JPH02230153A - 感光性セラミックコーティング用組成物及びその製造方法 - Google Patents
感光性セラミックコーティング用組成物及びその製造方法Info
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- QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N syringin Chemical compound COC1=CC(\C=C\CO)=CC(OC)=C1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は感光性セラミックコーティング組成物に関し、
特に、セラミック成分が誘電材である前記組成物に関す
る。
特に、セラミック成分が誘電材である前記組成物に関す
る。
多層厚膜回路が、単位面積当りの回路機能を増大するた
めに、多年に亘って用いられている。更に、回路技術の
最近の進歩によって、この用途に用いる誘電材に新たな
要求を課している。多層回路に従来用いられる誘電材の
殆どは、通常の厚膜誘電材組成物であった。これらは不
活性な有機媒質中に分散された、微細に分割された誘電
性固体粒子および無機バインダーを含んでいる。このよ
うな厚膜材料は、他の手段によっても同様に塗布され得
るが、通常はスクリーン印刷によって塗布される。
めに、多年に亘って用いられている。更に、回路技術の
最近の進歩によって、この用途に用いる誘電材に新たな
要求を課している。多層回路に従来用いられる誘電材の
殆どは、通常の厚膜誘電材組成物であった。これらは不
活性な有機媒質中に分散された、微細に分割された誘電
性固体粒子および無機バインダーを含んでいる。このよ
うな厚膜材料は、他の手段によっても同様に塗布され得
るが、通常はスクリーン印刷によって塗布される。
このタイプの厚膜材は極めて重要であり、今後も重要で
あり続けるであろう。しかしながら、スクリーン印刷で
これら厚膜材を塗布するときは、8mll(203μ)
よりも良い解像度を得るのは困難である。事実、このレ
ベルの特性を得るためには、スクリーンの品質、スキー
ジの硬さ、印刷速度、分散の性質等のようなスクリーン
印刷の全ての変数を、良好な生成物収率を得るように注
意深く制御し、且つ絶えずモニターしなければならない
。勿論、厚膜導電体およびレジスタ材の使用についても
同様の問題がある。
あり続けるであろう。しかしながら、スクリーン印刷で
これら厚膜材を塗布するときは、8mll(203μ)
よりも良い解像度を得るのは困難である。事実、このレ
ベルの特性を得るためには、スクリーンの品質、スキー
ジの硬さ、印刷速度、分散の性質等のようなスクリーン
印刷の全ての変数を、良好な生成物収率を得るように注
意深く制御し、且つ絶えずモニターしなければならない
。勿論、厚膜導電体およびレジスタ材の使用についても
同様の問題がある。
この問題に対する一つのアプローチは、(1)感光性媒
質中に分散する手段によって、誘電材層を基体に塗布す
ることと、(2)該層を画像的に化学線放射に露出する
ことと、(3)前記パターンを溶媒現像し、前記層の非
露出部分を除去することと、(4)残存した露出パター
ン部分を焼成し、全ての残存有機材を除去し且つ無機材
を焼結することである。この技術は、下記の幾つかの特
許に示されている。即ち、llliseの米国特許第3
,443,944号、Selertの米国特許第3,8
15.457号、Jnskjpの米国特許第3.958
,99f3号および第3.982,941号、Felt
enの米国特許第3.877,950号、Schelb
er等の米国特許第3,914,128号である。Ba
ird等の米国特許第3.355.291号および旧n
ett1の米国特許第3.573,908号には、ガラ
スの感光性ペーストを塗布することによりガラスを半導
体装置に塗布し、露光し、溶媒現像し、そして露光領域
を焼成する方法が記載されている。
質中に分散する手段によって、誘電材層を基体に塗布す
ることと、(2)該層を画像的に化学線放射に露出する
ことと、(3)前記パターンを溶媒現像し、前記層の非
露出部分を除去することと、(4)残存した露出パター
ン部分を焼成し、全ての残存有機材を除去し且つ無機材
を焼結することである。この技術は、下記の幾つかの特
許に示されている。即ち、llliseの米国特許第3
,443,944号、Selertの米国特許第3,8
15.457号、Jnskjpの米国特許第3.958
,99f3号および第3.982,941号、Felt
enの米国特許第3.877,950号、Schelb
er等の米国特許第3,914,128号である。Ba
ird等の米国特許第3.355.291号および旧n
ett1の米国特許第3.573,908号には、ガラ
スの感光性ペーストを塗布することによりガラスを半導
体装置に塗布し、露光し、溶媒現像し、そして露光領域
を焼成する方法が記載されている。
上記従来技術は感光性誘電体ペーストを記載しているが
、これらのペーストには幾つかの欠点がある。即ち、乾
燥、露光、焼成に関する特性および寛容度である。従っ
て、上記の欠点を低減または除去でき、同時に8 if
lのライン及びスペースの解像度を提供できるペースト
が要求されている。
、これらのペーストには幾つかの欠点がある。即ち、乾
燥、露光、焼成に関する特性および寛容度である。従っ
て、上記の欠点を低減または除去でき、同時に8 if
lのライン及びスペースの解像度を提供できるペースト
が要求されている。
その主要な見地において、本発明は実質的に非酸化性の
雰囲気において焼成され得る感光性セラミックコーティ
ング組成物に向けられている。この組成物は、下記成分
(a)〜(f)の混合物を含んでいる。
雰囲気において焼成され得る感光性セラミックコーティ
ング組成物に向けられている。この組成物は、下記成分
(a)〜(f)の混合物を含んでいる。
(a)セラミック固体の微細に分割された粒子であって
、重量に対する表面積の比が10m’/g以下で、且つ
粒子の少なくとも80重二%が1〜10μの粒子サイズ
を有するもの。
、重量に対する表面積の比が10m’/g以下で、且つ
粒子の少なくとも80重二%が1〜10μの粒子サイズ
を有するもの。
(b)無機バインダーの微細に分割された粒子であって
、重量に対する表面積の比が10m2/g以下で、また
.粒子の8〜15重量%がlμより小さく且つ0.5μ
より大きい粒子サイズを有し、粒子の85〜92重量%
が1〜10μの粒子サイズを有するもの。上記成分(a
)に対する成分(b)の重量比は0,6〜2.0で、ま
たこれら成分は下記成分(c)〜(f)を含む有機媒質
中に分散されている。
、重量に対する表面積の比が10m2/g以下で、また
.粒子の8〜15重量%がlμより小さく且つ0.5μ
より大きい粒子サイズを有し、粒子の85〜92重量%
が1〜10μの粒子サイズを有するもの。上記成分(a
)に対する成分(b)の重量比は0,6〜2.0で、ま
たこれら成分は下記成分(c)〜(f)を含む有機媒質
中に分散されている。
(e) (1) C+−+oのアルキルアクリレートと
、C 1〜10のアルキルメタクリレートと、α−メチ
ルスチレンと、0−2重量%のエチレン的に不飽和なカ
ルボン酸、アミン又はシラン含有化合物とのホモポリマ
ー及びコポリマ− (2) C1−+oのモノオレフィ
ン類のホモポリマー及.びコポリマー(3)C1〜4の
アルキレンオキシド類のホモポリマー及びコポリマー、
並びにこれらの混合物からなる群から選択ざれる有機重
合体バインダー;このバインダーは、無機固体の合計量
を基準として5〜10重量%含まれる。
、C 1〜10のアルキルメタクリレートと、α−メチ
ルスチレンと、0−2重量%のエチレン的に不飽和なカ
ルボン酸、アミン又はシラン含有化合物とのホモポリマ
ー及びコポリマ− (2) C1−+oのモノオレフィ
ン類のホモポリマー及.びコポリマー(3)C1〜4の
アルキレンオキシド類のホモポリマー及びコポリマー、
並びにこれらの混合物からなる群から選択ざれる有機重
合体バインダー;このバインダーは、無機固体の合計量
を基準として5〜10重量%含まれる。
(d)光開始剤系
(e)光硬化性モノマー;このモノマーは、無機固体の
合計量を基準として1〜20重量%含まれる。
合計量を基準として1〜20重量%含まれる。
(r)下記構造■または■で示される分散剤。
但し、上記式Iにおいて、
Qは下記a−dのポリマー切片またはコポリマー切片で
ある。
ある。
a.アクリル酸またはメタクリル酸と炭素原子数1〜1
8のアルカノールとのエステル、b.スチレン又はアク
リロニトリル、 C.エステル部分が2〜18の炭素原子を含むビニルエ
ステル、 d.ビニルエーテル、 Xは連鎖移動剤の残基である。
8のアルカノールとのエステル、b.スチレン又はアク
リロニトリル、 C.エステル部分が2〜18の炭素原子を含むビニルエ
ステル、 d.ビニルエーテル、 Xは連鎖移動剤の残基である。
Yはインシアネート基を除去後のジー,トリー.又はテ
トライソシアネート基の残基である。
トライソシアネート基の残基である。
Aは反応前の対象としては5〜14のpKa値を有する
塩基性基の残基、またはその塩である。
塩基性基の残基、またはその塩である。
m及びnは、nが2又は3のときには必要とされる唯一
の八が決定されると仮定して、1.2又は3で且つ合計
は4を越えない。
の八が決定されると仮定して、1.2又は3で且つ合計
は4を越えない。
C}{OJ{
CH2
但し、上記式Hにおいて、
Qは約20単位のプチルメタクリレートを含むアルキル
メタクリレートポリマ一切片である。
メタクリレートポリマ一切片である。
nは20である。
mは8〜12である。
Rは連鎖移動剤の残基である。
(g)ジアルキルフタレート、アリルーアルキルフタレ
ート、アルキルホスフエー・ト、ポリアルキレングリコ
ール、グリセロール、ポリ(エチレンオキシド)、ヒド
ロキシエチル化アルキルフェノール、リン酸トリクレシ
ルトリエチレングリコールジアセテート及びポリエステ
ル可塑剤からなる群から選択される可塑剤;この可塑剤
は、無機固体の合計量を基準として1〜10重量%含ま
れる。
ート、アルキルホスフエー・ト、ポリアルキレングリコ
ール、グリセロール、ポリ(エチレンオキシド)、ヒド
ロキシエチル化アルキルフェノール、リン酸トリクレシ
ルトリエチレングリコールジアセテート及びポリエステ
ル可塑剤からなる群から選択される可塑剤;この可塑剤
は、無機固体の合計量を基準として1〜10重量%含ま
れる。
(h)揮発性の非水性有機溶媒。
第二の見地において、本発明は上記感光性セラミックコ
ーティング組成物を製造する方法に向けられている。こ
の方法では、前期成分(a)及び(b)が成分(C)〜
(h)と混合される前に凍結乾燥される。
ーティング組成物を製造する方法に向けられている。こ
の方法では、前期成分(a)及び(b)が成分(C)〜
(h)と混合される前に凍結乾燥される。
更に別の見地において、本発明は、成分(a)及び(b
)が成分(c)〜(h)と混合される前に磁気分離器を
通される、上記感光性セラミックコーティング組成物を
製造するための方法に向けられている。
)が成分(c)〜(h)と混合される前に磁気分離器を
通される、上記感光性セラミックコーティング組成物を
製造するための方法に向けられている。
A.セラミック固体
この発明は、いかなる実質的な高融点無機固体物質にも
適用可能である。しかしながら、これは、アルミナ、チ
タン酸塩、ジルコン酸塩およびスズ酸塩のような誘電性
固体の分散体の製造に特.に適している。これはまた、
そのような物質の前駆物質、すなわち焼成すると直ちに
誘電性固体、およびそれらの混合物に変わる物質にも適
用可能である。
適用可能である。しかしながら、これは、アルミナ、チ
タン酸塩、ジルコン酸塩およびスズ酸塩のような誘電性
固体の分散体の製造に特.に適している。これはまた、
そのような物質の前駆物質、すなわち焼成すると直ちに
誘電性固体、およびそれらの混合物に変わる物質にも適
用可能である。
この発明に使用されるような多くの誘電性固体の中で、
BaT103、CaTIOi、SrTfO3、PbTf
Oi、CaZrO3、BaZrOi、Canna,、B
aSnOiおよびAI203が使用され゛るニセラミッ
ク技術の当業者には明らかであるように、この発明の組
成物において使用されるセラミック固体の正確な化学組
成は、通常、レオロジー的な意味において重要ではない
。また、セラミック固体は有機分散体における膨潤特性
を有していないことが好ましい。これは、分散体のレオ
ロジー特性がこれらによって実質的に変化するためであ
る。
BaT103、CaTIOi、SrTfO3、PbTf
Oi、CaZrO3、BaZrOi、Canna,、B
aSnOiおよびAI203が使用され゛るニセラミッ
