switching and calculating the photometric value, it is possible to obtain the photometric value according to the shooting intention of the selected program.

以下本発明の一実施例を図面を参照して説明す
る。第1図はカメラの各露出モードにおけるプロ
グラム線図を示すもので、第1図において、縦軸
は絞り値(FNO)、横軸はシヤツタ秒時(T)、
斜めの軸はEV値を示す。は通常のプログラム
露光制御ラインであり、ノーマルモードと称す。
は撮影レンズの開放F値F2とし、シヤツタ速
度が被写体輝度に応じて横軸に沿つて1/1000秒
まで変化し、1/1000秒で絞り値が変化する。
F2では深度が浅い写真になり、モデル撮影に適
するのでシヤローフオーカスモードと呼ぶ。ま
た、1/1000秒から絞りが変わる領域は速い動き
のある被写体に向き、ストツプモーシヨンモード
と呼ぶ。また、は絞りF11の絞り優先的プログ
ラムである。すなわち、F11でシヤツタスピード
が変化し、ノーマルモードの線と交叉する点より
EV値が大きいところではノーマルモードになる。
このような場合の画像は、絞り値がF11であるこ
とから深度の深い写真になる。このモードをパン
フオーカスモードと称す。は最初は絞りF2の
絞り優先的にシヤツタースピードが変化するが
1/60の点からシヤツタ優先的に絞り値が変化
し、F22になつた点でシヤツタースピードが変化
し、大きくなる。このような場合の画像は、スピ
ードのある被写体を撮影するとき流し撮りがで
き、流麗な写真になる。このモードをパンニング
シヨツトモードと称す。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Figure 1 shows the program diagram for each exposure mode of the camera. In Figure 1, the vertical axis is the aperture value (FNO), the horizontal axis is the shutter time (T),
The diagonal axis shows the EV value. is a normal program exposure control line and is called normal mode.
is the open F value of the photographing lens F2, the shutter speed changes along the horizontal axis up to 1/1000 seconds according to the subject brightness, and the aperture value changes at 1/1000 seconds.
At F2, the photograph has a shallow depth of field, which is suitable for model photography, so it is called shallow focus mode. Also, the area where the aperture changes from 1/1000 seconds is suitable for shooting fast-moving subjects and is called stop motion mode. Also, is an aperture priority program with an aperture of F11. In other words, the shutter speed changes at F11, and from the point where it intersects the normal mode line.
In areas where the EV value is large, it becomes normal mode.
In this case, the aperture value is F11, so the image will have a deep depth. This mode is called a pamphlet focus mode. At first, the shutter speed changes with aperture priority at F2, but from the 1/60 point, the aperture value changes with shutter priority, and when it reaches F22, the shutter speed changes and becomes larger. In such a case, when photographing a fast-moving subject, you can take a panning shot, resulting in an elegant photograph. This mode is called panning shot mode.

本発明ではこれらの各露出モードにおいて、ど
のような測光モードが最適であるかを考えた結
果、次の如くであつた。
In the present invention, we have considered what kind of photometry mode is optimal for each of these exposure modes, and the results are as follows.

のノーマルモードでは、一般的な撮影である
ため、平均測光が適している。
In normal mode, average metering is suitable for general photography.

のシヤローフオーカスモード或いはストツプ
モーシヨンモードでは、フアインダ画面の中心部
に主被写体を位置させ、フアインダ画面の周辺部
を目立たないようにするため、部分測光が適して
いる。
In the shallow focus mode or stop motion mode, partial metering is suitable in order to position the main subject in the center of the viewfinder screen and make the periphery of the viewfinder screen inconspicuous.

のパンフオーカスモードでは、全面同じよう
に均一にピントが合うことが条件であり、画像も
どの部分を強調することもなく、画面全域平均的
な露出になることが必要であり、平均測光が適し
ている。
In the pamphlet focus mode, the entire surface must be in focus uniformly, and the image must have an average exposure over the entire screen without emphasizing any part, so average metering is suitable. ing.

のパンニングシヨツトモードでは、流し撮り
という撮影技法である。従つて画面では、一般に
はカメラを横にふるので画面を帯状に測光するこ
とが適しているものである。
The panning shot mode uses a shooting technique called panning. Therefore, since the camera is generally moved sideways on the screen, it is appropriate to measure the light in a strip across the screen.

ここで第2図はカメラの光学的構成を示すもの
で、1は撮影レンズ、2は可動ミラー、3はピン
ト板、4はコンデンサーレンズ、5はペンタプリ
ズム、6はアイピースレンズである。したがつ
て、撮影レンズ1を通過した光はミラー2で反射
され、ピント板3、コンデンサーレンズ4を通過
し、ペンタプリズム5で反射してアイピーレンズ
6で像を視認される。ピント板3は電気的光学拡
散板、例えば液晶によつて作られ、第3図のよう
に適宜のパターンに区分され、各区分はそれぞれ
個別の電極によつて電圧を別々に印加できるよう
に構成されている。各区分ごとにパルス電圧の印
加によつて濃度がかわるようになつている。7は
液晶駆動回路で、8は受光素子である。12は受
光素子前面の集光レンズである。例えば第3図で
ピント板3のaを示すところの電圧を下げて透明
度を上げ、他の部分は電圧を上げて透明度をおと
せば受光素子8にはaの部分を測光する部分測光
になる。
FIG. 2 shows the optical configuration of the camera, where 1 is a photographing lens, 2 is a movable mirror, 3 is a focusing plate, 4 is a condenser lens, 5 is a pentaprism, and 6 is an eyepiece lens. Therefore, the light that has passed through the photographic lens 1 is reflected by the mirror 2, passes through the focusing plate 3 and the condenser lens 4, is reflected by the pentaprism 5, and is visually recognized as an image by the IP lens 6. The focusing plate 3 is made of an electrical optical diffuser, for example, a liquid crystal, and is divided into appropriate patterns as shown in FIG. 3, and each division is constructed so that a voltage can be applied separately by an individual electrode. has been done. The concentration is changed in each section by applying a pulse voltage. 7 is a liquid crystal drive circuit, and 8 is a light receiving element. 12 is a condensing lens in front of the light receiving element. For example, in FIG. 3, if the voltage is lowered at the part indicated by a on the focusing plate 3 to increase the transparency, and the voltage is increased to lower the transparency at the other parts, partial photometry will be achieved in which the light-receiving element 8 measures the light at the part a.

したがつて、シヤローフオーカスモード、スト
ツプモーシヨンモードではこのような部分測光と
する。
Therefore, such partial photometry is used in the shallow focus mode and stop motion mode.

また、第3図のピント板3の全面を均一の透明
度にすると、平均測光となる。ノーマルモード、
パンフオーカスモードの際には平均測光とする。
Furthermore, if the entire surface of the focusing plate 3 in FIG. 3 is made uniformly transparent, average photometry will be obtained. Normal mode,
When in panfocus mode, average light metering is used.

さらに、ピントグラス3のd,a,eの透明度
を上げ、他の部分の透明度を落せば帯状の測光と
なり、パンニングシヨツトモードの際には帯状測
光とする。9は受光素子8の出力を入力とする制
御回路である。受光素子8のパターンを測光部の
液晶パターンと相似の形にすることによつて、測
光範囲の表示が可能である。10はモード切換回
路、11はモード設定回路である。
Furthermore, by increasing the transparency of d, a, and e of the focusing glass 3 and decreasing the transparency of other parts, band-shaped photometry is obtained, and in the panning shot mode, band-shaped photometry is used. 9 is a control circuit which receives the output of the light receiving element 8 as an input. By making the pattern of the light receiving element 8 similar to the liquid crystal pattern of the photometry section, it is possible to display the photometry range. 10 is a mode switching circuit, and 11 is a mode setting circuit.