ク技術の当業者には明らかであるように、この発明の組
成物において使用されるセラミック固体の正確な化学組
成は、通常、レオロジー的な意味において重要ではない
。また、セラミック固体は有機分散体における膨潤特性
を有していないことが好ましい。これは、分散体のレオ
ロジー特性がこれらによって実質的に変化するためであ
る。
この発明の分散体は、粒子径0.3ミクロン未満の固体
を有意の量含んではならないことが見出だされている。
を有意の量含んではならないことが見出だされている。
これは、有機溶媒を除去し、および無機バインダーおよ
びセラミック固体の焼結を達成するためにそれらの膜お
よび層を焼成する際に有機溶媒を適切にかつ完全に焼失
させるためである。しかしながら、セラミック固体は2
0ミクロンをこえることがなく、さらにセラミック固体
の少なくとも75重量%は1−10ミクロンの径を有し
ていなければならない。この分散体が、通常スクリーン
印刷によって塗布される厚いフィルムペーストを製造す
るために使用される場合には、最大粒子径はスクリーン
の厚みをこえてはならない。さらに、分散体が乾燥感光
性フィルムを製造するために使用される場合には、最大
粒子径はフィルムの厚みをこえてはならない。セラミッ
ク固体の少なくとも80重量%が1−10ミクロンの範
囲にあることが好ましい。
びセラミック固体の焼結を達成するためにそれらの膜お
よび層を焼成する際に有機溶媒を適切にかつ完全に焼失
させるためである。しかしながら、セラミック固体は2
0ミクロンをこえることがなく、さらにセラミック固体
の少なくとも75重量%は1−10ミクロンの径を有し
ていなければならない。この分散体が、通常スクリーン
印刷によって塗布される厚いフィルムペーストを製造す
るために使用される場合には、最大粒子径はスクリーン
の厚みをこえてはならない。さらに、分散体が乾燥感光
性フィルムを製造するために使用される場合には、最大
粒子径はフィルムの厚みをこえてはならない。セラミッ
ク固体の少なくとも80重量%が1−10ミクロンの範
囲にあることが好ましい。
分布曲線の50%ポイント(Dso)、即ちより小さい
粒子の重量とより大きい粒子の重量が等しくなるポイン
トに対する好ましい粒子径は、2,30ないし2.70
ミクロンの範囲内にある。
粒子の重量とより大きい粒子の重量が等しくなるポイン
トに対する好ましい粒子径は、2,30ないし2.70
ミクロンの範囲内にある。
このサイズ範囲は、気密構造を維持しながらふくれのな
い表面を達成するために必要である。この粒子径範囲は
、ガラスフリットの粒子径範囲の2,30ないし2.7
0ミクロンと同じかまたは非常に近くなければならない
。
い表面を達成するために必要である。この粒子径範囲は
、ガラスフリットの粒子径範囲の2,30ないし2.7
0ミクロンと同じかまたは非常に近くなければならない
。
加えて、セラミック粒子の表面積/重量比は、10rt
f/trをこえないことが好ましい。これは、そのよう
な粒子が共に使用する無機バインダーの焼結特性に悪影
響を与える傾向があるためである。
f/trをこえないことが好ましい。これは、そのよう
な粒子が共に使用する無機バインダーの焼結特性に悪影
響を与える傾向があるためである。
表面a/ffiffl比は5 rrt / gをこえな
いことがさらに好ましい。表面積/重量比が1−5であ
るセラミック粒子が非常に満足できるものであることが
見出だされている。
いことがさらに好ましい。表面積/重量比が1−5であ
るセラミック粒子が非常に満足できるものであることが
見出だされている。
好ましい物質はアルミナである。粉砕した水アルミナス
ラリーを目の細かいスクリーン(例えば、40.0メッ
シュ)に通して大きい粒子を除き、および磁気選別機を
通過させることが好ましい手順である。この磁気選別機
は、除去しなければ最終製品の伝導度を増加させるであ
ろう全ての磁気伝導性物質を除去する。
ラリーを目の細かいスクリーン(例えば、40.0メッ
シュ)に通して大きい粒子を除き、および磁気選別機を
通過させることが好ましい手順である。この磁気選別機
は、除去しなければ最終製品の伝導度を増加させるであ
ろう全ての磁気伝導性物質を除去する。
非常に重要なことは、凝集物のないセラミック固体組成
物を達成することである。通常、所望の粒子径分布を達
成するためにセラミックを粉砕した後、水または混合溶
媒を真空で補助した加熱または空気流内での加熱によっ
て除去する。この技術は、セラミック粒子のあるものが
凝集する結果を招き、これは焼成の後、大きな粒子塊お
よび/またはふくれを有する部分になる。
物を達成することである。通常、所望の粒子径分布を達
成するためにセラミックを粉砕した後、水または混合溶
媒を真空で補助した加熱または空気流内での加熱によっ
て除去する。この技術は、セラミック粒子のあるものが
凝集する結果を招き、これは焼成の後、大きな粒子塊お
よび/またはふくれを有する部分になる。
この特に重大な不利点は、粉砕したアルミナの凍結乾燥
による好ましい手順において除去される。
による好ましい手順において除去される。
凍結乾燥の非常に穏やかな条件.は、粉末を加熱した場
合に通常起こる凝集の可能性を除去する。同様の技術は
異なるセラミック固体に適用することもできる。
合に通常起こる凝集の可能性を除去する。同様の技術は
異なるセラミック固体に適用することもできる。
B.無機バインダー
この発明において使用されるガラスフリットは無機結晶
性粒子の焼結を助けるものであり、およびセラミック固
体の融点よりも低い融点を有する公知の組成物であり得
る。それにもかかわらず、装置の適切な気密性を得るた
めに、無機バインダーのガラス転移点(Tg)は550
−825℃であることが好まし<、575−750℃で
あることがさらに好ましい。溶融が550℃未満でおこ
る場合には、有機物質はおそらく封止され、有機体の分
解物としてふくれが誘電層の表面に形成される傾向にあ
る。一方、ガラス転移点が825℃をこえる場合には、
銅金属被覆法に適合する焼結温度、例えば900℃を用
いたときに有孔誘電層を形成する傾向にある。
性粒子の焼結を助けるものであり、およびセラミック固
体の融点よりも低い融点を有する公知の組成物であり得
る。それにもかかわらず、装置の適切な気密性を得るた
めに、無機バインダーのガラス転移点(Tg)は550
−825℃であることが好まし<、575−750℃で
あることがさらに好ましい。溶融が550℃未満でおこ
る場合には、有機物質はおそらく封止され、有機体の分
解物としてふくれが誘電層の表面に形成される傾向にあ
る。一方、ガラス転移点が825℃をこえる場合には、
銅金属被覆法に適合する焼結温度、例えば900℃を用
いたときに有孔誘電層を形成する傾向にある。
最も好ましく使用されるガラスフリットは、硼硅酸鉛の
ような硼硅酸塩フリット、ビスマス、カドミウム、バリ
ウム、カルシウムまたは他のアルカリ土類硼硅酸塩フリ
ットである。そのようなガラスフリットの調製法は公知
である。その方法は、例えば、酸化物の形態にあるガラ
スの成分を一緒に溶解し、その溶融成分を水に注いでフ
リットを形成させることからなる。もちろん、バッチ成
分は、フリット製造の通常の条件下で所望の酸化物を生
じるいかなる化合物でもあり得る。例えば、酸化硼素が
硼酸から得られ、二酸化硅素がフリントから調製され、
酸化バリウムが炭酸バリウムから調製される。
ような硼硅酸塩フリット、ビスマス、カドミウム、バリ
ウム、カルシウムまたは他のアルカリ土類硼硅酸塩フリ
ットである。そのようなガラスフリットの調製法は公知
である。その方法は、例えば、酸化物の形態にあるガラ
スの成分を一緒に溶解し、その溶融成分を水に注いでフ
リットを形成させることからなる。もちろん、バッチ成
分は、フリット製造の通常の条件下で所望の酸化物を生
じるいかなる化合物でもあり得る。例えば、酸化硼素が
硼酸から得られ、二酸化硅素がフリントから調製され、
酸化バリウムが炭酸バリウムから調製される。
ガラスは、所望の成分を所望の割合で混合し、その混合
物を加熱して溶融物を形成することによる通常のガラス
製造方法によって調製される。この分野で公知のように
、加熱はピーク温度まで、および溶融物が完全に液状か
つ均一になるような時間行われる。この仕事においては
、成分を、プラスチックボールを有するポリエチレンジ
ャー内で振とうし、その後プラチナるつぼ中で所望の温
度で溶融することによりプレミックスする。この溶毀物
を、ピーク温度で1ないし1.5時間加熱する。次いで
、この溶融物を冷水に注ぐ。冷却中の水の最高温度は、
溶融物に対する水の割合を増加させることによりできる
だけ低く保つ。水から分離した後の粗フリットを、空気
中での乾燥だき、またはメタノールですすぐことによっ
て水を置き換えることにより、残留水のない状態にする
。
物を加熱して溶融物を形成することによる通常のガラス
製造方法によって調製される。この分野で公知のように
、加熱はピーク温度まで、および溶融物が完全に液状か
つ均一になるような時間行われる。この仕事においては
、成分を、プラスチックボールを有するポリエチレンジ
ャー内で振とうし、その後プラチナるつぼ中で所望の温
度で溶融することによりプレミックスする。この溶毀物
を、ピーク温度で1ないし1.5時間加熱する。次いで
、この溶融物を冷水に注ぐ。冷却中の水の最高温度は、
溶融物に対する水の割合を増加させることによりできる
だけ低く保つ。水から分離した後の粗フリットを、空気
中での乾燥だき、またはメタノールですすぐことによっ
て水を置き換えることにより、残留水のない状態にする
。
次に、この粗ガラスフリットを水中で粉砕して粒子径を
約2.5ミクロンに減少させる。その後、このフリット
を、好ましくはセラミック固体と同様の方法で処理する
。このフリットを、400メッシュのスクリーンに通し
て大きな粒子を除去し、および磁気的に分離する。その
後、粉砕したガラスー水スラリーを凍結乾燥させる。セ
ラミック固体を使用した場合、凍結乾燥以外の手段によ
る乾燥は、凝集物で汚染された粉末を生じる結果となる
。
約2.5ミクロンに減少させる。その後、このフリット
を、好ましくはセラミック固体と同様の方法で処理する
。このフリットを、400メッシュのスクリーンに通し
て大きな粒子を除去し、および磁気的に分離する。その
後、粉砕したガラスー水スラリーを凍結乾燥させる。セ
ラミック固体を使用した場合、凍結乾燥以外の手段によ
る乾燥は、凝集物で汚染された粉末を生じる結果となる
。
セラミック固体のようなガラスフリットは、10m2/
g以下の表面/重量比を有するべきであり、0,3ミク
ロン未満のサイズを存する粒子を意味のある量含むべき
ではない。セラミック固体に対して論じたように、ガラ
ス粒子は、セラミック固体と同じか非常に近いD,。を
有するべきてある。
g以下の表面/重量比を有するべきであり、0,3ミク
ロン未満のサイズを存する粒子を意味のある量含むべき
ではない。セラミック固体に対して論じたように、ガラ
ス粒子は、セラミック固体と同じか非常に近いD,。を
有するべきてある。
しかしながら、これらの粒子径および表面積の制限は、
単独では、良好な気密および物理特性を有する焼成した
部分になるセラミックコーティング用組成物の調製を保
証するには不充分である。
単独では、良好な気密および物理特性を有する焼成した
部分になるセラミックコーティング用組成物の調製を保
証するには不充分である。
これは、誘電性組成物中のサブミクロン粒子(ファイン
ズ)の量を制御することにより達成されることが見出さ
れている。ガラス粒子の約8−15重量%が、0.5ミ
クロンをこえ1,0ミクロン未満の粒子径を有するべき
である。ガラス粒子の10−12%がこのサブミクロン
範囲にあることが好ましい。サブミクロン粒子の濃度が
約8重瓜%未満である場合には、焼成したセラミック誘
電体は気密および絶縁特性が減少するであろう。約15
重量%をこえるサブミクロン粒子が存在する場合には、
焼成工程において、ガスの放出が完了する前に焼結が開
始される。これはふくれを形成する結果となる。
ズ)の量を制御することにより達成されることが見出さ
れている。ガラス粒子の約8−15重量%が、0.5ミ
クロンをこえ1,0ミクロン未満の粒子径を有するべき
である。ガラス粒子の10−12%がこのサブミクロン
範囲にあることが好ましい。サブミクロン粒子の濃度が
約8重瓜%未満である場合には、焼成したセラミック誘
電体は気密および絶縁特性が減少するであろう。約15
重量%をこえるサブミクロン粒子が存在する場合には、
焼成工程において、ガスの放出が完了する前に焼結が開
始される。これはふくれを形成する結果となる。
ガラス粒子の残りの85−92重量%は、1一10ミク
ロンの粒子径を有するべきである。この粒子径は1−6
ミクロンであることが好ましい。