第4図は受光素子8(8a,8b,8c,8
d,8e)のパターンとピント板の測光部表示の
液晶パターンの形状を相似とした場合の受光素子
8及び液晶ピント板3の駆動回路を示すものであ
る。受光素子8のパターン形状と液晶ピント板3
の表示パターンの形状が相似形であるので、測光
部分をピント板の液晶のわずかな濃淡の差で表示
出来、ピント板の見えずらさがない。受光素子8
(8a〜8e)はピント板3の測光部パターン
(a〜e)に対応して分割されており、Ga〜Ge
は受光素子切換用のアナログゲート、CDは受光
素子の光電流を対数圧縮するための対数圧縮ダイ
オード、OP1は測光用高入力インピーダンス演算
増幅器であり、この演算増幅器のOP1の出力には
受光素子8より生ずる光電流を対数圧縮した測光
情報が出力される。この測光情報と露出情報設定
回路IFSにより設定された情報及び露出レベル補
正情報とが演算抵抗R4〜R9を介して演算増幅
器OP2で演算される。演算増幅器OP2の出力は公
知の露出量制御回路CKTに加えられ、露出の制
御が行われる。Tr1〜Tr3は、露出レベル補正
情報の入力用のスイツチングトランジスタであ
り、露出モード設定に連動して切換えられる。
KVc,Vcは基準電源、Vccは電源電圧である。
SW,SW,SWは不図示で露出モード設定
部材に連動するスイツチであり、SWはノーマ
ルモード、パンフオーカスモードの時オンするス
イツチ、SWはシヤローフオーカスモード、ス
トツプモーシヨンモードの時オンするスイツチ、
SWはパンニングシヨツトモードの時オンする
スイツチであり、プルダウン抵抗R1〜R3、オ
アゲートOR1〜OR5、インバータIN1〜IN5を介
して、受光素子及び液晶パターンが選択される。
ピント板3の液晶パターンa〜eに対応する電極
がa1〜e1であり、a1〜e1に高い電圧が印加される
と入射光が散乱され、透明度が低下するように構
成されている。
FIG. 4 shows the light receiving elements 8 (8a, 8b, 8c, 8
This figure shows a drive circuit for the light receiving element 8 and the liquid crystal focus plate 3 when the patterns in d and 8e) and the shape of the liquid crystal pattern displayed by the photometry section of the focus plate are similar. Pattern shape of light receiving element 8 and liquid crystal focus plate 3
Since the shapes of the display patterns are similar, the photometric area can be displayed with a slight difference in density of the liquid crystal on the focus plate, and the focus plate does not become distorted. Light receiving element 8
(8a to 8e) are divided corresponding to the photometric part patterns (a to e) of the focusing plate 3, and are divided into Ga to Ge
is an analog gate for switching the photodetector, CD is a logarithmic compression diode for logarithmically compressing the photocurrent of the photodetector, and OP 1 is a high input impedance operational amplifier for photometry. Photometric information obtained by logarithmically compressing the photocurrent generated by the element 8 is output. This photometric information, information set by the exposure information setting circuit IFS, and exposure level correction information are calculated by the operational amplifier OP2 via the operational resistors R4 to R9. The output of the operational amplifier OP2 is applied to a known exposure control circuit CKT to control exposure. Tr1 to Tr3 are switching transistors for inputting exposure level correction information, and are switched in conjunction with exposure mode setting.
KVc and Vc are reference power supplies, and Vcc is the power supply voltage.
SW, SW, and SW are switches (not shown) that are linked to the exposure mode setting member, SW is a switch that is turned on in normal mode and pamphlet focus mode, and SW is a switch that is turned on in shallow focus mode and stop motion mode. Switch,
SW is a switch that is turned on in the panning shot mode, and the light receiving element and liquid crystal pattern are selected via pull-down resistors R1 to R3, OR gates OR1 to OR5 , and inverters IN1 to IN5 .
The electrodes corresponding to the liquid crystal patterns a to e of the focusing plate 3 are a1 to e1 , and the structure is such that when a high voltage is applied to a1 to e1 , the incident light is scattered and the transparency is reduced. There is.