ロンの粒子径を有するべきである。この粒子径は1−6
ミクロンであることが好ましい。
より大きい径の粒子は、焼結特性がより乏しい傾向にあ
る。
る。
セラミック固体に対する無機バインダーの比は、最適の
容量を有する焼成した誘電性部の製造に非常に重要であ
る。粒子径は1−6ミクロンであることが好ましい。よ
り大きい径の粒子は、焼結特性がより乏しい傾向にある
。
容量を有する焼成した誘電性部の製造に非常に重要であ
る。粒子径は1−6ミクロンであることが好ましい。よ
り大きい径の粒子は、焼結特性がより乏しい傾向にある
。
セラミック固体に対する無機バインダーの比は、最適の
容量を有する焼成した誘電性部の製造に非常に重要であ
る。この比が0.6ないし2.0であることが好ましく
、1.0であることが最も好ましい。この比が有意に高
い場合には、焼成すると直ちに誘重層にふくれが形成さ
れる傾向がある。
容量を有する焼成した誘電性部の製造に非常に重要であ
る。この比が0.6ないし2.0であることが好ましく
、1.0であることが最も好ましい。この比が有意に高
い場合には、焼成すると直ちに誘重層にふくれが形成さ
れる傾向がある。
この比が有意に低い場合には、焼成した誘電体は有孔性
であり、そのため気密性でもない。
であり、そのため気密性でもない。
C.有機ポリマーバインダー
上述したように、この発明の分散体のバインダー成分は
、 ( 1 ) C +−+oのアルキルアクリレート、C
1〜10のアルキルメタクリレート、α−メチルスチ
レン、および0ないし2重量%のエチレン性不飽和のカ
ルボン酸、アミン、またはシラン含有化合物のホモポリ
マーおよびコポリマー ( 2 ) C +−toのモノオレフィンのホモポリ
マーおよびコポリマー (3)C1〜4のアルキレンオキシドおよびそれらの混
合物のホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選
ばれた有機ポリマーバインダーであり、このバインダー
は無機固体の全量を基準としてジないし25重二%含有
される。
、 ( 1 ) C +−+oのアルキルアクリレート、C
1〜10のアルキルメタクリレート、α−メチルスチ
レン、および0ないし2重量%のエチレン性不飽和のカ
ルボン酸、アミン、またはシラン含有化合物のホモポリ
マーおよびコポリマー ( 2 ) C +−toのモノオレフィンのホモポリ
マーおよびコポリマー (3)C1〜4のアルキレンオキシドおよびそれらの混
合物のホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選
ばれた有機ポリマーバインダーであり、このバインダー
は無機固体の全量を基準としてジないし25重二%含有
される。
上述したポリマーは、ランダムコポリマーおよび高次の
マルチポリマーと同様にホモポリマーを含む。ボリマー
鎖に沿って分布するカルボン酸またはアミンの相対量は
、せいぜい2.0重量%までにするべきである。それら
は、低酸素雰囲気中でよりきれいに焼かれるので、メタ
クリル系ポリマー(特に、ポリメチルメタクリレート)
が、アクリル系ボリマーより好ましい。
マルチポリマーと同様にホモポリマーを含む。ボリマー
鎖に沿って分布するカルボン酸またはアミンの相対量は
、せいぜい2.0重量%までにするべきである。それら
は、低酸素雰囲気中でよりきれいに焼かれるので、メタ
クリル系ポリマー(特に、ポリメチルメタクリレート)
が、アクリル系ボリマーより好ましい。
官能基を含むコモノマーは、分散されたセラミック固体
の凝集を避けるために、いずれか1つのポリマーにおい
て10.0ffiffi%をまたはボリマー混合物中に
おいて2.0%を超えないことが好ましい。い《つかの
場合に1.8%という低い酸含有モノマーを有するボリ
マー混合物が、分散特性に関してボーダーラインである
かまたは不十分でさえあり得ることが見出だされた。そ
れにも拘らず、この種のほとんどの場合、そのようなポ
リマーは、より極性のある溶媒を使用することによって
この発明において使用され得る。このように、2.0%
ものモノマー含有官能基を含んだボリマー混合物が使用
され得るが、官能性モノマーをわずか1.5%有するそ
のようなポリマー混合物が好ましい。そのような官能性
モノマーをせいぜい1,0重量%まで含むものが、さら
に好ましい。
の凝集を避けるために、いずれか1つのポリマーにおい
て10.0ffiffi%をまたはボリマー混合物中に
おいて2.0%を超えないことが好ましい。い《つかの
場合に1.8%という低い酸含有モノマーを有するボリ
マー混合物が、分散特性に関してボーダーラインである
かまたは不十分でさえあり得ることが見出だされた。そ
れにも拘らず、この種のほとんどの場合、そのようなポ
リマーは、より極性のある溶媒を使用することによって
この発明において使用され得る。このように、2.0%
ものモノマー含有官能基を含んだボリマー混合物が使用
され得るが、官能性モノマーをわずか1.5%有するそ
のようなポリマー混合物が好ましい。そのような官能性
モノマーをせいぜい1,0重量%まで含むものが、さら
に好ましい。
ボリマー混合物中に含まれるいずれのボリマーも、官能
性コモノマーを10.Offi量%を超えて含まない場
合も同様の・理由で好ましい。このように、ポリマーバ
インダーは、いくつかのボリマーが官能基をまったく含
まず、および全混合物中の官能性コモノマーの含有量が
0.2ないし2.0重量%の範囲内である限りにおいて
、いくつかのポリマーが官能性コモノマ〜を10.0重
二%含むようなポリマーの混合物であり得る。他方では
、ポリマーバインダーは、官能性コモノマーを0ないし
5.0重量%含む前記に規定するようなメタクリルボリ
マーで大部分を構成してなるものが好ましい。
性コモノマーを10.Offi量%を超えて含まない場
合も同様の・理由で好ましい。このように、ポリマーバ
インダーは、いくつかのボリマーが官能基をまったく含
まず、および全混合物中の官能性コモノマーの含有量が
0.2ないし2.0重量%の範囲内である限りにおいて
、いくつかのポリマーが官能性コモノマ〜を10.0重
二%含むようなポリマーの混合物であり得る。他方では
、ポリマーバインダーは、官能性コモノマーを0ないし
5.0重量%含む前記に規定するようなメタクリルボリ
マーで大部分を構成してなるものが好ましい。
好適な共重合性カルボン酸は、アクリル酸、メタクリル
酸、およびクロトン酸のようなC,〜6のエチレン性不
飽和モノカルボン酸、並びにフマル酸、イタコン酸、シ
トラコン酸、ビニルコハク酸、およびマレイン酸のよう
なC 4−10のジカルボン酸、さらにそれらの半エス
テル、適切であれば、それらの無水物およびそれらの混
合物を含む。それらは、低酸素雰囲気中でよりきれいに
焼かれるので、メタクリル系ボリマーが、アクリル系ポ
リマーより好ましい。
酸、およびクロトン酸のようなC,〜6のエチレン性不
飽和モノカルボン酸、並びにフマル酸、イタコン酸、シ
トラコン酸、ビニルコハク酸、およびマレイン酸のよう
なC 4−10のジカルボン酸、さらにそれらの半エス
テル、適切であれば、それらの無水物およびそれらの混
合物を含む。それらは、低酸素雰囲気中でよりきれいに
焼かれるので、メタクリル系ボリマーが、アクリル系ポ
リマーより好ましい。
ある種のアミン成分は、アミン含有モノマーの共重合に
よって直接的に鎖内に組み込まれることができないが、
ボリマー鎖の反応性側基のポスト重合によって間接的に
組み込まれ得ることが当然認められる。その例示的なも
のは、アンモニアの存在下においてグリシジル化合物と
側基カルボン酸基との反応によって与えることができる
第1級アミンである。このようにここで使用されている
「エチレン性不飽和アミン」という語は、アミン含有コ
モノマーと、ポスト重合反応をしてそこにアミン基を形
成された他のモノマーとの双方から誘導されたボリマー
を含むことを意図する。第1級、第2級、および第3級
アミンは、同様にそれぞれ有効である。パインダーボリ
マー鎖中に側基アミン基を直接組み込むために好適なコ
モノマーは、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート、およびt−プチル
アミノエチルメタクリレートを含む。アミン官能基を取
り入れるためのポスト重合反応に好適な側基官能基を与
える有用なコモノマーは、上記のエチレン性不飽和化合
物、すなわち、グリシジルアクリレートまたはグリシジ
ルメタクリレートのようなエボキシドを含む。
よって直接的に鎖内に組み込まれることができないが、
ボリマー鎖の反応性側基のポスト重合によって間接的に
組み込まれ得ることが当然認められる。その例示的なも
のは、アンモニアの存在下においてグリシジル化合物と
側基カルボン酸基との反応によって与えることができる
第1級アミンである。このようにここで使用されている
「エチレン性不飽和アミン」という語は、アミン含有コ
モノマーと、ポスト重合反応をしてそこにアミン基を形
成された他のモノマーとの双方から誘導されたボリマー
を含むことを意図する。第1級、第2級、および第3級
アミンは、同様にそれぞれ有効である。パインダーボリ
マー鎖中に側基アミン基を直接組み込むために好適なコ
モノマーは、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート、およびt−プチル
アミノエチルメタクリレートを含む。アミン官能基を取
り入れるためのポスト重合反応に好適な側基官能基を与
える有用なコモノマーは、上記のエチレン性不飽和化合
物、すなわち、グリシジルアクリレートまたはグリシジ
ルメタクリレートのようなエボキシドを含む。
非酸コモノマーに対する上記の制限内において、アルキ
ルアクリレートまたはメタクリレートが、ボリマーの少
なくとも75重量%、好ましくは少なくとも80ffi
量%を構成することが好ましい。
ルアクリレートまたはメタクリレートが、ボリマーの少
なくとも75重量%、好ましくは少なくとも80ffi
量%を構成することが好ましい。
ポリマーバインダー、は、上に論じた組成基準および以
下に示す物理的基準と合致する限りにおいて、スチレン
、アクリ口ニトリル、ビニルアセテート、アクリルアミ
ド等のような他の非アクリル系および非酸コモノマーを
約10重量%まで含み得る。しかしながら、そのような
モノマーを約5重量%を超えないで使用することが好ま
しい。なぜならば、それらはきれいに焼却することがよ
り困難であるからである。現在、そのような他のコモノ
マーの使用が、この発明に対するそれらの適用において
、コポリマーの効能に付加されることが知られていない
。しかしながら、すべての組成的および物理的性能基準
が合致する限りにおいて、上記に挙げた量におけるその
ようなコモノマーは、ボリマーの効力を減じさせること
はない。
下に示す物理的基準と合致する限りにおいて、スチレン
、アクリ口ニトリル、ビニルアセテート、アクリルアミ
ド等のような他の非アクリル系および非酸コモノマーを
約10重量%まで含み得る。しかしながら、そのような
モノマーを約5重量%を超えないで使用することが好ま
しい。なぜならば、それらはきれいに焼却することがよ
り困難であるからである。現在、そのような他のコモノ
マーの使用が、この発明に対するそれらの適用において
、コポリマーの効能に付加されることが知られていない
。しかしながら、すべての組成的および物理的性能基準
が合致する限りにおいて、上記に挙げた量におけるその
ようなコモノマーは、ボリマーの効力を減じさせること
はない。
上記のアクリルおよびメタクリルボリマーに加えて、ポ
リエチレン、ボリブロビレン、ポリブチレン、ポリイソ
ブチレン、およびエチレンーブロビレンコポリマーのよ
うな種々のポリオレフィンも使用され得る。この発明に
おいて、また、有用なものは、ポリエチレンオキシド、
ボリブロピレンオキシド、およびポリブチレンオキシド
のような低級アルキレンオキシドのポリマーであるいわ
ゆるポリエーテルである。
リエチレン、ボリブロビレン、ポリブチレン、ポリイソ
ブチレン、およびエチレンーブロビレンコポリマーのよ
うな種々のポリオレフィンも使用され得る。この発明に
おいて、また、有用なものは、ポリエチレンオキシド、
ボリブロピレンオキシド、およびポリブチレンオキシド
のような低級アルキレンオキシドのポリマーであるいわ
ゆるポリエーテルである。
上記のような組成的バラメーターに加えて、ポリマーバ
インダーのある物理的特性が、当然重要となる。特に、
未露光のパインダーポリマーは、溶媒現像液を使用する
場合はいずれのものも実質的に現像可能でなければなら
ないことが従来のフォトレジスト技術の当業者によって
認識されるであろう。これに対して、光硬化したバイン
ダーは、現像液溶媒によって洗い流されない充分な耐溶
媒性を有していなければならない。
インダーのある物理的特性が、当然重要となる。特に、