次に上記構成の動作について説明する。 Next, the operation of the above configuration will be explained.

不図示の露出モード設定部材をノーマルモー
ド或いはパンフオーカスモードに設定すると、
スイツチSWがオンし、スイツチSW及び
スイツチSWはオフしたままである。このス
イツチSWのオンにより、電源電圧Vccがオ
アゲートOR1乃至OR5とトランジスタTr1に
加えられる。このため、トランジスタTr1が
オンするとともに、各オアゲートOR1乃至OR5
の出力はハイレベルとなる。この各オアゲート
OR1乃至OR5のハイレベル信号はインバータ
IN1乃至IN5に加えられるので、液晶ピント板
3には高い電圧が印加されないので、液晶ピン
ト板3は全面透明であり、全面測光であること
を表示する。同時に、各オアゲートOR1乃至
OR5のハイレベル信号はアナログゲートGa乃
至Geを全てオンし、受光素子8a乃至8eで
全面を測光する。これら受光素子8a乃至8e
より生ずる光電流を対数圧縮した測光情報が演
算増幅器OP1の出力から生じる。この演算増幅
器OP1からの測光情報と露出情報設定回路IFS
により設定された情報及び露出レベル補正抵抗
R4,R5,R8,R9を介して演算増幅器OP2で演
算される。この演算増幅器OP2の出力は露光量
制御回路CKTに加えられ、露光量制御回路
CKTは演算増幅器OP2の出力に基づいた露出
制御を行なう。
When the exposure mode setting member (not shown) is set to normal mode or pamphlet focus mode,
The switch SW is turned on, and the switch SW and switch SW remain off. By turning on the switch SW, the power supply voltage Vcc is applied to the OR gates OR1 to OR5 and the transistor Tr1. Therefore, transistor Tr1 is turned on, and each OR gate OR 1 to OR 5
The output becomes high level. Each of these or gates
High level signals of OR 1 to OR 5 are inverter
Since the high voltage is applied to IN 1 to IN 5 , no high voltage is applied to the liquid crystal focusing plate 3, so that the liquid crystal focusing plate 3 is entirely transparent, indicating that full-scale photometry is being performed. At the same time, each or gate OR 1 to
The high level signal from OR 5 turns on all analog gates Ga to Ge, and the light receiving elements 8a to 8e measure light over the entire surface. These light receiving elements 8a to 8e
The photometric information resulting from the logarithmic compression of the photocurrent generated by the photocurrent is generated from the output of the operational amplifier OP1 . Metering information and exposure information setting circuit IFS from this operational amplifier OP 1
Information set by and exposure level correction resistance
It is operated by operational amplifier OP 2 via R 4 , R 5 , R 8 , and R 9 . The output of this operational amplifier OP 2 is added to the exposure control circuit CKT,
CKT performs exposure control based on the output of operational amplifier OP2 .