未露光のパインダーポリマーは、溶媒現像液を使用する
場合はいずれのものも実質的に現像可能でなければなら
ないことが従来のフォトレジスト技術の当業者によって
認識されるであろう。これに対して、光硬化したバイン
ダーは、現像液溶媒によって洗い流されない充分な耐溶
媒性を有していなければならない。
これらの基準に合致したボリマーは、通常の溶液重合技
術によってアクリレート重合技術の当業者によって製造
することができる。典型的には、アルファ、ベーターエ
チレン性不飽和酸と、一つまたはそれ以上の共重合性と
ニルモノマーを比較的低い沸点(75ないし150℃)
の有機溶媒中で混合して、モノマー混合物の20ないし
60%溶液を得、その後、重合触媒を加え、および混合
物を大気圧で溶液の還流温度に加熱することによってモ
ノマーを重合させ、そのような酸性アクリルボリマーを
調製する。重合反応が事実上完了した後、得られた酸ボ
リマー溶液を室温に冷却し、ボリマーの粘度、分子量、
酸当量等を測定するために試料を取り出す。
術によってアクリレート重合技術の当業者によって製造
することができる。典型的には、アルファ、ベーターエ
チレン性不飽和酸と、一つまたはそれ以上の共重合性と
ニルモノマーを比較的低い沸点(75ないし150℃)
の有機溶媒中で混合して、モノマー混合物の20ないし
60%溶液を得、その後、重合触媒を加え、および混合
物を大気圧で溶液の還流温度に加熱することによってモ
ノマーを重合させ、そのような酸性アクリルボリマーを
調製する。重合反応が事実上完了した後、得られた酸ボ
リマー溶液を室温に冷却し、ボリマーの粘度、分子量、
酸当量等を測定するために試料を取り出す。
D.光開始系
好適な光開始系は、熱的に不活性であるが、85℃また
はそれ以下の温度で化学線光にさらすことによりフリー
ラジカルを発生するものである。
はそれ以下の温度で化学線光にさらすことによりフリー
ラジカルを発生するものである。
これらのものは、共役炭素環系において2つの環内炭素
原子を有する化合物である置換または無置換の多環キノ
ンを含む。例えば、9,10−アントラキノン、2−メ
チルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−
t−プチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノ
ン、1,4−ナフトキノン、9. 10−フエナントレ
ンキノン、ベンズ(ザ)アントラセン−7,12−ジオ
ン、2,3−ナフタセンー5,12−ジオン、2−メチ
ル−1.4−ナフトキノン、1,4−ジメチルーアント
ラキノン、2.3−ジメチルアントラキノン、2−フエ
ニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノ
ン、レテンキノン、7,8,9,10−テトラヒド口ナ
フタセン−5.12−ジオン、および1,2,3.4−
テトラヒド口ベンズ(ザ)アントラセン−7,12−シ
オンである。2、3のものは、85℃程度の低い温度に
おいて熱的に活性であるけれども、有用でもある他の光
開始剤は、米国特許第2.760,863号において記
載されており、ベンゾインエーテル、ピバロインエーテ
ル、アシ口インエーテル、例えば、ベンゾインメチルエ
ーテルおよびベンゾインエチルエーテルのようなビシナ
ルケタールドニルアルコール;アルファ−メチルベンゾ
イン、アルファアリルベンゾイン、およびアルファフエ
ニルベンゾインを含むアルファ炭化水素置換芳香族アシ
口インを含む。米国特許第2,850,445号、第2
,865,947号、第3,097,096号、第3.
074,974号、第3.097097号、および第3
,145,104号において開示された光還元性染料お
よび還元剤、さらに、米国特許第3,427.161号
、第3,479,185号、および第3,549,36
7号において記載されているようなフエナジン、オキサ
ジン、およびキノンクラス、すなわち、ミヒラーケトン
、ベンゾフェノン、ロイコ染料を含む水素ドナーを有す
る2、4.5−}リアリールイミジゾリルダイマー、お
よびそれらの混合物も光開始剤として使用され得る。光
開始剤および光抑制剤としてまた有用なものは、米国特
許第4,162.162号に開示されている増感剤であ
る。
原子を有する化合物である置換または無置換の多環キノ
ンを含む。例えば、9,10−アントラキノン、2−メ
チルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−
t−プチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノ
ン、1,4−ナフトキノン、9. 10−フエナントレ
ンキノン、ベンズ(ザ)アントラセン−7,12−ジオ
ン、2,3−ナフタセンー5,12−ジオン、2−メチ
ル−1.4−ナフトキノン、1,4−ジメチルーアント
ラキノン、2.3−ジメチルアントラキノン、2−フエ
ニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノ
ン、レテンキノン、7,8,9,10−テトラヒド口ナ
フタセン−5.12−ジオン、および1,2,3.4−
テトラヒド口ベンズ(ザ)アントラセン−7,12−シ
オンである。2、3のものは、85℃程度の低い温度に
おいて熱的に活性であるけれども、有用でもある他の光
開始剤は、米国特許第2.760,863号において記
載されており、ベンゾインエーテル、ピバロインエーテ
ル、アシ口インエーテル、例えば、ベンゾインメチルエ
ーテルおよびベンゾインエチルエーテルのようなビシナ
ルケタールドニルアルコール;アルファ−メチルベンゾ
イン、アルファアリルベンゾイン、およびアルファフエ
ニルベンゾインを含むアルファ炭化水素置換芳香族アシ
口インを含む。米国特許第2,850,445号、第2
,865,947号、第3,097,096号、第3.
074,974号、第3.097097号、および第3
,145,104号において開示された光還元性染料お
よび還元剤、さらに、米国特許第3,427.161号
、第3,479,185号、および第3,549,36
7号において記載されているようなフエナジン、オキサ
ジン、およびキノンクラス、すなわち、ミヒラーケトン
、ベンゾフェノン、ロイコ染料を含む水素ドナーを有す
る2、4.5−}リアリールイミジゾリルダイマー、お
よびそれらの混合物も光開始剤として使用され得る。光
開始剤および光抑制剤としてまた有用なものは、米国特
許第4,162.162号に開示されている増感剤であ
る。
好ましい光開始系は、ベンゾフェノンおよびミヒラーケ
ト・ンを含有する。最も好ましい光開始系は、ベンゾフ
ェノンおよびミヒラーケトンを6:1の比で含有する。
ト・ンを含有する。最も好ましい光開始系は、ベンゾフ
ェノンおよびミヒラーケトンを6:1の比で含有する。
光開始剤または光開始剤系は、無機固体の全重量を基準
として0,05ないし12重量%存在する。
として0,05ないし12重量%存在する。
E.光硬化可能単量体
本発明の光硬化可能単量体成分は、少なくとも1の重合
可能なエチレン性基を有する少なくとも1の付加重合可
能なエチレン性不飽和化合物を包含する。そのような化
合物は、フリーラジカル開始され連鎖生長付加重合によ
り高重合体を形成することができる。好ましくは、不飽
和化合物(単量体)は、少なくとも2の末端エチレン性
不飽和基例えば2乃至4の基を有する。単量体化合物は
非ガス状である。すなわち、それらは100℃以上の通
常沸点(norn+al bollingpolnt)
および有機重合性バインダに対する可塑化作用を有する
。
可能なエチレン性基を有する少なくとも1の付加重合可
能なエチレン性不飽和化合物を包含する。そのような化
合物は、フリーラジカル開始され連鎖生長付加重合によ
り高重合体を形成することができる。好ましくは、不飽
和化合物(単量体)は、少なくとも2の末端エチレン性
不飽和基例えば2乃至4の基を有する。単量体化合物は
非ガス状である。すなわち、それらは100℃以上の通
常沸点(norn+al bollingpolnt)
および有機重合性バインダに対する可塑化作用を有する
。
単独でまたは他の単量体との組み合わせで使用されるこ
とができる適当な単量体は、t−プチルアクリレートお
よびメタクリレート、1,5−ペンタンジオールジアク
リレートおよびジメタクリレート、N,N, −ジエ
チルアミノエチルアクリレートおよびメタクリレート、
エチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレ
ート、1.4−ブタンジオールジアクリレートおよびジ
メタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート
およびジメタクリレート、ヘキサメチレングリコールジ
アクリレートおよびジメタクリレート、1,3−ブロバ
ンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、デ
カメチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリ
レート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレー
トおよびジメタクリレート、2.2−ジメチロールプロ
パンジアクリレートおよびジメタクリレート、グリセロ
ールジアクリレートおよびジメタクリレート、トリブロ
ビレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレー
ト、グリセロールトリアクリレートおよびトリメタクリ
レート、トリメチロールブロバントリアクリレートおよ
びトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートおよびトリメタクリレート、ポリオキシエチル
化トリアクリレートおよびトリメタクリレート、および
米国特許第3,380,831号に記載された同様の化
合物、2,2−ジ(p−ヒドロキシフエニル)一プロパ
ンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レートポリオキシエチル−2,2−ジー(p−ヒドロキ
シフェニル)プロパンジメタクリレート、ビスフェノー
ルーAのジー(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシ
ブ口ビル)エーテル、ビスフェノールーAのジー(2−
メタクリルオキシエチル)エーテル、ビスフェノールー
Aのジー(3−アクリルオキシー2−ヒドロキシブ口ビ
ル)エーテル、ビスフェノールーAのジー(2−アクリ
ルオキシエチル)エーテル゛、1,4一ブタンジオール
のジー(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシブ口ビ
ル)エーテル、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリオキシブロビルトリメチロールブロバントリア
クリレート、ブチレングリコールジアクリレートおよび
ジメタクリレート、1.2.4−ブタントリオールトリ
アクリレートおよびトリメタクリレート、2,2,4−
トリメチル−1.3−ペンタンジオールジアクリレート
およびジメタクリレート、1〜フエルエチレン−1,2
−ジメタクリレート、ジアリルフマレート、スチレン、
1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート、1,4−
ジイソブロペニルベンゼン、および1,3.5−トリイ
ソプロペニルベンゼンを含む。少なくとも300の分子
量を有するエチレン性不飽和化合物、例えば、2乃至1
5の炭素を有するアルキレングリコールまたは1乃至1
0のエーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコール
から製造されるアルキレンまたはポリアルキレングリコ
ールジアクリレート、および米国特許第2,927,0
22号に開示されたもの、例えば複数の付加重合可能な
エチレン性結合を有するもの、特に末端結合として存在
する場合、である。好ましい単量体は、エチル化ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ジベンタエリスリト
ールモノヒド口キシベンタアクリレートおよび1,10
−デカンジオールジメタクリレートである。不飽和の単
量体成分は、乾燥光重合可能層の全重量を基礎として5
乃至45重量%の量で存在する。
とができる適当な単量体は、t−プチルアクリレートお
よびメタクリレート、1,5−ペンタンジオールジアク
リレートおよびジメタクリレート、N,N, −ジエ
チルアミノエチルアクリレートおよびメタクリレート、
エチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレ
ート、1.4−ブタンジオールジアクリレートおよびジ
メタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート
およびジメタクリレート、ヘキサメチレングリコールジ
アクリレートおよびジメタクリレート、1,3−ブロバ
ンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、デ
カメチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリ
レート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレー
トおよびジメタクリレート、2.2−ジメチロールプロ
パンジアクリレートおよびジメタクリレート、グリセロ
ールジアクリレートおよびジメタクリレート、トリブロ
ビレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレー
ト、グリセロールトリアクリレートおよびトリメタクリ
レート、トリメチロールブロバントリアクリレートおよ
びトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレートおよびトリメタクリレート、ポリオキシエチル
化トリアクリレートおよびトリメタクリレート、および
米国特許第3,380,831号に記載された同様の化
合物、2,2−ジ(p−ヒドロキシフエニル)一プロパ
ンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レートポリオキシエチル−2,2−ジー(p−ヒドロキ
シフェニル)プロパンジメタクリレート、ビスフェノー
ルーAのジー(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシ
ブ口ビル)エーテル、ビスフェノールーAのジー(2−
メタクリルオキシエチル)エーテル、ビスフェノールー
Aのジー(3−アクリルオキシー2−ヒドロキシブ口ビ
ル)エーテル、ビスフェノールーAのジー(2−アクリ
ルオキシエチル)エーテル゛、1,4一ブタンジオール
のジー(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシブ口ビ
ル)エーテル、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリオキシブロビルトリメチロールブロバントリア
クリレート、ブチレングリコールジアクリレートおよび
ジメタクリレート、1.2.4−ブタントリオールトリ
アクリレートおよびトリメタクリレート、2,2,4−
トリメチル−1.3−ペンタンジオールジアクリレート
およびジメタクリレート、1〜フエルエチレン−1,2
−ジメタクリレート、ジアリルフマレート、スチレン、
1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート、1,4−
ジイソブロペニルベンゼン、および1,3.5−トリイ
ソプロペニルベンゼンを含む。少なくとも300の分子
量を有するエチレン性不飽和化合物、例えば、2乃至1
5の炭素を有するアルキレングリコールまたは1乃至1
0のエーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコール
から製造されるアルキレンまたはポリアルキレングリコ
ールジアクリレート、および米国特許第2,927,0
22号に開示されたもの、例えば複数の付加重合可能な
エチレン性結合を有するもの、特に末端結合として存在
する場合、である。好ましい単量体は、エチル化ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ジベンタエリスリト
ールモノヒド口キシベンタアクリレートおよび1,10
−デカンジオールジメタクリレートである。不飽和の単
量体成分は、乾燥光重合可能層の全重量を基礎として5
乃至45重量%の量で存在する。
特に好ましい光硬化可能単量体は、その優れたスクリー
ンプリントおよびペースト乾燥の特性の理由により、ポ
リオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(TEOTA)である。
ンプリントおよびペースト乾燥の特性の理由により、ポ
リオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(TEOTA)である。
O CH3
C}+2−CH2 − (−0−CH2−CH2−)
B−0−C−C−CH20 CH3 C}+3−CH2−C − CH2−(−0−CH2−
C}{2−1b−0−C−C−CH2O C}13 CH2−CH2− (−0−CH2−C}+2−] C
−0−C−C−CH2TEOTAの分子量は、約100
0乃至2000であることができる。分子量1000が
好ましい。
B−0−C−C−CH20 CH3 C}+3−CH2−C − CH2−(−0−CH2−
C}{2−1b−0−C−C−CH2O C}13 CH2−CH2− (−0−CH2−C}+2−] C
−0−C−C−CH2TEOTAの分子量は、約100
0乃至2000であることができる。分子量1000が
好ましい。
最も好ましい単全体は、ポリオキシエチル化トリメチロ
ール“プロパンのトリメタクリレートエステル(TEO
TMA)である。
ール“プロパンのトリメタクリレートエステル(TEO
TMA)である。
この単量体は、そのより高い沸点、より良好な燃焼性お
よびより良好な現像ラチチュードにより、優れたペース
ト乾燥特性を与える。これは、化学照射( actin
tc radlatIOn)に露出された領域において
重合をより促進し露出されない領域においてより大きい
溶解性をもたらすTEOTMAの優れた可塑化能力によ
るものであると考えられる。
よびより良好な現像ラチチュードにより、優れたペース
ト乾燥特性を与える。これは、化学照射( actin
tc radlatIOn)に露出された領域において
重合をより促進し露出されない領域においてより大きい
溶解性をもたらすTEOTMAの優れた可塑化能力によ
るものであると考えられる。
加えて、メタクリレートは、窒素燃成条件でアクリレー
トよりも効率的に劣化してより良い燃焼性をもたらすよ
うである。
トよりも効率的に劣化してより良い燃焼性をもたらすよ
うである。
F.分散剤
分散剤は、有機重合体および単量体による無機粒子の有
効な湿潤を保証するために添加される。
効な湿潤を保証するために添加される。
充分に分散された無機物が、良好なスクリーンプリント
およびレベリングおよび燃成特性の要求される特性を有
する光活性ペーストの製造のために好ましい。分散剤は
重合体バインダが会合し又は無機固体を湿狽することを
許すために作用し凝集物のない系を与える。
およびレベリングおよび燃成特性の要求される特性を有
する光活性ペーストの製造のために好ましい。分散剤は
重合体バインダが会合し又は無機固体を湿狽することを
許すために作用し凝集物のない系を与える。
えりぬきの分散剤は、文献(“UscofA−BBlo
ck Polymers as Dispe
rsants for Non−aqueous
Coating Systems” by H
. L. Jakubauskas, J ou
rnal or C oating T echno
logy , Vol. 58, Number
736. pages 7 1 −82)に一般的に記
載されたA−B分散剤である。
ck Polymers as Dispe
rsants for Non−aqueous
Coating Systems” by H
. L. Jakubauskas, J ou
rnal or C oating T echno
logy , Vol. 58, Number
736. pages 7 1 −82)に一般的に記
載されたA−B分散剤である。
有用なA−B分散剤は、米国特許第3.684,711
,3,788,996.4,070,388および4
,032,698号および英国特許第1,339,93
0号に記載されている。
,3,788,996.4,070,388および4
,032,698号および英国特許第1,339,93
0号に記載されている。
A−B分散剤の好ましい種類は、米国特許第4,032
,698号に開示され、次の構造で表わされる。
,698号に開示され、次の構造で表わされる。
式中、
Qは、下記の重合またはコポリマーセグメント、3.1
−18炭素原子のアルカノールとアクリル酸またはメタ
クリル酸のエステル b.スチレンまたはアクリロニトリル C,そのエステル基が2−18炭素原子を有するビニル
エステル d,ビニルエーテル、 Xは、連鎖移動剤の残基、 Yは、イソシアネート基の離脱後のジー トリーまたは
テトライソシアネート基の残基、Aは、反応前実在とし
てpKa値5−14を有する塩基性の残基またはその塩
、そして mは、nが2または3の場合にAの1のみが規定される
ようである必要があると仮定して、1,2,3であって
、合計は4を越えない。
−18炭素原子のアルカノールとアクリル酸またはメタ
クリル酸のエステル b.スチレンまたはアクリロニトリル C,そのエステル基が2−18炭素原子を有するビニル
エステル d,ビニルエーテル、 Xは、連鎖移動剤の残基、 Yは、イソシアネート基の離脱後のジー トリーまたは
テトライソシアネート基の残基、Aは、反応前実在とし
てpKa値5−14を有する塩基性の残基またはその塩
、そして mは、nが2または3の場合にAの1のみが規定される
ようである必要があると仮定して、1,2,3であって
、合計は4を越えない。
この種類の特に好ましいものは、以後A−B分散剤工と
称する次の構造で表される重合性材料である。
称する次の構造で表される重合性材料である。
CH3
CH3
○ H
C−N− (CH2) 6−N−C−NH2\
C−N− (C}+2 ) 6−N−C−NH2式中、
Qは、6000と8000の間の重量平均分子量を有す
るメチルメタクリレート重合性セグメントである。
るメチルメタクリレート重合性セグメントである。
また、特に好ましいものは、下記構造式により示される
ポリマー材料のクラスの部材である。
ポリマー材料のクラスの部材である。
CH2
CHOH
CH2
式中、Qは約20単位のプチルメタクリレートを含むア
ルキルメタクリレートボリマーセグメントであり、nは
20、mは8ないし12、Rは連鎖停止残基である。
ルキルメタクリレートボリマーセグメントであり、nは
20、mは8ないし12、Rは連鎖停止残基である。
この分散剤は、以後、A−B分散剤■と名付けられる。
G.可塑剤
必要な溶剤を得るためには、コーティング組成物は、パ
インダーボリマーのTgを下げる可塑剤を含むことが重
要である。可塑剤は、セラミック物質への良好なラミネ
ーションを確保することを助け、現像力を強化する。可
塑剤は、化学放射線が照射された領域における、より全
体の重合を促進し、照射されない領域の溶解度を増加さ
せる。
インダーボリマーのTgを下げる可塑剤を含むことが重
要である。可塑剤は、セラミック物質への良好なラミネ
ーションを確保することを助け、現像力を強化する。可
塑剤は、化学放射線が照射された領域における、より全
体の重合を促進し、照射されない領域の溶解度を増加さ
せる。
もちろん、可塑剤の選択は、主として変成されねばなら
ないボリマーにより決定される。種々のバインダー系に
用いられた可塑剤の中には、ジエチルフタレート及びジ
ブチルフタレートのようなジアルキルフタレート、ジベ
ンジルフタレートのようなジアリールフタレート、プチ
ルベンジルフタレート及びオクチルベンジルフタレート
のようなアルキルーアリールフタレート、アルキルホス
フェート、ポリアルキレングリコール、グイセロール、
ポリ(エチレンオキサイド)、ヒドロキシエチル化され
たアルキルフェノール、トリクレジルホスフエート、ト
リエチレングリコールジアセテート、及びポリエステル
可塑剤がある。好ましい可塑剤はオクチルベンジルフタ
レートである。可塑剤は、全無機固形物の1−10重量
%存在すべきである。好ましくは、可塑剤は、2−4重
量%存在するのが良い。
ないボリマーにより決定される。種々のバインダー系に
用いられた可塑剤の中には、ジエチルフタレート及びジ
ブチルフタレートのようなジアルキルフタレート、ジベ
ンジルフタレートのようなジアリールフタレート、プチ
ルベンジルフタレート及びオクチルベンジルフタレート
のようなアルキルーアリールフタレート、アルキルホス
フェート、ポリアルキレングリコール、グイセロール、