不図示の露出モード設定部材をシヤローフオ
ーカスモード、ストツプモーシヨンモードに設
定すると、スイツチSWがオンし、スイツチ
SW及びスイツチSWはオフしたままであ
る。このスイツチSWのオンにより、電源電
圧VccがオアゲートOR1とトランジスタTr3
に加えられる。このため、トランジスタTr3
がオンするとともに、オアゲートOR1の出力
のみがハイレベルとなる。このオアゲートOR
1のハイレベル信号は、インバータIN1に加え
られるので、液晶ピント板3のb1,c1,d1,e1
端子には高い電圧が印加され、液晶ピント板3
のb,c,d,eの透明度が低下し、液晶ピン
ト板3のa端子にのみ低い電圧が印加され、液
晶ピント板3のaのみが透明であり、部分測光
であることを表示する。同時に、オアゲート
OR1のハイレベル信号は、アナログゲートGa
をオンし、受光素子8aで測光する。これら受
光素子8aより生ずる光電流を対数圧縮した測
光情報が演算増幅器OP1の出力から生じる。こ
の演算増幅器OP1からの測光情報と露出情報設
定回路IFSにより設定された情報及び露出レベ
ル補正抵抗R4,R7,R8,R9を介して、演算増
幅器OP2で演算される。この演算増幅器OP2の
出力は、露光量制御回路CKTに加えられ、露
光量制御回路CKTは演算増幅器OP2の出力に
基づいた露出制御を行なう。
When the exposure mode setting member (not shown) is set to shallow focus mode or stop motion mode, the switch SW is turned on.
SW and switch SW remain off. By turning on this switch SW, the power supply voltage Vcc is connected to OR gate OR1 and transistor Tr3.
added to. Therefore, transistor Tr3
is turned on, and only the output of OR gate OR1 becomes high level. This orgate OR
Since the high level signal of 1 is applied to the inverter IN 1 , b 1 , c 1 , d 1 , e 1 of the liquid crystal focusing plate 3
A high voltage is applied to the terminal, and the LCD focusing plate 3
The transparency of b, c, d, and e decreases, and a low voltage is applied only to the a terminal of the liquid crystal focusing plate 3, so that only the a terminal of the liquid crystal focusing plate 3 is transparent, indicating that partial photometry is being performed. At the same time, orgate
The high level signal of OR 1 is the analog gate Ga
is turned on and photometry is performed using the light receiving element 8a. Photometric information obtained by logarithmically compressing the photocurrent generated by these light receiving elements 8a is generated from the output of the operational amplifier OP1 . It is calculated by the operational amplifier OP 2 via the photometric information from the operational amplifier OP 1 , the information set by the exposure information setting circuit IFS, and the exposure level correction resistors R 4 , R 7 , R 8 , and R 9 . The output of the operational amplifier OP2 is applied to the exposure control circuit CKT, and the exposure control circuit CKT performs exposure control based on the output of the operational amplifier OP2 .

不図示の露出モード設定部材をパンニングシ
ヨツトモードに設定すると、スイツチSWが
オンし、スイツチSW及びスイツチSWは
オフしたままである。このスイツチSWのオ