ポリ(エチレンオキサイド)、ヒドロキシエチル化され
たアルキルフェノール、トリクレジルホスフエート、ト
リエチレングリコールジアセテート、及びポリエステル
可塑剤がある。好ましい可塑剤はオクチルベンジルフタ
レートである。可塑剤は、全無機固形物の1−10重量
%存在すべきである。好ましくは、可塑剤は、2−4重
量%存在するのが良い。
光重合性組成物がその基本的特性を保持する限り、光重
合性組成物中に、他の少量成分、例えば、顔料、染料、
熱重合抑制剤、オルガノシランカップリング剤のような
接着促進剤、ポリエチレンオキサイドのようなコーティ
ング補助剤等が存在してもよい。オルガノシランは、無
機粒子重量の3.0重量%の量で特に有用である。処理
された粒子は、有機物質に対する低い要求を有している
。
合性組成物中に、他の少量成分、例えば、顔料、染料、
熱重合抑制剤、オルガノシランカップリング剤のような
接着促進剤、ポリエチレンオキサイドのようなコーティ
ング補助剤等が存在してもよい。オルガノシランは、無
機粒子重量の3.0重量%の量で特に有用である。処理
された粒子は、有機物質に対する低い要求を有している
。
このように、焼成の際のより早い焼失(burn−ou
t)をもたらすコーティングなかの有機物質のレベルを
減少させることが出来る。オルガノシランは、分散特性
を改善することも出来、同一の密封性において、より低
い無機バインダー/セラミック固体比とする。
t)をもたらすコーティングなかの有機物質のレベルを
減少させることが出来る。オルガノシランは、分散特性
を改善することも出来、同一の密封性において、より低
い無機バインダー/セラミック固体比とする。
H,有機媒体
宵機媒体の主たる目的は、セラミック又は他の基体に容
易に適用出来る形で、組成物の微細固体の分散のための
媒体として役立つことである。このように、有機媒体は
、まず第1に、固体が十分な安定性をもって分散可能な
ものでなければならない。第2に、有機媒体のレオロジ
ー特性は、分散剤への良好な適用特性を導くようなもの
でなければならない。通常の厚膜有機媒体は、適切なレ
オロジー調整とより低揮発性の溶媒の使用をもって用い
ることが出来る。
易に適用出来る形で、組成物の微細固体の分散のための
媒体として役立つことである。このように、有機媒体は
、まず第1に、固体が十分な安定性をもって分散可能な
ものでなければならない。第2に、有機媒体のレオロジ
ー特性は、分散剤への良好な適用特性を導くようなもの
でなければならない。通常の厚膜有機媒体は、適切なレ
オロジー調整とより低揮発性の溶媒の使用をもって用い
ることが出来る。
本発明の厚膜組或は、通常、スクリーン印刷により基体
に適用されるであろう。それ故、それらは、スルリーン
を容易に通過出来るように、適切な粘度を有していなけ
ればならない。レオロジー特性は最も重要ではあるが、
有機媒体はまた、固形物及び基体の適切な濡れ性、良好
な乾燥速度、荒い取扱いに耐えるに十分な乾燥フィルム
強度、及び良好な燃焼特性を与えるように配合されるの
が好ましい。焼成された組成物の満足すべき外観もまた
重要である。
に適用されるであろう。それ故、それらは、スルリーン
を容易に通過出来るように、適切な粘度を有していなけ
ればならない。レオロジー特性は最も重要ではあるが、
有機媒体はまた、固形物及び基体の適切な濡れ性、良好
な乾燥速度、荒い取扱いに耐えるに十分な乾燥フィルム
強度、及び良好な燃焼特性を与えるように配合されるの
が好ましい。焼成された組成物の満足すべき外観もまた
重要である。
これらすべての条件を考慮すると、有機媒体として広範
な不活性液体を用いることが出来る。多くに厚膜組成物
のための有機媒体は、典型的には溶媒中の樹脂溶液であ
る。溶媒は、通常、13〇一350℃で沸騰する。
な不活性液体を用いることが出来る。多くに厚膜組成物
のための有機媒体は、典型的には溶媒中の樹脂溶液であ
る。溶媒は、通常、13〇一350℃で沸騰する。
厚膜用に広範に用いられている溶媒は、α一又はβ−テ
ルビネオールのようなテルベン又はそれとケロセン、プ
チルカルビトールアセテート、ヘキサメチレングリコー
ル、オヨビ高沸点アルコール及びアルコールエステルと
の混合物である。これら及び他の溶媒の種々のコンビネ
ーションは、所望の粘度、及びそれぞれの用途に対する
揮発性の要求を得るために配合される。
ルビネオールのようなテルベン又はそれとケロセン、プ
チルカルビトールアセテート、ヘキサメチレングリコー
ル、オヨビ高沸点アルコール及びアルコールエステルと
の混合物である。これら及び他の溶媒の種々のコンビネ
ーションは、所望の粘度、及びそれぞれの用途に対する
揮発性の要求を得るために配合される。
分散体中の有機媒体と無機固形物との比は、分散体が適
用される形式及び使用される有機媒体の種類に応じて大
きく変化し得る。通常、良好なカバレレージを達成する
ためには、分散体は40〜90重量%の固形物及び60
〜10重二%の有機媒体を含むであろう。そのような分
散体は、通常、半流体の粘性を有し、一般に「ペースト
」と呼ばれる。
用される形式及び使用される有機媒体の種類に応じて大
きく変化し得る。通常、良好なカバレレージを達成する
ためには、分散体は40〜90重量%の固形物及び60
〜10重二%の有機媒体を含むであろう。そのような分
散体は、通常、半流体の粘性を有し、一般に「ペースト
」と呼ばれる。
ペーストは、3本ロールミルにより製造されるのが便利
である。ベースウトの粘度は、ブルックフィールド粘度
計により室温で測定したとき、典型的には次の範囲にあ
る。
である。ベースウトの粘度は、ブルックフィールド粘度
計により室温で測定したとき、典型的には次の範囲にあ
る。
剪断速度(秒−1) 粘度(Pa,s)0.5
60−120 2.0 60−120 10.0 60−120 ぺ−ストは、ニュートン流体であるように設計される。
60−120 2.0 60−120 10.0 60−120 ぺ−ストは、ニュートン流体であるように設計される。
この要求は、スクリーン印刷されるとき、スクリーンを
通過した後に均一な延展を許容するに必要なものである
。ペーストの有機媒体としてのポリアクリレートは、ニ
ュートン流れを与える。
通過した後に均一な延展を許容するに必要なものである
。ペーストの有機媒体としてのポリアクリレートは、ニ
ュートン流れを与える。
用いられる有機媒体の量及び型は、主として、最終の必
要な配合物の粘度及び印刷厚さにより決定される。
要な配合物の粘度及び印刷厚さにより決定される。
種々の染料及び顔料は、フォトイメージの視覚性を増加
させるために加えてもよい。しかし、使用される着色剤
は、可視光又はUVスペクトル領域の他の放射線に対し
不透明であるか又はそれを吸収するものであってもよい
が、化学放射線に対し透明であるのが好ましい。
させるために加えてもよい。しかし、使用される着色剤
は、可視光又はUVスペクトル領域の他の放射線に対し
不透明であるか又はそれを吸収するものであってもよい
が、化学放射線に対し透明であるのが好ましい。
上述の特性及び組成の多くのバラメーターに加えて、無
機であると有機であるとを問わず、すベ?の成分が実質
的にハロゲンを含まないことが基本である。この理由は
、通常の焼成条件では、ハロゲンを含む化合物は、結合
される導電性層及び焼成に用いられる炉の表面を腐食さ
せるからである。
機であると有機であるとを問わず、すベ?の成分が実質
的にハロゲンを含まないことが基本である。この理由は
、通常の焼成条件では、ハロゲンを含む化合物は、結合
される導電性層及び焼成に用いられる炉の表面を腐食さ
せるからである。
実施例
成分材料
以下に示す実施例では、指定された特性の成分材料が用
いられる。
いられる。
A,無機物質
ガラスフリット:フエロガラス#3467・水中で3−
2.7ミクロンのD,。の粒度サイズに粉砕され、磁力
により分離され、凍結乾燥されたもの。組成(モル%)
は、酸化鉛(5.6) 、2酸化ケイ素(68.1)、
酸化硼素(4.7)、アルミナ(6.5)、酸化カルシ
ウム(11.1)、酸化ナトリウム(2.8) 酸化
カリウム(1.3)である。アルミナ:酸化アルミニウ
ム(AI■03);粒径D,。2.3−2.7、表面積
3.5−4.5m2/g. ?料:アルミン酸コバルト(CoAI■04)B,ポリ
マーバインダー 98%メチルメタクリレートと2%メタクリル酸のコポ
リマー;My−25Mq酸No.9、固有粘度0.18
3±0.011、Tg−106℃。
2.7ミクロンのD,。の粒度サイズに粉砕され、磁力
により分離され、凍結乾燥されたもの。組成(モル%)
は、酸化鉛(5.6) 、2酸化ケイ素(68.1)、
酸化硼素(4.7)、アルミナ(6.5)、酸化カルシ
ウム(11.1)、酸化ナトリウム(2.8) 酸化
カリウム(1.3)である。アルミナ:酸化アルミニウ
ム(AI■03);粒径D,。2.3−2.7、表面積
3.5−4.5m2/g. ?料:アルミン酸コバルト(CoAI■04)B,ポリ
マーバインダー 98%メチルメタクリレートと2%メタクリル酸のコポ
リマー;My−25Mq酸No.9、固有粘度0.18
3±0.011、Tg−106℃。
なお、固有粘度は、キヤノンーフェンスヶ(Canno
n−Fenske)粘度計を用いて20℃で測定された
塩化メチレン50ml中にボリマー0.25gを含む溶
液の固有粘度である。
n−Fenske)粘度計を用いて20℃で測定された
塩化メチレン50ml中にボリマー0.25gを含む溶
液の固有粘度である。
C.光重合開始剤
ペンゾフェノン
ミクラー(Mfchler)のケトン
2−t−プチルアントラキノン
D.モノマー
TEOTA1.OOO:ポリオキシエチル化されたトイ
メチロールプロパントリアクリレート;My−1162 TEOTMAI 1 00 :ポリオキシエチル化され
たトイメチロールプロパントリメタクリレート;Mn=
1200 E.分散剤 A−B分散剤I:上記参照 A−B分散剤■:上記参照 F,可塑剤 サンティサイザー(Santicizer:商標)S−
261 :オクチルベンジルフタレート、(モンサンド
社)。
メチロールプロパントリアクリレート;My−1162 TEOTMAI 1 00 :ポリオキシエチル化され
たトイメチロールプロパントリメタクリレート;Mn=
1200 E.分散剤 A−B分散剤I:上記参照 A−B分散剤■:上記参照 F,可塑剤 サンティサイザー(Santicizer:商標)S−
261 :オクチルベンジルフタレート、(モンサンド
社)。
G.溶媒
n−プチルカルビトールアセテート
H,その他
酸化防止剤 イオノール(Ionol、商標)2.6−
ジーt−ブチルー4−メチルフェノール(シェル化学社
) 誘電ペーストの製造 A,有機媒体の製造 有機成分である溶媒及びアクリルポリマーを下記に示す
量(重量部)で混合し、攪拌しながら135℃に加熱し
た。加熱及び攪拌は、すべてのアクリルボリマーが溶解
するまで続行した。この溶液を100℃に冷却し、重合
開始系及びイオノ−ルを加えた。この混合物を固形物が
溶解するまで攪拌し、その後、溶液を400メッシュの
フィルターを通し、放冷した。
ジーt−ブチルー4−メチルフェノール(シェル化学社
) 誘電ペーストの製造 A,有機媒体の製造 有機成分である溶媒及びアクリルポリマーを下記に示す
量(重量部)で混合し、攪拌しながら135℃に加熱し
た。加熱及び攪拌は、すべてのアクリルボリマーが溶解
するまで続行した。この溶液を100℃に冷却し、重合
開始系及びイオノ−ルを加えた。この混合物を固形物が
溶解するまで攪拌し、その後、溶液を400メッシュの
フィルターを通し、放冷した。
成分 媒体I 媒体■
n−プチル力ルビトー
ルアセテート 54.354.3アクリルボリ
マ− 40.040.02−t−プチルアント ラキノン 5.4 ・・・ベンゾフェ
ノン 4.8ミクラーのケトン
0.8イオノール 0.30.3 B.誘電性無機物質一一ガラスフリットの調製8kgの
ガラスフリット(フエ口(Ferro ) 3467)
をスウエコーミル(Sveco Mill)において、
直径および長さが共に0.5インチのアルミナシリンダ
ーを用い、8リットルの水中で粉砕した。
マ− 40.040.02−t−プチルアント ラキノン 5.4 ・・・ベンゾフェ
ノン 4.8ミクラーのケトン
0.8イオノール 0.30.3 B.誘電性無機物質一一ガラスフリットの調製8kgの
ガラスフリット(フエ口(Ferro ) 3467)
をスウエコーミル(Sveco Mill)において、
直径および長さが共に0.5インチのアルミナシリンダ
ーを用い、8リットルの水中で粉砕した。
これを16時間行なって2.3〜2.7ミクロンのD,
。粒子サイズ分布を達成した。ついで、このフリット水
混合物を、400メッシュスクリーンに通し、11.5
Vおよび3 0 ampのDCセッティングでS.G.