ンにより、電源電圧VccがオアゲートOR1,
OR4,OR5とトランジスタTr2に加えられる。
このため、トランジスタTr2がオンするとと
もに、各オアゲートOR1,OR4,OR5の出力は
ハイレベルとなる。この各オアゲートOR1,
OR4,OR5のハイレベル信号はインバータIN1,
IN4,FN5に加えられるので、液晶ピント板3
のb1,c1端子には高い電圧が印加され、液晶ピ
ント板3のb,cの透明度が低下し、液晶ピン
ト板3のa1,d1,e1端子に高い電圧は印加され
ず、液晶ピント板3のa,d,eは透明であ
り、帯状測光であることを表示する。同時に、
各オアゲートOR1,OR4,OR5のハイレベル信
号はアナログゲートGa,Gd,Geをオンし、受
光素子8a,8d,8eで中央の帯状を測光す
る。これら受光素子8a,8d,8eより生ず
る光電流を対数圧縮した測光情報が演算増幅器
OP1の出力から生じる。この演算増幅器OP1か
らの測光情報と露出情報設定回路IFSにより設
定された情報及び露出レベル補正抵抗R4,R6,
R8,R9を介して演算増幅器OP2で演算される。
この演算増幅器OP2の出力は、露光量制御回路
CKTに加えられ、露光量制御回路CKTは演算
増幅器OP2の出力に基づいた露出制御を行な
う。
When an exposure mode setting member (not shown) is set to the panning shot mode, the switch SW is turned on, and the switch SW and the switch SW remain off. By turning on this switch SW, the power supply voltage Vcc changes to OR gate OR 1 ,
It is added to OR 4 , OR 5 and transistor Tr2.
Therefore, the transistor Tr2 is turned on, and the outputs of the OR gates OR1 , OR4 , and OR5 become high level. This each or gate OR 1 ,
The high level signals of OR 4 and OR 5 are sent to the inverter IN 1 ,
Since it can be added to IN 4 and FN 5 , LCD focusing plate 3
A high voltage is applied to the b 1 and c 1 terminals of the LCD, the transparency of b and c of the liquid crystal focusing plate 3 decreases, and no high voltage is applied to the a 1 , d 1 and e 1 terminals of the liquid crystal focusing plate 3. , a, d, and e of the liquid crystal focusing plate 3 are transparent, indicating that band photometry is being used. at the same time,
The high-level signals from the OR gates OR1 , OR4 , and OR5 turn on the analog gates Ga, Gd, and Ge, and the light-receiving elements 8a, 8d, and 8e measure light in the central strip. The photometric information obtained by logarithmically compressing the photocurrent generated from these photodetectors 8a, 8d, and 8e is sent to the operational amplifier.
Resulting from the output of OP 1 . The photometric information from the operational amplifier OP 1 , the information set by the exposure information setting circuit IFS, and the exposure level correction resistors R 4 , R 6 ,
It is calculated by operational amplifier OP 2 via R 8 and R 9 .
The output of this operational amplifier OP 2 is used by the exposure control circuit.
In addition to CKT, an exposure control circuit CKT performs exposure control based on the output of operational amplifier OP2 .