フランツ(Franz )モデル241F2マグネティ
ック・セバレーターに通した。
。粒子サイズ分布を達成した。ついで、このフリット水
混合物を、400メッシュスクリーンに通し、11.5
Vおよび3 0 ampのDCセッティングでS.G.
フランツ(Franz )モデル241F2マグネティ
ック・セバレーターに通した。
このガラスフリット混合物を、ヴイルチス・コンソール
.(V1rtis Consol ) 1 2フリーズ
・ドライヤーを用いて凍結乾燥した。全ての水.を除去
するために、この工程は、約3日を要した。得られた粉
末は、自由流動性であり、凝集物を含んでいなかった。
.(V1rtis Consol ) 1 2フリーズ
・ドライヤーを用いて凍結乾燥した。全ての水.を除去
するために、この工程は、約3日を要した。得られた粉
末は、自由流動性であり、凝集物を含んでいなかった。
ガラスフリットサイズ分布は、(a)10重量%が、1
.0ミクロンよりも小さいが0.5ミクロンよりも大き
い粒子サイズを有し、および(b)90重量%が、エな
いし10ミクロンの範囲の粒子サイズを有していた。
.0ミクロンよりも小さいが0.5ミクロンよりも大き
い粒子サイズを有し、および(b)90重量%が、エな
いし10ミクロンの範囲の粒子サイズを有していた。
セラミック一一アルミナ
8kgのアルミナを、スウエコ・ミルにおいて、直径お
よび長さが共に0.5インチのアルミナシリンダーを用
い、8リットルの水中で14〜16時間粉砕した。これ
により2.3〜2,7ミクロンのD50を有する粒子を
得た。この水アルミナ混合物を、400メッシュスクリ
ーンに通し、ついで11.5Vおよび3 0 ampの
DCセッティングでS.C. フランツ・モデル241
F2マグネティック・セパレーターに通した。この水ア
ルミナ混合物を、ヴイルチス・コンソール12フリーズ
・ドライヤーを用いて凍結乾燥した。水を除去するため
に、この工程は、約3日を要した。得られたアルミナ粉
末は、自由流動性であり、凝集物を含んでいなかった。
よび長さが共に0.5インチのアルミナシリンダーを用
い、8リットルの水中で14〜16時間粉砕した。これ
により2.3〜2,7ミクロンのD50を有する粒子を
得た。この水アルミナ混合物を、400メッシュスクリ
ーンに通し、ついで11.5Vおよび3 0 ampの
DCセッティングでS.C. フランツ・モデル241
F2マグネティック・セパレーターに通した。この水ア
ルミナ混合物を、ヴイルチス・コンソール12フリーズ
・ドライヤーを用いて凍結乾燥した。水を除去するため
に、この工程は、約3日を要した。得られたアルミナ粉
末は、自由流動性であり、凝集物を含んでいなかった。
アルミナーコバルトアルミネート
3kgのアルミナおよび144gのコバルトアルミネー
ト顔料を8リットルの水と混合し、スウェコ・ミルにお
いて、直径および長さが共に06 5インチのアルミナ
シリンダーを用い、1時間粉砕した。この粉砕したアル
ミナー顔料混合物を400メッシュスクリーンに通し、
ついで11.5Vおよび3 0 ampのDCセッティ
ングでS.G.フランツ・モデル241F2マグネテイ
ック・セバレーターを通した。この混合物を、ヴイルチ
ス・コンソール12フリーズ・ドライヤーを用いて約3
日間凍結乾燥した。得られた物質は、凝集物のない自由
流動性粉末であった。
ト顔料を8リットルの水と混合し、スウェコ・ミルにお
いて、直径および長さが共に06 5インチのアルミナ
シリンダーを用い、1時間粉砕した。この粉砕したアル
ミナー顔料混合物を400メッシュスクリーンに通し、
ついで11.5Vおよび3 0 ampのDCセッティ
ングでS.G.フランツ・モデル241F2マグネテイ
ック・セバレーターを通した。この混合物を、ヴイルチ
ス・コンソール12フリーズ・ドライヤーを用いて約3
日間凍結乾燥した。得られた物質は、凝集物のない自由
流動性粉末であった。
C.ペーストの調製
誘電性ペーストを、黄色光の下で、有機ビヒクル、モノ
マー、分散剤および可塑剤を混合容器中に混合すること
によって調製した。それから、ガラスフリットおよびア
ルミナ/コバルトアルミネート混合物を加えた。ついで
、この組成物を30分間混合した。この混合物を約12
時間熟成させ、ついで3本ロールミルを用い、400p
s iのロール圧でロール練りした。通常、組成物を充
分に混合するためには、ミルに5回通じることで充分で
ある。次に、このペーストを、400メッシュスクリー
ンに通した。この時点でのペースト粘度は300〜60
0Pa.s.の範囲内にあった。
マー、分散剤および可塑剤を混合容器中に混合すること
によって調製した。それから、ガラスフリットおよびア
ルミナ/コバルトアルミネート混合物を加えた。ついで
、この組成物を30分間混合した。この混合物を約12
時間熟成させ、ついで3本ロールミルを用い、400p
s iのロール圧でロール練りした。通常、組成物を充
分に混合するためには、ミルに5回通じることで充分で
ある。次に、このペーストを、400メッシュスクリー
ンに通した。この時点でのペースト粘度は300〜60
0Pa.s.の範囲内にあった。
粘度をn−プチル力ルビトールアセテートの添加により
80〜120Pa.s,に調節した。この粘度範囲はス
クリーン印刷に最適であった。
80〜120Pa.s,に調節した。この粘度範囲はス
クリーン印刷に最適であった。
D.プロセス条件
コーティング組成物の調製プロセスおよび誘電性部品の
調製において、汚れた汚染を避けるように注意しなけれ
ばならない。そのような汚染は、焼成された誘電体に欠
陥をもたらし得るからである。プロセス処理は、クラス
−100のクリーンルーム中で最良に行なわれる。
調製において、汚れた汚染を避けるように注意しなけれ
ばならない。そのような汚染は、焼成された誘電体に欠
陥をもたらし得るからである。プロセス処理は、クラス
−100のクリーンルーム中で最良に行なわれる。
上記ペーストを、325メッシュのパターン化スクリー
ンを用いたスクリーン印刷により2x2セラミック部品
に適用した。これら部品を空気雰囲気オーブン中、75
〜100℃で乾燥した。窒素雰囲気も使用できた。乾燥
したコーティングは、20ミクロンの厚さを持っていた
。第2のスクリーン印刷は、40ミクロンの乾燥膜厚を
与えた。
ンを用いたスクリーン印刷により2x2セラミック部品
に適用した。これら部品を空気雰囲気オーブン中、75
〜100℃で乾燥した。窒素雰囲気も使用できた。乾燥
したコーティングは、20ミクロンの厚さを持っていた
。第2のスクリーン印刷は、40ミクロンの乾燥膜厚を
与えた。
上記部品を500ワットの光源(ハイブリッード・テク
ノロジー・グループ、モデル86−5)で露光した。最
適露光時間は、現像後誘電体中に正確な大きさのヴアイ
ア(v1a)もしくは光形成されたホールを生み出すた
めに最も良い露光についての情報を与えた露光シリーズ
から決定した。
ノロジー・グループ、モデル86−5)で露光した。最
適露光時間は、現像後誘電体中に正確な大きさのヴアイ
ア(v1a)もしくは光形成されたホールを生み出すた
めに最も良い露光についての情報を与えた露光シリーズ
から決定した。
露光した部品を、6〜8秒の50psiスプレーのクロ
ロセン( chlorothene )現像剤を用いた
スピンディベロツバーを用いて現像し、ついで5Qps
iで2〜10秒の空気流により部品を乾燥した。現像剤
は、回転する部品に直角にスプレーした。スブレイイン
グ・システムズ社(ウィートン、イリノイ)からの、イ
ンダルトリアルカタログ27に記載されている、セット
アップJ23を有する0.125インチ(0.318c
m)JJ空気噴霧ノズルにより、フラットースプレージ
ェットパターンを得た。溶媒流量は、50ないし2C)
00ml/分であり得、好ましくは300ml/分であ
る。ノズル一部品間隔は、0.5インチ(1.27cm
)ないし8インチ(20.35cm)であり得、典型的
な間隔は1.5インチ(3.81.cm)である。
ロセン( chlorothene )現像剤を用いた
スピンディベロツバーを用いて現像し、ついで5Qps
iで2〜10秒の空気流により部品を乾燥した。現像剤
は、回転する部品に直角にスプレーした。スブレイイン
グ・システムズ社(ウィートン、イリノイ)からの、イ
ンダルトリアルカタログ27に記載されている、セット
アップJ23を有する0.125インチ(0.318c
m)JJ空気噴霧ノズルにより、フラットースプレージ
ェットパターンを得た。溶媒流量は、50ないし2C)
00ml/分であり得、好ましくは300ml/分であ
る。ノズル一部品間隔は、0.5インチ(1.27cm
)ないし8インチ(20.35cm)であり得、典型的
な間隔は1.5インチ(3.81.cm)である。
現像された部品を、強制ドラフトオーブン中75℃で1
5分間乾燥し、900℃のピーク温度の炉中で2時間サ
イクルで焼成した。本発明の組成物を焼成する際に、そ
れらは、無機バインダーのガラス転移温度までは実質的
に非酸化性雰囲気に曝され、焼成工程の焼結相中におい
て本質的に完全に非酸化性の雰囲気に曝された。
5分間乾燥し、900℃のピーク温度の炉中で2時間サ
イクルで焼成した。本発明の組成物を焼成する際に、そ
れらは、無機バインダーのガラス転移温度までは実質的
に非酸化性雰囲気に曝され、焼成工程の焼結相中におい
て本質的に完全に非酸化性の雰囲気に曝された。
「実質的に非酸化性雰囲気」という語は、銅金属のどの
ような有意の酸化を行なうには不十分な酸素を含有する
が、それにもかかわらず有機物質の酸化を行なうには充
分な酸素を含有する雰囲気を意味する。実際、焼成工程
のプレ焼結相において100 〜1000ppmO
の窒素雰囲気が適切であることが見いだされた。300
ないし800ppmO が好ましい。酸素の量は、誘
電層の厚さが増せば、増加される。20ミクロンに焼成
される誘電性ペーストの2つの層にとって、300ない
し400ppmO で充分である。他方、焼成のガラ
ス焼結工程中に使用される本質的に完全に非酸化性の雰
囲気は、残存量の、例えば約10ppmの、0 のみを
含有する窒素雰囲気があてはまる。焼成された層におけ
る物理的欠陥を最小とするために、本発明の組成物を低
い加熱速度で焼成することが好ましい。
ような有意の酸化を行なうには不十分な酸素を含有する
が、それにもかかわらず有機物質の酸化を行なうには充
分な酸素を含有する雰囲気を意味する。実際、焼成工程
のプレ焼結相において100 〜1000ppmO
の窒素雰囲気が適切であることが見いだされた。300
ないし800ppmO が好ましい。酸素の量は、誘
電層の厚さが増せば、増加される。20ミクロンに焼成
される誘電性ペーストの2つの層にとって、300ない
し400ppmO で充分である。他方、焼成のガラ
ス焼結工程中に使用される本質的に完全に非酸化性の雰
囲気は、残存量の、例えば約10ppmの、0 のみを
含有する窒素雰囲気があてはまる。焼成された層におけ
る物理的欠陥を最小とするために、本発明の組成物を低
い加熱速度で焼成することが好ましい。
乾燥した感光性コーティングを、異なる大きさのホール
を含むテストマスクを介して露光することにより解像性
を決定した。ついで、露光された部品を上記のように現
像した。そして、現像した部品を顕微鏡により調べ、頂
部および底部におけるホールの大きさを測定した。許容
できるホールは、ホールの頂部と底部で測定した直径の
差が1ミル以下のものであった。許容できないホールは
、頂部におけるよりも底部における方が一層小さいか、
底部において完全に閉塞されていた。解像性は、許容で
きる程度に印刷された最小ホールとした。
を含むテストマスクを介して露光することにより解像性
を決定した。ついで、露光された部品を上記のように現
像した。そして、現像した部品を顕微鏡により調べ、頂
部および底部におけるホールの大きさを測定した。許容
できるホールは、ホールの頂部と底部で測定した直径の
差が1ミル以下のものであった。許容できないホールは
、頂部におけるよりも底部における方が一層小さいか、
底部において完全に閉塞されていた。解像性は、許容で
きる程度に印刷された最小ホールとした。
実施例 1〜4
表1に示す成分を用いてセラミックコーティング組成物
を調製した。これらを上記の通り処理し、解像性を決定
した。結果を表2に示す。
を調製した。これらを上記の通り処理し、解像性を決定
した。結果を表2に示す。
比較例 5
表1に示す成分を用いて可塑剤を加えることなくセラミ
ックコーティング組成物を調製した。この組成物を上記
の通り処理し、解像性を決定した。
ックコーティング組成物を調製した。この組成物を上記
の通り処理し、解像性を決定した。
結果を表2に示す。
表 1
成 分
AI O /CoAI O
ガラスフリット
ビヒクル I
ビヒクル ■
TEOTA
TEOTMA
A−B分散剤 I
A−B分散剤 ■
可塑剤
n−プチル力ルビトー
ルアセテート
27.B 27.8 27.8 27.8 2
7.627.4 27.4 27.4 27.4
27.4−− −− 31.0 31.0 31.0 31.0 31010.6
10.6 −− −− 10.6 10.62.1
〜− 2.1 2.1 −− 2.1 2.12.0
2.0 2.0 2.0 2.08.6 実施例 実施例 実施例 実施例 比較例 表 2 解 4〜5ミ 4〜5ミ 4〜5ミ 4〜5ミ 8〜10 像 性 ルヴアイア ルヴアイア ルヴアイア ルヴアイア ミルヴアイア
7.627.4 27.4 27.4 27.4
27.4−− −− 31.0 31.0 31.0 31.0 31010.6
10.6 −− −− 10.6 10.62.1
〜− 2.1 2.1 −− 2.1 2.12.0
2.0 2.0 2.0 2.08.6 実施例 実施例 実施例 実施例 比較例 表 2 解 4〜5ミ 4〜5ミ 4〜5ミ 4〜5ミ 8〜10 像 性 ルヴアイア ルヴアイア ルヴアイア ルヴアイア ミルヴアイア
Claims (8)
- (1)実質的に非酸化性の雰囲気中で焼成し得る感光性
セラミックコーティング用組成物であって;(a)表面
積対重量比が10m^2/g以下で、80重量%以上が
粒径1〜10μmであるセラミック固体微粉末と、 (b)表面積対重量比が10m^2/g以下で、8〜1
5重量%が粒径が0.5μmを超え1.0μmより小さ
く、85〜92重量%が粒径1〜10μmである無機質
バインダーと、 を含み、これら(a)成分と(b)成分とを重量比(b
/a)、0.6〜2.0の割合で、 (c)(1)C_1_〜_1_0アルキルアクリレート
、C_1_〜_1_0アルキルメタクリレート、α−メ
チルスチレンのホモポリマー又はコポリマー及び0〜2
重量%のエチレン性不飽和カルボン酸、アミン又はシラ
ン含有化合物、(2)C_1_〜_1_0モノオレフィ
ンのホモポリマー又はコポリマー、(3)C_1_〜_
4アルキレンオキシドのホモポリマー又はコポリマー、
およびこれらの混合物から選ばれ、無機質固体に対し、
5〜25重量%の有機質ポリマーバインダーと、 (d)光重合開始剤システムと、 (e)無機質固体総量に対して1〜20重量%の光硬化
性モノマーと、 (f)下記構造式 I 、 ( I )▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Qは、 a.アクリル酸又はメタクリル酸とC_1_〜_1_8
アルカノールとのエステル、 b.スチレン又はアクリロニトリル、 c.エステル部分が炭素原子数2−18のビニルエステ
ル、 d.ビニルエーテル、 Xは連鎖移動剤の残基、 Yはジ−、トリ−又はテトライソシアネート基からイソ
シアネート基を取除いたときの残 基、 Aは反応前、全体としてpKa値5−14の塩基性基又
はその塩の残基、 m,nは1,2又は3で合計が4を超えず、nが2又は
3の場合は一個のAのみ上記定義に該当すればよい。) 又は下記構造式II、 (II)▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Qはブチルメタクリレートを20単位有するア
ルキルメタクリレートポリマーセ グメント、 nは20、 mは8−12、 Rは連鎖停止剤残基) (g)無機質固体全体に対し、0.5〜10重量%の可
塑化剤で、ジアルキルフタレート、アリールアルキルフ
タレート、アルキルホスフェート、ポリアルキレングリ
コール、グリセロール、ポリ(エチレンオキシド)、ヒ
ドロキシエチル化アルキルフェノール、トリクレシルホ
スフェート、トリエチレングリコールジアセテート及び
ポリエステル可塑化剤から選ばれるものと、 (h)揮発性非水性有機溶媒と、 を含む有機質媒体中に分散させてなる組成物。 - (2)上記可塑化剤がオクチルベンジルフタレートであ
る請求項1記載の組成物。 - (3)上記有機質ポリマーバインダーがメチルメタクリ
レート98重量%、メタクリル酸2重量%からなるコポ
リマーである請求項1記載の組成物。 - (4)上記光硬化性モノマーがポリオキシエチル化トリ
メチロールプロパントリアクリレート又はポリオキシエ
チル化トリメチロールプロパントリメタクリレートであ
る請求項1記載の組成物。 - (5)上記光重合開始剤システムがベンゾフェノン及び
ミヒラーケント(Michler’s Ketone)
を6:1(重量比)の割合で含む請求項1記載の組成物
。 - (6)上記分散剤が下記構造式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Qは重量平均分子量6000〜 8000のメチルメタクリレートポリマーセグメントで
ある) で表されるものである請求項1記載の組成物。 - (7)実質的に非酸化性の雰囲気中で焼成し得る感光性
セラミックコーティング用組成物であって(a)表面積
対重量比が10m^2/g以下で、80重量%以上が粒
径1〜10μmであるセラミック固体微粉末と (b)表面積対重量比が10m^2/g以下で8〜15
重量%が粒径が0.5μmを超え1.0μmより小さく
、85〜92重量%が粒径1〜10μmである無機質バ
インダーと、 を含み、これら(a)成分と(b)成分とを重量比(b
/a)、0.6〜2.0の割合で、 (c)(1)C_1_〜_1_0アルキルアクリレート
、C_1_〜_1_0アルキルメタクリレート、α−メ
チルスチレンのホモポリマー又はコポリマー及び0〜2
重量%のエチレン性不飽和カルボン酸、アミン又はシラ
ン含有化合物、(2)C_1_〜_1_0モノオレフィ
ンのホモポリマー又はコポリマー、(3)C_1_〜_
1_0アルキレンオキシドのホモポリマー又はコポリマ
ー、およびこれらの混合物から選ばれ、無機質固体に対
し、5〜25重量%の有機質ポリマーバインダーと、 (d)光重合開始剤システムと、 (e)無機質固体総量に対して1〜20重量%の光硬化
性モノマーと、 (f)下記構造式 I 、 ( I )▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Qは、 a.アクリル酸又はメタクリル酸とC_1_〜_1_8
アルカノールとのエステル、 b.スチレン又はアクリロニトリル、 c.エステル部分が炭素原子数2−18のビニルエステ
ル、 d.ビニルエーテル、 Xは連鎖移動剤の残基、 Yはジ−、トリ−又はテトライソシアネート基からイソ
シアネート基を取除いたときの残基、Aは反応前、全体
としてpKa値5−14の塩基性基又はその塩の残基、 m,nは1,2又は3で合計が4を超えず、nが2又は
3の場合は一個のAのみ上記定義に該当すればよい。) 又は下記構造式II、 (II)▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Qはブチルメタクリレートを20単位有するア
ルキルメタクリレートポリマーセ グメント、 nは20、 mは8−12、 Rは連鎖停止剤残基) と、 (g)無機質固体全体に対し、1〜10重量%の可塑化
剤で、ジアルキルフタレート、アリールアルキルフタレ
ート、アルキルホスフェート、・ポリアルキレングリコ
ール、グリセロール、ポリ(エチレンオキシド)、ヒド
ロキシエチル化アルキルフェノール、トリクレシルホス
フェート、トリエチレングリコールジアセテート及びポ
リエステル可塑化剤から選ばれるものと、(h)揮発性
非水性有機溶媒と、 を含む有機質媒体中に分散させてなる組成物を製造する
に際し、上記(a)乃至(h)の各成分を混合する前に
、上記(a)成分であるセラミック固体微粉末と、上記
(b)成分である無機質バインダー微粉末を予め凍結乾
燥により形成することを特徴とする上記組成物の製造方
法。 - (8)上記(a)成分であるセラミック固体微粉末と上
記(b)成分である無機質バインダー微粉末を磁力選鉱
機を通過させる工程を含む請求項7記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US24088388A | 1988-09-02 | 1988-09-02 | |
| US240.883 | 1988-09-02 | ||
| US38896689A | 1989-08-07 | 1989-08-07 | |
| US388.966 | 1989-08-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02230153A true JPH02230153A (ja) | 1990-09-12 |
Family
ID=26933802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1227296A Pending JPH02230153A (ja) | 1988-09-02 | 1989-09-01 | 感光性セラミックコーティング用組成物及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0357063A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02230153A (ja) |
| KR (1) | KR910005093A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6004705A (en) * | 1992-07-07 | 1999-12-21 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive ceramics green sheet |
| DE69329329T2 (de) * | 1992-07-07 | 2001-03-29 | Toray Industries, Inc. | Keramische grünfolie |
| DE69324640T2 (de) * | 1992-09-23 | 1999-10-14 | E.I. Du Pont De Nemours And Co. | Photoempfindliches dielektrisches Schichtmaterial und untereinander verbundene Mehrschichtschaltungen |
| EP1008909B1 (en) | 1998-12-11 | 2003-08-13 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Composition for a photosensitive silver conductor tape and tape comprising the same |
| DE10060571A1 (de) * | 2000-12-06 | 2002-06-20 | Bosch Gmbh Robert | Präpolymer und daraus hergestelltes dielektrisches Material |
| KR100445728B1 (ko) * | 2002-01-10 | 2004-08-25 | 주식회사 코오롱 | 페녹시 그룹을 갖는 감광성 올리고머와 그의 제조방법 |
| CN112171848A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-05 | 江西金石三维智能制造科技有限公司 | 一种光固化碳化硅陶瓷浆料及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4032698A (en) * | 1973-02-02 | 1977-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric materials with substituted urea end groups |
| US4613560A (en) * | 1984-12-28 | 1986-09-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive ceramic coating composition |
-
1989
- 1989-08-31 EP EP19890116086 patent/EP0357063A3/en not_active Withdrawn
- 1989-09-01 KR KR1019890012763A patent/KR910005093A/ko not_active Ceased
- 1989-09-01 JP JP1227296A patent/JPH02230153A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0357063A2 (en) | 1990-03-07 |
| EP0357063A3 (en) | 1991-05-02 |
| KR910005093A (ko) | 1991-03-30 |
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