また、特開昭57−78033号のように露出モード
を絵表示すれば、本発明のようなマルチモードの
選択を容易にわかりやすくでき、操作性のよいも
のとなる。更に、測光方式をマニユアルにそれぞ
れ選択できる場合、シヤローフオーカス、ストツ
プモーシヨンモード時には部分測光以外は選択で
きないようにし、また、ノーマルモード、パンフ
オーカスモード時は平均測光以外は選択できない
ように、また、パニングシヨツトモード時には帯
状測光以外選択できないように警告したり、禁止
したりすることも可能である。
Furthermore, if the exposure modes are displayed as pictures as in Japanese Patent Application Laid-open No. 57-78033, the multi-mode selection as in the present invention can be easily and clearly understood, resulting in improved operability. Furthermore, when it is possible to manually select each photometry method, it has been made so that only partial photometry can be selected in shallow focus and stop motion modes, and only average metering can be selected in normal and panfocus modes. It is also possible to warn or prohibit selections other than strip metering when in panning shot mode.

以上詳記したように、本発明によれば、複数の
プログラムが切換え可能なカメラにおいて、プロ
グラムの切換えに応じて複数の光電出力を変化せ
ることにより被写界の特定の領域の重み付けを変
化させて、選択されたプログラムでの撮影意図に
応じた測光値を得ることができるので、選択した
プログラムにふさわしい測光をわざわざ考えるこ
となく、撮影になれない人でも無難に撮影できる
利点を有する。
As described in detail above, according to the present invention, in a camera capable of switching between multiple programs, the weighting of a specific area of the subject can be changed by changing the multiple photoelectric outputs in accordance with switching of the programs. Since it is possible to obtain a photometric value according to the shooting intention in the selected program, even people who are not good at shooting can take photos without having to take the trouble of thinking about photometry suitable for the selected program.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係わるカメラの各露出モード
におけるプログラム線図、第2図は本発明の一実
施例を示すカメラの光学的構成図、第3図は第2
図に示す液晶ピント板の図、第4図は第2図に示
すカメラの制御回路図。 3…液晶ピント板、8…受光素子、9…制御回
路、10…モード切換回路、11…設定回路。
FIG. 1 is a program diagram for each exposure mode of the camera according to the present invention, FIG. 2 is an optical configuration diagram of the camera showing an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a diagram of the liquid crystal focusing plate shown in the figure, and FIG. 4 is a control circuit diagram of the camera shown in FIG. 3...Liquid crystal focusing plate, 8...Light receiving element, 9...Control circuit, 10...Mode switching circuit, 11...Setting circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 被写界を複数の領域に分割して測光し、各領
域に対応した複数の光電出力を発生する測光手段
と、 輝度に応じて絞り値及びシヤツタ秒時の組合せ
が決定される複数のプログラムが切換え可能な露
出モード設定回路と、 前記露出モード設定回路で切換えられたプログ
ラムの種類に応じて、前記測光手段における特定
の領域の光電出力の重み付けを変化させて測光値
を演算する演算手段と、を備えた露出モード切換
装置を有するカメラ。
[Scope of Claims] 1. A photometer that measures light by dividing a field into a plurality of regions and generates a plurality of photoelectric outputs corresponding to each region, and a combination of an aperture value and a shutter speed depending on the brightness. an exposure mode setting circuit capable of switching between a plurality of programs to be determined; and a photometric value by changing the weighting of the photoelectric output of a specific area in the photometric means according to the type of program switched by the exposure mode setting circuit. A camera having an exposure mode switching device comprising: a computing means for computing; and an exposure mode switching device.
JP57224381A 1982-12-21 1982-12-21 Camera with exposure mode switching device Granted JPS59114522A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57224381A JPS59114522A (en) 1982-12-21 1982-12-21 Camera with exposure mode switching device
US06/561,641 US4534639A (en) 1982-12-21 1983-12-15 Camera having an exposure mode change-over device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57224381A JPS59114522A (en) 1982-12-21 1982-12-21 Camera with exposure mode switching device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59114522A JPS59114522A (en) 1984-07-02
JPH0222929B2 true JPH0222929B2 (en) 1990-05-22

Family

ID=16812854

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57224381A Granted JPS59114522A (en) 1982-12-21 1982-12-21 Camera with exposure mode switching device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59114522A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0672979U (en) * 1993-03-30 1994-10-11 エヌティエヌ株式会社 Alignment device for annular work

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112887591A (en) * 2021-01-11 2021-06-01 惠州Tcl移动通信有限公司 Camera starting method and system, mobile terminal and computer readable storage medium

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS505410U (en) * 1973-05-09 1975-01-21
JPS54156533A (en) * 1978-05-31 1979-12-10 Nippon Chemical Ind Camera having variable programmed exposure controller
JPS57168237A (en) * 1981-04-10 1982-10-16 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Multiple photometric device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0672979U (en) * 1993-03-30 1994-10-11 エヌティエヌ株式会社 Alignment device for annular work

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59114522A (en) 1984-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2541965B2 (en) Camera with auto zoom
US4534639A (en) Camera having an exposure mode change-over device
US4884144A (en) Electronic camera
JPH0462052B2 (en)
US4465355A (en) Single-lens reflex camera
JPS6031026A (en) Multiple photometric device
US4433908A (en) Device for setting exposure quantity
US4509848A (en) Light measuring device for camera
US4494853A (en) Photometric method for cameras
JPS59114522A (en) Camera with exposure mode switching device
JPH09113953A (en) Luminance metering device and method in which the metering area of a camera is variable
US5983038A (en) White balance adjusting device
JPS58107519A (en) Photometry device
JP3212164B2 (en) Camera photometer
JPS59114523A (en) camera photometry device
JP3244316B2 (en) LCD of camera
JPH0228508Y2 (en)
JPS62203140A (en) Photometer for camera with automatic focus function
JP3131434B2 (en) camera
JP3002502B2 (en) Multi-dimming autofocus camera
JP3121065B2 (en) camera
JP3212724B2 (en) Camera with print size setting
JPS5812571B2 (en) sotsukoukikou
JPS58100839A (en) Exposure controller of camera
JPS6064337A (en) Warning device for unreachable distance of stroboscopic light